現像ローラ及びその製造方法、電子写真用プロセスカートリッジ、電子写真用画像形成装置
【課題】 樹脂層の密着性向上と、長期間の使用によるかぶりの悪化の抑制を両立し、安定した画像形成が可能な現像ローラを提供することにある。
【解決手段】 軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられたシリコーンゴムで形成されている弾性層と、該弾性層を被覆している樹脂層とを有する現像ローラであり、ＳｉＯ２で形成されている部分が該弾性層と該樹脂層との間に点在していることを特徴とする現像ローラ。
【解決手段】 軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられたシリコーンゴムで形成されている弾性層と、該弾性層を被覆している樹脂層とを有する現像ローラであり、ＳｉＯ２で形成されている部分が該弾性層と該樹脂層との間に点在していることを特徴とする現像ローラ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真用画像形成装置において用いられる現像ローラ、並びに現像ローラの製造方法に関する。さらに本発明は、この現像ローラを具備して成る電子写真用プロセスカートリッジ、及び電子写真用画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真用画像形成装置に用いられる現像ローラは、高品質な画像を得るために、トナー劣化抑制、永久変形の防止、トナーへの帯電付与性などの性能が求められる。これらの要求を満たすため、弾性層とその周囲に被覆された樹脂層を有する構成が採用されることが多い。上記の弾性層に好適に用いられる材料として、弾性力の高いシリコーンゴムが挙げられる。しかし、シリコーンゴムは反応性が低いため、樹脂層との密着性が十分に得られない場合があった。
【０００３】
上記の課題を解決するため、弾性層と樹脂層との間に中間層を設けることが考えられる。特許文献１には、半導電性弾性体の表面にＳｉＯ２層を均一に形成後、表面抵抗調整層を形成することで、弾性層と樹脂層との密着性を向上させた半導電性ローラの製造方法が提案されている。
【特許文献１】特開２００６−３３７６２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に係る半導電性ローラは、密着性を向上させることはできるものの、中間層に高抵抗なＳｉＯ２層を均一に形成するため、ＳｉＯ２層に電荷が溜まり易い。これを現像ローラとして使用した場合には、チャージアップが生じ易くなるという新たな課題を招来してしまう。チャージアップが生じると、画像濃度にムラが生じたり、ベタ白画像に現像剤が現像される「かぶり」の画像弊害が生じたりする場合がある。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、密着性向上とチャージアップの抑制を両立し、長期間に渡って安定した画像形成が可能な現像ローラを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明は、軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられたシリコーンゴムで形成されている弾性層と、該弾性層を被覆している樹脂層とを有する現像ローラであり、ＳｉＯ２で形成されている部分が該弾性層と該樹脂層との間に点在していることを特徴とする現像ローラに関する。
【０００７】
前記弾性層を形成後、該弾性層の長手方向にコロナ電極を対向させてコロナ処理を施すことにより該弾性層の表面にＳｉＯ２を主成分とする層を形成した後、少なくとも１層の樹脂層を形成する請求項１に記載の現像ローラの製造方法であって、該コロナ電極と該弾性層との間隔が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であり、コロナ処理時の該コロナ電極全体の平均電流密度Ｉ（Ａ／ｍ）が７．０（Ａ／ｍ）以上３５．０（Ａ／ｍ）以下であることを特徴とする現像ローラの製造方法に関する。
【０００８】
さらに、本発明は、少なくとも静電潜像を形成するための感光体と、該感光体に当接配置される現像ローラとを具備し、電子写真用画像形成装置に脱着可能に構成された電子写真用プロセスカートリッジにおいて、上記現像ローラを具備する電子写真用プロセスカートリッジに関する。
【０００９】
さらに、本発明は、少なくとも静電潜像を形成するための感光体と、該感光体に当接配置される現像ローラとを具備する電子写真用画像形成装置において、上記現像ローラを具備することを特徴とする電子写真用画像形成装置に関する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、弾性層と樹脂層との密着性向上及びチャージアップの抑制を両立し、長期間に渡って安定した画像形成が可能な現像ローラを提供することができる。
【００１１】
また本発明によれば、長期間に渡って安定した画像形成が可能な電子写真用プロセスカートリッジ、及び電子写真用画像形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
現像ローラの構成本発明は、軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられたシリコーンゴムで形成されている弾性層と、該弾性層を被覆している樹脂層とを有する現像ローラに適用される。樹脂層は１層である必要はなく、２層以上形成しても良い。
【００１３】
本発明に係わる現像ローラの一例を図１の模式図に示す。図中の（ａ）は現像ローラの長手方向に平行な断面を表したものであり、（ｂ）は長手方向に垂直な断面を表したものである。図１において、現像ローラ１０は、円柱状の軸芯体１１の周囲に弾性層１２、弾性層１２の周囲にＳｉＯ２で形成される部分（以下、ＳｉＯ２部分とも言う）１３、その周囲に樹脂層１４が被覆層として形成されている。
【００１４】
さらに、ＳｉＯ２部分１３の詳細を図２の模式図に示す。図中の（ａ）は現像ローラの長手方向に平行な断面を拡大して表したものであり、（ｂ）は弾性層表面の直径１００μｍの範囲内にＳｉＯ２部分が点在している様子を表したものである。図２に示したように、弾性層と樹脂層との間にＳｉＯ２部分が存在する領域とＳｉＯ２部分を介さずに接する領域とが混在している。
【００１５】
本発明者らは、弾性層と樹脂層との間に点在したＳｉＯ２部分を形成することで、弾性層と樹脂層との密着性向上とチャージアップの抑制を両立できることを見出した。「ＳｉＯ２で形成されている部分が該弾性層と該樹脂層との間に点在している」とは、弾性層と樹脂層との間にＳｉＯ２部分が偏在せずに点々と形成されていることを表す。つまり、弾性層と樹脂層とが接する領域と、弾性層と樹脂層との間にＳｉＯ２部分が存在する領域とが偏りなく存在していることを表す。
【００１６】
弾性層と樹脂層との密着性を向上させるためには、両者と高い密着性を有する中間層を設けることが有効である。シリコーンゴム弾性層に中間層を設ける場合には、ＳｉＯ２層が挙げられる。シリコーンゴムが弾性層と樹脂層との密着性を向上させる理由は以下の様に考えられる。弾性層を形成するシリコーンゴムの分子末端はメチル基である。メチル基は樹脂層を形成する分子と弱い分子結合しか形成しないため密着性は低い。一方、コロナ処理などの表面処理をシリコーンゴム弾性層表面に施すことにより形成されるＳｉＯ２は、分子の末端がＯＨ基となる。従って、ＳｉＯ２が弾性層表面にあることで、ＳｉＯ２分子末端のＯＨ基と樹脂層を形成する分子とが水素結合を形成する。これによって、密着性が向上すると考えられる。しかしながら、ＳｉＯ２は一般に高抵抗であるため、中間層としてＳｉＯ２の層を均一形成した現像ローラを用いて画像形成した場合、チャージアップによる悪影響を生じやすい。
【００１７】
そこで、本発明者らがＳｉＯ２部分の分布状態とチャージアップの関係を鋭意検討した結果、弾性層と樹脂層との間にＳｉＯ２部分を点在するように形成することが、チャージアップの抑制に有効であることを見出した。上記のような構成にすることで、ＳｉＯ２部分を介さずに弾性層と樹脂層とが接する部分が点在するので、現像ローラ表面にチャージアップした電荷を軸芯体に逃がすことができるためであると考えられる。さらに、点在したＳｉＯ２部分によって、弾性層と樹脂層との密着性が高まるため、画像濃度ムラを生じることなく、現像ローラ全体に渡って均一にチャージアップ抑制効果が得られる。
【００１８】
すなわち、上記のような構成によって弾性層と樹脂層との密着性向上及びチャージアップの抑制を両立し、連続通紙時の画像濃度変化及び長期間使用後のかぶりの悪化を抑制できる。
【００１９】
図２は本発明の現像ローラを軸方向に切ったときの断面模式図である。図２に示すように、ＳｉＯ２部分１３は弾性層１２と樹脂層１４との間に点在して形成される。
【００２０】
点在するＳｉＯ２部分の個々の大きさは、最大長さが０．１μｍ以上１０μｍ未満であることが好ましい。最大長さとは、ＳｉＯ２部分に外接する円の直径である。最大長さを０．１μｍ以上にすることで、ＳｉＯ２部分による樹脂層の密着性を効果的に得ることができる。また、最大長さを１０μｍ未満にすることで、局所的なチャージアップによる画像濃度ムラを抑制できる。
【００２１】
ＳｉＯ２部分の厚さは、０．０５μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。厚さを０．０５μｍ以上にすることで、ＳｉＯ２部分による樹脂層の密着性を効果的に得ることができる。また、厚さを１μｍ以下にすることで、局所的なチャージアップによる画像濃度ムラを抑制できる。
【００２２】
ＳｉＯ２部分の径及び厚さはＴＥＭ（透過電子顕微鏡）などの方法を用いて測定することができる。ＴＥＭを用いた測定方法の詳細については後述する。
【００２３】
ＳｉＯ２部分は、少なくともＳｉＯ２を主成分として５１％以上含有していれば良い。ＳｉＯ２以外の成分としては、環状ポリシロキサンやシリコーンゴム材料の低分子成分が挙げられるが、それ以外の成分を含有していても良い。
【００２４】
ＳｉＯ２部分の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった蒸着方法を用いることができる。これらの方法を用いて、適宜マスキングを行い、ＳｉＯ２部分を所望の分布状態にすることが可能である。しかしながら、本発明では、ＳｉＯ２部分を形成する簡便な方法として、シリコーンゴム表面をコロナ処理する方法を見出し、採用した。後述するコロナ処理装置を用いて、特定の条件下でコロナ処理を行うことでＳｉＯ２部分を形成することが可能である。
【００２５】
ＳｉＯ２部分は、現像ローラの長手方向全体に形成されていることが、樹脂層の密着性を得る上で好ましい。さらに、ＳｉＯ２部分の量を現像ローラの長手方向で変化させても良い。とくに、現像ローラの端部でＳｉＯ２部分を多く形成することは、端部の密着性を向上する上でさらに好ましい。
【００２６】
さらに、本発明は現像ローラにおける弾性層表面上のＳｉＯ２部分の存在比率Ｒが、０．２５以上０．８０以下であることが好ましい。具体的には、以下の様にしてＲの値を求める。
【００２７】
Ｘ線光電子分光法によって、樹脂層の表面から直径１００μｍ範囲内の深さ方向の組成分析を行う。そして、シリコーンゴム由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点の全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒを求める。Ｒの値を０．２５以上にすることで、点在したＳｉＯ２部分を形成することができ、弾性層と樹脂層との密着性を向上させることができる。また、Ｒの値を０．８０以下にすることで、ＳｉＯ２の連続層ができることを防止し、チャージアップを抑制することができる。なお、Ｒの測定は、図７に示すように、現像ローラ樹脂層の端部から長手方向へ現像ローラの長さの８％までの領域内と、現像ローラ長手方向の長さの８％幅の現像ローラ中央部領域内とで行う。その際、軸方向に同じ位置について、それぞれ周方向に４点ずつＲの測定する。そして、それぞれのＲ値について、上記の範囲内に入っているかを判断する。Ｘ線光電子分光法による組成分析の詳細については後述する。
【００２８】
さらに、現像ローラの長手方向の端部と中央部で、弾性層と樹脂層とがＳｉＯ２部分を介して接する部分の比率を変化させることが好ましい。具体的には、前記のようにして求めたＲｅとＲｃとの間に、Ｒｅ×０．５０≦Ｒｃ≦Ｒｅ×０．９０の関係が成り立つことが好ましい。ここで、Ｒｅは現像ローラの端部領域の弾性層のＲの値である。また、Ｒｃは現像ローラの中央部領域の弾性層のＲの値である。本発明において、現像ローラの端部領域とは、現像ローラの一端から他端に向かって、当該現像ローラの幅に対して８％の長さの領域をいう。また、現像ローラの中央部領域とは、現像ローラの軸に沿う方向の長さ（現像ローラの幅）の中点を基準として、当該長さに対して８％の長さの領域をいう。このような構成にすることで、中央部よりも端部の方がＳｉＯ２部分の存在比率が多くなるため、チャージアップの抑制を維持しつつ、損傷を生じやすい端部の密着性をとくに向上させることができる。
【００２９】
シリコーンゴム弾性層表面に特定の条件下でコロナ処理を施すことで、弾性層表面に点在したＳｉＯ２部分が形成される。ＳｉＯ２部分は以下の様にして形成されると考えられる。
【００３０】
シリコーンゴムにある一定以上のコロナ電流密度でコロナ処理を施した場合、コロナ放電が有する高いエネルギーにより、シリコーンゴムの弾性層中に存在する未反応のポリシロキサンや、結合が切れて遊離したポリシロキサンが、次第に気化する。気化したポリシロキサンは、コロナ放電中で電子やイオンと衝突することにより、Ｓｉ原子とＯ原子に分解される。さらに、Ｓｉ原子とＯ原子が結合して弾性層表面にＳｉＯ２として形成される。その結果、シリコーンゴム弾性層表面に点在したＳｉＯ２部分が形成されると考えられる。
【００３１】
該コロナ電極と該弾性層との間隔が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であり、コロナ処理時の該コロナ電極全体の平均電流密度Ｉ（Ａ／ｍ）が７．０（Ａ／ｍ）以上３５．０（Ａ／ｍ）以下である。
【００３２】
ＳｉＯ２部分を点在して形成するためには、コロナ処理時のコロナ電極全体の平均電流密度Ｉ（Ａ／ｍ）が７．０（Ａ／ｍ）以上３５．０（Ａ／ｍ）以下であることが好ましい。平均電流密度を７．０（Ａ／ｍ）以上に設定することで、高い熱エネルギーを与えてポリシロキサンを積極的に気化させることができる。気化したポリシロキサンは高エネルギーのコロナ放電中で分解され、ＳｉＯ２部分を形成する。また、平均電流密度を３５．０（Ａ／ｍ）以下に設定することで、ポリシロキサンが過剰に気化してＳｉＯ２の連続層が形成されるのを防止する。その結果、弾性層表面上に点在したＳｉＯ２部分を形成することができる。
【００３３】
現像ローラの端部と中央部で、弾性層と樹脂層とがＳｉＯ２部分を介して接する部分の比率を変化させるために、コロナ処理を以下の条件で施すことが有効である。すなわち、端部の平均電流密度Ｉｅ（Ａ／ｍ）と中央部の平均電流密度Ｉｃ（Ａ／ｍ）がＩｃ×１．２（Ａ／ｍ）≦Ｉｅ≦Ｉｃ×２．０（Ａ／ｍ）の関係になるようにすることが好ましい。ここで、Ｉｅはコロナ処理時の樹脂層の端部から長手方向へ現像ローラの長さの８％までの領域の平均電流密度であり、Ｉｃは現像ローラ長手方向の長さの８％幅の現像ローラ中央部領域内の平均電流密度である。このように端部と中央部の平均電流密度を調節することで、上述したＲｅ×０．５０≦Ｒｃ≦Ｒｅ×０．９０の関係を満たす現像ローラを製造することが可能になる。
【００３４】
ＳｉＯ２部分をミクロに点在形成するためには、コロナ電極の表面粗さを制御することが有効である。すなわち、コロナ電極の表面粗さＲａを１．０μｍ以上３．０μｍ以下とすることが好ましい。これは、コロナ電極の表面を適度に粗すことで、コロナ放電内の電流密度の集中をミクロに分散し、ポリシロキサンの気化量及びＳｉＯ２の形成量を制御できる。その結果、弾性層上のＳｉＯ２部分の点在具合を好ましく制御できる。
【００３５】
ＳｉＯ２部分を効率よく形成するためには、弾性層表面を予め１５０℃以上２２０℃以下の温度に加熱した後にコロナ処理を行うことが好ましい。弾性層表面を加熱してポリシロキサンを予め気化させることで、短時間のコロナ処理で所望のＳｉＯ２部分を形成でき、弾性層のダメージを最小限に抑えることができる。
【００３６】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００３７】
＜本発明の現像ローラ＞
以下、図１の現像ローラについて詳細に説明する。
【００３８】
軸芯体１１の材料は、導電性であればとくに限定されず、炭素鋼、合金鋼及び鋳鉄、導電性樹脂の中から、適宜選択して用いることが出来る。合金鋼としては、ステンレス鋼、ニッケルクロム鋼、ニッケルクロムモリブテン鋼、クロム鋼、クロムモリブテン鋼、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｏ及びＶを添加した窒化用鋼が挙げられる。さらに防錆対策として軸芯体にめっき、酸化処理を施すことができる。めっきの種類としては電気めっき、無電解めっきのいずれも使用することが出来るが、寸法安定性の観点から無電解めっきが好ましい。ここで使用される無電解めっきの種類としては、ニッケルめっき、銅めっき、金めっき、カニゼンめっき、その他各種合金めっきがある。ニッケルめっきの種類としては、Ｎｉ―Ｐ、Ｎｉ−Ｂ、Ｎｉ−Ｗ−Ｐ、Ｎｉ−Ｐ−ＰＴＦＥ複合めっきがある。膜厚はそれぞれ０．０５μｍ以上であれば好ましいが、より好ましくは０．１０μｍ乃至３０．００μｍである。
【００３９】
弾性層１２の材料には、シリコーンゴムを用いる。シリコーンゴムは単独で用いても良いし、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンゴム、ブチルゴム、ブタジエンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴムから選択される一種または複数種を、シリコーンゴムに組み合わせて用いても良い。
【００４０】
シリコーンゴム材料としては、以下のものが挙げられる。ポリジメチルシロキサン，ポリメチルトリフルオロプロピルシロキサン，ポリメチルビニルシロキサン，ポリトリフルオロプロピルビニルシロキサン，ポリメチルフェニルシロキサン，ポリフェニルビニルシロキサン、これら複数のポリシロキサンの共重合体。
【００４１】
弾性層１２を構成するシリコーンゴム中には、未反応のポリシロキサンが含まれていることが、コロナ処理により所望のＳｉＯ２部分を形成する上で好ましい。未反応のポリシロキサンとしては、環状ポリシロキサンやシリコーンゴムとして使用される各種材料の低分子成分が挙げられる。通常、シリコーンゴム中には未反応のポリシロキサンが含まれるが、反応性を持たないポリシロキサンを予め配合することで、含有量を制御しても良い。このような未反応のポリシロキサンを含有するシリコーンゴム弾性層を、一定の条件でコロナ処理をすることによって、本発明の現像ローラを製造することができる。特にシリコーンゴム中に含まれる未反応のポリシロキサンの含有量は、３乃至２０重量％が好ましい。３重量％以上にすることでＳｉＯ２の形成を促進し、２０重量％以下にすることで画像形成時にシロキサンが染み出して感光体を汚染するのを防止することができる。シリコーンゴム中に含まれる未反応のポリシロキサンの含有量は、シリコーンゴム弾性層を適当な大きさに切り出して、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）に２４時間浸漬させてポリシロキサンを抽出させた前後の重量変化より求めることができる。
【００４２】
弾性層１２の厚さは、現像ローラ１０に充分な弾性を与えるために０．５ｍｍ乃至１０．０ｍｍであることが好ましい。弾性層１２の厚さを０．５ｍｍ以上にすることで、現像ローラ１０に充分な弾性が得られ、感光ドラムの摩耗を抑制することができる。また、弾性層１２の厚さを１０．０ｍｍ以下にすることで、現像ローラ１０のコストを抑えることができる。
【００４３】
弾性層１２の硬度は、Ａｓｋｅｒ−Ｃ硬度１０度乃至８０度であることが好ましい。弾性層１２の硬度を１０度以上にすることで、弾性層１２を構成するゴム材料からのオイル成分の染み出しを抑え、感光ドラムの汚染を抑制することができる。また、弾性層１２の硬度を８０度以下にすることで、感光ドラムの摩耗を抑制することができる。また、弾性層１２のＭＤ−１硬度は、２０．０°乃至４０．０°にすることで、当接部材による弾性層１２の変形量と、弾性層１２による感光体ドラムの削れ量を抑制できるため好ましい。ここで、ＭＤ−１硬度は、高分子計器株式会社製のマイクロゴム硬度計ＭＤ−１型を用いて、温度２３℃、湿度５０％ＲＨに制御した室内で測定したマイクロゴム硬度の値をいう。
【００４４】
弾性層１２には、シリコーンゴムが有する低硬度及び低圧縮永久歪の特性を阻害しない範囲内で、充填剤を添加しても良い。充填剤の材料としては、石英微粉末、ヒュームドシリカ、湿式シリカ、ケイソウ土、酸化亜鉛、塩基性炭酸マグネシウム、活性炭酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、二酸化チタン、タルク、雲母粉末、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ガラス繊維、有機補強剤、有機充填剤を挙げることができる。これらの充填剤の表面は有機珪素化合物、例えば、ポリジオルガノシロキサンで処理して疎水化しても良い。
【００４５】
現像ローラ１０は、半導体領域の電気抵抗値を有する必要がある。そのため、弾性層１２が導電剤を含有し、体積抵抗率１×１０４Ω・ｃｍ乃至１×１０８Ω・ｃｍのゴム材料から形成されていることが好ましい。ここで、樹脂層材料の体積抵抗率が１×１０５Ω・ｃｍ乃至１×１０１０Ω・ｃｍであれば、トナーに対して均一な帯電制御性を得ることが可能である。さらに、より好ましくは１×１０５Ω・ｃｍ乃至１×１０９Ω・ｃｍである。
【００４６】
樹脂層材料の体積抵抗率の測定は、以下の方法で求めることができる。
【００４７】
はじめに、弾性層１２の材料を、弾性層１２の成形時と同じ条件で、弾性層１２と同じ厚さに硬化させた平板状のテストピースを作製する。次に、テストピースから直径３０ｍｍの試験片を切り出す。切り出した試験片の片面には、その全面にＰｔ−Ｐｄ蒸着を行うことで蒸着膜電極（裏面電極）を設け、もう一方の面には同じくＰｔ−Ｐｄ蒸着膜により、直径１５ｍｍの主電極膜と、内径１８ｍｍ、外径２８ｍｍのガードリング電極膜を同心状に設ける。なお、Ｐｔ−Ｐｄ蒸着膜は、マイルドスパッタＥ１０３０（日立製作所製）を用い、電流値１５ｍＡにて蒸着操作を２分間行って得る。蒸着操作を終了したものを測定サンプルとする。
【００４８】
次に、以下の装置を用いて、以下の条件で測定サンプルの体積抵抗の測定を行う。測定時には、主電極を測定サンプルの主電極膜からはみ出さないように置く。また、ガードリング電極を測定サンプルのガードリング電極膜からはみ出さないように置く。測定は、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの環境で行うが、測定に先立って、測定サンプルを、その環境に１２時間以上放置しておく。
試料箱：超高抵抗計測定用試料箱ＴＲ４２（アドバンテスト社製）
主電極：口径１０ｍｍ厚さ１０ｍｍの金属
ガードリング電極：内径２０ｍｍ、外径２６ｍｍ厚さ１０ｍｍの金属
抵抗計：超高抵抗計Ｒ８３４０Ａ（アドバンテスト社製）
測定モード：プログラムモード５（チャージ及びメジャー３０秒、ディスチャージ１０秒）
印加電圧：１００（Ｖ）
測定した体積抵抗値をＲＭ（Ω）、試験片の厚さをｔ（ｃｍ）とするとき、樹脂層材料の体積抵抗率ＲＲ（Ωｃｍ）は、以下の式によって求めることができる。
ＲＲ（Ωｃｍ）＝π×０．７５×０．７５×ＲＭ（Ω）÷ｔ（ｃｍ）
弾性層１２の材料を導電化する手段としては、イオン導電機構、または電子導電機構による導電付与剤を上記材料に添加することにより導電化する手法が挙げられる。
【００４９】
イオン導電機構による導電付与剤としては、以下のものが挙げられる。ＬｉＣＦ３ＳＯ３、ＮａＣｌＯ４、ＬｉＣｌＯ４、ＬｉＡｓＦ６、ＬｉＢＦ４、ＮａＳＣＮ、ＫＳＣＮ、ＮａＣｌの周期律表第１族金属の塩、ＮＨ４Ｃｌ、（ＮＨ４）２ＳＯ４、ＮＨ４ＮＯ３のアンモニウム塩、Ｃａ（ＣｌＯ４）２、Ｂａ（ＣｌＯ４）２の周期律表第２族金属の塩、これらの塩と１，４−ブタンジオール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコールの多価アルコールやそれらの誘導体との錯体、これらの塩とエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノエチルエーテルのモノオールとの錯体、第４級アンモニウム塩の陽イオン性界面活性剤、脂肪族スルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルリン酸エステル塩の陰イオン性界面活性剤、ベタインの両性界面活性剤。
【００５０】
また、電子導電機構による導電付与剤としては、以下のものが挙げられる。カーボンブラック、グラファイトの炭素系物質、アルミニウム、銀、金、錫−鉛合金、銅―ニッケル合金の金属或いは合金、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化銀の金属酸化物、各種フィラーに銅、ニッケル、銀の導電性金属めっきを施した物質。これらイオン導電機構、電子導電機構による導電付与剤は粉末状や繊維状の形態で、単独または２種類以上を混合して使用することが出来る。この中でも、カーボンブラックは導電性の制御が容易であり、また経済的であるといった観点から好適に用いられる。
【００５１】
樹脂層１４として用いられる材料としては、以下のものが挙げられる。エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、フッ素樹脂、ポリプロピレン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、珪素樹脂、ポリエステル樹脂、スチロール系樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド樹脂、繊維素系樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アクリルウレタン樹脂、水系樹脂。また、これらを２種類以上組み合わせて使用することも可能である。この中でも特に含窒素化合物であるウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂を用いることがトナーを安定して帯電させられることから好ましい。さらに、イソシアネート化合物とポリオールを反応させて得られるウレタン樹脂からなることが、帯電付与性とトナー劣化抑制の観点からより好ましい。
【００５２】
イソシアネート化合物としては、以下のものが挙げられる。ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジイソシアネート、４，４’−ジシクロへキシルメタンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、カルボジイミド変性ＭＤＩ、キシリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート。また、これらの混合物を用いることもでき、その混合割合はいかなる割合でもよい。
【００５３】
また、ここで用いるポリオールとしては、以下のものが挙げられる。２価のポリオール（ジオール）として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、トリエチレングリコール、３価以上のポリオールとして、１，１，１−トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール。さらに、ジオール、トリオールに、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドを付加した高分子量のポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、エチレンオキサイド‐プロピレンオキサイドブロックグリコールといったポリオールも使用可能である。また、これらの混合物を用いることもでき、その混合割合はいかなる割合でもよい。
【００５４】
さらに、これらの樹脂層１４に導電性を付与して使用することが出来る。導電性を付与する手法としては上記弾性層１２の導電化と同様の手法を用いることが可能である。
【００５５】
樹脂層１４の厚さは、１．０μｍ乃至５００．０μｍが好ましい。さらには、樹脂層１４の厚みは１．０μｍ乃至５０．０μｍであることがより好ましい。樹脂層１４を１．０μｍ以上にすることで、耐久性を与えることができる。また、５００．０μｍ以下、さらに好ましくは５０．０μｍ以下にすることで、ＭＤ−１硬度を低くでき、トナーの固着を抑制できる。樹脂層を複数層形成する場合には、複数層全体の厚さを上記範囲にすることが望まれる。ここで、樹脂層１４の厚さは、キーエンス株式会社製のデジタルマイクロスコープＶＨＸ−６００を用いて樹脂層の厚み方向の断面を観察し、樹脂層表面の平坦部から弾性層側の界面までの平均距離をいう。
【００５６】
現像ローラ１０のＭＤ−１硬度は、３０．０°乃至５０．０°にすることで、トナーの固着と当接部材による変形を効果的に抑制できるため好ましい。ここで、ＭＤ−１硬度は、高分子計器株式会社製のマイクロゴム硬度計ＭＤ−１型を用いて、温度２３℃、湿度５０％ＲＨに制御した室内で測定したマイクロゴム硬度の値をいう。
【００５７】
現像ローラ１０の表面粗さは、トナーの搬送力に大きく影響し、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４表面粗さの規格における中心線平均粗さＲａが０．０５μｍ乃至３．００μｍであることが好ましい。Ｒａを０．０５μｍ以上にすることで、トナーの搬送力を得ることができ、画像濃度の低下やゴーストといった画像品質の低下を抑制することができる。また、Ｒａを３．００μｍ以下とすることで、かぶりやガサツキといった画像品質の低下を抑制することができる。
【００５８】
表面粗さを制御する手段としては、樹脂層１４に所望の粒径の粒子を含有させることが有効である。また、樹脂層形成前後に、適宜研磨処理を施すことにより所望の表面粗さに形成することも可能である。その場合、弾性層のみを形成する場合には、弾性層を形成後に研磨処理を施せば良い。弾性層を複数層形成する場合には、複数層を形成後に研磨処理を施せば良い。また、弾性層と樹脂層を形成する場合には、弾性層を形成後に研磨処理を施した後に樹脂層を形成しても、樹脂層を形成後に研磨処理を施しても良い。
【００５９】
樹脂層１４に含有させる粒子には、粒径０．１μｍ乃至３０．０μｍの金属粒子及び樹脂粒子を用いることができる。中でも、柔軟性に富み、比較的比重が小さくて塗料の安定性が得やすい樹脂粒子がより好ましい。樹脂粒子としては、ウレタン粒子、ナイロン粒子、アクリル粒子、シリコーン粒子を挙げることができる。これらの樹脂粒子は単独、又は複数種を混合して使用することができる。樹脂層を複数層形成する場合には、複数層全てに粒子を含有させても良いし、複数層のうちの少なくとも一層に粒子を含有させても良い。
【００６０】
＜本発明に係わるコロナ処理装置＞
本発明に適用可能なコロナ処理装置について、その概要を図３により説明する。
【００６１】
図３は本発明の現像ローラの製造方法を実現する、コロナ処理装置の一例を示す概略構成図である。
【００６２】
図３において、コロナ処理装置３０は、チャンバー３１、コロナ電流計３２、高周波電源３３、ガス導入口３４、ガス排気口３５、支持部３６、回転駆動部３７、パージ口３８、パルスジェネレーター３９、コロナ電極４０により構成される。コロナ処理装置の一例として、コロナ放電表面処理装置（春日電機株式会社製）が挙げられる。
【００６３】
被処理物である現像ローラ１０は、チャンバー３１内に設置された支持部３６により芯金の両端を支持し、コロナ電極４０と平行に所望の間隔を隔てて配置する。さらに、現像ローラ１０の軸芯体は支持部３６を介して接地するとともに、回転駆動部３７に接続する。
【００６４】
コロナ電極４０はチャンバー３１とは絶縁し、さらに所望の周波数の高周波電力を出力する高周波電源３３を接続する。高周波電源３３にはパルスジェネレーター３９が接続され、必要に応じて高周波電力をパルス変調することができる。
【００６５】
コロナ電極４０と高周波電源３３の間にはコロナ電流計３２が接続され、コロナ放電に供給される電流値を測定することができる。本発明に係わるコロナ処理時のコロナ電極全体の平均電流密度Ｉ（Ａ／ｍ）は、この電流値を弾性層の長手方向におけるコロナ放電の発生領域の長さで除することにより算出できる。なお、コロナ放電の発生領域の長さは、目視でコロナ放電の発生を確認して測定した。
【００６６】
コロナ電極４０は、異常放電の発生を抑制するため、高周波電力を供給する金属の導電体部と、その周囲を覆う絶縁体部で構成したものが好ましく用いられる。具体的には、図４（ａ）に示すように、導電体部４１の周囲に絶縁体部４２を被覆して構成する。導電体部４１は導電体であれば特に制限はされないが、ＡｌやＣｕを用いることが好ましい。絶縁体部４２は絶縁性であれば特に制限はされないが、耐久性の面でセラミックを用いることが好ましい。
【００６７】
本発明では、樹脂層の端部の平均電流密度Ｉｅ（Ａ／ｍ）と中央部の平均電流密度Ｉｃ（Ａ／ｍ）を個別に制御するために、コロナ電極の金属の導電体部４１を所望の領域で分割し、各々個別にコロナ電流計３２、高周波電源３３、パルスジェネレーター３９を接続して独立して制御することができる。
【００６８】
さらに、図４（ｂ）に示すように、コロナ電極４０の絶縁体部４２の径を長手方向で制御したり、図４（ｃ）に示すように導電体部４１の径を長手方向で制御することで、樹脂層の端部の平均電流密度Ｉｅ（Ａ／ｍ）と中央部の平均電流密度Ｉｃ（Ａ／ｍ）を制御することも可能である。この場合、各々が所望の電流密度になるように、導電体部４１の直径及び絶縁体部４２の厚みを適宜調整して用いればよい。
【００６９】
コロナ電極の表面粗さは、弾性層表面に所望のＳｉＯ２部分を点在して形成する上で有効である。具体的には、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４表面粗さの規格における中心線平均粗さＲａが、１．０μｍ以上３．０μｍ以下がより好ましい。Ｒａを１．０μｍ以上とすることで、コロナ放電中の電流密度を不均一にでき、所望のＳｉＯ２部分を点在して形成することができる。また、Ｒａを３．０μｍ以下とすることで、コロナ放電中で電界集中を生じることにより発生する異常放電を抑制できる。コロナ電極の表面粗さは、一般的な研磨処理、ブラスト処理により所望の値に制御することができる。
【００７０】
また、チャンバー３１内を所望のガス雰囲気にするため、ガス導入口３４が不図示のガスボンベにレギュレーターを介して接続され、さらにガス排気口３５は不図示の真空ポンプに接続される。また、チャンバー３１内をパージするためのパージ口３８が設置される。
【００７１】
また、未反応のポリシロキサンを気化しやすくするために、弾性層表面を加熱するための赤外線ハロゲンランプを設置しても良い。
【００７２】
次に、コロナ処理装置の動作について説明する。
【００７３】
まず、コロナ処理を行う現像ローラ１０を所望の位置に設置する。次に、現像ローラ１０を回転駆動させる。その後、所望の高周波電力を高周波電源３３よりコロナ電極４０に供給し、現像ローラ１０とコロナ電極４０の間にコロナ放電を発生させて処理を開始する。所望の処理時間が経過したら、電力の供給及び回転駆動を停止し、現像ローラ２０を取り出して処理を完了する。
【００７４】
コロナ放電を発生させる条件は、所望のＳｉＯ２部分が形成できるように適宜調整する必要がある。とくに、コロナ放電が不安定になり、異常放電の発生や弾性層の過昇温が生じると、弾性層の損傷をもたらす場合があるので避けなければならない。
【００７５】
コロナ処理の時間は、所望のＳｉＯ２部分が形成できるように適宜選択することが好ましい。具体的には、処理時間は３０秒間以上１２０秒間以下が好ましい。３０秒間以上にすることで、周方向に均一な処理効果が得られるため好ましい。また、１２０秒間以下にすることで、過昇温による弾性層の損傷を抑制できるため好ましい。
【００７６】
コロナ放電を発生させる際のチャンバー３１内の圧力は、とくに制限を受けないが、コロナ放電中の荷電粒子密度を高めて効率良く処理するためには、９２ｋＰａ乃至１１１ｋＰａの大気圧近傍下でコロナ放電を形成して処理することが好ましい。
【００７７】
コロナ電極４０に供給する高周波電力は、周波数及び投入電力を適宜選択することが好ましい。具体的には、１ｋＨｚ乃至３ＧＨｚの周波数が好ましい。とくに、大気中でコロナ放電を発生させる場合には、コロナ放電を安定して形成できることから、１ｋＨｚ乃至１５ＭＨｚが好ましく、さらには５乃至１００ｋＨｚが好ましい。投入電力は、装置構成及びコロナ放電発生領域に依存するためとくに限定はされないが、異常放電の発生や弾性層の過昇温が起きない範囲で高くしたほうが、所望のＳｉＯ２部分を効率良く形成できるため好ましい。
【００７８】
本発明においては、パルス幅変調方式によりパルス変調した高周波電力を供給してコロナ放電を発生させることがより好ましい。パルス幅変調方式を用いることにより、コロナ放電に投入する電力を高く設定でき、所望のＳｉＯ２部分を得ることが容易になる。また、ｄｕｔｙ比は５０％乃至８０％の範囲であることが好ましい。ｄｕｔｙ比は、パルス変調した高周波電力１周期に対する電力を印加する時間の比率を表す。ｄｕｔｙ比を５０％以上にすることが、所望のＳｉＯ２部分を得るのに充分なエネルギーを与えることができるため好ましい。また、ｄｕｔｙ比を８０％以下にすることが、コロナ放電による過昇温が引き起こす弾性層の損傷を抑制できるため好ましい。
【００７９】
コロナ電極４０と弾性層２０の間隔は、長手方向でほぼ均一であればとくに制限はされない。コロナ放電が安定して形成されるように、使用する電源周波数に応じて適正な範囲を選べばよいが、一般的には１ｍｍ乃至１０ｍｍの間隔が好ましい。１ｍｍ以上とすることで、異常放電の発生を抑制できるため好ましい。また、１０ｍｍ以下とすることで、コロナ放電を均一に形成できるため好ましい。
【００８０】
コロナ放電の発生領域は装置構成によって任意に制御できる。図３に示したように、コロナ電極４０を弾性層１０全体に対向して設置することで、弾性層１０の長手方向全域にコロナ放電を形成し、同時に処理することができる。また、弾性層１０の長手方向の一部に形成したコロナ放電を、弾性層１０の長手方向に走査することで、弾性層１０の長手方向全域を処理しても良い。このようなコロナ放電を発生させるコロナ処理装置の一例として、プラズマ照射表面改質装置ＰＳ−６０１Ｃ（春日電機株式会社製）が挙げられる。
【００８１】
コロナ処理は、現像ローラを回転させて周方向に均一に行うことが好ましい。現像ローラの回転数はとくに制限されることはないが、１ｒｐｍ乃至３００ｒｐｍの回転数が均一に処理でき好ましい。
【００８２】
また、コロナ処理を行う前に弾性層表面を加熱することが、ＳｉＯ２部分を効率良く形成できて好ましい。その場合、未反応のポリシロキサンが気化しやすくなるように、現像ローラを回転駆動させた後、１０秒乃至３００秒間加熱して弾性層表面を温度１５０℃乃至２２０℃にすることが好ましい。熱源はとくに制限されないが、赤外線ハロゲンランプがコスト、昇温速度の点で好ましい。
【００８３】
以上のようなコロナ処理装置を用いれば、弾性層表面に所望のＳｉＯ２部分を形成することが可能となる。
【００８４】
＜本発明に係わる電子写真用画像形成装置及び電子写真用プロセスカートリッジ＞
次に、本発明の現像ローラを搭載する電子写真用画像形成装置の一例を、図５で説明する。なお、以下の例ではカラーの電子写真用画像形成装置について説明するが、本発明の現像ローラは単色の電子写真用画像形成装置についても使用することが出来る。
【００８５】
図５において、電子写真用画像形成装置５００には、イエロートナー、マゼンダトナー、シアントナー、ブラックトナーの各色トナー毎に設けられる画像形成ユニットａ、ｂ、ｃ、ｄが設けられる。各画像形成ユニットには、それぞれ矢印方向に回転する静電潜像担持体としての感光体５０５が設けられる。各感光体の周囲には、感光体を一様に帯電するための帯電装置５１１、一様に帯電処理した感光体にレーザー光５１０を照射して静電潜像を形成する露光手段、静電潜像を形成した感光体にトナーを供給し静電潜像を現像する現像装置５０９が設けられる。
【００８６】
一方、給紙ローラ５２３により供給される紙等の記録材５２２を搬送する転写搬送ベルト５２０が駆動ローラ５１６、従動ローラ５２１、テンションローラ５１９に懸架されて設けられる。転写搬送ベルト５２０には吸着ローラ５２４を介して吸着バイアス電源５２５の電荷が印加され、記録材５２２を表面に静電気的に付着させて搬送するようになっている。
【００８７】
各画像形成ユニットの感光体上のトナー像を、転写搬送ベルト５２０によって搬送される記録材５２２に転写するための電荷を印加する転写バイアス電源５１８が設けられる。転写バイアスは転写搬送ベルト５２０の裏面に配置される転写ローラ５１７を介して印加される。各画像形成ユニットにおいて形成される各色のトナー像は、画像形成ユニットに同期して可動される転写搬送ベルト５２０によって搬送される記録材５２３上に、順次重畳して転写されるようになっている。
【００８８】
更に、カラー電子写真用画像形成装置には、記録材上に重畳転写したトナー像を加熱などにより定着する定着装置５１５、画像形成された記録材５２２を装置外に排出する搬送装置（不図示）が設けられる。
【００８９】
一方、各画像形成ユニットには各感光体上に転写されずに残存する転写残トナーを除去し表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング装置５１２が設けられる。更に、その他感光体から掻き取られたトナーを収納する廃トナー容器が設けられる。クリーニングされた感光体は画像形成可能状態とされて待機するようになっている。
【００９０】
上記各画像形成ユニットに設けられる現像装置５０９には、一成分現像剤として非磁性トナーを収容したトナー容器５０７と、トナー容器の開口を閉塞するように設置され、トナー容器から露出した部分で感光体と対向するように現像ローラ１０が設けられる。
【００９１】
トナー容器内には、現像ローラにトナーを供給すると同時に、現像後現像ローラ上に使用されずに残留するトナーを掻き取るためのトナー供給ローラ５０６と、現像ローラ上のトナーを薄膜状に形成すると共に、摩擦帯電するトナー量規制部材５０８とが設けられている。これらはそれぞれ現像ローラ１０に当接配置されている。トナー量規制部材５０８にはトナー量規制部材バイアス電源５１３が接続され、現像ローラには現像ローラバイアス電源５１４が接続され、画像形成時において、トナー量制部材と現像ローラにはそれぞれ電荷が印加される。トナー量規制部材バイアス電源５１３から出力される電圧は、現像ローラバイアス電源５１４から出力される電圧より５０Ｖ乃至４００Ｖ低い電圧が出力される。
【００９２】
次に、本発明の現像ローラを搭載する電子写真用画像形成装置に脱着可能な電子写真用プロセスカートリッジの一例を、図６で説明する。図６に示す電子写真用画像形成装置用プロセスカートリッジ５３０は、現像装置５０９と、感光体５０５、クリーニング装置５１２を有し、これらが一体化されて電子写真用画像形成装置本体に着脱自在に設けられる。現像装置９としては電子写真用画像形成装置で説明したものと同様のものを挙げることができる。本発明の電子写真用画像形成装置用プロセスカートリッジは、上記の他、感光体上のトナー像を記録材に転写する転写部材などを上記の部材と共に一体的に設けたものであってもよい。
【００９３】
＜本発明に係わる分析方法＞
（透過電子顕微鏡によるＳｉＯ２部分の確認）
本発明では、弾性層と樹脂層とがＳｉＯ２部分を介して接している様子を、透過電子顕微鏡により確認した。
【００９４】
試料は、測定する現像ローラを、弾性層と樹脂層が両方含まれるように断面方向に切り出した後、ミクロトームで切削し、１００μｍ角、厚さ１００ｎｍの薄片を作製した。この試料を、透過電子顕微鏡（商品名：Ｈ−７５００、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて１００００倍の倍率で観察し、弾性層と樹脂層の間にＳｉＯ２部分の有無を確認した。同時に、図２（ａ）に示すように、弾性層と樹脂層とがＳｉＯ２部分を介して接する部分と、ＳｉＯ２部分を介さずに接する部分とが混在しているかどうかを確認した。さらに、ＳｉＯ２部分の径及び厚さを確認した。
【００９５】
（Ｘ線光電子分光法によるＳｉＯ２部分の定量分析）
本発明では、Ｘ線光電子分光法によりＳｉＯ２部分の定量分析を行った。
【００９６】
試料は、測定する現像ローラの表面から５ｍｍ角で、弾性層と樹脂層の両方が充分に含まれるように深さ１ｍｍ以上を切り出して作製した。この試料を、Ｘ線光電子分光装置（商品名：Ｑｕａｎｔｕｍ２０００、アルバック・ファイ株式会社製）を用いて、アルゴンイオンエッチング法により試料の樹脂層表面から深さ方向の組成分析を行った。ここで、分析領域はφ１００μｍとし、Ｘ線源にはＡｌ Ｋα（１５ｋＶ、２５Ｗ）を用いた。さらに、約１００ｎｍエッチングする毎に組成情報を得て、深さ方向の組成分析を行った。
【００９７】
具体的には、Ｓｉの２ｐ軌道の結合エネルギーに起因するピークの測定を行い、ＳｉＯ２に帰属されるＳｉのピークを１０３．７ｅＶ、Ｓｉ−Ｏに帰属されるＳｉのピークを１０２．５ｅＶとしてピーク分離を行った。それぞれの結合に帰属されるＳｉの組成より、弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点の全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒを求めた。
【００９８】
その測定結果の一例を表１に示す。表１では、１００ｎｍ毎の深さ方向の相対位置におけるＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子とＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子の組成、及び全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒを示した。なお、表１では深さ方向の相対位置をＳｉＯ２部分近傍のみ示した。また、測定した組成分析結果は、検出された炭素、窒素、酸素、珪素を合わせた総数を１００（ａｔｏｍ％）とした。
【００９９】
ここで、Ｓｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子の組成が、弾性層におけるＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子の組成の１／２以上になった時点を、弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点と定義した。表１の測定例においては、弾性層におけるＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子の組成は２０（ａｔｏｍ％）であった。したがって、深さ方向の相対位置１３で弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子を検出したと判断した。この時点での全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒは０．３６であった。
【０１００】
このようにして、弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点の全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒを求めた。
【０１０１】
【表１】
【実施例】
【０１０２】
以下、本発明を実施例及び比較例に基づき詳細に説明する。
【０１０３】
下記の実施例は、本発明の最良な実施形態の一例であるものの、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。
【０１０４】
［実施例１−１］
＜現像ローラの作製＞
以下の手順により、円柱状の軸芯体の周囲に、被覆層として弾性層と樹脂層を１層ずつ設けた現像ローラを作製した。
【０１０５】
軸芯体として、直径６ｍｍ、長さ２７９ｍｍのＳＵＳ３０４製の芯金を用いた。
【０１０６】
弾性層の材料として、以下の要領で液状シリコーンゴムを準備した。まず、次の材料を混合し液状シリコーンゴムのベース材料とした。
両末端にビニル基を有する温度２５℃における粘度が１００Ｐａ・ｓのジメチルポリシロキサン（東レダウコーニング社製、重量平均分子量１００，０００）：１００質量部。
充填剤として石英粉末（Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ Ｇｌａｓｓ Ｓａｎｄ社製、商品名：Ｍｉｎ−ＵＳｉｌ）：７質量部。
カーボンブラック（電気化学工業製、商品名：デンカブラック、粉状品）８質量部。このベース材料に、硬化触媒として白金化合物（東レダウコーニング社製、Ｐｔ濃度１％）を微量配合したものと、分子鎖両末端と側鎖にＳｉＨ基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン（東レダウコーニング社製、重量平均分子量５００）３質量部を配合したものを質量比１：１で混合し、液状シリコーンゴムとした。
【０１０７】
内径１２ｍｍの円筒型金型内の中心部に軸芯体を配置し、円筒型金型内に注入口からこの液状シリコーンゴムを注入し、温度１２０℃で５分間加熱硬化させ、室温まで冷却後、軸芯体と一体となった弾性層を脱型した。さらに温度１５０℃で４時間加熱して硬化反応を完了させ、厚さ３ｍｍのシリコーンゴムを主成分とする弾性層を軸芯体の外周面上に設けた。シリコーンゴム中の未反応のポリシロキサンの含有量は１０重量％であった。
【０１０８】
その後、図３に示したコロナ処理装置（春日電機株式会社製）により以下の要領で処理し、弾性層表面にＳｉＯ２部分を形成した。
【０１０９】
温度２３℃、湿度５０％ＲＨに制御した室内に設置したコロナ処理装置に、弾性層をコロナ電極と３ｍｍの間隔を隔てて配置した。コロナ電極の長さは３００ｍｍとし、表面粗さＲａは２．０μｍとした。チャンバー内の雰囲気は室内の空気そのままとし、圧力は１０１ｋＰａとした。
【０１１０】
弾性層表面が温度２３℃であることを確認した後、弾性層を６０ｒｐｍの回転数で回転駆動させた後、赤外線ハロゲンランプ（岩崎電気株式会社製）を用いて、弾性層表面を温度２００℃に加熱した後、１分間放置した。
【０１１１】
その後、周波数３５ｋＨｚの電力をパルス変調はさせずに、長手方向に均一にコロナ電流密度２０（Ａ／ｍ）で供給してコロナ処理を行った。処理時間は３０秒間とした。
【０１１２】
次に、樹脂層を以下の要領で被覆した。
【０１１３】
樹脂層の材料として、次のものを用いた。
ポリテトラメチレングリコール（商品名：ＰＴＧ６５０ＳＮ、数平均分子量Ｍｎ＝１０００、ｆ＝２（ｆは官能基数を表す。以下同じ。）；保土谷化学株式会社製）：１００．０質量部。イソシアネート（商品名：ミリオネートＭＴ、ＭＤＩ、ｆ＝２、日本ポリウレタン工業株式会社製）：２１．２質量部。
これら材料をＭＥＫ溶媒中で段階的に混合して、窒素雰囲気下８０度にて６時間反応させ、重量平均分子量Ｍｗ＝１００００、水酸基価２０．０（ｍｇ・ＫＯＨ／ｇ）、分子量分散度Ｍｗ／Ｍｎ＝２．９、Ｍｚ／Ｍｗ＝２．５の２官能のポリウレタンプレポリマーを得た。ＭＥＫはメチルエチルケトンである。
【０１１４】
このポリウレタンプレポリマー１００．０質量部にイソシアネート（商品名：コロネート２５２１、日本ポリウレタン工業株式会社製）３５．０質量部を加えて、ＮＣＯ当量を１．４となるようにした。なお、ＮＣＯ当量は、イソシアネート化合物中のイソシアネート基のモル数とポリオール成分中の水酸基のモル数との比（［ＮＣＯ］／［ＯＨ］）を示すものである。
【０１１５】
さらに、カーボンブラック（商品名：＃１０００、ｐＨ３．０、三菱化学社製）を２１．０質量部添加した。この原料混合液に有機溶剤を加え、２０μｍ前後の膜厚が得られるように固形分２０質量％乃至３０質量％の範囲で適宜調整した。さらに、ウレタン樹脂粒子（商品名：Ｃ４００透明、直径１４μｍ、根上工業株式会社製）を２１．０質量部加え、均一分散、混合したものを樹脂層の原料液とした。
【０１１６】
この樹脂層の原料液中に、上記の樹脂層を形成した軸芯体を浸漬した後、引上げて自然乾燥させた。次いで、温度１４０℃にて６０分間の加熱処理を行い、樹脂層の原料液を硬化させて、平均２０．０μｍの膜厚の樹脂層を得た。このようにして、外径が約１２ｍｍ、被覆層の長さ２３５ｍｍ、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４表面粗さの規格における中心線平均粗さＲａが、１．５μｍの現像ローラを作製した。
【０１１７】
＜評価＞
作製した現像ローラについて、前述の分析方法に従い、透過電子顕微鏡によるＳｉＯ２部分の確認を行った。その結果、弾性層と樹脂層の間にＳｉＯ２部分を確認した。
【０１１８】
同時に、図２（ａ）及び（ｂ）に示すようにＳｉＯ２部分が点在しており、弾性層と樹脂層とがＳｉＯ２部分を介して接する部分と、ＳｉＯ２部分を介さずに接する部分とが混在していることを確認した。
【０１１９】
次に、現像ローラの端部から２０ｍｍ位置と、長手方向の中央位置においてＳｉＯ２の最大長さを測定した。その際、軸方向の同じ位置について、それぞれ周方向に４点ずつ測定を行った。透過電子顕微鏡で、２５μｍ四方の範囲にあるＳｉＯ２部分を観察したところ、多少大きさのバラツキはあったものの、それぞれの最大長さは０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲に入っていた。
【０１２０】
次に、Ｘ線光電子分光法によるＳｉＯ２部分の定量分析を行った。その結果、弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点の全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒは０．５６であった。
【０１２１】
さらに、同条件で作製した現像ローラを用い、電子写真用画像形成装置で画像評価を行った。電子写真用画像形成装置には、Ｈｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋａｒｄ社製 Ｃｏｌｏｒ Ｌａｓｅｒ Ｊｅｔ３６００を用いた。プロセスカートリッジには専用のブラック用のものを用い、現像ローラのみを交換して以下の評価を行った。
【０１２２】
（かぶり評価）
本実施例の現像ローラを組み込んだプロセスカートリッジを画像形成装置本体に搭載し、温度１５℃、湿度１０％ＲＨの環境に２４時間放置した。その後、同環境において、印字率が１％の画像を公称寿命よりも多い２５０００枚出力した。その後、同環境でベタ白画像を出力し、以下の方法でかぶり値を測定した。
【０１２３】
かぶり値は、反射濃度計（商品名：ＴＣ−６ＤＳ／Ａ；東京電色技術センター社製）を用いて、画像形成前の転写紙の反射濃度と、ベタ白画像の画像形成を行った後の転写紙の反射濃度を測定し、その差分により求めた。
【０１２４】
かぶり値について以下の基準により評価を行った。かぶり値は小さいほど、チャージアップを抑制できていると考えられる。ここで、下記評価Ａ及び評価Ｂは、目視では「かぶり」を認識できないレベルである。一方、評価Ｃ及び評価Ｄは、目視で「かぶり」を明らかに認識できるレベルである。
Ａ：１．０より小さい
Ｂ：１．０以上かつ２．０より小さい
Ｃ：３．０以上かつ５．０より小さい
Ｄ：５．０以上。
【０１２５】
（密着性評価）
次に、かぶり評価を終えた現像ローラを取り出し、温度２０℃、湿度５５％ＲＨの環境に２４時間放置した後、同環境において、以下の方法で密着性評価を行った。
【０１２６】
まず、現像ローラの表面をメチルエチルケトンで洗浄し、トナー及びトナー由来の付着物を除去した。次に、現像ローラ表面の長手方向全面にポリイミドテープ（型番：Ｐ−２２１、パーマセル社製）を貼り付け、カミソリ刃を用いてポリイミドテープの上から長手方向に幅１０ｍｍの切り込みを現像ローラ長手方向全面に入れた。その後、現像ローラの両端の断面部にポリイミドテープとほぼ平行にカミソリ刃を用いて切り込みを入れてから、ポリイミドテープと現像ローラ表面を一緒に、現像ローラ表面に対して９０°の角度で剥離したときの剥離強度を、引っ張り試験機を用いて測定した。現像ローラ表面の剥離が進むに連れて、一般に剥離強度が最小となる弾性層と樹脂層の界面で剥離が進むことから、この方法により弾性層と樹脂層の密着性を評価することが可能である。
【０１２７】
現像ローラの両端部から、現像ローラの長手方向全面について測定を行い、剥離強度の最小値を以下の基準により評価した。剥離強度の値が大きいほど、長期間使用後においても、現像ローラの樹脂層の密着性が良好であると考えられる。
【０１２８】
ここで、下記評価Ａ及び評価Ｂは、実使用上密着性に全く問題が無いレベルである。一方、評価Ｃ及び評価Ｄは、現像ローラを再利用した場合に密着性に問題が生じる可能性があるレベルである。
Ａ：２００ｇｆ以上
Ｂ：１５０ｇｆ以上かつ２００ｇｆより小さい
Ｃ：８０ｇｆ以上１００ｇｆより小さい
Ｄ：８０ｇｆ以下
［比較例１］
弾性層を形成後、コロナ処理の代わりにエキシマ処理を行った後、樹脂層を形成した以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１２９】
エキシマ処理は以下の条件で行った。弾性層表面を、軸芯体を回転軸として３０ｒｐｍで回転させながら、波長１７２ｎｍの紫外線を照射可能な細管エキシマランプ（ハリソン東芝ライティング製）により、積算光量が１２０ｍＪ／ｃｍ２となるように照射して処理を行なった。照射時の弾性層表面とエキシマランプの距離は２ｍｍとした。
【０１３０】
作製した現像ローラを透過電子顕微鏡により評価した結果、弾性層と樹脂層の間にＳｉＯ２部分は確認されなかった。
【０１３１】
［比較例２］
弾性層を形成後、コロナ処理の代わりにスパッタリング装置によりＳｉＯ２部分を均一に形成した後、樹脂層を形成した以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１３２】
ＳｉＯ２部分の形成は、スパッタリング装置（商品名：Ｅ−２００Ｓ、キヤノンアネルバエンジニアリング社製）にＳｉＯ２のターゲットを用いて、５００ｎｍの膜厚で均一に形成した。
【０１３３】
作製した現像ローラを透過電子顕微鏡により評価した結果、弾性層と樹脂層の間に連続したＳｉＯ２部分が形成されていることを確認した。
【０１３４】
［比較例３］
弾性層を形成後、コロナ処理の条件を以下のように変更して行った後、樹脂層を形成した以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１３５】
コロナ処理の条件は、コロナ電極の表面粗さＲａを０．５μｍとし、弾性ローラ表面は加熱せず常温のままとし、電流密度を５．０（Ａ／ｍ）、処理時間を１０秒間とした以外は実施例１と同じ条件でコロナ処理を行った。
【０１３６】
作製した現像ローラを透過電子顕微鏡により評価した結果、弾性層と樹脂層の間にＳｉＯ２部分は確認されなかった。
【０１３７】
以上の評価結果を、合わせて表２に示す。
【０１３８】
【表２】
【０１３９】
表２の結果より、弾性層と樹脂層とがＳｉＯ２部分を介して接する領域とＳｉＯ２部分を介さずに接する領域とを混在して形成した実施例１において、樹脂層の密着性向上とチャージアップによるかぶりの抑制を両立できる現像ローラを提供できることが分かった。
【０１４０】
［実施例１−２］
弾性層の効果反応条件を変更し、温度１５０℃で６時間加熱して硬化反応を完了させて、弾性層に使用するシリコーンゴムに含まれる未反応のポリシロキサンの量を変化させた以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。シリコーンゴム中の未反応のポリシロキサンの含有量は３重量％であった。また、実施例１−１と同様にしてＳｉＯ２の最大長さを測定した結果、ＳｉＯ２の最大長さは、０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲に入っていた。
【０１４１】
［実施例１−３］
弾性層の材料として、環状ポリシロキサン（東レ・ダウコーニング社製、商品名：ＤＣ２４６Ｆｌｕｉｄ）１０質量部を加えて混合し、液状シリコーンゴムのベース材料とした以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。シリコーンゴム中の未反応のポリシロキサンの含有量は２０重量％であった。また、実施例１−１と同様にしてＳｉＯ２の最大長さを測定した結果、ＳｉＯ２の最大長さは、０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲に入っていた。
【０１４２】
［実施例２−１〜２−１１］
表３に示すように、コロナ処理の際の樹脂層端部から長手方向へ現像ローラの長さの８％までの領域の平均電流密度Ｉｅ（Ａ／ｍ）と現像ローラ長手方向の長さの８％幅の現像ローラ中央部領域内の平均電流密度Ｉｃ（Ａ／ｍ）を制御した以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１４３】
［実施例３］
さらに、表３に示すように、コロナ電極の表面粗さを変化させ、平均電流密度Ｉを２０．０（Ａ／ｍ）とした以外は実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１４４】
［実施例４］
さらに、表３に示すように、コロナ処理開始時の弾性層表面の温度を変化させて、平均電流密度Ｉを１０．０（Ａ／ｍ）とし、コロナ処理時間を１０秒間とした以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１４５】
［実施例５−１］
さらに、弾性層の効果反応条件を変更し、温度１５０℃で８時間加熱して硬化反応を完了させて、弾性層に使用するシリコーンゴムに含まれる未反応のポリシロキサンの量を変化させた。その結果、シリコーンゴム中の未反応のポリシロキサンの含有量は１重量％であった。
【０１４６】
さらに、表３に示すように、Ｉｅ（Ａ／ｍ）とＩｃ（Ａ／ｍ）を制御した以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１４７】
また、実施例１−１と同様にしてＳｉＯ２の最大長さを測定した。ＳｉＯ２の最大長さが０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲に入っていないものが観察された。
【０１４８】
［実施例５−２］
さらに、弾性層の材料として、環状ポリシロキサン（東レ・ダウコーニング社製、商品名：ＤＣ２４６Ｆｌｕｉｄ）１５質量部を加えて混合し、液状シリコーンゴムのベース材料とした。その結果、シリコーンゴム中の未反応のポリシロキサンの含有量は２０重量％であった。
【０１４９】
さらに、表３に示すように、コロナ処理開始時の弾性層表面の温度と、コロナ処理の際のＩｅ（Ａ／ｍ）とＩｃ（Ａ／ｍ）を制御した以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１５０】
また、実施例１−１と同様にしてＳｉＯ２の最大長さを測定した。ＳｉＯ２の最大長さが０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲に入っていないものが観察された。
【０１５１】
実施例１−１〜比較例４−２で製造した現像ローラについて、樹脂層の端部から現像ローラの長さの８％までの領域のＲｅと、現像ローラ長手方向の長さの８％幅の現像ローラ中央部領域内でＲｃの測定を行った。その際、軸方向に同じ位置について、それぞれ周方向に４点ずつ測定を行った。その結果を表４に示す。
【０１５２】
【表３】
【０１５３】
【表４】
【０１５４】
表３の結果より、弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点の全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒｅ及びＲｃが、０．２５以上０．８０以下を満足すると、樹脂層の密着性向上とかぶりの抑制を両立できることが分かった（実施例１−１乃至実施例４−４）。
【０１５５】
また、弾性層のシリコーンゴム中には未反応のポリシロキサンが含有されており、その割合が変化しても一定の条件でコロナ処理を行えば、本発明の現像ローラが得られることが分かった（実施例１−１乃至実施例１−３）。
【０１５６】
さらに、ＲｅとＲｃとがＲｅ×０．５０≦Ｒｃ≦Ｒｅ×０．９０を満足すると、樹脂層の密着性向上とかぶりの抑制をより高いレベルで両立できることが分かった（実施例２−７乃至実施例２−１１）。
【０１５７】
また、コロナ電極全体の平均電流密度Ｉ（Ａ／ｍ）が、７．０（Ａ／ｍ）≦Ｉ≦３５．０（Ａ／ｍ）を満足すると、樹脂層の密着性向上とかぶりの抑制を両立できる現像ローラを提供できることが分かった（実施例２−１乃至実施例２−１１）。
【０１５８】
さらに、Ｉｅ（Ａ／ｍ）とＩｃ（Ａ／ｍ）とがＩｃ×１．２（Ａ／ｍ）≦Ｉｅ≦Ｉｃ×２．０（Ａ／ｍ）を満足すると、樹脂層の密着性向上とかぶりの抑制をより高いレベルで両立できることが分かった（実施例２−７乃至実施例２−１１）。
【０１５９】
さらに、コロナ電極の表面粗さＲａが１．０μｍ以上３．０μｍ以下とすると、樹脂層の密着性向上とかぶりの抑制をより高いレベルで両立できることが分かった（実施例３−１乃至実施例３−４）。
【０１６０】
さらに、弾性層表面を予め温度１５０℃以上２２０℃以下に加熱した後にコロナ処理を行うと、樹脂層の密着性向上とかぶりの抑制をより高いレベルで両立できることが分かった（実施例４−１乃至実施例４−４）。
【０１６１】
Ｒｅ及びＲｃが、０．２５以上０．８０以下を満足しないと、それを満足するものと比較して、樹脂層の密着性が低下したり、若干のかぶりが出てしまうことが分かった（実施例５−１乃至実施例５−２）。
【図面の簡単な説明】
【０１６２】
【図１】本発明の現像ローラの一例を示す、（ａ）長手方向に平行、（ｂ）長手方向に垂直な概略断面図である。
【図２】本発明の現像ローラのＳｉＯ２部分の分布状態を表す、（ａ）長手方向に垂直、（ｂ）弾性層表面の直径１００μｍの範囲内の概略断面図である。
【図３】本発明に係わるコロナ処理装置の一例を示す概略構成図である。
【図４】本発明に係わるコロナ処理装置における、コロナ電極の一例を示す概略構成図である。
【図５】本発明に係わる電子写真用画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図６】本発明に係わる電子写真用プロセスカートリッジの一例を示す概略構成図である。
【図７】本発明のＲの値を測定する領域を示す図である。
【符号の説明】
【０１６３】
１０ 現像ローラ
１１ 軸芯体
１２ 弾性層
１３ ＳｉＯ２で形成されている部分（ＳｉＯ２部分）
１４ 樹脂層
３０ コロナ処理装置
３１ チャンバー
３２ コロナ電流計
３３ 高周波電源
３４ ガス導入口
３５ ガス排気口
３６ 支持部
３７ 回転駆動部
３８ パージ口
３９ パルスジェネレーター
４０ コロナ電極
４１ 導電体部
４２ 絶縁体部
５００ 電子写真用画像形成装置
５０５ 感光体
５０６ トナー供給ローラ
５０７ トナー容器
５０８ トナー量規制部材
５０９ 現像装置
５１０ レーザー光
５１１ 帯電装置
５１２ クリーニング装置
５１３ ブレードバイアス電源
５１４ 現像ローラバイアス電源
５１５ 定着装置
５１６ 駆動ローラ
５１７ 転写ローラ
５１８ 転写バイアス電源
５１９ テンションローラ
５２０ 転写搬送ベルト
５２１ 従動ローラ
５２２ 記録材
５２３ 給紙ローラ
５２４ 吸着ローラ
５２５ 吸着バイアス電源
５２６ 浸漬槽
５２７ 液送ポンプ
５２８ 攪拌タンク
５２９ 昇降装置
５３０ 電子写真用プロセスカートリッジ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真用画像形成装置において用いられる現像ローラ、並びに現像ローラの製造方法に関する。さらに本発明は、この現像ローラを具備して成る電子写真用プロセスカートリッジ、及び電子写真用画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真用画像形成装置に用いられる現像ローラは、高品質な画像を得るために、トナー劣化抑制、永久変形の防止、トナーへの帯電付与性などの性能が求められる。これらの要求を満たすため、弾性層とその周囲に被覆された樹脂層を有する構成が採用されることが多い。上記の弾性層に好適に用いられる材料として、弾性力の高いシリコーンゴムが挙げられる。しかし、シリコーンゴムは反応性が低いため、樹脂層との密着性が十分に得られない場合があった。
【０００３】
上記の課題を解決するため、弾性層と樹脂層との間に中間層を設けることが考えられる。特許文献１には、半導電性弾性体の表面にＳｉＯ２層を均一に形成後、表面抵抗調整層を形成することで、弾性層と樹脂層との密着性を向上させた半導電性ローラの製造方法が提案されている。
【特許文献１】特開２００６−３３７６２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に係る半導電性ローラは、密着性を向上させることはできるものの、中間層に高抵抗なＳｉＯ２層を均一に形成するため、ＳｉＯ２層に電荷が溜まり易い。これを現像ローラとして使用した場合には、チャージアップが生じ易くなるという新たな課題を招来してしまう。チャージアップが生じると、画像濃度にムラが生じたり、ベタ白画像に現像剤が現像される「かぶり」の画像弊害が生じたりする場合がある。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、密着性向上とチャージアップの抑制を両立し、長期間に渡って安定した画像形成が可能な現像ローラを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明は、軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられたシリコーンゴムで形成されている弾性層と、該弾性層を被覆している樹脂層とを有する現像ローラであり、ＳｉＯ２で形成されている部分が該弾性層と該樹脂層との間に点在していることを特徴とする現像ローラに関する。
【０００７】
前記弾性層を形成後、該弾性層の長手方向にコロナ電極を対向させてコロナ処理を施すことにより該弾性層の表面にＳｉＯ２を主成分とする層を形成した後、少なくとも１層の樹脂層を形成する請求項１に記載の現像ローラの製造方法であって、該コロナ電極と該弾性層との間隔が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であり、コロナ処理時の該コロナ電極全体の平均電流密度Ｉ（Ａ／ｍ）が７．０（Ａ／ｍ）以上３５．０（Ａ／ｍ）以下であることを特徴とする現像ローラの製造方法に関する。
【０００８】
さらに、本発明は、少なくとも静電潜像を形成するための感光体と、該感光体に当接配置される現像ローラとを具備し、電子写真用画像形成装置に脱着可能に構成された電子写真用プロセスカートリッジにおいて、上記現像ローラを具備する電子写真用プロセスカートリッジに関する。
【０００９】
さらに、本発明は、少なくとも静電潜像を形成するための感光体と、該感光体に当接配置される現像ローラとを具備する電子写真用画像形成装置において、上記現像ローラを具備することを特徴とする電子写真用画像形成装置に関する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、弾性層と樹脂層との密着性向上及びチャージアップの抑制を両立し、長期間に渡って安定した画像形成が可能な現像ローラを提供することができる。
【００１１】
また本発明によれば、長期間に渡って安定した画像形成が可能な電子写真用プロセスカートリッジ、及び電子写真用画像形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
現像ローラの構成本発明は、軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられたシリコーンゴムで形成されている弾性層と、該弾性層を被覆している樹脂層とを有する現像ローラに適用される。樹脂層は１層である必要はなく、２層以上形成しても良い。
【００１３】
本発明に係わる現像ローラの一例を図１の模式図に示す。図中の（ａ）は現像ローラの長手方向に平行な断面を表したものであり、（ｂ）は長手方向に垂直な断面を表したものである。図１において、現像ローラ１０は、円柱状の軸芯体１１の周囲に弾性層１２、弾性層１２の周囲にＳｉＯ２で形成される部分（以下、ＳｉＯ２部分とも言う）１３、その周囲に樹脂層１４が被覆層として形成されている。
【００１４】
さらに、ＳｉＯ２部分１３の詳細を図２の模式図に示す。図中の（ａ）は現像ローラの長手方向に平行な断面を拡大して表したものであり、（ｂ）は弾性層表面の直径１００μｍの範囲内にＳｉＯ２部分が点在している様子を表したものである。図２に示したように、弾性層と樹脂層との間にＳｉＯ２部分が存在する領域とＳｉＯ２部分を介さずに接する領域とが混在している。
【００１５】
本発明者らは、弾性層と樹脂層との間に点在したＳｉＯ２部分を形成することで、弾性層と樹脂層との密着性向上とチャージアップの抑制を両立できることを見出した。「ＳｉＯ２で形成されている部分が該弾性層と該樹脂層との間に点在している」とは、弾性層と樹脂層との間にＳｉＯ２部分が偏在せずに点々と形成されていることを表す。つまり、弾性層と樹脂層とが接する領域と、弾性層と樹脂層との間にＳｉＯ２部分が存在する領域とが偏りなく存在していることを表す。
【００１６】
弾性層と樹脂層との密着性を向上させるためには、両者と高い密着性を有する中間層を設けることが有効である。シリコーンゴム弾性層に中間層を設ける場合には、ＳｉＯ２層が挙げられる。シリコーンゴムが弾性層と樹脂層との密着性を向上させる理由は以下の様に考えられる。弾性層を形成するシリコーンゴムの分子末端はメチル基である。メチル基は樹脂層を形成する分子と弱い分子結合しか形成しないため密着性は低い。一方、コロナ処理などの表面処理をシリコーンゴム弾性層表面に施すことにより形成されるＳｉＯ２は、分子の末端がＯＨ基となる。従って、ＳｉＯ２が弾性層表面にあることで、ＳｉＯ２分子末端のＯＨ基と樹脂層を形成する分子とが水素結合を形成する。これによって、密着性が向上すると考えられる。しかしながら、ＳｉＯ２は一般に高抵抗であるため、中間層としてＳｉＯ２の層を均一形成した現像ローラを用いて画像形成した場合、チャージアップによる悪影響を生じやすい。
【００１７】
そこで、本発明者らがＳｉＯ２部分の分布状態とチャージアップの関係を鋭意検討した結果、弾性層と樹脂層との間にＳｉＯ２部分を点在するように形成することが、チャージアップの抑制に有効であることを見出した。上記のような構成にすることで、ＳｉＯ２部分を介さずに弾性層と樹脂層とが接する部分が点在するので、現像ローラ表面にチャージアップした電荷を軸芯体に逃がすことができるためであると考えられる。さらに、点在したＳｉＯ２部分によって、弾性層と樹脂層との密着性が高まるため、画像濃度ムラを生じることなく、現像ローラ全体に渡って均一にチャージアップ抑制効果が得られる。
【００１８】
すなわち、上記のような構成によって弾性層と樹脂層との密着性向上及びチャージアップの抑制を両立し、連続通紙時の画像濃度変化及び長期間使用後のかぶりの悪化を抑制できる。
【００１９】
図２は本発明の現像ローラを軸方向に切ったときの断面模式図である。図２に示すように、ＳｉＯ２部分１３は弾性層１２と樹脂層１４との間に点在して形成される。
【００２０】
点在するＳｉＯ２部分の個々の大きさは、最大長さが０．１μｍ以上１０μｍ未満であることが好ましい。最大長さとは、ＳｉＯ２部分に外接する円の直径である。最大長さを０．１μｍ以上にすることで、ＳｉＯ２部分による樹脂層の密着性を効果的に得ることができる。また、最大長さを１０μｍ未満にすることで、局所的なチャージアップによる画像濃度ムラを抑制できる。
【００２１】
ＳｉＯ２部分の厚さは、０．０５μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。厚さを０．０５μｍ以上にすることで、ＳｉＯ２部分による樹脂層の密着性を効果的に得ることができる。また、厚さを１μｍ以下にすることで、局所的なチャージアップによる画像濃度ムラを抑制できる。
【００２２】
ＳｉＯ２部分の径及び厚さはＴＥＭ（透過電子顕微鏡）などの方法を用いて測定することができる。ＴＥＭを用いた測定方法の詳細については後述する。
【００２３】
ＳｉＯ２部分は、少なくともＳｉＯ２を主成分として５１％以上含有していれば良い。ＳｉＯ２以外の成分としては、環状ポリシロキサンやシリコーンゴム材料の低分子成分が挙げられるが、それ以外の成分を含有していても良い。
【００２４】
ＳｉＯ２部分の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった蒸着方法を用いることができる。これらの方法を用いて、適宜マスキングを行い、ＳｉＯ２部分を所望の分布状態にすることが可能である。しかしながら、本発明では、ＳｉＯ２部分を形成する簡便な方法として、シリコーンゴム表面をコロナ処理する方法を見出し、採用した。後述するコロナ処理装置を用いて、特定の条件下でコロナ処理を行うことでＳｉＯ２部分を形成することが可能である。
【００２５】
ＳｉＯ２部分は、現像ローラの長手方向全体に形成されていることが、樹脂層の密着性を得る上で好ましい。さらに、ＳｉＯ２部分の量を現像ローラの長手方向で変化させても良い。とくに、現像ローラの端部でＳｉＯ２部分を多く形成することは、端部の密着性を向上する上でさらに好ましい。
【００２６】
さらに、本発明は現像ローラにおける弾性層表面上のＳｉＯ２部分の存在比率Ｒが、０．２５以上０．８０以下であることが好ましい。具体的には、以下の様にしてＲの値を求める。
【００２７】
Ｘ線光電子分光法によって、樹脂層の表面から直径１００μｍ範囲内の深さ方向の組成分析を行う。そして、シリコーンゴム由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点の全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒを求める。Ｒの値を０．２５以上にすることで、点在したＳｉＯ２部分を形成することができ、弾性層と樹脂層との密着性を向上させることができる。また、Ｒの値を０．８０以下にすることで、ＳｉＯ２の連続層ができることを防止し、チャージアップを抑制することができる。なお、Ｒの測定は、図７に示すように、現像ローラ樹脂層の端部から長手方向へ現像ローラの長さの８％までの領域内と、現像ローラ長手方向の長さの８％幅の現像ローラ中央部領域内とで行う。その際、軸方向に同じ位置について、それぞれ周方向に４点ずつＲの測定する。そして、それぞれのＲ値について、上記の範囲内に入っているかを判断する。Ｘ線光電子分光法による組成分析の詳細については後述する。
【００２８】
さらに、現像ローラの長手方向の端部と中央部で、弾性層と樹脂層とがＳｉＯ２部分を介して接する部分の比率を変化させることが好ましい。具体的には、前記のようにして求めたＲｅとＲｃとの間に、Ｒｅ×０．５０≦Ｒｃ≦Ｒｅ×０．９０の関係が成り立つことが好ましい。ここで、Ｒｅは現像ローラの端部領域の弾性層のＲの値である。また、Ｒｃは現像ローラの中央部領域の弾性層のＲの値である。本発明において、現像ローラの端部領域とは、現像ローラの一端から他端に向かって、当該現像ローラの幅に対して８％の長さの領域をいう。また、現像ローラの中央部領域とは、現像ローラの軸に沿う方向の長さ（現像ローラの幅）の中点を基準として、当該長さに対して８％の長さの領域をいう。このような構成にすることで、中央部よりも端部の方がＳｉＯ２部分の存在比率が多くなるため、チャージアップの抑制を維持しつつ、損傷を生じやすい端部の密着性をとくに向上させることができる。
【００２９】
シリコーンゴム弾性層表面に特定の条件下でコロナ処理を施すことで、弾性層表面に点在したＳｉＯ２部分が形成される。ＳｉＯ２部分は以下の様にして形成されると考えられる。
【００３０】
シリコーンゴムにある一定以上のコロナ電流密度でコロナ処理を施した場合、コロナ放電が有する高いエネルギーにより、シリコーンゴムの弾性層中に存在する未反応のポリシロキサンや、結合が切れて遊離したポリシロキサンが、次第に気化する。気化したポリシロキサンは、コロナ放電中で電子やイオンと衝突することにより、Ｓｉ原子とＯ原子に分解される。さらに、Ｓｉ原子とＯ原子が結合して弾性層表面にＳｉＯ２として形成される。その結果、シリコーンゴム弾性層表面に点在したＳｉＯ２部分が形成されると考えられる。
【００３１】
該コロナ電極と該弾性層との間隔が１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であり、コロナ処理時の該コロナ電極全体の平均電流密度Ｉ（Ａ／ｍ）が７．０（Ａ／ｍ）以上３５．０（Ａ／ｍ）以下である。
【００３２】
ＳｉＯ２部分を点在して形成するためには、コロナ処理時のコロナ電極全体の平均電流密度Ｉ（Ａ／ｍ）が７．０（Ａ／ｍ）以上３５．０（Ａ／ｍ）以下であることが好ましい。平均電流密度を７．０（Ａ／ｍ）以上に設定することで、高い熱エネルギーを与えてポリシロキサンを積極的に気化させることができる。気化したポリシロキサンは高エネルギーのコロナ放電中で分解され、ＳｉＯ２部分を形成する。また、平均電流密度を３５．０（Ａ／ｍ）以下に設定することで、ポリシロキサンが過剰に気化してＳｉＯ２の連続層が形成されるのを防止する。その結果、弾性層表面上に点在したＳｉＯ２部分を形成することができる。
【００３３】
現像ローラの端部と中央部で、弾性層と樹脂層とがＳｉＯ２部分を介して接する部分の比率を変化させるために、コロナ処理を以下の条件で施すことが有効である。すなわち、端部の平均電流密度Ｉｅ（Ａ／ｍ）と中央部の平均電流密度Ｉｃ（Ａ／ｍ）がＩｃ×１．２（Ａ／ｍ）≦Ｉｅ≦Ｉｃ×２．０（Ａ／ｍ）の関係になるようにすることが好ましい。ここで、Ｉｅはコロナ処理時の樹脂層の端部から長手方向へ現像ローラの長さの８％までの領域の平均電流密度であり、Ｉｃは現像ローラ長手方向の長さの８％幅の現像ローラ中央部領域内の平均電流密度である。このように端部と中央部の平均電流密度を調節することで、上述したＲｅ×０．５０≦Ｒｃ≦Ｒｅ×０．９０の関係を満たす現像ローラを製造することが可能になる。
【００３４】
ＳｉＯ２部分をミクロに点在形成するためには、コロナ電極の表面粗さを制御することが有効である。すなわち、コロナ電極の表面粗さＲａを１．０μｍ以上３．０μｍ以下とすることが好ましい。これは、コロナ電極の表面を適度に粗すことで、コロナ放電内の電流密度の集中をミクロに分散し、ポリシロキサンの気化量及びＳｉＯ２の形成量を制御できる。その結果、弾性層上のＳｉＯ２部分の点在具合を好ましく制御できる。
【００３５】
ＳｉＯ２部分を効率よく形成するためには、弾性層表面を予め１５０℃以上２２０℃以下の温度に加熱した後にコロナ処理を行うことが好ましい。弾性層表面を加熱してポリシロキサンを予め気化させることで、短時間のコロナ処理で所望のＳｉＯ２部分を形成でき、弾性層のダメージを最小限に抑えることができる。
【００３６】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００３７】
＜本発明の現像ローラ＞
以下、図１の現像ローラについて詳細に説明する。
【００３８】
軸芯体１１の材料は、導電性であればとくに限定されず、炭素鋼、合金鋼及び鋳鉄、導電性樹脂の中から、適宜選択して用いることが出来る。合金鋼としては、ステンレス鋼、ニッケルクロム鋼、ニッケルクロムモリブテン鋼、クロム鋼、クロムモリブテン鋼、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｏ及びＶを添加した窒化用鋼が挙げられる。さらに防錆対策として軸芯体にめっき、酸化処理を施すことができる。めっきの種類としては電気めっき、無電解めっきのいずれも使用することが出来るが、寸法安定性の観点から無電解めっきが好ましい。ここで使用される無電解めっきの種類としては、ニッケルめっき、銅めっき、金めっき、カニゼンめっき、その他各種合金めっきがある。ニッケルめっきの種類としては、Ｎｉ―Ｐ、Ｎｉ−Ｂ、Ｎｉ−Ｗ−Ｐ、Ｎｉ−Ｐ−ＰＴＦＥ複合めっきがある。膜厚はそれぞれ０．０５μｍ以上であれば好ましいが、より好ましくは０．１０μｍ乃至３０．００μｍである。
【００３９】
弾性層１２の材料には、シリコーンゴムを用いる。シリコーンゴムは単独で用いても良いし、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンゴム、ブチルゴム、ブタジエンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴムから選択される一種または複数種を、シリコーンゴムに組み合わせて用いても良い。
【００４０】
シリコーンゴム材料としては、以下のものが挙げられる。ポリジメチルシロキサン，ポリメチルトリフルオロプロピルシロキサン，ポリメチルビニルシロキサン，ポリトリフルオロプロピルビニルシロキサン，ポリメチルフェニルシロキサン，ポリフェニルビニルシロキサン、これら複数のポリシロキサンの共重合体。
【００４１】
弾性層１２を構成するシリコーンゴム中には、未反応のポリシロキサンが含まれていることが、コロナ処理により所望のＳｉＯ２部分を形成する上で好ましい。未反応のポリシロキサンとしては、環状ポリシロキサンやシリコーンゴムとして使用される各種材料の低分子成分が挙げられる。通常、シリコーンゴム中には未反応のポリシロキサンが含まれるが、反応性を持たないポリシロキサンを予め配合することで、含有量を制御しても良い。このような未反応のポリシロキサンを含有するシリコーンゴム弾性層を、一定の条件でコロナ処理をすることによって、本発明の現像ローラを製造することができる。特にシリコーンゴム中に含まれる未反応のポリシロキサンの含有量は、３乃至２０重量％が好ましい。３重量％以上にすることでＳｉＯ２の形成を促進し、２０重量％以下にすることで画像形成時にシロキサンが染み出して感光体を汚染するのを防止することができる。シリコーンゴム中に含まれる未反応のポリシロキサンの含有量は、シリコーンゴム弾性層を適当な大きさに切り出して、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）に２４時間浸漬させてポリシロキサンを抽出させた前後の重量変化より求めることができる。
【００４２】
弾性層１２の厚さは、現像ローラ１０に充分な弾性を与えるために０．５ｍｍ乃至１０．０ｍｍであることが好ましい。弾性層１２の厚さを０．５ｍｍ以上にすることで、現像ローラ１０に充分な弾性が得られ、感光ドラムの摩耗を抑制することができる。また、弾性層１２の厚さを１０．０ｍｍ以下にすることで、現像ローラ１０のコストを抑えることができる。
【００４３】
弾性層１２の硬度は、Ａｓｋｅｒ−Ｃ硬度１０度乃至８０度であることが好ましい。弾性層１２の硬度を１０度以上にすることで、弾性層１２を構成するゴム材料からのオイル成分の染み出しを抑え、感光ドラムの汚染を抑制することができる。また、弾性層１２の硬度を８０度以下にすることで、感光ドラムの摩耗を抑制することができる。また、弾性層１２のＭＤ−１硬度は、２０．０°乃至４０．０°にすることで、当接部材による弾性層１２の変形量と、弾性層１２による感光体ドラムの削れ量を抑制できるため好ましい。ここで、ＭＤ−１硬度は、高分子計器株式会社製のマイクロゴム硬度計ＭＤ−１型を用いて、温度２３℃、湿度５０％ＲＨに制御した室内で測定したマイクロゴム硬度の値をいう。
【００４４】
弾性層１２には、シリコーンゴムが有する低硬度及び低圧縮永久歪の特性を阻害しない範囲内で、充填剤を添加しても良い。充填剤の材料としては、石英微粉末、ヒュームドシリカ、湿式シリカ、ケイソウ土、酸化亜鉛、塩基性炭酸マグネシウム、活性炭酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、二酸化チタン、タルク、雲母粉末、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ガラス繊維、有機補強剤、有機充填剤を挙げることができる。これらの充填剤の表面は有機珪素化合物、例えば、ポリジオルガノシロキサンで処理して疎水化しても良い。
【００４５】
現像ローラ１０は、半導体領域の電気抵抗値を有する必要がある。そのため、弾性層１２が導電剤を含有し、体積抵抗率１×１０４Ω・ｃｍ乃至１×１０８Ω・ｃｍのゴム材料から形成されていることが好ましい。ここで、樹脂層材料の体積抵抗率が１×１０５Ω・ｃｍ乃至１×１０１０Ω・ｃｍであれば、トナーに対して均一な帯電制御性を得ることが可能である。さらに、より好ましくは１×１０５Ω・ｃｍ乃至１×１０９Ω・ｃｍである。
【００４６】
樹脂層材料の体積抵抗率の測定は、以下の方法で求めることができる。
【００４７】
はじめに、弾性層１２の材料を、弾性層１２の成形時と同じ条件で、弾性層１２と同じ厚さに硬化させた平板状のテストピースを作製する。次に、テストピースから直径３０ｍｍの試験片を切り出す。切り出した試験片の片面には、その全面にＰｔ−Ｐｄ蒸着を行うことで蒸着膜電極（裏面電極）を設け、もう一方の面には同じくＰｔ−Ｐｄ蒸着膜により、直径１５ｍｍの主電極膜と、内径１８ｍｍ、外径２８ｍｍのガードリング電極膜を同心状に設ける。なお、Ｐｔ−Ｐｄ蒸着膜は、マイルドスパッタＥ１０３０（日立製作所製）を用い、電流値１５ｍＡにて蒸着操作を２分間行って得る。蒸着操作を終了したものを測定サンプルとする。
【００４８】
次に、以下の装置を用いて、以下の条件で測定サンプルの体積抵抗の測定を行う。測定時には、主電極を測定サンプルの主電極膜からはみ出さないように置く。また、ガードリング電極を測定サンプルのガードリング電極膜からはみ出さないように置く。測定は、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの環境で行うが、測定に先立って、測定サンプルを、その環境に１２時間以上放置しておく。
試料箱：超高抵抗計測定用試料箱ＴＲ４２（アドバンテスト社製）
主電極：口径１０ｍｍ厚さ１０ｍｍの金属
ガードリング電極：内径２０ｍｍ、外径２６ｍｍ厚さ１０ｍｍの金属
抵抗計：超高抵抗計Ｒ８３４０Ａ（アドバンテスト社製）
測定モード：プログラムモード５（チャージ及びメジャー３０秒、ディスチャージ１０秒）
印加電圧：１００（Ｖ）
測定した体積抵抗値をＲＭ（Ω）、試験片の厚さをｔ（ｃｍ）とするとき、樹脂層材料の体積抵抗率ＲＲ（Ωｃｍ）は、以下の式によって求めることができる。
ＲＲ（Ωｃｍ）＝π×０．７５×０．７５×ＲＭ（Ω）÷ｔ（ｃｍ）
弾性層１２の材料を導電化する手段としては、イオン導電機構、または電子導電機構による導電付与剤を上記材料に添加することにより導電化する手法が挙げられる。
【００４９】
イオン導電機構による導電付与剤としては、以下のものが挙げられる。ＬｉＣＦ３ＳＯ３、ＮａＣｌＯ４、ＬｉＣｌＯ４、ＬｉＡｓＦ６、ＬｉＢＦ４、ＮａＳＣＮ、ＫＳＣＮ、ＮａＣｌの周期律表第１族金属の塩、ＮＨ４Ｃｌ、（ＮＨ４）２ＳＯ４、ＮＨ４ＮＯ３のアンモニウム塩、Ｃａ（ＣｌＯ４）２、Ｂａ（ＣｌＯ４）２の周期律表第２族金属の塩、これらの塩と１，４−ブタンジオール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコールの多価アルコールやそれらの誘導体との錯体、これらの塩とエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノエチルエーテルのモノオールとの錯体、第４級アンモニウム塩の陽イオン性界面活性剤、脂肪族スルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルリン酸エステル塩の陰イオン性界面活性剤、ベタインの両性界面活性剤。
【００５０】
また、電子導電機構による導電付与剤としては、以下のものが挙げられる。カーボンブラック、グラファイトの炭素系物質、アルミニウム、銀、金、錫−鉛合金、銅―ニッケル合金の金属或いは合金、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化銀の金属酸化物、各種フィラーに銅、ニッケル、銀の導電性金属めっきを施した物質。これらイオン導電機構、電子導電機構による導電付与剤は粉末状や繊維状の形態で、単独または２種類以上を混合して使用することが出来る。この中でも、カーボンブラックは導電性の制御が容易であり、また経済的であるといった観点から好適に用いられる。
【００５１】
樹脂層１４として用いられる材料としては、以下のものが挙げられる。エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、フッ素樹脂、ポリプロピレン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、珪素樹脂、ポリエステル樹脂、スチロール系樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド樹脂、繊維素系樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アクリルウレタン樹脂、水系樹脂。また、これらを２種類以上組み合わせて使用することも可能である。この中でも特に含窒素化合物であるウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂を用いることがトナーを安定して帯電させられることから好ましい。さらに、イソシアネート化合物とポリオールを反応させて得られるウレタン樹脂からなることが、帯電付与性とトナー劣化抑制の観点からより好ましい。
【００５２】
イソシアネート化合物としては、以下のものが挙げられる。ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジイソシアネート、４，４’−ジシクロへキシルメタンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、カルボジイミド変性ＭＤＩ、キシリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート。また、これらの混合物を用いることもでき、その混合割合はいかなる割合でもよい。
【００５３】
また、ここで用いるポリオールとしては、以下のものが挙げられる。２価のポリオール（ジオール）として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、トリエチレングリコール、３価以上のポリオールとして、１，１，１−トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール。さらに、ジオール、トリオールに、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドを付加した高分子量のポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、エチレンオキサイド‐プロピレンオキサイドブロックグリコールといったポリオールも使用可能である。また、これらの混合物を用いることもでき、その混合割合はいかなる割合でもよい。
【００５４】
さらに、これらの樹脂層１４に導電性を付与して使用することが出来る。導電性を付与する手法としては上記弾性層１２の導電化と同様の手法を用いることが可能である。
【００５５】
樹脂層１４の厚さは、１．０μｍ乃至５００．０μｍが好ましい。さらには、樹脂層１４の厚みは１．０μｍ乃至５０．０μｍであることがより好ましい。樹脂層１４を１．０μｍ以上にすることで、耐久性を与えることができる。また、５００．０μｍ以下、さらに好ましくは５０．０μｍ以下にすることで、ＭＤ−１硬度を低くでき、トナーの固着を抑制できる。樹脂層を複数層形成する場合には、複数層全体の厚さを上記範囲にすることが望まれる。ここで、樹脂層１４の厚さは、キーエンス株式会社製のデジタルマイクロスコープＶＨＸ−６００を用いて樹脂層の厚み方向の断面を観察し、樹脂層表面の平坦部から弾性層側の界面までの平均距離をいう。
【００５６】
現像ローラ１０のＭＤ−１硬度は、３０．０°乃至５０．０°にすることで、トナーの固着と当接部材による変形を効果的に抑制できるため好ましい。ここで、ＭＤ−１硬度は、高分子計器株式会社製のマイクロゴム硬度計ＭＤ−１型を用いて、温度２３℃、湿度５０％ＲＨに制御した室内で測定したマイクロゴム硬度の値をいう。
【００５７】
現像ローラ１０の表面粗さは、トナーの搬送力に大きく影響し、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４表面粗さの規格における中心線平均粗さＲａが０．０５μｍ乃至３．００μｍであることが好ましい。Ｒａを０．０５μｍ以上にすることで、トナーの搬送力を得ることができ、画像濃度の低下やゴーストといった画像品質の低下を抑制することができる。また、Ｒａを３．００μｍ以下とすることで、かぶりやガサツキといった画像品質の低下を抑制することができる。
【００５８】
表面粗さを制御する手段としては、樹脂層１４に所望の粒径の粒子を含有させることが有効である。また、樹脂層形成前後に、適宜研磨処理を施すことにより所望の表面粗さに形成することも可能である。その場合、弾性層のみを形成する場合には、弾性層を形成後に研磨処理を施せば良い。弾性層を複数層形成する場合には、複数層を形成後に研磨処理を施せば良い。また、弾性層と樹脂層を形成する場合には、弾性層を形成後に研磨処理を施した後に樹脂層を形成しても、樹脂層を形成後に研磨処理を施しても良い。
【００５９】
樹脂層１４に含有させる粒子には、粒径０．１μｍ乃至３０．０μｍの金属粒子及び樹脂粒子を用いることができる。中でも、柔軟性に富み、比較的比重が小さくて塗料の安定性が得やすい樹脂粒子がより好ましい。樹脂粒子としては、ウレタン粒子、ナイロン粒子、アクリル粒子、シリコーン粒子を挙げることができる。これらの樹脂粒子は単独、又は複数種を混合して使用することができる。樹脂層を複数層形成する場合には、複数層全てに粒子を含有させても良いし、複数層のうちの少なくとも一層に粒子を含有させても良い。
【００６０】
＜本発明に係わるコロナ処理装置＞
本発明に適用可能なコロナ処理装置について、その概要を図３により説明する。
【００６１】
図３は本発明の現像ローラの製造方法を実現する、コロナ処理装置の一例を示す概略構成図である。
【００６２】
図３において、コロナ処理装置３０は、チャンバー３１、コロナ電流計３２、高周波電源３３、ガス導入口３４、ガス排気口３５、支持部３６、回転駆動部３７、パージ口３８、パルスジェネレーター３９、コロナ電極４０により構成される。コロナ処理装置の一例として、コロナ放電表面処理装置（春日電機株式会社製）が挙げられる。
【００６３】
被処理物である現像ローラ１０は、チャンバー３１内に設置された支持部３６により芯金の両端を支持し、コロナ電極４０と平行に所望の間隔を隔てて配置する。さらに、現像ローラ１０の軸芯体は支持部３６を介して接地するとともに、回転駆動部３７に接続する。
【００６４】
コロナ電極４０はチャンバー３１とは絶縁し、さらに所望の周波数の高周波電力を出力する高周波電源３３を接続する。高周波電源３３にはパルスジェネレーター３９が接続され、必要に応じて高周波電力をパルス変調することができる。
【００６５】
コロナ電極４０と高周波電源３３の間にはコロナ電流計３２が接続され、コロナ放電に供給される電流値を測定することができる。本発明に係わるコロナ処理時のコロナ電極全体の平均電流密度Ｉ（Ａ／ｍ）は、この電流値を弾性層の長手方向におけるコロナ放電の発生領域の長さで除することにより算出できる。なお、コロナ放電の発生領域の長さは、目視でコロナ放電の発生を確認して測定した。
【００６６】
コロナ電極４０は、異常放電の発生を抑制するため、高周波電力を供給する金属の導電体部と、その周囲を覆う絶縁体部で構成したものが好ましく用いられる。具体的には、図４（ａ）に示すように、導電体部４１の周囲に絶縁体部４２を被覆して構成する。導電体部４１は導電体であれば特に制限はされないが、ＡｌやＣｕを用いることが好ましい。絶縁体部４２は絶縁性であれば特に制限はされないが、耐久性の面でセラミックを用いることが好ましい。
【００６７】
本発明では、樹脂層の端部の平均電流密度Ｉｅ（Ａ／ｍ）と中央部の平均電流密度Ｉｃ（Ａ／ｍ）を個別に制御するために、コロナ電極の金属の導電体部４１を所望の領域で分割し、各々個別にコロナ電流計３２、高周波電源３３、パルスジェネレーター３９を接続して独立して制御することができる。
【００６８】
さらに、図４（ｂ）に示すように、コロナ電極４０の絶縁体部４２の径を長手方向で制御したり、図４（ｃ）に示すように導電体部４１の径を長手方向で制御することで、樹脂層の端部の平均電流密度Ｉｅ（Ａ／ｍ）と中央部の平均電流密度Ｉｃ（Ａ／ｍ）を制御することも可能である。この場合、各々が所望の電流密度になるように、導電体部４１の直径及び絶縁体部４２の厚みを適宜調整して用いればよい。
【００６９】
コロナ電極の表面粗さは、弾性層表面に所望のＳｉＯ２部分を点在して形成する上で有効である。具体的には、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４表面粗さの規格における中心線平均粗さＲａが、１．０μｍ以上３．０μｍ以下がより好ましい。Ｒａを１．０μｍ以上とすることで、コロナ放電中の電流密度を不均一にでき、所望のＳｉＯ２部分を点在して形成することができる。また、Ｒａを３．０μｍ以下とすることで、コロナ放電中で電界集中を生じることにより発生する異常放電を抑制できる。コロナ電極の表面粗さは、一般的な研磨処理、ブラスト処理により所望の値に制御することができる。
【００７０】
また、チャンバー３１内を所望のガス雰囲気にするため、ガス導入口３４が不図示のガスボンベにレギュレーターを介して接続され、さらにガス排気口３５は不図示の真空ポンプに接続される。また、チャンバー３１内をパージするためのパージ口３８が設置される。
【００７１】
また、未反応のポリシロキサンを気化しやすくするために、弾性層表面を加熱するための赤外線ハロゲンランプを設置しても良い。
【００７２】
次に、コロナ処理装置の動作について説明する。
【００７３】
まず、コロナ処理を行う現像ローラ１０を所望の位置に設置する。次に、現像ローラ１０を回転駆動させる。その後、所望の高周波電力を高周波電源３３よりコロナ電極４０に供給し、現像ローラ１０とコロナ電極４０の間にコロナ放電を発生させて処理を開始する。所望の処理時間が経過したら、電力の供給及び回転駆動を停止し、現像ローラ２０を取り出して処理を完了する。
【００７４】
コロナ放電を発生させる条件は、所望のＳｉＯ２部分が形成できるように適宜調整する必要がある。とくに、コロナ放電が不安定になり、異常放電の発生や弾性層の過昇温が生じると、弾性層の損傷をもたらす場合があるので避けなければならない。
【００７５】
コロナ処理の時間は、所望のＳｉＯ２部分が形成できるように適宜選択することが好ましい。具体的には、処理時間は３０秒間以上１２０秒間以下が好ましい。３０秒間以上にすることで、周方向に均一な処理効果が得られるため好ましい。また、１２０秒間以下にすることで、過昇温による弾性層の損傷を抑制できるため好ましい。
【００７６】
コロナ放電を発生させる際のチャンバー３１内の圧力は、とくに制限を受けないが、コロナ放電中の荷電粒子密度を高めて効率良く処理するためには、９２ｋＰａ乃至１１１ｋＰａの大気圧近傍下でコロナ放電を形成して処理することが好ましい。
【００７７】
コロナ電極４０に供給する高周波電力は、周波数及び投入電力を適宜選択することが好ましい。具体的には、１ｋＨｚ乃至３ＧＨｚの周波数が好ましい。とくに、大気中でコロナ放電を発生させる場合には、コロナ放電を安定して形成できることから、１ｋＨｚ乃至１５ＭＨｚが好ましく、さらには５乃至１００ｋＨｚが好ましい。投入電力は、装置構成及びコロナ放電発生領域に依存するためとくに限定はされないが、異常放電の発生や弾性層の過昇温が起きない範囲で高くしたほうが、所望のＳｉＯ２部分を効率良く形成できるため好ましい。
【００７８】
本発明においては、パルス幅変調方式によりパルス変調した高周波電力を供給してコロナ放電を発生させることがより好ましい。パルス幅変調方式を用いることにより、コロナ放電に投入する電力を高く設定でき、所望のＳｉＯ２部分を得ることが容易になる。また、ｄｕｔｙ比は５０％乃至８０％の範囲であることが好ましい。ｄｕｔｙ比は、パルス変調した高周波電力１周期に対する電力を印加する時間の比率を表す。ｄｕｔｙ比を５０％以上にすることが、所望のＳｉＯ２部分を得るのに充分なエネルギーを与えることができるため好ましい。また、ｄｕｔｙ比を８０％以下にすることが、コロナ放電による過昇温が引き起こす弾性層の損傷を抑制できるため好ましい。
【００７９】
コロナ電極４０と弾性層２０の間隔は、長手方向でほぼ均一であればとくに制限はされない。コロナ放電が安定して形成されるように、使用する電源周波数に応じて適正な範囲を選べばよいが、一般的には１ｍｍ乃至１０ｍｍの間隔が好ましい。１ｍｍ以上とすることで、異常放電の発生を抑制できるため好ましい。また、１０ｍｍ以下とすることで、コロナ放電を均一に形成できるため好ましい。
【００８０】
コロナ放電の発生領域は装置構成によって任意に制御できる。図３に示したように、コロナ電極４０を弾性層１０全体に対向して設置することで、弾性層１０の長手方向全域にコロナ放電を形成し、同時に処理することができる。また、弾性層１０の長手方向の一部に形成したコロナ放電を、弾性層１０の長手方向に走査することで、弾性層１０の長手方向全域を処理しても良い。このようなコロナ放電を発生させるコロナ処理装置の一例として、プラズマ照射表面改質装置ＰＳ−６０１Ｃ（春日電機株式会社製）が挙げられる。
【００８１】
コロナ処理は、現像ローラを回転させて周方向に均一に行うことが好ましい。現像ローラの回転数はとくに制限されることはないが、１ｒｐｍ乃至３００ｒｐｍの回転数が均一に処理でき好ましい。
【００８２】
また、コロナ処理を行う前に弾性層表面を加熱することが、ＳｉＯ２部分を効率良く形成できて好ましい。その場合、未反応のポリシロキサンが気化しやすくなるように、現像ローラを回転駆動させた後、１０秒乃至３００秒間加熱して弾性層表面を温度１５０℃乃至２２０℃にすることが好ましい。熱源はとくに制限されないが、赤外線ハロゲンランプがコスト、昇温速度の点で好ましい。
【００８３】
以上のようなコロナ処理装置を用いれば、弾性層表面に所望のＳｉＯ２部分を形成することが可能となる。
【００８４】
＜本発明に係わる電子写真用画像形成装置及び電子写真用プロセスカートリッジ＞
次に、本発明の現像ローラを搭載する電子写真用画像形成装置の一例を、図５で説明する。なお、以下の例ではカラーの電子写真用画像形成装置について説明するが、本発明の現像ローラは単色の電子写真用画像形成装置についても使用することが出来る。
【００８５】
図５において、電子写真用画像形成装置５００には、イエロートナー、マゼンダトナー、シアントナー、ブラックトナーの各色トナー毎に設けられる画像形成ユニットａ、ｂ、ｃ、ｄが設けられる。各画像形成ユニットには、それぞれ矢印方向に回転する静電潜像担持体としての感光体５０５が設けられる。各感光体の周囲には、感光体を一様に帯電するための帯電装置５１１、一様に帯電処理した感光体にレーザー光５１０を照射して静電潜像を形成する露光手段、静電潜像を形成した感光体にトナーを供給し静電潜像を現像する現像装置５０９が設けられる。
【００８６】
一方、給紙ローラ５２３により供給される紙等の記録材５２２を搬送する転写搬送ベルト５２０が駆動ローラ５１６、従動ローラ５２１、テンションローラ５１９に懸架されて設けられる。転写搬送ベルト５２０には吸着ローラ５２４を介して吸着バイアス電源５２５の電荷が印加され、記録材５２２を表面に静電気的に付着させて搬送するようになっている。
【００８７】
各画像形成ユニットの感光体上のトナー像を、転写搬送ベルト５２０によって搬送される記録材５２２に転写するための電荷を印加する転写バイアス電源５１８が設けられる。転写バイアスは転写搬送ベルト５２０の裏面に配置される転写ローラ５１７を介して印加される。各画像形成ユニットにおいて形成される各色のトナー像は、画像形成ユニットに同期して可動される転写搬送ベルト５２０によって搬送される記録材５２３上に、順次重畳して転写されるようになっている。
【００８８】
更に、カラー電子写真用画像形成装置には、記録材上に重畳転写したトナー像を加熱などにより定着する定着装置５１５、画像形成された記録材５２２を装置外に排出する搬送装置（不図示）が設けられる。
【００８９】
一方、各画像形成ユニットには各感光体上に転写されずに残存する転写残トナーを除去し表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング装置５１２が設けられる。更に、その他感光体から掻き取られたトナーを収納する廃トナー容器が設けられる。クリーニングされた感光体は画像形成可能状態とされて待機するようになっている。
【００９０】
上記各画像形成ユニットに設けられる現像装置５０９には、一成分現像剤として非磁性トナーを収容したトナー容器５０７と、トナー容器の開口を閉塞するように設置され、トナー容器から露出した部分で感光体と対向するように現像ローラ１０が設けられる。
【００９１】
トナー容器内には、現像ローラにトナーを供給すると同時に、現像後現像ローラ上に使用されずに残留するトナーを掻き取るためのトナー供給ローラ５０６と、現像ローラ上のトナーを薄膜状に形成すると共に、摩擦帯電するトナー量規制部材５０８とが設けられている。これらはそれぞれ現像ローラ１０に当接配置されている。トナー量規制部材５０８にはトナー量規制部材バイアス電源５１３が接続され、現像ローラには現像ローラバイアス電源５１４が接続され、画像形成時において、トナー量制部材と現像ローラにはそれぞれ電荷が印加される。トナー量規制部材バイアス電源５１３から出力される電圧は、現像ローラバイアス電源５１４から出力される電圧より５０Ｖ乃至４００Ｖ低い電圧が出力される。
【００９２】
次に、本発明の現像ローラを搭載する電子写真用画像形成装置に脱着可能な電子写真用プロセスカートリッジの一例を、図６で説明する。図６に示す電子写真用画像形成装置用プロセスカートリッジ５３０は、現像装置５０９と、感光体５０５、クリーニング装置５１２を有し、これらが一体化されて電子写真用画像形成装置本体に着脱自在に設けられる。現像装置９としては電子写真用画像形成装置で説明したものと同様のものを挙げることができる。本発明の電子写真用画像形成装置用プロセスカートリッジは、上記の他、感光体上のトナー像を記録材に転写する転写部材などを上記の部材と共に一体的に設けたものであってもよい。
【００９３】
＜本発明に係わる分析方法＞
（透過電子顕微鏡によるＳｉＯ２部分の確認）
本発明では、弾性層と樹脂層とがＳｉＯ２部分を介して接している様子を、透過電子顕微鏡により確認した。
【００９４】
試料は、測定する現像ローラを、弾性層と樹脂層が両方含まれるように断面方向に切り出した後、ミクロトームで切削し、１００μｍ角、厚さ１００ｎｍの薄片を作製した。この試料を、透過電子顕微鏡（商品名：Ｈ−７５００、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて１００００倍の倍率で観察し、弾性層と樹脂層の間にＳｉＯ２部分の有無を確認した。同時に、図２（ａ）に示すように、弾性層と樹脂層とがＳｉＯ２部分を介して接する部分と、ＳｉＯ２部分を介さずに接する部分とが混在しているかどうかを確認した。さらに、ＳｉＯ２部分の径及び厚さを確認した。
【００９５】
（Ｘ線光電子分光法によるＳｉＯ２部分の定量分析）
本発明では、Ｘ線光電子分光法によりＳｉＯ２部分の定量分析を行った。
【００９６】
試料は、測定する現像ローラの表面から５ｍｍ角で、弾性層と樹脂層の両方が充分に含まれるように深さ１ｍｍ以上を切り出して作製した。この試料を、Ｘ線光電子分光装置（商品名：Ｑｕａｎｔｕｍ２０００、アルバック・ファイ株式会社製）を用いて、アルゴンイオンエッチング法により試料の樹脂層表面から深さ方向の組成分析を行った。ここで、分析領域はφ１００μｍとし、Ｘ線源にはＡｌ Ｋα（１５ｋＶ、２５Ｗ）を用いた。さらに、約１００ｎｍエッチングする毎に組成情報を得て、深さ方向の組成分析を行った。
【００９７】
具体的には、Ｓｉの２ｐ軌道の結合エネルギーに起因するピークの測定を行い、ＳｉＯ２に帰属されるＳｉのピークを１０３．７ｅＶ、Ｓｉ−Ｏに帰属されるＳｉのピークを１０２．５ｅＶとしてピーク分離を行った。それぞれの結合に帰属されるＳｉの組成より、弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点の全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒを求めた。
【００９８】
その測定結果の一例を表１に示す。表１では、１００ｎｍ毎の深さ方向の相対位置におけるＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子とＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子の組成、及び全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒを示した。なお、表１では深さ方向の相対位置をＳｉＯ２部分近傍のみ示した。また、測定した組成分析結果は、検出された炭素、窒素、酸素、珪素を合わせた総数を１００（ａｔｏｍ％）とした。
【００９９】
ここで、Ｓｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子の組成が、弾性層におけるＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子の組成の１／２以上になった時点を、弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点と定義した。表１の測定例においては、弾性層におけるＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子の組成は２０（ａｔｏｍ％）であった。したがって、深さ方向の相対位置１３で弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子を検出したと判断した。この時点での全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒは０．３６であった。
【０１００】
このようにして、弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点の全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒを求めた。
【０１０１】
【表１】
【実施例】
【０１０２】
以下、本発明を実施例及び比較例に基づき詳細に説明する。
【０１０３】
下記の実施例は、本発明の最良な実施形態の一例であるものの、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。
【０１０４】
［実施例１−１］
＜現像ローラの作製＞
以下の手順により、円柱状の軸芯体の周囲に、被覆層として弾性層と樹脂層を１層ずつ設けた現像ローラを作製した。
【０１０５】
軸芯体として、直径６ｍｍ、長さ２７９ｍｍのＳＵＳ３０４製の芯金を用いた。
【０１０６】
弾性層の材料として、以下の要領で液状シリコーンゴムを準備した。まず、次の材料を混合し液状シリコーンゴムのベース材料とした。
両末端にビニル基を有する温度２５℃における粘度が１００Ｐａ・ｓのジメチルポリシロキサン（東レダウコーニング社製、重量平均分子量１００，０００）：１００質量部。
充填剤として石英粉末（Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ Ｇｌａｓｓ Ｓａｎｄ社製、商品名：Ｍｉｎ−ＵＳｉｌ）：７質量部。
カーボンブラック（電気化学工業製、商品名：デンカブラック、粉状品）８質量部。このベース材料に、硬化触媒として白金化合物（東レダウコーニング社製、Ｐｔ濃度１％）を微量配合したものと、分子鎖両末端と側鎖にＳｉＨ基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン（東レダウコーニング社製、重量平均分子量５００）３質量部を配合したものを質量比１：１で混合し、液状シリコーンゴムとした。
【０１０７】
内径１２ｍｍの円筒型金型内の中心部に軸芯体を配置し、円筒型金型内に注入口からこの液状シリコーンゴムを注入し、温度１２０℃で５分間加熱硬化させ、室温まで冷却後、軸芯体と一体となった弾性層を脱型した。さらに温度１５０℃で４時間加熱して硬化反応を完了させ、厚さ３ｍｍのシリコーンゴムを主成分とする弾性層を軸芯体の外周面上に設けた。シリコーンゴム中の未反応のポリシロキサンの含有量は１０重量％であった。
【０１０８】
その後、図３に示したコロナ処理装置（春日電機株式会社製）により以下の要領で処理し、弾性層表面にＳｉＯ２部分を形成した。
【０１０９】
温度２３℃、湿度５０％ＲＨに制御した室内に設置したコロナ処理装置に、弾性層をコロナ電極と３ｍｍの間隔を隔てて配置した。コロナ電極の長さは３００ｍｍとし、表面粗さＲａは２．０μｍとした。チャンバー内の雰囲気は室内の空気そのままとし、圧力は１０１ｋＰａとした。
【０１１０】
弾性層表面が温度２３℃であることを確認した後、弾性層を６０ｒｐｍの回転数で回転駆動させた後、赤外線ハロゲンランプ（岩崎電気株式会社製）を用いて、弾性層表面を温度２００℃に加熱した後、１分間放置した。
【０１１１】
その後、周波数３５ｋＨｚの電力をパルス変調はさせずに、長手方向に均一にコロナ電流密度２０（Ａ／ｍ）で供給してコロナ処理を行った。処理時間は３０秒間とした。
【０１１２】
次に、樹脂層を以下の要領で被覆した。
【０１１３】
樹脂層の材料として、次のものを用いた。
ポリテトラメチレングリコール（商品名：ＰＴＧ６５０ＳＮ、数平均分子量Ｍｎ＝１０００、ｆ＝２（ｆは官能基数を表す。以下同じ。）；保土谷化学株式会社製）：１００．０質量部。イソシアネート（商品名：ミリオネートＭＴ、ＭＤＩ、ｆ＝２、日本ポリウレタン工業株式会社製）：２１．２質量部。
これら材料をＭＥＫ溶媒中で段階的に混合して、窒素雰囲気下８０度にて６時間反応させ、重量平均分子量Ｍｗ＝１００００、水酸基価２０．０（ｍｇ・ＫＯＨ／ｇ）、分子量分散度Ｍｗ／Ｍｎ＝２．９、Ｍｚ／Ｍｗ＝２．５の２官能のポリウレタンプレポリマーを得た。ＭＥＫはメチルエチルケトンである。
【０１１４】
このポリウレタンプレポリマー１００．０質量部にイソシアネート（商品名：コロネート２５２１、日本ポリウレタン工業株式会社製）３５．０質量部を加えて、ＮＣＯ当量を１．４となるようにした。なお、ＮＣＯ当量は、イソシアネート化合物中のイソシアネート基のモル数とポリオール成分中の水酸基のモル数との比（［ＮＣＯ］／［ＯＨ］）を示すものである。
【０１１５】
さらに、カーボンブラック（商品名：＃１０００、ｐＨ３．０、三菱化学社製）を２１．０質量部添加した。この原料混合液に有機溶剤を加え、２０μｍ前後の膜厚が得られるように固形分２０質量％乃至３０質量％の範囲で適宜調整した。さらに、ウレタン樹脂粒子（商品名：Ｃ４００透明、直径１４μｍ、根上工業株式会社製）を２１．０質量部加え、均一分散、混合したものを樹脂層の原料液とした。
【０１１６】
この樹脂層の原料液中に、上記の樹脂層を形成した軸芯体を浸漬した後、引上げて自然乾燥させた。次いで、温度１４０℃にて６０分間の加熱処理を行い、樹脂層の原料液を硬化させて、平均２０．０μｍの膜厚の樹脂層を得た。このようにして、外径が約１２ｍｍ、被覆層の長さ２３５ｍｍ、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４表面粗さの規格における中心線平均粗さＲａが、１．５μｍの現像ローラを作製した。
【０１１７】
＜評価＞
作製した現像ローラについて、前述の分析方法に従い、透過電子顕微鏡によるＳｉＯ２部分の確認を行った。その結果、弾性層と樹脂層の間にＳｉＯ２部分を確認した。
【０１１８】
同時に、図２（ａ）及び（ｂ）に示すようにＳｉＯ２部分が点在しており、弾性層と樹脂層とがＳｉＯ２部分を介して接する部分と、ＳｉＯ２部分を介さずに接する部分とが混在していることを確認した。
【０１１９】
次に、現像ローラの端部から２０ｍｍ位置と、長手方向の中央位置においてＳｉＯ２の最大長さを測定した。その際、軸方向の同じ位置について、それぞれ周方向に４点ずつ測定を行った。透過電子顕微鏡で、２５μｍ四方の範囲にあるＳｉＯ２部分を観察したところ、多少大きさのバラツキはあったものの、それぞれの最大長さは０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲に入っていた。
【０１２０】
次に、Ｘ線光電子分光法によるＳｉＯ２部分の定量分析を行った。その結果、弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点の全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒは０．５６であった。
【０１２１】
さらに、同条件で作製した現像ローラを用い、電子写真用画像形成装置で画像評価を行った。電子写真用画像形成装置には、Ｈｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋａｒｄ社製 Ｃｏｌｏｒ Ｌａｓｅｒ Ｊｅｔ３６００を用いた。プロセスカートリッジには専用のブラック用のものを用い、現像ローラのみを交換して以下の評価を行った。
【０１２２】
（かぶり評価）
本実施例の現像ローラを組み込んだプロセスカートリッジを画像形成装置本体に搭載し、温度１５℃、湿度１０％ＲＨの環境に２４時間放置した。その後、同環境において、印字率が１％の画像を公称寿命よりも多い２５０００枚出力した。その後、同環境でベタ白画像を出力し、以下の方法でかぶり値を測定した。
【０１２３】
かぶり値は、反射濃度計（商品名：ＴＣ−６ＤＳ／Ａ；東京電色技術センター社製）を用いて、画像形成前の転写紙の反射濃度と、ベタ白画像の画像形成を行った後の転写紙の反射濃度を測定し、その差分により求めた。
【０１２４】
かぶり値について以下の基準により評価を行った。かぶり値は小さいほど、チャージアップを抑制できていると考えられる。ここで、下記評価Ａ及び評価Ｂは、目視では「かぶり」を認識できないレベルである。一方、評価Ｃ及び評価Ｄは、目視で「かぶり」を明らかに認識できるレベルである。
Ａ：１．０より小さい
Ｂ：１．０以上かつ２．０より小さい
Ｃ：３．０以上かつ５．０より小さい
Ｄ：５．０以上。
【０１２５】
（密着性評価）
次に、かぶり評価を終えた現像ローラを取り出し、温度２０℃、湿度５５％ＲＨの環境に２４時間放置した後、同環境において、以下の方法で密着性評価を行った。
【０１２６】
まず、現像ローラの表面をメチルエチルケトンで洗浄し、トナー及びトナー由来の付着物を除去した。次に、現像ローラ表面の長手方向全面にポリイミドテープ（型番：Ｐ−２２１、パーマセル社製）を貼り付け、カミソリ刃を用いてポリイミドテープの上から長手方向に幅１０ｍｍの切り込みを現像ローラ長手方向全面に入れた。その後、現像ローラの両端の断面部にポリイミドテープとほぼ平行にカミソリ刃を用いて切り込みを入れてから、ポリイミドテープと現像ローラ表面を一緒に、現像ローラ表面に対して９０°の角度で剥離したときの剥離強度を、引っ張り試験機を用いて測定した。現像ローラ表面の剥離が進むに連れて、一般に剥離強度が最小となる弾性層と樹脂層の界面で剥離が進むことから、この方法により弾性層と樹脂層の密着性を評価することが可能である。
【０１２７】
現像ローラの両端部から、現像ローラの長手方向全面について測定を行い、剥離強度の最小値を以下の基準により評価した。剥離強度の値が大きいほど、長期間使用後においても、現像ローラの樹脂層の密着性が良好であると考えられる。
【０１２８】
ここで、下記評価Ａ及び評価Ｂは、実使用上密着性に全く問題が無いレベルである。一方、評価Ｃ及び評価Ｄは、現像ローラを再利用した場合に密着性に問題が生じる可能性があるレベルである。
Ａ：２００ｇｆ以上
Ｂ：１５０ｇｆ以上かつ２００ｇｆより小さい
Ｃ：８０ｇｆ以上１００ｇｆより小さい
Ｄ：８０ｇｆ以下
［比較例１］
弾性層を形成後、コロナ処理の代わりにエキシマ処理を行った後、樹脂層を形成した以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１２９】
エキシマ処理は以下の条件で行った。弾性層表面を、軸芯体を回転軸として３０ｒｐｍで回転させながら、波長１７２ｎｍの紫外線を照射可能な細管エキシマランプ（ハリソン東芝ライティング製）により、積算光量が１２０ｍＪ／ｃｍ２となるように照射して処理を行なった。照射時の弾性層表面とエキシマランプの距離は２ｍｍとした。
【０１３０】
作製した現像ローラを透過電子顕微鏡により評価した結果、弾性層と樹脂層の間にＳｉＯ２部分は確認されなかった。
【０１３１】
［比較例２］
弾性層を形成後、コロナ処理の代わりにスパッタリング装置によりＳｉＯ２部分を均一に形成した後、樹脂層を形成した以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１３２】
ＳｉＯ２部分の形成は、スパッタリング装置（商品名：Ｅ−２００Ｓ、キヤノンアネルバエンジニアリング社製）にＳｉＯ２のターゲットを用いて、５００ｎｍの膜厚で均一に形成した。
【０１３３】
作製した現像ローラを透過電子顕微鏡により評価した結果、弾性層と樹脂層の間に連続したＳｉＯ２部分が形成されていることを確認した。
【０１３４】
［比較例３］
弾性層を形成後、コロナ処理の条件を以下のように変更して行った後、樹脂層を形成した以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１３５】
コロナ処理の条件は、コロナ電極の表面粗さＲａを０．５μｍとし、弾性ローラ表面は加熱せず常温のままとし、電流密度を５．０（Ａ／ｍ）、処理時間を１０秒間とした以外は実施例１と同じ条件でコロナ処理を行った。
【０１３６】
作製した現像ローラを透過電子顕微鏡により評価した結果、弾性層と樹脂層の間にＳｉＯ２部分は確認されなかった。
【０１３７】
以上の評価結果を、合わせて表２に示す。
【０１３８】
【表２】
【０１３９】
表２の結果より、弾性層と樹脂層とがＳｉＯ２部分を介して接する領域とＳｉＯ２部分を介さずに接する領域とを混在して形成した実施例１において、樹脂層の密着性向上とチャージアップによるかぶりの抑制を両立できる現像ローラを提供できることが分かった。
【０１４０】
［実施例１−２］
弾性層の効果反応条件を変更し、温度１５０℃で６時間加熱して硬化反応を完了させて、弾性層に使用するシリコーンゴムに含まれる未反応のポリシロキサンの量を変化させた以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。シリコーンゴム中の未反応のポリシロキサンの含有量は３重量％であった。また、実施例１−１と同様にしてＳｉＯ２の最大長さを測定した結果、ＳｉＯ２の最大長さは、０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲に入っていた。
【０１４１】
［実施例１−３］
弾性層の材料として、環状ポリシロキサン（東レ・ダウコーニング社製、商品名：ＤＣ２４６Ｆｌｕｉｄ）１０質量部を加えて混合し、液状シリコーンゴムのベース材料とした以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。シリコーンゴム中の未反応のポリシロキサンの含有量は２０重量％であった。また、実施例１−１と同様にしてＳｉＯ２の最大長さを測定した結果、ＳｉＯ２の最大長さは、０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲に入っていた。
【０１４２】
［実施例２−１〜２−１１］
表３に示すように、コロナ処理の際の樹脂層端部から長手方向へ現像ローラの長さの８％までの領域の平均電流密度Ｉｅ（Ａ／ｍ）と現像ローラ長手方向の長さの８％幅の現像ローラ中央部領域内の平均電流密度Ｉｃ（Ａ／ｍ）を制御した以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１４３】
［実施例３］
さらに、表３に示すように、コロナ電極の表面粗さを変化させ、平均電流密度Ｉを２０．０（Ａ／ｍ）とした以外は実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１４４】
［実施例４］
さらに、表３に示すように、コロナ処理開始時の弾性層表面の温度を変化させて、平均電流密度Ｉを１０．０（Ａ／ｍ）とし、コロナ処理時間を１０秒間とした以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１４５】
［実施例５−１］
さらに、弾性層の効果反応条件を変更し、温度１５０℃で８時間加熱して硬化反応を完了させて、弾性層に使用するシリコーンゴムに含まれる未反応のポリシロキサンの量を変化させた。その結果、シリコーンゴム中の未反応のポリシロキサンの含有量は１重量％であった。
【０１４６】
さらに、表３に示すように、Ｉｅ（Ａ／ｍ）とＩｃ（Ａ／ｍ）を制御した以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１４７】
また、実施例１−１と同様にしてＳｉＯ２の最大長さを測定した。ＳｉＯ２の最大長さが０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲に入っていないものが観察された。
【０１４８】
［実施例５−２］
さらに、弾性層の材料として、環状ポリシロキサン（東レ・ダウコーニング社製、商品名：ＤＣ２４６Ｆｌｕｉｄ）１５質量部を加えて混合し、液状シリコーンゴムのベース材料とした。その結果、シリコーンゴム中の未反応のポリシロキサンの含有量は２０重量％であった。
【０１４９】
さらに、表３に示すように、コロナ処理開始時の弾性層表面の温度と、コロナ処理の際のＩｅ（Ａ／ｍ）とＩｃ（Ａ／ｍ）を制御した以外は、実施例１と同様にして製造した現像ローラの評価を行った。
【０１５０】
また、実施例１−１と同様にしてＳｉＯ２の最大長さを測定した。ＳｉＯ２の最大長さが０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲に入っていないものが観察された。
【０１５１】
実施例１−１〜比較例４−２で製造した現像ローラについて、樹脂層の端部から現像ローラの長さの８％までの領域のＲｅと、現像ローラ長手方向の長さの８％幅の現像ローラ中央部領域内でＲｃの測定を行った。その際、軸方向に同じ位置について、それぞれ周方向に４点ずつ測定を行った。その結果を表４に示す。
【０１５２】
【表３】
【０１５３】
【表４】
【０１５４】
表３の結果より、弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点の全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒｅ及びＲｃが、０．２５以上０．８０以下を満足すると、樹脂層の密着性向上とかぶりの抑制を両立できることが分かった（実施例１−１乃至実施例４−４）。
【０１５５】
また、弾性層のシリコーンゴム中には未反応のポリシロキサンが含有されており、その割合が変化しても一定の条件でコロナ処理を行えば、本発明の現像ローラが得られることが分かった（実施例１−１乃至実施例１−３）。
【０１５６】
さらに、ＲｅとＲｃとがＲｅ×０．５０≦Ｒｃ≦Ｒｅ×０．９０を満足すると、樹脂層の密着性向上とかぶりの抑制をより高いレベルで両立できることが分かった（実施例２−７乃至実施例２−１１）。
【０１５７】
また、コロナ電極全体の平均電流密度Ｉ（Ａ／ｍ）が、７．０（Ａ／ｍ）≦Ｉ≦３５．０（Ａ／ｍ）を満足すると、樹脂層の密着性向上とかぶりの抑制を両立できる現像ローラを提供できることが分かった（実施例２−１乃至実施例２−１１）。
【０１５８】
さらに、Ｉｅ（Ａ／ｍ）とＩｃ（Ａ／ｍ）とがＩｃ×１．２（Ａ／ｍ）≦Ｉｅ≦Ｉｃ×２．０（Ａ／ｍ）を満足すると、樹脂層の密着性向上とかぶりの抑制をより高いレベルで両立できることが分かった（実施例２−７乃至実施例２−１１）。
【０１５９】
さらに、コロナ電極の表面粗さＲａが１．０μｍ以上３．０μｍ以下とすると、樹脂層の密着性向上とかぶりの抑制をより高いレベルで両立できることが分かった（実施例３−１乃至実施例３−４）。
【０１６０】
さらに、弾性層表面を予め温度１５０℃以上２２０℃以下に加熱した後にコロナ処理を行うと、樹脂層の密着性向上とかぶりの抑制をより高いレベルで両立できることが分かった（実施例４−１乃至実施例４−４）。
【０１６１】
Ｒｅ及びＲｃが、０．２５以上０．８０以下を満足しないと、それを満足するものと比較して、樹脂層の密着性が低下したり、若干のかぶりが出てしまうことが分かった（実施例５−１乃至実施例５−２）。
【図面の簡単な説明】
【０１６２】
【図１】本発明の現像ローラの一例を示す、（ａ）長手方向に平行、（ｂ）長手方向に垂直な概略断面図である。
【図２】本発明の現像ローラのＳｉＯ２部分の分布状態を表す、（ａ）長手方向に垂直、（ｂ）弾性層表面の直径１００μｍの範囲内の概略断面図である。
【図３】本発明に係わるコロナ処理装置の一例を示す概略構成図である。
【図４】本発明に係わるコロナ処理装置における、コロナ電極の一例を示す概略構成図である。
【図５】本発明に係わる電子写真用画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図６】本発明に係わる電子写真用プロセスカートリッジの一例を示す概略構成図である。
【図７】本発明のＲの値を測定する領域を示す図である。
【符号の説明】
【０１６３】
１０ 現像ローラ
１１ 軸芯体
１２ 弾性層
１３ ＳｉＯ２で形成されている部分（ＳｉＯ２部分）
１４ 樹脂層
３０ コロナ処理装置
３１ チャンバー
３２ コロナ電流計
３３ 高周波電源
３４ ガス導入口
３５ ガス排気口
３６ 支持部
３７ 回転駆動部
３８ パージ口
３９ パルスジェネレーター
４０ コロナ電極
４１ 導電体部
４２ 絶縁体部
５００ 電子写真用画像形成装置
５０５ 感光体
５０６ トナー供給ローラ
５０７ トナー容器
５０８ トナー量規制部材
５０９ 現像装置
５１０ レーザー光
５１１ 帯電装置
５１２ クリーニング装置
５１３ ブレードバイアス電源
５１４ 現像ローラバイアス電源
５１５ 定着装置
５１６ 駆動ローラ
５１７ 転写ローラ
５１８ 転写バイアス電源
５１９ テンションローラ
５２０ 転写搬送ベルト
５２１ 従動ローラ
５２２ 記録材
５２３ 給紙ローラ
５２４ 吸着ローラ
５２５ 吸着バイアス電源
５２６ 浸漬槽
５２７ 液送ポンプ
５２８ 攪拌タンク
５２９ 昇降装置
５３０ 電子写真用プロセスカートリッジ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられたシリコーンゴムで形成されている弾性層と、該弾性層を被覆している樹脂層とを有する現像ローラであり、
ＳｉＯ２で形成されている部分が該弾性層と該樹脂層との間に点在していることを特徴とする現像ローラ。
【請求項２】
透過電子顕微鏡で観察される前記ＳｉＯ２で形成される部分の最大長さが０．１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の現像ローラ。
【請求項３】
該樹脂層の表面からＸ線光電子分光法により直径１００μｍ範囲内の深さ方向の組成分析を行った際に、該弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点の全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２で形成される部分に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒが０．２５以上０．８０以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の現像ローラ。
【請求項４】
該現像ローラの端部領域における前記Ｒの値をＲｅ、該現像ローラの中央部領域における前記Ｒの値をＲｃとしたとき、該Ｒｅと該Ｒｃとが、Ｒｅ×０．５０≦Ｒｃ≦Ｒｅ×０．９０を満足することを特徴とする請求項３に記載の現像ローラ。
【請求項５】
軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられたシリコーンゴムで形成されている弾性層と、該弾性層を被覆している樹脂層とを有する現像ローラの製造方法であって、該弾性層の長手方向にコロナ電極を対向させて該弾性層にコロナ処理を施すことにより、該弾性層中に存在する未反応のポリシロキサンを気化し分解して、点在したＳｉＯ２を形成する工程を有することを特徴とする現像ローラの製造方法。
【請求項６】
前記コロナ処理時において、前記樹脂層端部から長手方向へ現像ローラの長さの８％までの領域内における平均電流密度Ｉｅ（Ａ／ｍ）、及び現像ローラ長手方向の長さの８％幅の現像ローラ中央部領域内における平均電流密度Ｉｃが、Ｉｃ×１．２（Ａ／ｍ）≦Ｉｅ≦Ｉｃ×２．０（Ａ／ｍ）を満足することを特徴とする請求項５に記載の現像ローラの製造方法。
【請求項７】
該コロナ電極の表面粗さＲａが１．０μｍ以上３．０μｍ以下であることを特徴とする請求項５又は６に記載の現像ローラの製造方法。
【請求項８】
該弾性層表面を予め温度１５０℃以上２２０℃以下に加熱した後にコロナ処理を行うことを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載の現像ローラの製造方法。
【請求項９】
少なくとも静電潜像を形成するための感光体と、該感光体に当接配置される現像ローラとを具備し、電子写真用画像形成装置に脱着可能に構成された電子写真用プロセスカートリッジにおいて、該現像ローラが、請求項１乃至４のいずれかに記載の現像ローラであることを特徴とする電子写真用プロセスカートリッジ。
【請求項１０】
少なくとも静電潜像を形成するための感光体と、該感光体に当接配置される現像ローラとを具備する電子写真用画像形成装置において、請求項１乃至４のいずれかに記載の現像ローラを具備することを特徴とする電子写真用画像形成装置。
【請求項１】
軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられたシリコーンゴムで形成されている弾性層と、該弾性層を被覆している樹脂層とを有する現像ローラであり、
ＳｉＯ２で形成されている部分が該弾性層と該樹脂層との間に点在していることを特徴とする現像ローラ。
【請求項２】
透過電子顕微鏡で観察される前記ＳｉＯ２で形成される部分の最大長さが０．１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の現像ローラ。
【請求項３】
該樹脂層の表面からＸ線光電子分光法により直径１００μｍ範囲内の深さ方向の組成分析を行った際に、該弾性層由来のＳｉ−Ｏに帰属されるＳｉ原子が検出された時点の全Ｓｉ原子数に対するＳｉＯ２で形成される部分に帰属されるＳｉ原子数の割合Ｒが０．２５以上０．８０以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の現像ローラ。
【請求項４】
該現像ローラの端部領域における前記Ｒの値をＲｅ、該現像ローラの中央部領域における前記Ｒの値をＲｃとしたとき、該Ｒｅと該Ｒｃとが、Ｒｅ×０．５０≦Ｒｃ≦Ｒｅ×０．９０を満足することを特徴とする請求項３に記載の現像ローラ。
【請求項５】
軸芯体と、該軸芯体の周囲に設けられたシリコーンゴムで形成されている弾性層と、該弾性層を被覆している樹脂層とを有する現像ローラの製造方法であって、該弾性層の長手方向にコロナ電極を対向させて該弾性層にコロナ処理を施すことにより、該弾性層中に存在する未反応のポリシロキサンを気化し分解して、点在したＳｉＯ２を形成する工程を有することを特徴とする現像ローラの製造方法。
【請求項６】
前記コロナ処理時において、前記樹脂層端部から長手方向へ現像ローラの長さの８％までの領域内における平均電流密度Ｉｅ（Ａ／ｍ）、及び現像ローラ長手方向の長さの８％幅の現像ローラ中央部領域内における平均電流密度Ｉｃが、Ｉｃ×１．２（Ａ／ｍ）≦Ｉｅ≦Ｉｃ×２．０（Ａ／ｍ）を満足することを特徴とする請求項５に記載の現像ローラの製造方法。
【請求項７】
該コロナ電極の表面粗さＲａが１．０μｍ以上３．０μｍ以下であることを特徴とする請求項５又は６に記載の現像ローラの製造方法。
【請求項８】
該弾性層表面を予め温度１５０℃以上２２０℃以下に加熱した後にコロナ処理を行うことを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載の現像ローラの製造方法。
【請求項９】
少なくとも静電潜像を形成するための感光体と、該感光体に当接配置される現像ローラとを具備し、電子写真用画像形成装置に脱着可能に構成された電子写真用プロセスカートリッジにおいて、該現像ローラが、請求項１乃至４のいずれかに記載の現像ローラであることを特徴とする電子写真用プロセスカートリッジ。
【請求項１０】
少なくとも静電潜像を形成するための感光体と、該感光体に当接配置される現像ローラとを具備する電子写真用画像形成装置において、請求項１乃至４のいずれかに記載の現像ローラを具備することを特徴とする電子写真用画像形成装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１０−１２２６０８（Ｐ２０１０−１２２６０８Ａ）
【公開日】平成２２年６月３日（２０１０．６．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２９８１６９（Ｐ２００８−２９８１６９）
【出願日】平成２０年１１月２１日（２００８．１１．２１）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年６月３日（２０１０．６．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１１月２１日（２００８．１１．２１）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]