真空において、Ｏ３、Ｏ２、ＣＯ２、アルゴン、ＵＶ−Ｃ光および超音波の使用により、食料品およびその他の製品を殺菌および保存する方法および技術的実施
食料品の殺菌方法およびＵＶ−Ｃ放射、超音波および真空の適用を伴う、Ｏ３、Ｏ２、ＣＯ２およびＡｒを使用する装置の実施。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、独立の特許請求の範囲の前提部分に記載されている、真空技術、オゾン、酸素、二酸化炭素、アルゴン、ＵＶ−Ｃ光照射および超音波を用いた、果物、野菜、花、農産および園芸品、食料品ならびにその他の製品の低温殺菌および保存のための新規な殺菌方法およびその技術的実施に関する。
【背景技術】
【０００２】
農業における生態学的生産の進歩に伴い、肥沃化のための動物の排泄物および副産物の集中的な使用ならびに防カビ剤、殺菌薬および農薬の総使用量の節制のために、農産品および食料品の微生物学的汚染に関してますます多くの問題が世界的規模で出現している。
過去２〜３年において、病原菌で汚染された食料品が原因の疾患が、世界的に非常に増加している。
【０００３】
果物および野菜に付着しているサルモネラ菌、赤痢菌、リステリア菌、大腸菌および腸内細菌のような病原体は、消費者の感染症をますます引き起す。
同時に、情報機関の情報によれば、食物連鎖を介した炭素菌、ボツリヌス菌のような微生物によるテロ攻撃の危険性は著しく増加している。
したがって、汚染除去および殺菌のため、ならびに果物および野菜ならびにその他の生鮮食品を入れるための包装のためのそれぞれの予防処置は、生鮮製品の消費者に対する食品の安全を保障するための義務である。
【０００４】
今日まで、塩素を含まない洗浄および水浴による処理がこの目的のために使用されている。
塩素の使用は、その発癌作用および廃水における塩素の環境被害ならびにそのいやな感覚刺激臭について相当に議論が戦わされており、したがって、受け容れ難いものである。
更に、塩素は、微生物の耐性を引き起す原因となり、したがって、塩素の有効性は疑わしい。
【０００５】
その他の消毒法、例えば、熱蒸気での消毒法は、結果として製品の品質を損なうことになる。
ガンマー放射線照射およびパルス磁界法による放射線照射は、多くの場合禁止されているか、許可および許可標示を要求される。
【０００６】
オゾンの使用は、米国、日本等において、２００１年６月２６日以降許可が与えられている新しい方法であるが、単独の消毒法としてだけで適用すると不十分な殺菌結果となる。
ＵＶ放射の使用は、放射が、消毒される製品と直接表面接触するところでのみ効き目がある。空洞または葉の裏側またはがくに存在する微生物には到達することができない。
【０００７】
超音波の使用は、細胞壁および色素体の破壊を引き起す。
微生物は、多くの場合、特別の生物学的生存戦略によりそのような破壊を回復するための能力を持っている。
したがって、殺菌目的の超音波の使用だけでは、不十分である。
上述の全ての方法は、単独での適用において不十分な結果のみを示す。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、真空、オゾン、酸素、二酸化炭素、アルゴンおよびＵＶ−Ｃ光ならびに超音波の援助と同時使用による、果物および野菜、農産および園芸品、食料品ならびにその他の製品の低温殺菌および保存のための新規な方法およびその技術的実施を示すことである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、研究室および工業的応用における１０年に及ぶ研究において、殺生物要素の特定の化学的かつ技術的革新的適用−組み合わせを伴う新規な消毒方法により、生鮮食品およびその他の製品の無菌および保存能力に関して優れた微生物成果が達成できることを証明した。
【００１０】
［序説］
オゾンＯ３
オゾン、Ｏ３は、酸素の３原子形態である。
オゾンは、反応性に富み、最も強力な、知られている酸化媒体である。オゾンは、塩素の５１倍より反応性であり、３１２５倍速く微生物を破壊する。
【００１１】
オゾンは、気体の形態では極めて不安定な分子であり、短時間（半減期は、約２０分）で酸素Ｏ２に再び分解する。
オゾンは、ＵＶ−Ｃ放射または約７，０００ボルトのコロナ陰極放電で生成される。
オゾンは、酸素よりも水によく溶ける。
【００１２】
オゾンは、青みがかった色のひどく匂う気体で、永久曝露に対して問題のない、０．１ｍｇ／ｍ３／空気の曝露濃度を持つ気体である。
オゾンは、有機または無機化合物と接触すると酸素原子を分離して反応し、それぞれ水酸基の形成によって酸化して、真核生物の細胞壁および膜の溶解を引き起す。それにより、菌、細菌、ウイルス、胞子および酵母の破壊をもたらし、昆虫の呼吸器官を閉塞および麻痺させ、その結果として死をもたらす。
【００１３】
オゾンは、植物の細胞壁の多層構造を溶解することはできない。したがって、オゾンは、植物に全身獲得耐性（Ｓｙｓｔｅｍ Ａｃｑｕｉｒｅｄ Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ（ＳＡＲ））を生じさせる呼吸気孔を介する長期曝露以外では植物中に浸透することができない。
オゾンは、短い接触においてのみ働き、それ自身は全身作用を持たない。
【００１４】
オゾンは、短時間で再び酸素に分解するので残留物を生じない。
オゾンは、作用時間が短いため植物または食料品に有害な結果を残さない。
また、オゾンは、微生物または植物病原体で耐性を生じない。
オゾンは、発癌性ではない。
【００１５】
したがって、オゾンは、菌、細菌、ウイルス、酵母、生体膜および原生動物ならびに昆虫、寄生虫、油虫およびその他の病原性寄生虫のような高等生物に対して最も有効な殺生剤である。
オゾンは、食料品との直接接触について、ＦＤＡ（食品医薬品局）により、２００１年６月２６日以降添加剤として認可されている。
オゾンは、また、米国のＥＰＡ（環境保護局）により消毒製品としても認可されている。
【００１６】
ＵＶ−光
電磁波直接放射としてのＵＶ−Ｃ光は、細菌、酵母、ウイルスおよび昆虫に対して、２５４ナノメートルの波長範囲においてその最適殺菌効果を有する。
その照射は、微生物において細胞膜の溶解を誘発し、ＤＮＡ構造にとって破壊的である。
１８５ナノメートルの波長範囲においては、ＵＶ−Ｃ放射はオゾンを生成し、オゾンは、高湿度の影響下で、殺生剤としてのオゾンの作用を増幅する高酸化性の不安定な水酸基を発生する。
【００１７】
（微生物ハードル原理（Ｍｉｃｒｏ ｂｉｏｔｉｃ Ｈｕｒｄｌｅ ｐｒｉｎｃｉｐｌｅ））
食料品のＵＶ−Ｃ照射は、米国のＦＤＡにより１９９７年以降認可されており、野菜、食料品およびチーズ等に対してはドイツの放射線保護条例においても認可されている。
【００１８】
ＵＶ−Ｃ照射の有効性に対しては、ｍＷ／秒／ｃｍ２（照射表面の平方センチメートル当り毎秒当りのミリワット）で表される放射量が極めて重要である。
微生物を除去するための線量は、特に、４，０００〜１５，０００ｍＷ／秒／ｃｍ２である（種による）。
昆虫は、約５００，０００〜１，５００，０００ｍＷ／秒／ｃｍ２である（種による）。
【００１９】
二酸化炭素
ＣＯ２は、好気性微生物および昆虫に、３０％を超える濃度において毒性作用を有し、１５〜２０％およびそれ以上の濃度において微生物の繁殖を防ぐ。
同時に、４％を超える高濃度におけるＣＯ２は、果実および野菜の細胞呼吸を減少させ、呼吸気孔を塞ぎ、したがって、オゾンガスが野菜の細胞に入るのを妨げる。
【００２０】
アルゴン
アルゴンは貴ガスであり、特に１０％の濃度において触媒として作用し、ＣＯ２およびオゾンの活性を増加させる。
【００２１】
超音波
２０ｋＨｚ（キロヘルツ）〜１００ｋＨｚ（キロヘルツ）までの波長を持つ、振動子により発生された超音波は、細菌、菌および酵母ならびに色素体を破壊し、キャビテーション現象により、殺菌ガスに対して増強効果を有し、表面の生体膜を吸引原理で同様に溶解する。
【００２２】
真空
５０ｍｂａｒ（ミリバール）より低い真空の使用は、微生物および昆虫の細胞膜を分裂させ、ＣＯ２およびオゾンならびにＵＶ光の効率を高める。同時に、真空は、殺菌される製品への、注入された殺生剤ガスの含浸および浸透を引き起す。
【００２３】
新規な消毒および殺菌方法の発明は、オゾン、酸素、二酸化炭素、アルゴン、ＵＶ−Ｃ光、超音波および真空の新規な組み合わせ適用ならびに対応する技術装置を用いた応用技術およびその機能化の特殊な方法から成る。
【００２４】
ハードル原理により、防御および保護機構ならびに抵抗戦略がエネルギーおよび防御系における過大ストレスのために崩壊し、微生物の死を招くような方法において、微生物は、幾つかの殺生物要素に同時に曝露される。
【００２５】
新規の殺菌および保存方法は、以下の技術的主構成要素の第１実施形態方式から成る。
１Ａ 液圧真空室カバーおよび石英ガラス製一体型輸送ベルトを伴う真空トンネル、
２Ａ 新鮮な空気のための電気式または空気式の減圧および注入用のバルブを伴う真空ポンプ、
３Ａ 真空管内の１８５ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプおよびトンネルの入口および出口帯における２５４ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプ、
４Ａ 入口および出口トンネルにおける石英ガラス製輸送ベルト、
５Ａ 酸素発生器（遠心分離ストレーナー原理）、
６Ａ コロナ陰極放電および６５％残留酸素を伴うオゾン発生器、
７Ａ マノメーターおよび継手管を伴うＣＯ２（二酸化炭素）用ガスタンク、
８Ａ マノメーターおよび継手管を伴うアルゴン用ガスタンク、
９Ａ 減圧弁およびマノメーターを伴うガス用ガス混合機、
１０Ａ 注入ガス用真空排気ポンプ、
１１Ａ 減圧弁およびマノメーターを伴う、中間貯蔵およびガス回収のための注入ガス用圧力容器、
１２Ａ 真空トンネルにおいて減圧状態を確立するためのそして残留ガスの排気のための換気装置、
１３Ａ 真空室における殺菌ガス換気タービン、
１４Ａ 電気式および空気式ステアリングおよび調節板、
１５Ａ 真空室におけるセンサーを伴う、オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴン用ガス濃度測定装置、
１６Ａ 超音波振動子。
【００２６】
本発明方法の第２適用においては、６００〜８００ｍｂａｒの小さな負圧だけが排気ファンにより作り出され、殺菌ガスが水に溶解され、殺菌される製品が、トンネルにおいて流動水および噴射ノズルにより殺菌されかつ洗浄され、その後、空気または遠心分離により乾燥される。
この適用は、連続フロープロセスにおいて行うことができる。
【００２７】
本発明のこの第２適用においては、以下の技術的主構成要素が特に必要である。
１Ｂ 石英ガラス製輸送ベルトを伴う、浸漬洗浄トンネル、
２Ｂ 減圧状態を作り出し、水から出る残留ガスを排気するための換気扇、
３Ｂ トンネルに備えられた、１８５ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプ
４Ｂ 水トンネルの入口および出口帯に備えられた２５４ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプ、
５Ｂ 酸素発生器（遠心分離ストレーナー原理により空気からの）、
６Ｂ コロナ陰極放電および６５％残留酸素を伴うオゾン発生器、
７Ｂ マノメーターおよび継手管を伴うＣＯ２（二酸化炭素）用ガスタンク、
８Ｂ マノメーターおよび継手管を伴うアルゴン用ガスタンク、
９Ｂ 減圧弁およびマノメーターを伴う、３つのガスのためのガス混合機、
１０Ｂ 洗浄トンネル中への水吸気弁を伴う水ライン、
１１Ｂ 水サイフォンを伴う排水処理ライン、
１２Ｂ トンネルにおける水ノズルを伴う水ライン、
１３Ｂ 殺菌水を渦巻きにするための水ノズルを伴う、トンネル水浴における管を伴う加圧圧縮機、
１４Ｂ 水圧ポンプ、
１５Ｂ フィルターを伴う水循環ポンプ、
１６Ｂ ベンチュリ・ガス注入バルブ、
１７Ｂ ガス注入混合機、
１８Ｂ 膨張容器、
１９Ｂ 膨張容器前および後の圧力マノメーター、
２０Ｂ オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴン用の、水中プローブを伴うガス濃度感知装置、
２１Ｂ 洗浄トンネル後の換気乾燥機または遠心分離乾燥機、
２２Ｂ 制御盤およびプログラム制御ディスプレーを伴う電気ステアリング、
２３Ｂ 超音波振動子。
【００２８】
［発明の実施］
適用方法は、第１適用方式に対しては、特に以下の主工程を含む。
１．殺菌される製品は、バッチプロセスにおいて、石英ガラス製のコンベヤーベルトにより真空トンネル室に到達する。コンベヤーベルトは、傍心回転振盪機要素により、移送品が、ＵＶ−Ｃ光の下で、ＵＶ−Ｃ光が殺菌される製品のあらゆる箇所および部分に到達することができるように、あらゆる場所に向くような方法で上下に動かされる。
２．真空トンネルにおけるコンベヤーベルトが一杯になったら、真空室は、真空室カバーで液圧で気密に密閉される。
３．その後、真空ポンプにより、特に５０〜２００ｍｂａｒ（ミリバール）の水準まで空気を抜くことにより、真空を生じさせる。
４．真空が確立された後、オゾン、酸素、ＣＯ２およびアルゴンのガス混合物が、約７５０ｍｂａｒの負圧までガス室に自動的に注入される。注入ガスの濃度は、特に次の通りである：オゾン１５％、酸素４５％、二酸化炭素３０％およびアルゴン１０％。
５．殺菌ガスの注入中、殺菌される製品は、好ましくは５秒の間隔において最小２０ｋＨｚ（キロヘルツ）のパルス超音波で衝撃を与えられる。
６．ガスは、室内に約３０秒留まる。
７．その後、新たな真空が作り出され、殺菌ガス混合物は、ガス混合物がセンサー調節ガス混合機により適切な濃度に再び再構成される、再循環殺菌ガスのための圧力容器の中に、圧縮ポンプで、電気式または空気式ガスバルブを介して抜かれる。
圧力容器は、ガス混合機に接続されていて、センサー・デバイスの設定によりガス濃度を自動的に均等化させる。
８．殺菌ガスの排気後、真空室は、殺菌ガスの残留物が残らないような方法において新鮮な空気で換気される。
９．その後、真空室カバーが液圧で持ち上げられて、殺菌方法が終了する。
１０．殺菌された充填品は、真空トンネルを自動的に離れ、石英ガラス製コンベヤーベルトに乗って、ＵＶ−Ｃ光トンネルを通って充填包装ステーションに向けて送られる。これにより、空気を介しての製品上の二次感染が回避される。
１１．殺菌された無菌製品は、無菌包装ステーションに到着し、そこで、袋、トレーまたは箱に密閉包装され、箔でシールまたはシュリンクされる。
【００２９】
第２適用のための適用方法は、特に実施のための以下の主工程からなる。
１．殺菌される製品は、連続プロセスフローにおいて、石英ガラス製のコンベヤーベルトを介して水洗トンネルに到達する。
コンベヤーベルトは、傍心回転振盪機要素により、移送品が、ＵＶ−Ｃ光の下で、ＵＶ−Ｃ光が殺菌される製品のあらゆる箇所および部分に到達することができるように、あらゆる場所に向くような方法で上下に動かされる。
２．排気ブロワーで負圧が作り出されている洗浄トンネルにおいて、殺菌される製品は、浸漬プロセスにおいて、オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴンに富んだ水中に入れられ、石英ガラス製コンベヤーベルトで更に移送される。水ノズルからのシャワーが、水の表面で泳ぐそれらの製品に、殺菌水が常に製品ときちんと接触するような方法において同時に噴霧される。殺菌水浴は、殺菌される製品が、連続的渦巻き水において浸漬により殺菌ガスと接触するような方法において別々のノズルを通して圧搾空気で渦が巻かれる。
３．殺菌工程は、製品の種類および水に溶解したガスの濃度によって約２〜６分間持続し、プログラム化することができる。
４．水浴の前および後に、１８５ｎｍ（ナノメートル）および２５４ｎｍ（ナノメートル）のＵＶ−Ｃランプが光トンネル中に固定される。
５．殺菌トンネルの内部の水浴中および水浴上で、製品は、特に最小２０〜１００ｋＨｚ（キロヘルツ）の周波数でパルスで作動している超音波の環を同時に通過する。これにより、製品は、同時に、超音波で攻撃され、ＵＶ−Ｃ光で照射され、殺菌性ガスに曝露される。
６．処理される製品の水浴における浸漬プロセスは、緩やかな条件において、またはプラスチック箱プロセスで行うことができる。
７．湿潤殺菌トンネルを通過した後、殺菌された製品は、石英ガラス製コンベヤーベルト上でいまだＵＶ−Ｃ線照射下で、無菌空気−ジェット空気−乾燥機または遠心分離乾燥機に到達する。
８．その後、製品は、無菌殺菌条件下で包装される。
新規な殺菌方法は、実験室においても工業的応用においても優れた結果を示した。
１０年に及ぶ調査開発研究の間に、本発明方法は、市場の成熟にもたらされた。
【００３０】
本発明者の特定の新しい技術概念を伴うこの新規な方法は、食料品で極めてよく機能するばかりでなく、例えば、医薬品および医薬用途においても極めてよく機能する。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】
【図２】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、独立の特許請求の範囲の前提部分に記載されている、真空技術、オゾン、酸素、二酸化炭素、アルゴン、ＵＶ−Ｃ光照射および超音波を用いた、果物、野菜、花、農産および園芸品、食料品ならびにその他の製品の低温殺菌および保存のための新規な殺菌方法およびその技術的実施に関する。
【背景技術】
【０００２】
農業における生態学的生産の進歩に伴い、肥沃化のための動物の排泄物および副産物の集中的な使用ならびに防カビ剤、殺菌薬および農薬の総使用量の節制のために、農産品および食料品の微生物学的汚染に関してますます多くの問題が世界的規模で出現している。
過去２〜３年において、病原菌で汚染された食料品が原因の疾患が、世界的に非常に増加している。
【０００３】
果物および野菜に付着しているサルモネラ菌、赤痢菌、リステリア菌、大腸菌および腸内細菌のような病原体は、消費者の感染症をますます引き起す。
同時に、情報機関の情報によれば、食物連鎖を介した炭素菌、ボツリヌス菌のような微生物によるテロ攻撃の危険性は著しく増加している。
したがって、汚染除去および殺菌のため、ならびに果物および野菜ならびにその他の生鮮食品を入れるための包装のためのそれぞれの予防処置は、生鮮製品の消費者に対する食品の安全を保障するための義務である。
【０００４】
今日まで、塩素を含まない洗浄および水浴による処理がこの目的のために使用されている。
塩素の使用は、その発癌作用および廃水における塩素の環境被害ならびにそのいやな感覚刺激臭について相当に議論が戦わされており、したがって、受け容れ難いものである。
更に、塩素は、微生物の耐性を引き起す原因となり、したがって、塩素の有効性は疑わしい。
【０００５】
その他の消毒法、例えば、熱蒸気での消毒法は、結果として製品の品質を損なうことになる。
ガンマー放射線照射およびパルス磁界法による放射線照射は、多くの場合禁止されているか、許可および許可標示を要求される。
【０００６】
オゾンの使用は、米国、日本等において、２００１年６月２６日以降許可が与えられている新しい方法であるが、単独の消毒法としてだけで適用すると不十分な殺菌結果となる。
ＵＶ放射の使用は、放射が、消毒される製品と直接表面接触するところでのみ効き目がある。空洞または葉の裏側またはがくに存在する微生物には到達することができない。
【０００７】
超音波の使用は、細胞壁および色素体の破壊を引き起す。
微生物は、多くの場合、特別の生物学的生存戦略によりそのような破壊を回復するための能力を持っている。
したがって、殺菌目的の超音波の使用だけでは、不十分である。
上述の全ての方法は、単独での適用において不十分な結果のみを示す。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、真空、オゾン、酸素、二酸化炭素、アルゴンおよびＵＶ−Ｃ光ならびに超音波の援助と同時使用による、果物および野菜、農産および園芸品、食料品ならびにその他の製品の低温殺菌および保存のための新規な方法およびその技術的実施を示すことである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、研究室および工業的応用における１０年に及ぶ研究において、殺生物要素の特定の化学的かつ技術的革新的適用−組み合わせを伴う新規な消毒方法により、生鮮食品およびその他の製品の無菌および保存能力に関して優れた微生物成果が達成できることを証明した。
【００１０】
［序説］
オゾンＯ３
オゾン、Ｏ３は、酸素の３原子形態である。
オゾンは、反応性に富み、最も強力な、知られている酸化媒体である。オゾンは、塩素の５１倍より反応性であり、３１２５倍速く微生物を破壊する。
【００１１】
オゾンは、気体の形態では極めて不安定な分子であり、短時間（半減期は、約２０分）で酸素Ｏ２に再び分解する。
オゾンは、ＵＶ−Ｃ放射または約７，０００ボルトのコロナ陰極放電で生成される。
オゾンは、酸素よりも水によく溶ける。
【００１２】
オゾンは、青みがかった色のひどく匂う気体で、永久曝露に対して問題のない、０．１ｍｇ／ｍ３／空気の曝露濃度を持つ気体である。
オゾンは、有機または無機化合物と接触すると酸素原子を分離して反応し、それぞれ水酸基の形成によって酸化して、真核生物の細胞壁および膜の溶解を引き起す。それにより、菌、細菌、ウイルス、胞子および酵母の破壊をもたらし、昆虫の呼吸器官を閉塞および麻痺させ、その結果として死をもたらす。
【００１３】
オゾンは、植物の細胞壁の多層構造を溶解することはできない。したがって、オゾンは、植物に全身獲得耐性（Ｓｙｓｔｅｍ Ａｃｑｕｉｒｅｄ Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ（ＳＡＲ））を生じさせる呼吸気孔を介する長期曝露以外では植物中に浸透することができない。
オゾンは、短い接触においてのみ働き、それ自身は全身作用を持たない。
【００１４】
オゾンは、短時間で再び酸素に分解するので残留物を生じない。
オゾンは、作用時間が短いため植物または食料品に有害な結果を残さない。
また、オゾンは、微生物または植物病原体で耐性を生じない。
オゾンは、発癌性ではない。
【００１５】
したがって、オゾンは、菌、細菌、ウイルス、酵母、生体膜および原生動物ならびに昆虫、寄生虫、油虫およびその他の病原性寄生虫のような高等生物に対して最も有効な殺生剤である。
オゾンは、食料品との直接接触について、ＦＤＡ（食品医薬品局）により、２００１年６月２６日以降添加剤として認可されている。
オゾンは、また、米国のＥＰＡ（環境保護局）により消毒製品としても認可されている。
【００１６】
ＵＶ−光
電磁波直接放射としてのＵＶ−Ｃ光は、細菌、酵母、ウイルスおよび昆虫に対して、２５４ナノメートルの波長範囲においてその最適殺菌効果を有する。
その照射は、微生物において細胞膜の溶解を誘発し、ＤＮＡ構造にとって破壊的である。
１８５ナノメートルの波長範囲においては、ＵＶ−Ｃ放射はオゾンを生成し、オゾンは、高湿度の影響下で、殺生剤としてのオゾンの作用を増幅する高酸化性の不安定な水酸基を発生する。
【００１７】
（微生物ハードル原理（Ｍｉｃｒｏ ｂｉｏｔｉｃ Ｈｕｒｄｌｅ ｐｒｉｎｃｉｐｌｅ））
食料品のＵＶ−Ｃ照射は、米国のＦＤＡにより１９９７年以降認可されており、野菜、食料品およびチーズ等に対してはドイツの放射線保護条例においても認可されている。
【００１８】
ＵＶ−Ｃ照射の有効性に対しては、ｍＷ／秒／ｃｍ２（照射表面の平方センチメートル当り毎秒当りのミリワット）で表される放射量が極めて重要である。
微生物を除去するための線量は、特に、４，０００〜１５，０００ｍＷ／秒／ｃｍ２である（種による）。
昆虫は、約５００，０００〜１，５００，０００ｍＷ／秒／ｃｍ２である（種による）。
【００１９】
二酸化炭素
ＣＯ２は、好気性微生物および昆虫に、３０％を超える濃度において毒性作用を有し、１５〜２０％およびそれ以上の濃度において微生物の繁殖を防ぐ。
同時に、４％を超える高濃度におけるＣＯ２は、果実および野菜の細胞呼吸を減少させ、呼吸気孔を塞ぎ、したがって、オゾンガスが野菜の細胞に入るのを妨げる。
【００２０】
アルゴン
アルゴンは貴ガスであり、特に１０％の濃度において触媒として作用し、ＣＯ２およびオゾンの活性を増加させる。
【００２１】
超音波
２０ｋＨｚ（キロヘルツ）〜１００ｋＨｚ（キロヘルツ）までの波長を持つ、振動子により発生された超音波は、細菌、菌および酵母ならびに色素体を破壊し、キャビテーション現象により、殺菌ガスに対して増強効果を有し、表面の生体膜を吸引原理で同様に溶解する。
【００２２】
真空
５０ｍｂａｒ（ミリバール）より低い真空の使用は、微生物および昆虫の細胞膜を分裂させ、ＣＯ２およびオゾンならびにＵＶ光の効率を高める。同時に、真空は、殺菌される製品への、注入された殺生剤ガスの含浸および浸透を引き起す。
【００２３】
新規な消毒および殺菌方法の発明は、オゾン、酸素、二酸化炭素、アルゴン、ＵＶ−Ｃ光、超音波および真空の新規な組み合わせ適用ならびに対応する技術装置を用いた応用技術およびその機能化の特殊な方法から成る。
【００２４】
ハードル原理により、防御および保護機構ならびに抵抗戦略がエネルギーおよび防御系における過大ストレスのために崩壊し、微生物の死を招くような方法において、微生物は、幾つかの殺生物要素に同時に曝露される。
【００２５】
新規の殺菌および保存方法は、以下の技術的主構成要素の第１実施形態方式から成る。
１Ａ 液圧真空室カバーおよび石英ガラス製一体型輸送ベルトを伴う真空トンネル、
２Ａ 新鮮な空気のための電気式または空気式の減圧および注入用のバルブを伴う真空ポンプ、
３Ａ 真空管内の１８５ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプおよびトンネルの入口および出口帯における２５４ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプ、
４Ａ 入口および出口トンネルにおける石英ガラス製輸送ベルト、
５Ａ 酸素発生器（遠心分離ストレーナー原理）、
６Ａ コロナ陰極放電および６５％残留酸素を伴うオゾン発生器、
７Ａ マノメーターおよび継手管を伴うＣＯ２（二酸化炭素）用ガスタンク、
８Ａ マノメーターおよび継手管を伴うアルゴン用ガスタンク、
９Ａ 減圧弁およびマノメーターを伴うガス用ガス混合機、
１０Ａ 注入ガス用真空排気ポンプ、
１１Ａ 減圧弁およびマノメーターを伴う、中間貯蔵およびガス回収のための注入ガス用圧力容器、
１２Ａ 真空トンネルにおいて減圧状態を確立するためのそして残留ガスの排気のための換気装置、
１３Ａ 真空室における殺菌ガス換気タービン、
１４Ａ 電気式および空気式ステアリングおよび調節板、
１５Ａ 真空室におけるセンサーを伴う、オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴン用ガス濃度測定装置、
１６Ａ 超音波振動子。
【００２６】
本発明方法の第２適用においては、６００〜８００ｍｂａｒの小さな負圧だけが排気ファンにより作り出され、殺菌ガスが水に溶解され、殺菌される製品が、トンネルにおいて流動水および噴射ノズルにより殺菌されかつ洗浄され、その後、空気または遠心分離により乾燥される。
この適用は、連続フロープロセスにおいて行うことができる。
【００２７】
本発明のこの第２適用においては、以下の技術的主構成要素が特に必要である。
１Ｂ 石英ガラス製輸送ベルトを伴う、浸漬洗浄トンネル、
２Ｂ 減圧状態を作り出し、水から出る残留ガスを排気するための換気扇、
３Ｂ トンネルに備えられた、１８５ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプ
４Ｂ 水トンネルの入口および出口帯に備えられた２５４ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプ、
５Ｂ 酸素発生器（遠心分離ストレーナー原理により空気からの）、
６Ｂ コロナ陰極放電および６５％残留酸素を伴うオゾン発生器、
７Ｂ マノメーターおよび継手管を伴うＣＯ２（二酸化炭素）用ガスタンク、
８Ｂ マノメーターおよび継手管を伴うアルゴン用ガスタンク、
９Ｂ 減圧弁およびマノメーターを伴う、３つのガスのためのガス混合機、
１０Ｂ 洗浄トンネル中への水吸気弁を伴う水ライン、
１１Ｂ 水サイフォンを伴う排水処理ライン、
１２Ｂ トンネルにおける水ノズルを伴う水ライン、
１３Ｂ 殺菌水を渦巻きにするための水ノズルを伴う、トンネル水浴における管を伴う加圧圧縮機、
１４Ｂ 水圧ポンプ、
１５Ｂ フィルターを伴う水循環ポンプ、
１６Ｂ ベンチュリ・ガス注入バルブ、
１７Ｂ ガス注入混合機、
１８Ｂ 膨張容器、
１９Ｂ 膨張容器前および後の圧力マノメーター、
２０Ｂ オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴン用の、水中プローブを伴うガス濃度感知装置、
２１Ｂ 洗浄トンネル後の換気乾燥機または遠心分離乾燥機、
２２Ｂ 制御盤およびプログラム制御ディスプレーを伴う電気ステアリング、
２３Ｂ 超音波振動子。
【００２８】
［発明の実施］
適用方法は、第１適用方式に対しては、特に以下の主工程を含む。
１．殺菌される製品は、バッチプロセスにおいて、石英ガラス製のコンベヤーベルトにより真空トンネル室に到達する。コンベヤーベルトは、傍心回転振盪機要素により、移送品が、ＵＶ−Ｃ光の下で、ＵＶ−Ｃ光が殺菌される製品のあらゆる箇所および部分に到達することができるように、あらゆる場所に向くような方法で上下に動かされる。
２．真空トンネルにおけるコンベヤーベルトが一杯になったら、真空室は、真空室カバーで液圧で気密に密閉される。
３．その後、真空ポンプにより、特に５０〜２００ｍｂａｒ（ミリバール）の水準まで空気を抜くことにより、真空を生じさせる。
４．真空が確立された後、オゾン、酸素、ＣＯ２およびアルゴンのガス混合物が、約７５０ｍｂａｒの負圧までガス室に自動的に注入される。注入ガスの濃度は、特に次の通りである：オゾン１５％、酸素４５％、二酸化炭素３０％およびアルゴン１０％。
５．殺菌ガスの注入中、殺菌される製品は、好ましくは５秒の間隔において最小２０ｋＨｚ（キロヘルツ）のパルス超音波で衝撃を与えられる。
６．ガスは、室内に約３０秒留まる。
７．その後、新たな真空が作り出され、殺菌ガス混合物は、ガス混合物がセンサー調節ガス混合機により適切な濃度に再び再構成される、再循環殺菌ガスのための圧力容器の中に、圧縮ポンプで、電気式または空気式ガスバルブを介して抜かれる。
圧力容器は、ガス混合機に接続されていて、センサー・デバイスの設定によりガス濃度を自動的に均等化させる。
８．殺菌ガスの排気後、真空室は、殺菌ガスの残留物が残らないような方法において新鮮な空気で換気される。
９．その後、真空室カバーが液圧で持ち上げられて、殺菌方法が終了する。
１０．殺菌された充填品は、真空トンネルを自動的に離れ、石英ガラス製コンベヤーベルトに乗って、ＵＶ−Ｃ光トンネルを通って充填包装ステーションに向けて送られる。これにより、空気を介しての製品上の二次感染が回避される。
１１．殺菌された無菌製品は、無菌包装ステーションに到着し、そこで、袋、トレーまたは箱に密閉包装され、箔でシールまたはシュリンクされる。
【００２９】
第２適用のための適用方法は、特に実施のための以下の主工程からなる。
１．殺菌される製品は、連続プロセスフローにおいて、石英ガラス製のコンベヤーベルトを介して水洗トンネルに到達する。
コンベヤーベルトは、傍心回転振盪機要素により、移送品が、ＵＶ−Ｃ光の下で、ＵＶ−Ｃ光が殺菌される製品のあらゆる箇所および部分に到達することができるように、あらゆる場所に向くような方法で上下に動かされる。
２．排気ブロワーで負圧が作り出されている洗浄トンネルにおいて、殺菌される製品は、浸漬プロセスにおいて、オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴンに富んだ水中に入れられ、石英ガラス製コンベヤーベルトで更に移送される。水ノズルからのシャワーが、水の表面で泳ぐそれらの製品に、殺菌水が常に製品ときちんと接触するような方法において同時に噴霧される。殺菌水浴は、殺菌される製品が、連続的渦巻き水において浸漬により殺菌ガスと接触するような方法において別々のノズルを通して圧搾空気で渦が巻かれる。
３．殺菌工程は、製品の種類および水に溶解したガスの濃度によって約２〜６分間持続し、プログラム化することができる。
４．水浴の前および後に、１８５ｎｍ（ナノメートル）および２５４ｎｍ（ナノメートル）のＵＶ−Ｃランプが光トンネル中に固定される。
５．殺菌トンネルの内部の水浴中および水浴上で、製品は、特に最小２０〜１００ｋＨｚ（キロヘルツ）の周波数でパルスで作動している超音波の環を同時に通過する。これにより、製品は、同時に、超音波で攻撃され、ＵＶ−Ｃ光で照射され、殺菌性ガスに曝露される。
６．処理される製品の水浴における浸漬プロセスは、緩やかな条件において、またはプラスチック箱プロセスで行うことができる。
７．湿潤殺菌トンネルを通過した後、殺菌された製品は、石英ガラス製コンベヤーベルト上でいまだＵＶ−Ｃ線照射下で、無菌空気−ジェット空気−乾燥機または遠心分離乾燥機に到達する。
８．その後、製品は、無菌殺菌条件下で包装される。
新規な殺菌方法は、実験室においても工業的応用においても優れた結果を示した。
１０年に及ぶ調査開発研究の間に、本発明方法は、市場の成熟にもたらされた。
【００３０】
本発明者の特定の新しい技術概念を伴うこの新規な方法は、食料品で極めてよく機能するばかりでなく、例えば、医薬品および医薬用途においても極めてよく機能する。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】
【図２】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴンの使用ならびにＵＶ−Ｃ照射、超音波および真空の同時適用を伴う燻蒸または水洗により、果物および野菜、あらゆる種類の食料品、園芸品および農産品ならびにその他の製品を殺菌および保存する方法および技術的実施。
【請求項２】
前記方法が、燻蒸による方式１だけではなく水洗処理による方式２においても実施することができることを特徴とする、請求項１に記載の殺菌方法。
【請求項３】
前記方式１におけるバッチプロセスにおいて、オゾン、酸素、二酸化炭素、アルゴンの殺菌ガス、ＵＶ−Ｃ照射および超音波に加えて真空が作り出されることを特徴とする、請求項１および２に記載の殺菌方法。
【請求項４】
前記方式２における水トンネル内の製品フロープロセスにおいて、オゾン、酸素、二酸化炭素、アルゴンの殺菌ガス、ＵＶ−Ｃ照射および超音波に加えて不完全真空（負圧）のみが確立されることを特徴とする、請求項１および２に記載の殺菌方法。
【請求項５】
殺菌される前記製品のＵＶ−Ｃ照射が、真空室内および水浴内の殺菌トンネルの前および後に、内部と同様に殺菌ガスおよび超音波の適用と同時に行われることを特徴とする、請求項１乃至４に記載の殺菌方法。
【請求項６】
殺菌される製品が、殺菌ガスおよびＵＶ−Ｃ照射の適用と同時に超音波によっても処理されることを特徴とする、請求項１乃至５に記載の殺菌方法。
【請求項７】
方式１の技術的実施に対して、以下の主構成要素および装置が特に使用されることを特徴とする、請求項１、２および３に記載の殺菌方法：
１Ａ 液圧真空室カバーおよび石英ガラス製一体型輸送ベルトを伴う真空トンネル、
２Ａ 新鮮な空気のための電気式または空気式の減圧および注入用のバルブを伴う真空ポンプ、
３Ａ 真空管内の１８５ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプおよびトンネルの入口および出口帯における２５４ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプ、
４Ａ 入口および出口トンネルにおける石英ガラス製輸送ベルト、
５Ａ 酸素発生器（遠心分離ストレーナー原理）、
６Ａ コロナ陰極放電および６５％残留酸素を伴うオゾン発生器、
７Ａ マノメーターおよび継手管を伴うＣＯ２（二酸化炭素）用ガスタンク、
８Ａ マノメーターおよび継手管を伴うアルゴン用ガスタンク、
９Ａ 減圧弁およびマノメーターを伴うガス用ガス混合機、
１０Ａ 注入ガス用真空排気ポンプ、
１１Ａ 減圧弁およびマノメーターを伴う、中間貯蔵およびガス回収のための注入ガス用圧力容器、
１２Ａ 真空トンネルにおいて減圧状態を確立するためのおよび残留ガスの排気のための換気装置、
１３Ａ 真空室における殺菌ガス換気タービン、
１４Ａ 電気式および空気式ステアリングおよび調節板、
１５Ａ 真空室におけるセンサーを伴う、オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴン用ガス濃度測定装置、
１６Ａ 超音波振動子。
【請求項８】
方式２の技術的実施に対して、以下の主構成要素および装置が特に使用されることを特徴とする、請求項１、２および４に記載の殺菌方法：
１Ｂ 石英ガラス製輸送ベルトを伴う、被覆ステンレススチール製浸漬洗浄トンネル、
２Ｂ 減圧状態を作り出し、水から出る残留ガスを排気するための換気扇、
３Ｂ トンネルに備えられた、１８５ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプ
４Ｂ 水トンネルの入口および出口帯に備えられた２５４ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプ、
５Ｂ 酸素発生器（遠心分離ストレーナー原理により空気からの）、
６Ｂ コロナ陰極放電および６５％残留酸素を伴うオゾン発生器、
７Ｂ マノメーターおよび継手管を伴うＣＯ２（二酸化炭素）用ガスタンク、
８Ｂ マノメーターおよび継手管を伴うアルゴン用ガスタンク、
９Ｂ 減圧弁およびマノメーターならびに継手管を伴う、３つのガスのためのガス混合機、
１０Ｂ 洗浄トンネル中への水吸気弁を伴う水ライン、
１１Ｂ 洗浄トンネルにおける水サイフォンを伴う排水処理ライン、
１２Ｂ トンネルにおける水ノズルおよび栓を伴う水ライン、
１３Ｂ 殺菌水を渦巻きにするための水ノズルを伴う、トンネル水浴における管を伴う加圧圧縮機、
１４Ｂ 管を伴う水圧ポンプ、
１５Ｂ フィルターおよび管を伴う水循環ポンプ、
１６Ｂ ベンチュリ・ガス注入バルブおよび管、
１７Ｂ 継手管を伴うガス注入混合機、
１８Ｂ 継手管を伴う膨張容器、
１９Ｂ 膨張容器前および後の圧力マノメーター、
２０Ｂ オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴン用の水中プローブを伴うガス濃度感知装置、
２１Ｂ 洗浄トンネル後の換気乾燥機または遠心分離乾燥機、
２２Ｂ 制御盤およびプログラム制御ディスプレーを伴う電気ステアリング、
２３Ｂ 超音波振動子。
【請求項９】
真空ガストンネルおよび水トンネルの内壁が、超音波の問題のない使用を可能にする特定のＰＶＣまたはその他の適当な材料の被膜を備えていることを特徴とする、請求項６、７および８に記載の殺菌方法。
【請求項１０】
記載された特定の技術的主構成要素、装置および相当する技術的工学技術の使用を伴う、オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴンの使用ならびにＵＶ−Ｃ照射、超音波および真空または負圧の同時適用による燻蒸または水洗による、請求項１乃至９に記載のあらゆる種類の食料品およびその他の製品を殺菌および保存する方法および技術的実施。
【請求項１】
オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴンの使用ならびにＵＶ−Ｃ照射、超音波および真空の同時適用を伴う燻蒸または水洗により、果物および野菜、あらゆる種類の食料品、園芸品および農産品ならびにその他の製品を殺菌および保存する方法および技術的実施。
【請求項２】
前記方法が、燻蒸による方式１だけではなく水洗処理による方式２においても実施することができることを特徴とする、請求項１に記載の殺菌方法。
【請求項３】
前記方式１におけるバッチプロセスにおいて、オゾン、酸素、二酸化炭素、アルゴンの殺菌ガス、ＵＶ−Ｃ照射および超音波に加えて真空が作り出されることを特徴とする、請求項１および２に記載の殺菌方法。
【請求項４】
前記方式２における水トンネル内の製品フロープロセスにおいて、オゾン、酸素、二酸化炭素、アルゴンの殺菌ガス、ＵＶ−Ｃ照射および超音波に加えて不完全真空（負圧）のみが確立されることを特徴とする、請求項１および２に記載の殺菌方法。
【請求項５】
殺菌される前記製品のＵＶ−Ｃ照射が、真空室内および水浴内の殺菌トンネルの前および後に、内部と同様に殺菌ガスおよび超音波の適用と同時に行われることを特徴とする、請求項１乃至４に記載の殺菌方法。
【請求項６】
殺菌される製品が、殺菌ガスおよびＵＶ−Ｃ照射の適用と同時に超音波によっても処理されることを特徴とする、請求項１乃至５に記載の殺菌方法。
【請求項７】
方式１の技術的実施に対して、以下の主構成要素および装置が特に使用されることを特徴とする、請求項１、２および３に記載の殺菌方法：
１Ａ 液圧真空室カバーおよび石英ガラス製一体型輸送ベルトを伴う真空トンネル、
２Ａ 新鮮な空気のための電気式または空気式の減圧および注入用のバルブを伴う真空ポンプ、
３Ａ 真空管内の１８５ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプおよびトンネルの入口および出口帯における２５４ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプ、
４Ａ 入口および出口トンネルにおける石英ガラス製輸送ベルト、
５Ａ 酸素発生器（遠心分離ストレーナー原理）、
６Ａ コロナ陰極放電および６５％残留酸素を伴うオゾン発生器、
７Ａ マノメーターおよび継手管を伴うＣＯ２（二酸化炭素）用ガスタンク、
８Ａ マノメーターおよび継手管を伴うアルゴン用ガスタンク、
９Ａ 減圧弁およびマノメーターを伴うガス用ガス混合機、
１０Ａ 注入ガス用真空排気ポンプ、
１１Ａ 減圧弁およびマノメーターを伴う、中間貯蔵およびガス回収のための注入ガス用圧力容器、
１２Ａ 真空トンネルにおいて減圧状態を確立するためのおよび残留ガスの排気のための換気装置、
１３Ａ 真空室における殺菌ガス換気タービン、
１４Ａ 電気式および空気式ステアリングおよび調節板、
１５Ａ 真空室におけるセンサーを伴う、オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴン用ガス濃度測定装置、
１６Ａ 超音波振動子。
【請求項８】
方式２の技術的実施に対して、以下の主構成要素および装置が特に使用されることを特徴とする、請求項１、２および４に記載の殺菌方法：
１Ｂ 石英ガラス製輸送ベルトを伴う、被覆ステンレススチール製浸漬洗浄トンネル、
２Ｂ 減圧状態を作り出し、水から出る残留ガスを排気するための換気扇、
３Ｂ トンネルに備えられた、１８５ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプ
４Ｂ 水トンネルの入口および出口帯に備えられた２５４ｎｍ（ナノメートル）の波長を持つＵＶ−Ｃランプ、
５Ｂ 酸素発生器（遠心分離ストレーナー原理により空気からの）、
６Ｂ コロナ陰極放電および６５％残留酸素を伴うオゾン発生器、
７Ｂ マノメーターおよび継手管を伴うＣＯ２（二酸化炭素）用ガスタンク、
８Ｂ マノメーターおよび継手管を伴うアルゴン用ガスタンク、
９Ｂ 減圧弁およびマノメーターならびに継手管を伴う、３つのガスのためのガス混合機、
１０Ｂ 洗浄トンネル中への水吸気弁を伴う水ライン、
１１Ｂ 洗浄トンネルにおける水サイフォンを伴う排水処理ライン、
１２Ｂ トンネルにおける水ノズルおよび栓を伴う水ライン、
１３Ｂ 殺菌水を渦巻きにするための水ノズルを伴う、トンネル水浴における管を伴う加圧圧縮機、
１４Ｂ 管を伴う水圧ポンプ、
１５Ｂ フィルターおよび管を伴う水循環ポンプ、
１６Ｂ ベンチュリ・ガス注入バルブおよび管、
１７Ｂ 継手管を伴うガス注入混合機、
１８Ｂ 継手管を伴う膨張容器、
１９Ｂ 膨張容器前および後の圧力マノメーター、
２０Ｂ オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴン用の水中プローブを伴うガス濃度感知装置、
２１Ｂ 洗浄トンネル後の換気乾燥機または遠心分離乾燥機、
２２Ｂ 制御盤およびプログラム制御ディスプレーを伴う電気ステアリング、
２３Ｂ 超音波振動子。
【請求項９】
真空ガストンネルおよび水トンネルの内壁が、超音波の問題のない使用を可能にする特定のＰＶＣまたはその他の適当な材料の被膜を備えていることを特徴とする、請求項６、７および８に記載の殺菌方法。
【請求項１０】
記載された特定の技術的主構成要素、装置および相当する技術的工学技術の使用を伴う、オゾン、酸素、二酸化炭素およびアルゴンの使用ならびにＵＶ−Ｃ照射、超音波および真空または負圧の同時適用による燻蒸または水洗による、請求項１乃至９に記載のあらゆる種類の食料品およびその他の製品を殺菌および保存する方法および技術的実施。
【公表番号】特表２００６−５２４４９３（Ｐ２００６−５２４４９３Ａ）
【公表日】平成１８年１１月２日（２００６．１１．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５０４１８０（Ｐ２００６−５０４１８０）
【出願日】平成１６年４月２６日（２００４．４．２６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＣＨ２００４／０００２５３
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０９５９５３
【国際公開日】平成１６年１１月１１日（２００４．１１．１１）
【出願人】（５０５３７９６０７）
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１８年１１月２日（２００６．１１．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年４月２６日（２００４．４．２６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＣＨ２００４／０００２５３
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０９５９５３
【国際公開日】平成１６年１１月１１日（２００４．１１．１１）
【出願人】（５０５３７９６０７）
【Ｆターム（参考）】
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