液晶表示用基材の製造方法、及び液晶表示用基材並びに液晶表示装置

【課題】露光工程において、露光ヘッドに設けられている光透過性部材の表面への異物などの付着を防止でき、画素欠けや生産性が低下することなく、優れた高精細な凸状パターンを有する液晶表示用基材の製造方法、並びに、これを用いて形成された液晶表示用基材及び、これを用いた液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】感光性組成物からなり基材の表面に位置する感光層に対して、光透過性部材を介して光を照射し、被露光面に対して、パターン状に露光を行う露光工程を含み、前記露光の際に、光路に配置される光透過性部材のうち最も前記被露光面に近い側の光透過性部材の該被露光面側の表面との間隔が、少なくとも１．０ｍｍであり、かつ最も前記被露光面に近い側の前記光透過性部材と前記被露光面との間に、風速０．２〜１０．０ｍ／秒で送風する液晶表示用基材の製造方法である。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性組成物からなり基材の表面に位置する感光層に対して、
光透過性部材を介して光を照射し、被露光面に対して、パターン状に露光を行う露光工程を含み、
前記露光の際に、光路に配置される光透過性部材のうち最も前記被露光面に近い側の光透過性部材の該被露光面側の表面との間隔が、少なくとも１．０ｍｍであり、かつ最も前記被露光面に近い側の前記光透過性部材と前記被露光面との間に、風速０．２〜１０．０ｍ／秒で送風することを特徴とする液晶表示用基材の製造方法。
【請求項２】
露光工程が、光照射手段及び光変調手段を少なくとも備え、かつ光透過性部材を有する露光ヘッドと、感光層の少なくともいずれかを移動させつつ、前記感光層に対して、前記光照射手段から出射された光を前記光変調手段によりパターン情報に応じて変調しながら前記露光ヘッドから照射して、前記感光層を露光する請求項１に記載の液晶表示用基材の製造方法。
【請求項３】
被露光面と、光路に配置される光透過性部材のうち最も前記被露光面に近い側の光透過性部材の該被露光面側の表面との間隔が、１．０〜１５０．０ｍｍである請求項１から２のいずれかに記載の液晶表示用基材の製造方法。
【請求項４】
感光層が、支持体上に感光性組成物からなる感光性転写層を有する感光性転写材料を用いて、該感光性転写層と基材とが当接するように該基材上に積層し、次いで、支持体を剥離することにより形成される請求項１から３のいずれかに記載の液晶表示用基材の製造方法。
【請求項５】
感光層が、感光性組成物を基材の表面に塗布し、乾燥することにより形成される請求項１から４のいずれかに記載の液晶表示用基材の製造方法。
【請求項６】
光変調手段が、空間光変調素子である請求項２から５のいずれかに記載の液晶表示用基材の製造方法。
【請求項７】
空間光変調素子が、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）である請求項６に記載の液晶表示用基材の製造方法。
【請求項８】
光照射手段が、光を一端から入射し、入射した前記光を他端から出射する光ファイバを複数本束ねてなるバンドル状のファイバ光源である請求項１から７のいずれかに記載の液晶表示用基材の製造方法。
【請求項９】
光ファイバが、２以上の光を入射し、合波して出射する請求項８に記載の液晶表示用基材の製造方法。
【請求項１０】
走査方向に対し描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置されてなる露光ヘッドを用い、
前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、
前記露光ヘッドについて、使用描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御し、
前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う請求項１から９のいずれかに記載の液晶表示用基材の製造方法。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれかに記載の液晶表示用基材の製造方法により製造されたことを特徴とする液晶表示用基材。
【請求項１２】
請求項１１に記載の液晶表示用基材が液晶配向制御用突起である液晶表示用基材。
【請求項１３】
請求項１１から１２のいずれかに記載の液晶表示用基材を用いたことを特徴とする液晶表示装置。

【図８】