組成物および高い伝導性を有するパターニングされた金属層の提供方法
熱画像形成方法によってベース基体上にパターニングされた触媒層を含むパターニングされた基体を提供するステップの後、めっきして金属パターンを提供するステップを含む、高い伝導性の金属パターンの製造方法が開示される。提供される金属パターンは、電磁妨害遮蔽デバイスおよびタッチパッドセンサーを含む電気デバイスに好適である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気用途向け伝導性金属パターンの提供方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイなどの、光透過性表面用の電磁妨害シールドおよびタッチスクリーンは、典型的には基体上に取り付けられた伝導性金属メッシュを含む。メッシュによって、他の電磁放射線を遮蔽しながら、可視光のかなりの部分を通過させることができる。そのような金属メッシュ物品を製造するために利用可能な種々の方法がある。たとえば、特許文献１には、ガラス基体と、オフセット印刷法でこの基体上に形成された幾何パターンとを有する電磁遮蔽プレートが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第６，７１７，０４８号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
形成中のパターンの高分解能および正確なデジタル制御を可能にする；たとえば１０ミクロンの線幅までの、微細な線を有するメッシュを作製する能力がある、伝導性金属パターンを提供するために有用な新規方法が必要とされている。さらに、従来のフォトリソグラフィー法に典型的に使用される、湿式処理ステップと、溶媒、エッチング液、およびマスクの使用とを最小限にすることが望ましい。湿式処理ステップおよび溶媒の排除は、金属メッシュの製造に用いられる従来の方法よりかなり環境にやさしい全体的方法を提供するであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
一実施形態は、高い伝導性を有するパターニングされた金属層の製造方法であって：
ベース基体上にパターニングされた触媒層を含むパターニングされた基体を提供するステップであって；前記パターニングされた基体が、
（ａ）ベースフィルムおよび触媒転写層を含む熱転写ドナーを提供する工程であって、触媒転写層が、（ｉ）触媒画分；場合により（ｉｉ）付着促進剤画分；および、場合よりおよび独立して、（ｉｉｉ）ポリマーバインダー画分を含む工程；
（ｂ）熱転写ドナーをレシーバーと接触させる工程であって、レシーバーがベース層を含む工程；ならびに
（ｃ）触媒転写層の少なくとも一部を熱転写によってレシーバー上に転写して、パターニングされたレシーバーを前記パターニングされた基体として提供する工程
を含む熱画像形成方法によって製造されるステップと；
金属を前記パターニングされた基体上にめっきして、パターニングされた基体と接続したパターニングされた金属層を提供するステップと
を含む製造方法である。
【０００６】
別の実施形態は、ベースフィルム、触媒転写層（Ａ）、および前記ベースフィルムと前記触媒転写層（Ａ）との間に介在するＬＴＨＣ層を含む熱転写ドナーであって、前記触媒転写層（Ａ）が、
（ｉ）触媒層の総重量を基準にして、約１．０〜約９９重量％の触媒画分（Ａ）であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分と；
（ｉｉ）ガラスフリット；ならびに金属水酸化物およびアルコキシドから選択される約０．５〜約１０重量％の付着促進剤画分と；
（ｉｉｉ）約０．５〜約９８．５重量％のポリマーバインダーと
を含む熱転写ドナーである。
【０００７】
別の実施形態は、積層順で、ベースフィルム、触媒転写層（Ｂ）および付着促進剤層を含む熱転写ドナーであって、前記触媒転写層（Ｂ）が、
（ｉ）触媒層の総重量を基準にして、約１．０〜約９９重量％の触媒画分であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分；
（ｉｉｉ）約１．０〜約９９重量％のポリマーバインダー
を含み；
付着促進剤層が、ガラスフリット；ならびに金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含む熱転写ドナーである。
【０００８】
別の実施形態は、パターニングされた金属層を基体上に有する電子デバイスであって、前記基体が可視光を実質的に通し；前記パターニングされた金属層が、積層順で前記基体上に：付着促進剤層、触媒層、およびめっき金属層を含み；前記パターニングされた金属層が約１ミリメートル以下の幅の少なくとも１つの線を有する、電子デバイスである。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１Ａ】本発明の実施形態による熱画像形成ドナー１００の断面図である。
【図１Ｂ】本発明の実施形態による熱画像形成ドナー１００の断面図である。
【図２Ａ】レシーバーベース層２０２を有する熱画像形成レシーバー２００の断面図である。
【図２Ｂ】パターニングされた黒色層２０４を有するレシーバー２００の断面図である。
【図３】パターニングされた基体を作製するためのレーザー媒介転写方法を示している。
【図４Ａ】パターニングされた触媒層の熱転写後の使用済み熱転写ドナーおよびレシーバー要素の分離を示している。
【図４Ｂ】パターニングされた触媒層の熱転写後の使用済み熱転写ドナーおよびレシーバー要素の分離を示している。
【図５】本発明の一実施形態によって提供されるパターニングされた金属層の側面図である。
【図６】パターニングされた金属層の顕微鏡写真である。
【図７】本発明の方法によって提供されるパターニングされた黒色層の境界内のめっきパターンの顕微鏡写真を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本明細書ではすべての商標は大文字で示される。
【００１１】
本明細書における、「アクリル」、「アクリル樹脂」、「（メタ）アクリル樹脂」、および「アクリルポリマー」という用語は、特に明記しない限り同義である。これらの用語は、メタクリル酸およびアクリル酸ならびにそれらのアルキルおよび置換アルキルエステルから誘導されるエチレン性不飽和モノマーの従来の重合から誘導される付加ポリマーの一般的種類を指す。これらの用語はホモポリマーおよびコポリマーを包含する。これらの用語は、具体的には、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸およびグリシジル（メタ）アクリレートのホモポリマーおよびコポリマーを包含する。本明細書におけるコポリマーという用語は、特に明記しない限り、２種以上のモノマーの重合から誘導されるポリマーを包含する。（メタ）アクリル酸という用語は、メタクリル酸およびアクリル酸の両方を包含する。（メタ）アクリレートという用語は、メタクリレートおよびアクリレートを包含する。
【００１２】
「スチレンアクリルポリマー」、「アクリルスチレン」および「スチレンアクリル」という用語は、同義であり、上記の「アクリル樹脂」と、スチレン、および例えばα−メチルスチレンといった置換されたスチレンモノマーとのコポリマーを包含する。
【００１３】
本明細書において用いられるとき、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含める（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「含める（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」という用語またはそれらの任意の他の活用形は、非限定的な包含をカバーするものとする。例えば、一連の要素を含むプロセス、方法、物品、または装置は、それらの要素のみに必ずしも限定されず、特に明記されていないかあるいはかかるプロセス、方法、物品、または装置に固有の他の要素を含めてもよい。さらに、特に矛盾する記載がない限り、「または」は包括的な「または」を指し、限定的な「または」を指さない。例えば、条件ＡまたはＢは、以下のいずれか１つによって満たされる。Ａが真であり（または存在する）かつＢが偽である（または存在しない）、Ａが偽であり（または存在しない）かつＢが真である（または存在する）、ＡおよびＢの両方が真である（または存在する）。
【００１４】
また、単数形（「ａ」または「ａｎ」）の使用は、本明細書に記載の要素および成分を表すために用いられる。これは、単に便宜上、本発明の範囲の一般的な意味を示すために用いられる。本明細書は、１つまたは少なくとも１つを含めるように読まれるべきであり、複数でないことを意図することが明白でない限り、単数形は複数形も含める。
【００１５】
特に定義しない限り、本明細書中で用いられる全ての技術用語および科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者によって一般的に理解されるものと同じ意味を有する。本明細書に記載された方法および材料と同様なまたは等価な方法および材料を本発明の実施形態の実施または試験において用いることができるが、好適な方法および材料は以下に記載される。矛盾がある場合、定義を含む本明細書が優先される。さらに、材料、方法、および実施例はあくまで例示であり、限定されるものではない。
【００１６】
本明細書に記載されない範囲の、具体的な材料、処理行為、および回路に関する多くの詳細は従来通りであり、それらは、有機発光ダイオードディスプレイ、光検出器、光電池、および半導体要素の技術分野の教科書およびその他の情報源中に見ることができる。
【００１７】
用語「メッシュ」は本明細書においてはウェブ様のパターンまたは構造を意味する。メッシュは、たとえば、自立スクリーン、およびベース層上に付着させられたまたは取り付けられたウェブ様パターンを含む。
【００１８】
用語「熱画像形成ドナー」および「熱転写ドナー」は、本明細書においては同じ意味で用いることができ、同義語であることを意図される。
【００１９】
本発明の一実施形態は、高い伝導性を有するパターニングされた金属層の製造方法である。この方法は、ベース基体上にパターニングされた触媒層を含むパターニングされた基体を提供することを必要とする。この実施形態は、パターニングされた基体が、
（ａ）ベースフィルムおよび触媒転写層を含む熱転写ドナーを提供する工程であって、触媒転写層が、（ｉ）触媒画分；場合により（ｉｉ）付着促進剤画分；および、場合よりおよび独立して、（ｉｉｉ）ポリマーバインダー画分を含む工程；
（ｂ）熱転写ドナーをレシーバーと接触させる工程であって、レシーバーがベース層を含む工程；ならびに
（ｃ）触媒転写層の少なくとも一部を熱転写によってレシーバー上に転写して、パターニングされたレシーバーを前記パターニングされた基体として提供する工程
を含む熱画像形成方法によって製造されるステップの後；
金属を前記パターニングされた基体上にめっきして、パターニングされた基体と接続したパターニングされた金属層を提供するステップ
を含む熱画像形成方法によって製造されることを必要とする。この方法によって提供されるパターニングされた金属層は、基体に付着するまたは、必要に応じて、基体から分離される金属メッシュの形態にあってもよい。
【００２０】
本明細書において、先ず、高い伝導性を有するパターニングされた金属層を得るための；熱画像形成方法に必要とされる熱転写ドナーの詳細が；その後、熱画像形成方法およびめっきステップの詳細が開示される。
【００２１】
熱転写ドナー
本発明の一実施形態は、多層熱転写ドナーである。種々の実施形態において熱転写ドナーは、積層順で、ベースフィルム、および任意選択のＬＴＨＣ層、触媒転写層および任意選択の保護可剥性カバー層を含む。他の実施形態は、ベースフィルムと触媒転写層との間に介在するおよび／または金属転写層のトップ上に存在する１つ以上の追加層を含むことができる。したがって、１つ以上の他の従来の熱転写ドナー要素層を熱画像形成ドナー中に含むことができ、そのような層としては中間層、プライマー層、剥離層、放出層、断熱層、下層、接着層、湿潤剤層、および光減衰層が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２２】
図１Ａは、本発明の一実施形態による熱画像形成ドナー１００の断面図である。熱画像形成ドナー１００は、ベースフィルム１０２、およびベースフィルム１０２の表面上にある触媒層１０６を含む。ベースフィルム１０２は、熱画像形成ドナー１００の他の層を支持する。ベースフィルム１０２は、好ましくは透明である可撓性ポリマーフィルムを含む。ベースフィルム１０２の好適な厚さは約２５μｍ〜約２００μｍであるが、より厚いまたはより薄い支持層を使用することもできる。ベースフィルムは、延伸フィルムを形成するために、当技術分野において周知の標準的な方法で延伸することができ、光熱変換（ＬＴＨＣ）層などの１種類以上の他の層をベースフィルム上にコーティングした後に、延伸プロセスを完了することができる。好ましいベースフィルムは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、トリアセチルセルロース、およびポリイミドからなる群から選択される材料を含む。
【００２３】
光減衰剤（吸収剤または拡散剤）は、別個の層中に存在することができるし、ベースフィルム、ＬＴＨＣ層、または触媒層などの熱転写ドナーの他の機能層の１つの中に混入することもできる。一実施形態においては、ベースフィルムは、熱画像形成ステップ中にＬＴＨＣ層中の放射線吸収剤上に放射線源が集中するのを補助できる染料などの光減衰剤を少量（典型的にはベースフィルムの０．２％〜０．５重量％）含み、それによって熱転写の効率が改善される。参照として本明細書に援用される米国特許第６６４５６８１号明細書（参照により本明細書に援用される）には、レーザー放射線源の集中を補助するためにベースフィルムを改質できる上記およびその他の方法が記載されており、レーザー放射線源の装置は、画像形成レーザーおよび非画像形成レーザーを含み、非画像形成レーザーは、画像形成レーザーと連絡する光検出器を有する。画像形成レーザーおよび非画像形成レーザーが動作する波長範囲（典型的には約３５０ｎｍ〜約１５００ｎｍの範囲内）によって、吸収剤および／または拡散剤が活性および不活性となる波長範囲が決定される。たとえば、非画像形成レーザーが６７０ｎｍ領域付近で動作し、画像形成レーザーが８３０ｎｍで動作する場合、吸収剤および／または拡散剤の作用によって、８３０ｎｍ領域ではなく６７０ｎｍ領域内の波長の光が吸収または拡散されることが好ましい。本発明においては、光減衰剤は、好ましくは可視領域内の光を吸収または拡散し、一実施形態においては６７０ｎｍ付近の光を吸収する。好適な光減衰剤は当技術分野において周知であり、そのようなものとしては、市販のディスパース・ブルー（Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｂｌｕｅ）６０およびソルベント・グリーン（Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ）２８染料、ならびにカーボンブラックが挙げられる。好ましくは光減衰剤の量は、約４００〜約７５０ｎｍのある波長において光学濃度（ＯＤ）が０．１以上、より好ましくは約０．３〜約１．５となるのに十分な量である。
【００２４】
光熱変換層（ＬＴＨＣ）
本発明の熱画像形成ドナーは、場合により、図１Ｂに示されるようにベースフィルムと別の層との間に介在する光熱変換層（ＬＴＨＣ）を有することができる。熱画像形成ドナー１００は、ベースフィルム１０２と触媒層１０６との間に介在するＬＴＨＣ層１０８を含む。ＬＴＨＣ層１０８は、放射線誘導熱転写のための熱画像形成ドナー１００の一部として組み込まれ、発光源から熱転写ドナー内に放射される光エネルギーと結合する。典型的には、ＬＴＨＣ層（または別の層）中の放射線吸収剤は、電磁スペクトルの赤外領域、可視領域、および／または紫外領域内の光を吸収し、吸収した光を熱に変換する。放射線吸収剤は、典型的には高吸収性であり、画像形成放射線の放射線におけるＯＤが０．１〜３以上、好ましくは０．２〜２となる。好適な放射線吸収材料としては、たとえば、染料（たとえば、可視染料、紫外染料、赤外染料、蛍光染料、および放射線偏光染料）、顔料、金属、金属化合物、金属化フィルム、および他の好適な吸収材料を挙げることができる。
【００２５】
ＬＴＨＣ層の好適な放射線吸収剤およびバインダーは、当技術分野において周知であり、それらの一覧および参考文献は、例えば国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／３８０１０号明細書、国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／３８００９号明細書；米国特許第６，２２８，５５５Ｂ１号明細書；マツオカ（Ｍａｔｓｕｏｋａ），Ｍ．，「赤外吸収材料」（Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ａｂｓｏｒｂｉｎｇ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ），プレナム・プレス（Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓｓ）、ニューヨーク（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ），１９９０；およびマツオカ（Ｍａｔｓｕｏｋａ），Ｍ．，ダイオードレーザー用染料の吸収スペクトル（Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒａ ｏｆ Ｄｙｅｓ ｆｏｒ Ｄｉｏｄｅ Ｌａｓｅｒｓ）、ぶんしん出版（Ｂｕｎｓｈｉｎ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．），東京，１９９０に見ることができる。
【００２６】
ＬＴＨＣ層用の好ましい種類の近赤外染料は、インドシアニン、多置換フタロシアニンや金属含有フタロシアニンなどのフタロシアニン、およびメロシアニンからなる群から選択されるシアニン化合物である。好適な赤外吸収染料の供給元としては、Ｈ．Ｗ．サンズ社（Ｈ．Ｗ．Ｓａｎｄｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）（米国フロリダ州ジュピター（Ｊｕｐｉｔｅｒ，ＦＬ，ＵＳ））、アメリカン・サイアナミッド社（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｙａｎａｍｉｄ Ｃｏ．）（ニュージャージー州ウェイン（Ｗａｙｎｅ，ＮＪ））、サイテック・インダストリーズ（Ｃｙｔｅｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ）（ニュージャージー州ウエストパターソン（Ｗｅｓｔ Ｐａｔｅｒｓｏｎ，ＮＪ））、グレンデール・プロテクティブ・テクノロジーズ社（Ｇｌｅｎｄａｌｅ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ．）（フロリダ州レークランド（Ｌａｋｅｌａｎｄ，ＦＬ））およびハンプフォード・リサーチ社（Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃ．）（コネチカット州ストラトフォード（Ｓｔｒａｔｆｏｒｄ，ＣＴ））が挙げられる。ＬＴＨＣ、キャリア層、および転写層用の好ましい染料は、ＣＡＳ番号［１２８４３３−６８−１］および分子量約６１９グラム／モルを有し、コネチカット州ストラトフォードのハンプフォード・リサーチ社（Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃ，Ｓｔｒａｔｆｏｒｄ，ＣＴ）よりＴＩＣ−５ｃとして入手可能な２−［２−［２−クロロ−３−［（１，３−ジヒドロ−１，３，３−トリメチル−２Ｈ−インドール−２−イリデン）エチリデン］−１−シクロペンテン−１−イル］エテニル］−１，３，３−トリメチル−３Ｈ−インドリウムのトリフルオロメタンスルホン酸（１：１）との塩；ＣＡＳ番号［１６２４１１−２８−１］を有しＨ．Ｗ．サンズ社（Ｈ．Ｗ．Ｓａｎｄｓ Ｃｏｒｐ）よりＳＤＡ ４９２７として入手可能な２−（２−（２−クロロ−３−（２−（１，３−ジヒドロ−１，１−ジメチル−３−（４−スルホブチル）−２Ｈ−ベンズ［ｅ］インドール−２−イリデン）エチリデン）−１−シクロヘキセン−１−イル）エテニル）−１，１−ジメチル−３−（４−スルホブチル）−１Ｈ−ベンズ［ｅ］インドリウム、分子内塩、遊離酸；ならびにＨ．Ｗ．サンズ社（Ｈ．Ｗ．Ｓａｎｄｓ Ｃｏｒｐ）のインドレニン染料ＳＤＡ ２８６０およびＳＤＡ ４７３３である。ＳＤＡ ４９２７はＬＴＨＣ層用に特に好ましい染料である。
【００２７】
ＬＴＨＣ層は、バインダー中に粒子状放射線吸収剤を含むことができる。好適な顔料の例としてはカーボンブラックおよび黒鉛が挙げられる。
【００２８】
重量パーセントの計算において溶媒を排除した層中の放射線吸収剤の重量パーセントは、一般に１重量％〜８５重量％、好ましくは３重量％〜６０重量％、最も好ましくは５重量％〜４０重量％であり、これはＬＴＨＣ層中に使用される個別の放射線吸収剤およびバインダーによって変動する。
【００２９】
ＬＴＨＣ層中に使用すると好適なバインダーとしては、たとえば、フェノール樹脂（たとえば、ノボラックおよびレゾール樹脂）、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレート、およびスチレンアクリル樹脂などのフィルム形成性ポリマーが挙げられる。ＬＴＨＣ層の％透過率は、放射線吸収剤の種類および量、ならびにＬＴＨＣ層の厚さの影響を受ける。ＬＴＨＣ層は、好ましくは、熱転写画像形成方法において使用される画像形成放射線の波長における放射線透過率が約２０％〜約８０％、より好ましくは約４０％〜約５０％である。バインダーが存在する場合、放射線吸収剤対バインダーの重量比は、一般に重量で約５：１〜約１：１０００、好ましくは重量で約２：１〜約１：１００である。ポリマーまたは有機のＬＴＨＣ層は、０．０５μｍ〜２０μｍ、好ましくは、０．０５μｍ〜１０μｍ、より好ましくは、０．１０μｍ〜５μｍの厚さにコーティングされる。
【００３０】
本発明の好ましい実施形態においては、ＬＴＨＣ層は、前出の参考文献の国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／３８０１０号明細書および国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／３８００９号明細書に開示されるような組成を有する多種多様の水溶性または水分散性のポリマーバインダーを含むことができる。好ましくは、水分散性バインダーのその水相中の平均粒度は、０．１ミクロン未満であり、より好ましくは０．０５ミクロン未満であり、好ましくは狭い粒度分布を有する。本発明において有用なＬＴＨＣ層に好ましい水溶性または水分散性のポリマーバインダーは、アクリル樹脂および親水性ポリエステルの群から選択されるものであり、より好ましくは前出の参考文献の国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／３８００９号明細書に記載されるようなスルホン化ポリエステルから選択されるものである。
【００３１】
ＬＴＨＣ層の他の好ましいポリマーバインダーは、無水マレイン酸ポリマー、ならびに無水マレイン酸ポリマーおよび／またはコポリマーをアルコール、アミン、およびアルカリ金属水酸化物で処理することによって得られる官能性を有するものなどのコポリマーである。無水マレイン酸系コポリマーの特定の種類は式（ＩＩＩ）で表される構造を含み
【化１】
上式中、ｘおよびｚは任意の正の整数であり；
ｙは、０または任意の正の整数であり；
Ｒ２１およびＲ２２は、同種の場合も異種の場合もあり、個別に水素、アルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、およびハロゲンであり、但しＲ２１およびＲ２２の１つは芳香族基であり；
Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１、およびＲ４２は、同種または異種であり、水素、または１〜約５個の炭素原子のアルキルであってよく；
Ｒ５０は：
ａ）１〜約２０個の炭素原子を含有するアルキル基、アラルキル基、アルキル置換アラルキル基；
ｂ）１〜約２０個の繰り返し単位であってよい、各オキシアルキレン基中に約２〜約４個の炭素原子を含有するアルキル基、アラルキル基、アルキル置換アラルキル基のオキシアルキル化誘導体；
ｃ）１〜約６個の繰り返し単位であってよい、各オキシアルキレン基中に約２〜約４個の炭素原子を含有するアルキル基、アラルキル基、アルキル置換アラルキル基のオキシアルキル化誘導体；
ｄ）少なくとも１つの不飽和部分；
ｅ）少なくとも１つのヘテロ原子部分；
ｆ）Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、およびＮＨ４＋から選択される塩を形成することができるアルカリ分子；ならびに
ｇ）それらの組み合わせから選択される官能基である。
【００３２】
ＬＴＨＣ層の好ましい無水マレイン酸ポリマーの１つは、Ｒ２１、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３が個別に水素であり、Ｒ２２がフェニルであり、Ｒ５０が２−（ｎ−ブトキシ）エチルである式（ＩＩＩ）のコポリマーを含む。ＬＴＨＣ層において有用な無水マレイン酸コポリマーの具体例の１つは、ペンシルバニア州エクストンのサートマー社（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｅｘｔｏｎ，ＰＡ）の製品のＳＭＡ１４４０Ｈなどのスチレン無水マレイン酸コポリマーである。
【００３３】
本発明の一実施形態においては、好ましいＬＴＨＣ層の１つは、インドシアニン、多置換フタロシアニンや金属含有フタロシアニンなどのフタロシアニン、およびメロシアニンからなる群から選択される１種類以上の水溶性または水分散性の放射線吸収性シアニン化合物と；アクリル樹脂、親水性ポリエステル、スルホン化ポリエステル、ならびに無水マレイン酸ホモポリマーおよびコポリマーからなる群から選択される１種類以上の水溶性のまたは水分散性のポリマーバインダーとを含む。最も好ましいＬＴＨＣ層の１つは：第４級アンモニウム陽イオン化合物；ホスフェート陰イオン化合物；ホスホネート陰イオン化合物；１〜５個のエステル基と２〜１０個のヒドロキシル基とを含む化合物；アルコキシル化アミン化合物；およびそれらの組み合わせからなる群から選択される１種類以上の剥離改質剤をさらに含む。
【００３４】
米国特許第５，２５６，５０６号明細書に記載されているように、粒子の形態、あるいは熱蒸着、ｅ−ビーム加熱、およびスパッタリングなどの種々の技術によって堆積されたフィルムとしてのいずれかで、金属放射線吸収剤をＬＴＨＣ層として使用することもできる。ニッケルおよびクロムがＬＴＨＣ層１０８に好ましい金属であり、クロムが特に好ましい。加熱層用に、あらゆる他の好適な金属を使用することもできる。金属加熱層の好ましい厚さは、使用される金属の光吸収に依存する。クロム、ニッケル／バナジウム合金、またはニッケルの場合、８０〜１００オングストロームの層が好ましい。
【００３５】
本発明において使用されるＬＴＨＣ層に好ましい放射線吸収剤は、ＣｒおよびＮｉから選択される金属膜、カーボンブラック、黒鉛からなる群から選択され、ならびに特に好ましくは、ＬＴＨＣ層内で約６００〜１２００ｎｍの範囲内の吸収極大を有する近赤外染料である。
【００３６】
触媒転写層
熱転写によって提供される触媒転写層およびパターニングされた触媒層は、（ｉ）触媒画分；場合により（ｉｉ）付着促進剤画分；ならびに、場合によりおよび独立して、（ｉｉｉ）ポリマーバインダー画分を含む。触媒転写層は、非伝導層または伝導層であることができる。触媒転写層の厚さは、約５ｎｍ〜約５μｍ、より好ましくは約１００ｎｍ〜約３μｍのいずれかの厚さであることができる。
【００３７】
触媒画分は、パターニングされた触媒層の必須の特性、処理条件、めっき方法などに依存して、伝導性材料、または非伝導性材料であることができる。触媒画分は、基体に適用されるときに、めっきを、あるいは電解めっきまたは無電解めっき条件にかけられるときに、金属堆積を提供することができる１種以上の触媒を含む。
【００３８】
無電解めっき用の一般的な触媒は、「Ｅｌｅｃｔｒｏｌｅｓｓ Ｎｉｃｋｅｌ Ｐｌａｔｉｎｇ（無電解ニッケルめっき）」、Ｗｏｌｆｇａｎｇ Ｒｉｅｄｅｌ，Ｆｉｎｉｓｈｉｎｇ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ Ｌｔｄ（Ｓｔｅｖｅｎａｇｅ，ＵＫ）、（１９９１年）に、具体的には３４−３６ページで議論されている。電解めっき用の一般的な触媒は、「Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌｓ ｏｆ Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ（電気化学堆積の基礎、第２版）」、Ｍｉｌａｎ Ｐａｕｎｏｖｉｃ ａｎｄ Ｍｏｒｄｅｃｈａｙ Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．（２００６年）に議論されているような金属および伝導形態のカーボンなどの伝導性材料である。
【００３９】
一実施形態において触媒画分は、群：（１）粉末およびコロイドなどの、金属粒子；（２）金属酸化物；（３）有機金属錯体；（４）金属塩；（５）セラミックス、および金属塩、金属酸化物、金属錯体、金属またはカーボンでコーティングされた他の非伝導体粉末；ならびに（６）すべての伝導性形態でのカーボンから選択される１種以上の触媒を含み；（１）〜（５）の各金属はＡｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｓｎおよびそれらの合金からなる群から選択される。
【００４０】
触媒として有用な金属合金の例は、ステンレス鋼、炭素鋼、低−および高−合金鋼；ならびにニッケル、銅、アルミニウム、マグネシウム、ベリリウム、チタン、亜鉛、モリブデン、タングステン、スズ、鉛、銀およびマンガンの合金である。基体の包括的リストは、Ｇａｗｒｉｌｏｖ，Ｇ．Ｇ．：「Ｃｈｅｍｉｃａｌ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｅｓｓ）Ｎｉｃｋｅｌ Ｐｌａｔｉｎｇ（化学（無電解）ニッケルめっき）」、Ｐｏｒｔｃｕｌｌｉｓ Ｐｒｅｓｓ（Ｒｅｄｈｉｌｌ，ＵＫ）１９７９年；およびＳｉｍｏｎ，Ｈ．：Ｇａｌｖａｎｏｔｅｃｈｎｉｋ、７４（１９８３）、７７６−７７１ページに見つけることができる。
【００４１】
一実施形態においては、触媒は、インジウム−スズ−酸化物（ＩＴＯ）、アンチモン−スズ−酸化物（ＡＴＯ）、酸化スズ、フッ素ドープ酸化スズ、酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、および亜鉛スズ酸化物（ＺＴＯ）などの透明伝導性酸化物などのドープおよび非ドープ金属酸化物粒子；それらの合金から選択される伝導性金属酸化物である。
【００４２】
一実施形態において触媒画分は、約５ｎｍ〜約１５００ｎｍの平均最長寸法を有する金属粒子を含む。
【００４３】
別の実施形態において触媒画分は、１種以上の有機金属錯体を含む。使用することができる有機金属錯体の例としては、アセチルアセトナト白金、シス−ビス（ベンゾニトリル）ジクロロ白金、アセチルアセトナトパラジウム、ビス（ベンジリデンアセトン）パラジウム、ビス（ベンゾニトリル）ジクロロパラジウム、ビス［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム、ヘキサフルオロアセチル−アセトナトパラジウムなどが挙げられる。
【００４４】
別の実施形態において触媒画分は、１種以上の金属塩、たとえば、酢酸パラジウムおよび塩化パラジウムを含む。
【００４５】
触媒として有用な白金コロイド懸濁液は、Ｓｈａｈ，Ｐ．ら、Ｌａｎｇｍｕｉｒ １５（１９９９）、１５８４−１５８７ページに開示されているように塩化白金酸（白金酸水素ヘキサクロル）から調製することができる。一般的に使用されるパラジウムコロイドは、Ｈｉｄｂｅｒ，Ｐ．Ｃ．ら、Ｌａｎｇｍｕｉｒ、１２（１９９６）、５２０９−５２１５ページに開示されているような臭化テトラオクタデシルアンモニウム安定化パラジウムコロイドである。
【００４６】
付着促進剤
種々の実施形態において触媒転写層は、熱転写が完了した後にレシーバーのベース層へのパターニングされた触媒層の接合を改善するのに有用である付着促進剤を有する。付着促進剤はまた、めっきが完了した後にパターニングされた基体へのパターニングされた触媒層の接合を改善する傾向がある。特定の付着促進剤では、典型的にはガラスフリットおよび金属酸化物では、基体へのパターニングされた触媒層およびパターニングされた金属層の最適な付着を実現するために加熱またはアニーリングなどの追加の処理が必要とされる。一実施形態において触媒層は、触媒層の総重量を基準にして、約０．５〜約１０重量％、好ましくは約１．０〜約４．０重量％の付着促進剤画分を含む。
【００４７】
付着促進剤として有用なガラスフリットは通常、約２００〜７００℃、好ましくは約３５０〜７００℃、より好ましくは４００〜６２０℃の軟化点を有する。付着促進剤として有用なガラスフリットは典型的には、約１００ｎｍ〜約５ミクロン；好ましくは約１００ｎｍ〜約８００ｎｍの平均粒度を有する。しかし、必要に応じて、１００ｎｍ未満の平均粒度のガラスフリットを付着促進剤として使用することができる。ガラスフリットは好適には、上記の範囲の軟化点を有する従来のガラスフリットから選択され、次にベーキングされる。従来のガラスフリットの例としては、元素Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｎａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｏ、Ｂａ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｗ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｖ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｃｅ、Ｃｄ、およびＰの酸化物を含む上記範囲の低い軟化点を有するガラスフリットが挙げられる。具体的なガラスは、ＰｂＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３ガラス、ＰｂＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＺｎＯガラス、ＰｂＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３−ＺｎＯガラス、Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３ガラス、ＺｎＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３ガラスなどを含む。これらの材料は、独立してかまたは組み合わせて付着促進剤として使用することができる。一実施形態において付着促進剤画分は、ガラスフリットが使用されるとき、触媒層の総重量を基準にして、０．５〜約１０重量％、好ましくは１．０〜約４．０重量％である。
【００４８】
付着促進剤として有用な金属酸化物は、たとえば、Ｎａ２Ｏ、ＣａＯ、ＣｄＯ、ＢａＯ、ＺｒＯ、ＺｎＯ、ＭｇＯ、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＦｅＯ、ＭｎＯ、ＰｂＯおよびそれらの組み合わせ；ならびにＳｉＯ２と組み合わせてであることができる。
【００４９】
付着促進剤として有用な金属水酸化物およびアルコキシドは、周期表の族ＩＩＩａ〜ＶＩＩＩａ、Ｉｂ、ＩＩｂ、ＩＩＩｂ、およびＩＶｂならびにランタニド類のそれらを含む。具体的な付着促進剤は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、およびＢからなる群から選択される金属の金属水酸化物およびアルコキシドである。好ましい金属水酸化物およびアルコキシドはＴｉおよびＺｒのそれらである。具体的な金属アルコキシド付着促進剤は、式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）：
【化２】
の化合物などのチタネートおよびジルコネート・オルトエステルおよびキレートであり、上式中、
ＭはＴｉまたはＺｒであり；
Ｒは一価のＣ１〜Ｃ８の直鎖または分岐鎖アルキルであり；
Ｙは、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２−、または−ＣＨ２ＣＨ２−から選択される二価の基であり；
Ｘは、ＯＨ、−Ｎ（Ｒ１）２、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＣＯ２−Ａ＋から選択され；ここで、
Ｒ１は、場合によりヒドロキシルで置換されたまたはエーテル酸素で割り込まれた、−ＣＨ３あるいはＣ２〜Ｃ４の直鎖または分岐鎖アルキルであり；但し１個以下のヘテロ原子がどれか一個の炭素原子に結合しており；
Ｒ３はＣ１〜Ｃ４の直鎖または分岐鎖アルキルであり；
Ａ＋は、ＮＨ４＋、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、またはＫ＋から選択される。
【００５０】
一実施形態において付着促進剤画分は、金属水酸化物およびアルコキシドが付着促進剤画分として使用されるとき、触媒層の総重量を基準にして、約０．５〜約２０重量％、好ましくは約０．５〜約５．０重量％である。付着促進剤として有用な市販のチタネートおよびジルコネート・オルトエステルおよびキレートは、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ，Ｉｎｃ．（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ）から入手可能なＴＹＺＯＲ（登録商標）有機チタネートおよびジルコネートである。具体的な有機ジルコネートはＴＹＺＯＲ（登録商標）２１２、２１７、ＴＥＡＺ、およびＣｌ−２４有機ジルコネートである。具体的な有機チタネートはＴＹＺＯＲ（登録商標）ＴＥおよびＬＡ有機チタネートである。
【００５１】
付着促進剤として有用なシリケート水酸化物およびアルコキシドは式（ＩＶ）
（Ｒ１１Ｏ）４−ｍＳｉ（Ｒ１２）ｍ
のものを含み、
上式中、
ｍは０、１、２、または３に等しい整数であり；
Ｒ１１は水素あるいはＣ１〜Ｃ６の直鎖または分岐鎖アルキルであり；
Ｒ１２は、場合により１または２個の炭素−炭素二重結合を有し、場合により−ＮＨ２、−ＣＮ、−ＮＣＯ、または−ＯＣ（Ｏ）−ＣＲ１３＝ＣＨ２（ここで、Ｒ１３は水素またはＣ１〜Ｃ４アルキルである）で置換された、Ｃ１〜Ｃ１２の直鎖または分岐鎖アルキルである。
【００５２】
本発明に有用なシリケートアルコキシドの具体例は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、トリメトキシメチルシラン、トリエトキシメチルシラン、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、および３−シアノプロピルトリメトキシシランである。
【００５３】
一実施形態において付着促進剤画分は、シリケート水酸化物およびアルコキシドが付着促進剤画分として使用されるとき、触媒層の総重量を基準にして、約０．５〜約２０重量％、好ましくは約０．５〜約５．０重量％である。
【００５４】
付着促進剤として有用な有機ポリオールは、１分子当たり２個以上のヒドロキシル基を有する、および約３０〜約２００ｇ／当量、好ましくは約３０〜約１００ｇ／当量、より好ましくは約３０〜約６０ｇ／当量のヒドロキシル当量を有する有機ポリオールを含む。より具体的な一実施形態において付着促進剤として有用な有機バインダーは、それぞれ場合により１種以上の−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（Ｏ）−、および−ＮＲ１１Ｃ（Ｏ）−（ここで、Ｒ１１は水素あるいはＣ１〜Ｃ６の直鎖または分岐鎖アルキルである）で割り込まれた；Ｃ２〜Ｃ６０の直鎖または分岐鎖アルキル；Ｃ５〜Ｃ６０の脂環式；および直鎖または分岐鎖アルキルと脂環式基との組み合わせからなるＣ６〜Ｃ６０基からなる群から選択される有機ポリオールである。一実施形態においては、付着促進剤画分は、エチレングリコール、グリコール誘導体、グリセロールおよびグリセロール誘導体、ペンタエリスリトール（ＣＡＳ［１１５−７７−５］）、トリメチロールプロパン（ＣＡＳ［７７−９９−６］）、ジペンタエリスリトール（ＣＡＳ［１２６−５８−９］）、ジトリメチロールプロパン（ＣＡＳ［２３２３５−６１−２］）、ソルビトール（ＣＡＳ［５０−７０−４］）、ソルビタンモノオレエート（ＣＡＳ［１３３８−４３−８］）、ソルビタンモノラウレート（ＣＡＳ［１３３８−３９−２］）、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（ＣＡＳ［１１５−８４−４］）、２−メチル−１，３−プロパンジオール（ＣＡＳ［２１６３−４２−０］）、ネオペンチルグリコール（ＣＡＳ［１２６−３０−７］）、１，４−ブタンジオール（ＣＡＳ［１１０−６３−４］）、および１，６−ヘキサンジオール（ＣＡＳ［６２９−１１−８］）から選択される少なくとも１種のポリオールを含有することができる。
【００５５】
一実施形態においては、付着促進剤画分として有用な有機バインダーは、エトキシル化ペンタエリスリトール（ＣＡＳ［４２５０３−４３−７］）、プロポキシル化ペンタエリスリトール（ＣＡＳ［９０５１−４９−４］）、エトキシル化トリメチロールプロパン付加体、たとえば１モルの成分当たり３〜８モルのエチレンオキシドでのエトキシル化に相当するもの（ＣＡＳ［５０５８６−５９−９］）、１モルの成分当たり３〜９モル当量でのプロピレンオキシドに相当するエトキシル化トリメチロールプロパンプロピレンオキシド付加体（ＣＡＳ［２５７２３−１６−４］）、１モルの成分当たり２０〜８０のエチレンオキシドモルでのエチレンオキシド付加体に相当するエトキシル化ソルビタンモノオレエート（ＣＡＳ［９００５−６５−６］）、およびエトキシル化ソルビタンモノラウレート（ＣＡＳ［９００５−６４−５］）などのエトキシル化またはプロポキシル化化合物の少なくとも１種を含有することができる。
【００５６】
一実施形態においては、付着促進剤画分として有用な有機バインダーは、超分岐ポリオール、たとえば樹枝状超分岐ポリオール、超分岐樹枝状ポリエーテルまたはポリエステル、超分岐ポリエーテルまたはポリエステル、アーボロール（ａｒｂｏｒｏｌ）、樹枝状またはカスケード状超分子およびそれらの超分岐一族、または１個以上の反応性ヒドロキシル基を有するポリエステル型の樹枝状高分子を含有することができる。そのような超分岐ポリオールは、たとえば「Ｄｅｎｄｒｉｔｉｃ Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ ａｎｄ Ｐｒｏｃｅｓｓ ｆｏｒ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ Ｔｈｅｒｅｏｆ（樹枝状高分子およびそれの製造方法）」という表題のＰｅｒｓｔｏｒｐ ＡＢに譲渡されたＨｕｌｔらの米国特許第５，４１８，３０１号明細書、「Ｈｙｐｅｒｂｒａｎｃｈｅｄ Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ ｆｒｏｍ Ｅｐｏｘｉｄｅ Ｎｕｃｌｅｕｓ ａｎｄ Ｈｙｄｒｏｘｙ−ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ Ａｃｉｄ Ｃｈａｉｎ Ｅｘｔｅｎｄｅｒｓ（エポキシド核およびヒドロキシ官能性カルボン酸連鎖延長剤からの超分岐高分子）」という表題のＰｅｒｓｔｏｒｐ ＡＢに譲渡されたＳｏｒｅｎｓｅｎらの米国特許第５，６６３，２４７号明細書、「Ｈｙｐｅｒｂｒａｎｃｈｅｄ Ｄｅｎｄｒｉｔｉｃ Ｐｏｌｙｅｔｈｅｒ ａｎｄ Ｐｒｏｃｅｓｓ ｆｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ Ｔｈｅｒｅｏｆ（超分岐樹枝状ポリエーテルおよびそれらの製造方法）」という表題のＰｅｒｓｔｏｒｐ ＡＢに譲渡されたＭａｇｎｕｓｓｏｎらの米国特許第６，６１７，４１８号明細、および「Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｐｒｏｄｕｃｉｎｇ Ｈｉｇｈｌｙ−Ｂｒａｎｃｈｅｄ Ｇｌｙｃｉｄｏｌ−ｂａｓｅｄ Ｐｏｌｙｏｌｓ（高度分岐グリシドール系ポリオールの製造方法）」という表題のＢａｙｅｒ Ａｋｔｉｅｎｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔに譲渡されたＳｕｎｄｅｒらの米国特許第６，７６５，０８２号明細書に記載されている。市販の超分岐鎖ポリオール製品は、Ｐｅｒｓｔｏｒｐのもの、たとえば、１６、１２、６．４、３２、６４、１４、および詳細不明の１分子当たりのそれぞれの平均ＯＨ官能性、ならびに２１００、２５００、３２００、３５００、５４００、１５００、および詳細不明のそれぞれの平均相対分子質量のＢｏｌｔｏｒｎ Ｈ２０、Ｈ２００３、Ｈ２００４、Ｈ３０、Ｈ４０、Ｐ１０００、およびＨ３１１を含む。超分岐ポリオールの例としては、ペンタエリスリトールをベースとするポリエーテル構造（Ｖ）およびポリエステル構造（ＶＩ）：
【化３】
【００５７】
【化４】
が挙げられる。
【００５８】
一実施形態においては、付着促進剤画分として有用な有機バインダーは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（Ｏ）−、および−ＮＲ１１Ｃ（Ｏ）−で割り込まれた分岐鎖アルキルを含有することができる。−ＯＣ（Ｏ）−で割り込まれたポリオールの具体例は上に示される。アミドポリオールと呼ばれる、−ＮＲ１１Ｃ（Ｏ）−で割り込まれたポリオールの具体例は、ＥＭＳ Ｃｈｅｍｉｅ（Ｄｏｍａｔ／Ｅｍｓ，Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ）からＰＲＩＭＩＤ（登録商標）ＸＬ５５２ポリオールとして商業的に入手可能な、式（ＶＩＩ）である。
【化５】
【００５９】
一実施形態において付着促進剤画分は、有機ポリオールが付着促進剤画分として使用されるとき、触媒層の総重量を基準にして、約０．５〜約２０重量％、好ましくは約０．５〜約５．０重量％である。
【００６０】
ポリマーバインダー画分
触媒層は、場合により、および付着促進剤が存在するかどうかとは無関係に、ポリマーバインダー画分を有する。一実施形態において触媒層は、ポリマーバインダー画分を有し、好ましくは、ポリマーバインダーは、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリヘテロ芳香族ビニレン、およびそれらの誘導体からなる群から選択される１種以上の伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；アクリルラテックス、スチレンラテックスおよびスチレン−アクリルラテックス；溶液系のアクリル系ポリマー、スチレン系ポリマーおよびスチレン−アクリル系ポリマー；ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される１種以上の非伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；エチレンと、アルキル（メタ）アクリレート（ここで、アルキル基はＣ１〜Ｃ１８の直鎖または分岐鎖アルキルである）、ノルボルネン、酢酸ビニル、一酸化炭素、（メタ）アクリル酸からなる群から選択される１種以上のモノマーとのコポリマー；ならびにポリ酢酸ビニルおよびそのコポリマー；酢酸ビニル、塩化ビニル、ビニルブチルアルデヒド、ビニルアルコールおよびビニルピロリドンからなる群から選択される繰り返し単位を含むビニル（コ）ポリマーまたは（コ）オリゴマー；ポリ（４−ビニル）ピリジン、ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、部分水素化ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、およびそれらのコポリマーからなる群から選択されるヘテロ原子置換スチレン系ポリマー；フェノール−アルデヒド（コ）ポリマーおよび（コ）オリゴマーならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００６１】
一実施形態においてポリマーバインダー画分は、アクリルラテックスおよびスチレン−アクリルラテックス、ならびにランダムおよびグラフトコポリマーなどの溶液系のアクリル系（コ）ポリマーおよびスチレン−アクリル系（コ）ポリマー；ならびにそれらの組み合わせ；エチレンと、（メタ）アクリレート、酢酸ビニル、一酸化炭素および（メタ）アクリル酸からなる群から選択される１種以上のモノマーとのコポリマー；ポリ酢酸ビニルおよびそのコポリマー；ならびにポリビニルピロリドンおよびポリビニルピロリドン−コ−酢酸ビニルなどのそのコポリマーからなる群から選択されるポリマーを含む。好ましくはラテックスは、約１５０ｎｍ未満、より好ましくは、約１００ｎｍ未満の平均粒度を有する。好ましい溶液系のアクリル系ポリマー、スチレン系ポリマーおよびスチレン−アクリル系ポリマーは約１００，０００未満、好ましくは５０，０００未満、より好ましくは３０，０００未満のＭｗを有する。一実施形態においてポリマーバインダー画分は約１０〜約３００の酸価を有する。この酸価は、ラテックスまたは溶液ポリマー中の酸官能性を中和するために必要とされる、標準中和技術によって測定されるような、１グラム当たりのＫＯＨのマルチ当量である。酸官能性は一般に、アクリル酸、メタクリル酸等々の、エチレン性不飽和カルボン酸の共重合によってアクリル系ポリマーおよびスチレン−アクリル系ポリマーに組み込まれる。ポリマーバインダーとして有用な溶液系のアクリル系ポリマーおよびスチレンアクリル系ポリマーの市販の例としては、Ｃａｒｂｏｓｅｔ（登録商標）ＧＡ２３００（Ｎｏｖｅｏｎ）、Ｊｏｎｃｒｙｌ（登録商標）６３（Ｊｏｈｎｓｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ）、およびＥｌｖａｃｉｔｅ（登録商標）２０２８（Ｌｕｃｉｔｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ）が挙げられる。ポリマーバインダーとして有用なアクリルラテックスおよびスチレンアクリルラテックスの市販の例としては、Ｊｏｎｃｒｙｌ（登録商標）９５、５３８および１９１５（コ）ポリマー（Ｊｏｈｎｓｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ）が挙げられる。好適なラテックスポリマーの合成方法は国際公開第０３／０９９５７４号パンフレットに報告されている。
【００６２】
一実施形態において触媒層およびパターニングされた触媒層は、約１．０〜９９重量％の触媒画分；約０．５〜１０重量％の付着促進剤画分；および約０．５〜９８．５重量％のポリマーバインダー画分を含む。
【００６３】
別の実施形態は、有機ポリオールを含む付着促進剤画分と、約２５０未満；好ましくは約１００未満の酸価を有するアクリルラテックスおよびスチレン−アクリルラテックスならびに溶液系のアクリル系（コ）ポリマーおよびスチレン−アクリル系（コ）ポリマーを含むポリマーバインダー画分とを含む触媒転写層を含む。好ましくは有機ポリオールは、上に議論されたような、アミドポリオールである。
【００６４】
反射防止剤画分
本発明によって提供されるパターニングされた金属層が、たとえば、ディスプレイ装置用のフロント・フィルターとしてディスプレイ用途に使用されることになっているとき、触媒層は、場合によりおよび好ましくは、触媒層、およびその上にめっきされた金属層の反射率を下げるようにデザインされた反射防止剤画分を有する。具体的な実施形態において反射防止剤は、ルテニウム、マンガン、ニッケル、クロム、鉄、コバルト、銅、およびそれらの合金；それらの酸化物；ならびにそれらの混合物からなる群から選択される黒色顔料である。好ましい反射防止剤はＲｕＯ２、Ｃｒ３Ｏ４、Ｃｏ２Ｏ３、およびＮｉを含む。非伝導性反射防止剤の例は、Ｆｅ−Ｃｏクロマイト、Ｃｒ−Ｆｅ−Ｎｉスピネル、およびＣｕ−クロマイトなどのセラミック系黒色物質である。触媒層が反射防止剤画分を含有するとき、触媒層の伝導性は多くの場合低下する。それ故、反射防止剤の量を調節することが望ましい。別の実施形態において反射防止剤は、処理により反射防止剤を提供する、反応性前駆体であることができる。反射防止剤の反応性前駆体の例としては、ルテニウム、マンガン、ニッケル、クロム、鉄、コバルト、または銅などの金属；アルコキシド誘導体、β−ジケトンとの錯体、β−ケト酸エステルと錯体、およびこれらの金属の有機カルボキシレートエステルが挙げられる。それらは、ベーキングにより対応する酸化物に変換されて黒色および反射防止性を示す。そのようなものとして金属が反射防止剤の反応性前駆体として使用されるとき、それは、触媒画分として使用される金属粉末とは異なってもよいし、または一金属が二重機能を有してもよい。たとえば、銅粉末が触媒画分として使用されるとき、銅粉末の一部はベーキングにより黒色の酸化銅になる可能性がある。
【００６５】
本発明の別の実施形態は、ベースフィルム、触媒転写層（Ａ）、および前記ベースフィルムと前記触媒転写層（Ａ）との間に介在するＬＴＨＣ層を含む熱転写ドナーであって、前記触媒転写層（Ａ）が、
（ｉ）触媒層の総重量を基準にして、約１．０〜約９９重量％の触媒画分（Ａ）であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分と；
（ｉｉ）ガラスフリット；ならびに金属水酸化物およびアルコキシドから選択される約０．５〜約１０重量％の付着促進剤画分と；
（ｉｉｉ）約０．５〜約９８．５重量％のポリマーバインダーと
を含む熱転写ドナーである。
【００６６】
別の実施形態は、上記のような熱転写ドナーであって、触媒層（Ａ）が、上記のように、成分（ｉ）、（ｉｉ）、および（ｉｉｉ）から実質的になり；ポリマーバインダーが、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリヘテロ芳香族ビニレン、およびそれらの誘導体からなる群から選択される１種以上の伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；アクリルラテックス、スチレンラテックスおよびスチレン−アクリルラテックス；溶液系のアクリル系ポリマー、スチレン系ポリマーおよびスチレン−アクリル系ポリマー；ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される１種以上の非伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；エチレンと、アルキル（メタ）アクリレート（ここで、アルキル基はＣ１〜Ｃ１８の直鎖または分岐鎖アルキルである）、ノルボルネン、酢酸ビニル、一酸化炭素、（メタ）アクリル酸からなる群から選択される１種以上のモノマーとのコポリマー；ならびにポリ酢酸ビニルおよびそのコポリマー；酢酸ビニル、塩化ビニル、ビニルブチルアルデヒド、ビニルアルコールおよびビニルピロリドンからなる群から選択される繰り返し単位を含むビニル（コ）ポリマーまたは（コ）オリゴマー；ポリ（４−ビニル）ピリジン、ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、部分水素化ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、およびそれらのコポリマーからなる群から選択されるヘテロ原子置換スチレン系ポリマー；フェノール−アルデヒド（コ）ポリマーおよび（コ）オリゴマーならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される、熱転写ドナーである。
【００６７】
別の実施形態は、ＬＴＨＣ層が、ＣｒおよびＮｉから選択される金属フィルム；カーボンブラック；黒鉛；およびＬＴＨＣ層内で約６００〜１２００ｎｍの範囲内の吸収極大を有する近赤外染料からなる群から選択される１種以上の放射線吸収剤を含む熱転写ドナーである。
【００６８】
別の実施形態は、ＬＴＨＣ層が、インドシアニン、フタロシアニン、およびメロシアニンからなる群から選択される１種以上の水溶性または水分散性の放射線吸収シアニン化合物と；アクリル樹脂、親水性ポリエステル、スルホン化ポリエステルならびに無水マレイン酸ホモポリマーおよびコポリマーからなる群から選択される１種以上の水溶性または水分散性ポリマーバインダーとを含む熱転写ドナーである。
【００６９】
熱転写ドナーは、本明細書において金属転写層の上として定義される、前記ベースフィルムとは反対側の触媒転写層の面上に配置される１つ以上の追加の転写層を有してもよい。追加の転写層の厚さは、約５ｎｍ〜約５μｍ、より好ましくは約１００ｎｍ〜約３μｍのいずれかの厚さであってよい。追加の転写層は、伝導層、半導体層、絶縁層、接着層、平坦化層、光減衰層または保護層として機能する、機能性層であってもよく、熱転写プロセスにおいて金属転写層とともに転写される。転写の後、追加の転写層は、レシーバーのパターニングされた触媒作用層とベース層との間に配置されるであろう。
【００７０】
別の実施形態は、
積層順で、ベースフィルム、触媒転写層（Ｂ）および付着促進剤層を含む熱転写ドナーであって、前記触媒転写層（Ｂ）が、
（ｉｉ）触媒層の総重量を基準にして、約１．０〜約９９重量％の触媒画分であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分；
（ｉｉｉ）約１．０〜約９９重量％のポリマーバインダー
を含み；
付着促進剤層が、ガラスフリット；ならびに金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含む熱転写ドナーである。
【００７１】
別の実施形態は、積層順で、ベースフィルム、触媒層（Ｂ）および付着促進剤層を含む熱転写ドナーであって、前記触媒層（Ｂ）が、上記のように、成分（ｉ）および（ｉｉｉ）から実質的になり；ポリマーバインダーが、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリヘテロ芳香族ビニレン、およびそれらの誘導体からなる群から選択される１種以上の伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；アクリルラテックス、スチレンラテックスおよびスチレン−アクリルラテックス；溶液系のアクリル系ポリマー、スチレン系ポリマーおよびスチレン−アクリル系ポリマー；ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される１種以上の非伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；エチレンと、アルキル（メタ）アクリレート（ここで、アルキル基はＣ１〜Ｃ１８の直鎖または分岐鎖アルキルである）、ノルボルネン、酢酸ビニル、一酸化炭素、（メタ）アクリル酸からなる群から選択される１種以上のモノマーとのコポリマー；ならびにポリ酢酸ビニルおよびそのコポリマー；酢酸ビニル、塩化ビニル、ビニルブチルアルデヒド、ビニルアルコールおよびビニルピロリドンからなる群から選択される繰り返し単位を含むビニル（コ）ポリマーまたは（コ）オリゴマー；ポリ（４−ビニル）ピリジン、ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、部分水素化ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、およびそれらのコポリマーからなる群から選択されるヘテロ原子置換スチレン系ポリマー；フェノール−アルデヒド（コ）ポリマーおよび（コ）オリゴマーならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される熱転写ドナーである。
【００７２】
上記の実施形態における付着促進剤層は好ましくは、ガラスフリット；ならびに、上記のように、金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含む。別の実施形態において付着促進剤層は、アクリルラテックス、スチレンラテックスおよびスチレン−アクリルラテックス；溶液系のアクリル系ポリマー、スチレン系ポリマーおよびスチレン−アクリル系ポリマー；ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される１種以上の非伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；エチレンと、アルキル（メタ）アクリレート（ここで、アルキル基はＣ１〜Ｃ１８の直鎖または分岐鎖アルキルである）、ノルボルネン、酢酸ビニル、一酸化炭素、（メタ）アクリル酸からなる群から選択される１種以上のモノマーとのコポリマー；ならびにポリ酢酸ビニルおよびそのコポリマー；酢酸ビニル、塩化ビニル、ビニルブチルアルデヒド、ビニルアルコールおよびビニルピロリドンからなる群から選択される繰り返し単位を含むビニル（コ）ポリマーまたは（コ）オリゴマー；ポリ（４−ビニル）ピリジン、ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、部分水素化ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、およびそれらのコポリマーからなる群から選択されるヘテロ原子置換スチレン系ポリマー；フェノール−アルデヒド（コ）ポリマーおよび（コ）オリゴマーならびにそれらの組み合わせからなる群から選択されるポリマーバインダーをさらに含む。
【００７３】
別の実施形態は、上記のように、付着促進剤層を含む熱転写ドナーであって、付着促進剤層が、上に開示されたように、付着促進剤層の反射率を下げるようにデザインされた、反射防止剤画分をさらに含む熱転写ドナーである。反射防止剤画分を含む付着促進剤層は、追加の転写層として触媒転写層のトップ上に配置することができる。
【００７４】
場合により、保護可剥性カバーシートが熱転写ドナーの最も外側の層上に存在してもよい。カバーシートは、下にある転写層を保護し、容易に除去可能である。
【００７５】
触媒転写層を含む熱画像形成ドナーは、ベースフィルム、または、存在する場合、ＬＴＨＣ層の表面上に触媒転写層組成物の分散液を適用し、そのキャリア流体を揮発させることによって作製されてもよい。分散液の適用は、均一層が得られる、あるいは必要に応じて、パターニングされたまたは不均一の触媒転写層が得られるあらゆる方法によって行うことができる。ロッドコーティングおよびスピンコーティングなどのコーティング、吹き付け、印刷、ブレーディングまたはへら付けを使用することができる。コーティングおよび吹き付けは、均一な触媒転写層を得るために好ましい分散液の適用方法である。キャリア流体を蒸発させると触媒転写層が得られ、またはこの層は、加熱および／または減圧などのあらゆる従来の乾燥方法によって乾燥させることができる。
【００７６】
レシーバー
熱画像形成方法は、パターニングされた触媒層を受けるための熱画像形成レシーバーの存在を必要とする。図２Ａは、レシーバーベース層２０２を有する熱画像形成レシーバー２００の断面図である。レシーバーベース層２０２は、熱転写ドナーのベースフィルムについて定義されたような寸法安定性のあるシート材料である。さらに、レシーバーベース層は、二酸化チタンなどの白色顔料入りのポリエチレンテレフタレート；アイボリー紙；またはＴｙｖｅｋ（登録商標）スパンボンドポリオレフィンなどの合成紙などの、不透明な材料であることができる。ベース層材料はまたガラスであることができる。レシーバー用の好ましいベース層はポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、たとえばＫａｐｔｏｎ（登録商標）ポリイミド、およびガラスである。
【００７７】
別の実施形態において熱画像形成レシーバーは、ベース層またはパターニングされた層上の連続層であってもよい、接着層、反射防止層等々の、１つ以上の任意選択の追加層を含んでもよい。特定の有用なレシーバーは、図２Ｂに示されるように、パターニングされた反射防止層２０４をさらに含む。パターニングされた反射防止層は、下に開示されるような類似の熱画像形成プロセスを用いて製造することができる。好適な反射防止層は、ＲｕＯ２、酸化コバルト、酸化ニッケル、鉄−コバルトクロマイト、銅クロマイト、および非伝導性カーボンブラックからなる群から選択される１種以上の非伝導性材料を含む。
【００７８】
接触
本発明の熱転写ドナーは、熱画像形成レシーバーに接触させられる。この接触は、ドナーの触媒転写層と、または触媒転写層を覆うあらゆる任意選択層と行うことができる。「接触」とは、ドナーがレシーバーと非常に接近し、好ましくは数ミクロンの範囲内となることを意味する。あらかじめ印刷された層、繊維、または粒子などによって、ドナーとレシーバーとの間の間隙を制御するスペーサーとして機能させて、レシーバーをドナーから偏らせることができる。真空および／または圧力を使用して、ドナー要素１００およびレシーバー要素２００を互いに保持することができる。一代替法として、組立体の周囲部分で層を溶融させることによって、ドナー要素１００およびレシーバー要素２００を互いに保持することができる。さらなる一代替法として、ドナー要素１００およびレシーバー要素２００を互いにテープで留め、画像形成装置にテープで留めることができる。ピン／締め付けシステムを使用することもできる。さらに別の一代替法として、ドナー要素をレシーバー要素に積層することができる。ドナー要素１００およびレシーバー要素２００が可撓性である場合には、それらの組立体を、レーザー画像形成に有用なドラム上に好都合に取り付けることができる。
【００７９】
転写
熱転写は、図３に示すようなレーザー媒介転写方法によって行うことができる。一実施形態においては、ドナー１００とレシーバー２００との組立体が、好ましくはレーザー放射線（Ｒ）の形態である熱に、レシーバー上に形成される所望のパターンの画像の曝露パターンで選択的に曝露される。レーザー放射線またはレーザービーム（Ｒ）、触媒転写層１０６と、存在する場合にはＬＴＨＣ層１０８との間の界面付近に焦点が合わされ、その他の場合には１０６とベースフィルム１０２との間の界面付近に焦点が合わされる。触媒層をレシーバーに転写するのに十分な放射線が照射される。
【００８０】
熱転写ドナー要素を加熱するために種々の発光源を使用することができる。類似の技術（たとえば、マスクを介した露光）の場合は、高出力光源（たとえば、キセノンフラッシュランプおよびレーザー）が有用である。デジタル画像形成技術の場合は、赤外レーザー、可視レーザー、および紫外レーザーが特に有用である。特に、ドナー要素の構造、転写層材料、熱転写の方式、および他のそのような要因に基づいて、他の光源および照射条件が好適となりうる。
【００８１】
放射線は、好ましくはベースフィルム１０２の裏側、すなわち、触媒転写層を含有しない側から照射される。レーザー放射線は、好ましくは最大約６００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは約７５〜４４０ｍＪ／ｃｍ２のレーザーフルエンスで照射される。約３５０ｎｍ〜約１５００ｎｍの動作波長のレーザーが好ましい。約７５０〜約８７０ｎｍ、および最高１２００ｎｍなどの領域で発光するダイオードレーザーが特に好都合であり、これらは小型、低コスト、安定性、信頼性、耐久性、および変調の容易さに関して実質的に好都合となる。このようなレーザーは、たとえば、スペクトラ・ダイオード・ラボラトリーズ（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｄｉｏｄｅ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ）（カリフォルニア州サンノゼ（Ｓａｎ Ｊｏｓｅ，ＣＡ））より入手可能である。レシーバーに画像を適用するために使用される装置の１つは、クレオ・スペクトラム・トレンドセッター（Ｃｒｅｏ Ｓｐｅｃｔｒｕｍ Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ）３２４４Ｆであり、これは８３０ｎｍ付近で発光するレーザーを使用している。この装置は空間光変調器（Ｓｐａｔｉａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）を利用して、約８３０ｎｍのレーザーダイオードアレイからの５〜５０ワットの出力の分割および変調を行っている。関連する光学素子によって、画像形成可能な要素上にこの光の焦点が合わせられる。これによって、０．１〜３０ワットの画像形成光がドナー要素上に生成して、５０〜２４０の個別のビームの配列として集中し、それぞれ約１０×１０〜２×１０ミクロンのスポット中に１０〜２００ｍＷの光を有する。米国特許第４，７４３，０９１号明細書に開示されるようにスポットごとに個別のレーザーを使用して、類似の露光を行うこともできる。この場合、各レーザーは、７８０〜８７０ｎｍで電気的に変調された５０〜３００ｍＷの光を発する。他の選択肢としては、５００〜３０００ｍＷを放出するファイバー結合レーザーが挙げられ、そのそれぞれが変調され媒体上に焦点が合わせられる。このようなレーザーは、アリゾナ州トゥーソン（Ｔｕｃｓｏｎ，ＡＺ）のオプト・パワー（Ｏｐｔｏ Ｐｏｗｅｒ）から入手することができる。
【００８２】
熱画像形成に好適なレーザーとしては、たとえば、高出力（＞９０ｍＷ）シングルモードレーザーダイオード、ファイバー結合レーザーダイオード、およびダイオード励起固体レーザー（たとえば、Ｎｄ：ＹＡＧおよびＮｄ：ＹＬＦ）が挙げられる。レーザー露光滞留時間は、広範囲で変動させることができ、たとえば、百分の数マイクロ秒〜数十マイクロ秒以上とすることができ、レーザーフルエンスは、たとえば約０．０１〜約５Ｊ／ｃｍ２以上の範囲内とすることができる。
【００８３】
熱画像形成方法は、触媒転写層の少なくとも一部が熱転写によって熱画像形成レシーバー上に転写されて、パターニングされた触媒層をレシーバーベースフィルム上に提供することを必要とする。レシーバーベースフィルム上のパターニングされた触媒層は、使用済み熱画像形成ドナーの除去によって、めっきステップのために必要とされる、パターニングされた基体になる。
【００８４】
この方法の別の実施形態においては、ドナーは、ベースフィルムとは反対側の触媒転写層上に、付着促進剤層をさらに含み；前記転写は、付着促進剤層の対応する隣接部分を転写して、積層順でレシーバー上に、パターニングされた付着促進剤層および前記パターニングされた触媒層を有する前記パターニングされた基体を提供するステップをさらに含む。好ましい付着促進剤層は、ガラスフリット、金属水酸化物および金属アルコキシドから選択される材料を含む。用語「付着促進剤層の対応する隣接部分を一緒に転写するステップ」は、レシーバー上への露光触媒転写層の転写が、触媒転写層に隣接して存在する、露光付着促進剤層のレシーバー上への同時マッチング転写を含むことを意味する。触媒転写層が２つ以上の層を含むかまたは追加の転写層が触媒転写層のトップ上に存在する実施形態においては、これらの層は同様なやり方で転写される。
【００８５】
この方法の別の実施形態において付着促進剤層は、上に開示されたような、反射防止剤画分をさらに含む。
【００８６】
露光後、ドナー要素１００およびレシーバー要素２００は、図４Ａおよび４Ｂに示されるように分離されて、触媒転写層１０６の転写されなかった部分がドナー要素１００上に残り、パターニングされた触媒層はレシーバー要素２００上に残る。通常、ドナーおよびレシーバーの分離は、これら２つの要素を単純に剥離して引き離すことによって行われる。これは、一般には必要とする剥離力は非常に小さく、ドナー要素をレシーバー要素から単純に分離することで行われる。これはあらゆる従来の分離技術を使用して行うことができ、手作業または自動的に行うことができる。
【００８７】
別の実施形態は、レシーバーが、境界を有するパターニングされた反射防止層をさらに含む熱画像形成方法であって；レシーバー上への触媒転写層の少なくとも一部の前記転写がパターニングされた反射防止層の境界内である方法である。これは、パターニングされた触媒層の暗色化を可能にする別の有用な方法である。パターニングされた反射防止層は、予備画像形成プロセス；引き続く、パターニングされた反射防止層と正確に合わせた、パターニングされた触媒層の転写でレシーバーベース層上に堆積させることができる。
【００８８】
通常、転写層の転写された部分は、レーザー放射線に露光した転写層部分に対応する。場合によっては、ドナー要素およびレシーバー要素の性質、ならびに転写プロセスパラメーターに依存するが、ドナー要素１００およびレシーバー要素２００が分離されるときに、レシーバー要素が、１つ以上の転写層の露光部分と未露光部分との両方を含む。熱画像形成レシーバーの表面上に１つ以上の熱転写層の露光部分と未露光部分とを含む、熱画像形成レシーバー上のパターンの解像度を向上させる方法の１つは：（ａ）熱画像形成レシーバーの前記表面を接着面に接触させて、一時的な積層体を得るステップと；（ｂ）一時的な積層体から前記接着面を除去して、１つ以上の転写層の前記未露光部分が実質的に存在しない表面を有する熱画像形成レシーバーを得るステップとを含む。この方法を実施するのに好適な接着面は、市販の接着テープであり、たとえば、３Ｍカンパニー（３Ｍ ｃｏｍｐａｎｙ）より入手可能なスコッチ（Ｓｃｏｔｃｈ）（登録商標）ブランドのテープである。粘着性ローラー、たとえば、ＳＤＩのほこり除去システム−１（赤）（Ｄｕｓｔ Ｒｅｍｏｖａｌ Ｓｙｓｔｅｍ−１（ｒｅｄ））（システムズ・ディビジョン社（Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｄｉｖｉｓｉｏｎ，Ｉｎｃ．）、アーバイン（Ｉｒｖｉｎｅ），ＣＡ ９２６１８−２００５）の形態で入手可能な中間粘着性ローラーが上記方法に好適な接着面である。前述のＬＴＨＣ層として使用されるクロムフィルムも、非常に穏やかな条件下で転写層の未露光部分を除去するための有用な低粘着性接着層となる。
【００８９】
熱画像形成方法の別の実施形態は、
（ｄ）パターニングされた基体をアニール温度にアニール期間加熱して、アニール化されたパターニングされた基体を提供するステップをさらに含み；前記金属のめっきは、前記アニール化されたパターニングされた基体をめっきするステップを含む。熱画像形成方法のこの態様は、パターニングされた触媒層中に存在するかまたはそれに隣接する、付着促進剤をレシーバーに固定するのに有用である。パターニングされた基体のアニーリングは、めっきステップによって提供されるパターニングされた金属層がベース層に接合したままであることを意図されるプロセスにおいて特に有用である。ガラスフリットは典型的には、上に開示されたように軟化または溶融温度に加熱される。ポリカルボキシレート、金属水酸化物およびアルコキシドと組み合わせたポリオールなどの他の付着促進剤もまた、アニール温度への加熱時に基体への改善された付着を与えることができる。ポリマーベース層については、アニール温度は通常８０〜１５０℃であり；ガラスベース層については、アニール温度はより高く、ポリマーバインダーがパターニングされた触媒層中に存在するかどうかおよび付着促進剤の特定の性質に依存して、典型的には１５０〜５５０℃であることができる。
【００９０】
めっき
この方法は、前記パターニングされた基体上に金属をめっきして、パターニングされた触媒層と接続したパターニングされた金属層を得るステップをさらに含む。本明細書において用語「めっき」は、パターニングされた触媒層の存在の結果として、パターニングされた触媒作用層上に選択的な金属堆積を提供するあらゆる方法を意味する。湿式めっきは、パターニングされた触媒層上に金属層を選択的に形成することができるので好ましい。湿式めっきは、無電解めっきおよび電解めっき、またはそれらの組み合わせを含み、パターニングされた触媒層の必要とされる伝導性に依存して適切に選択される。電解めっきは、還元することができる金属イオンを含有する電解質溶液に電流が通されることを必要とする通電プロセスである。最も一般的な電解めっきシステムは、陽極（めっきを受ける基体）として伝導性基体；めっきされるべきイオン形態の金属を含有する化学品溶液；および金属のフィルムを生成するために電子が供給されている陰極を含む。無電解めっきは、外部電力の使用なしに起こる、水溶液におけるいくつかの同時化学反応を含む非通電めっきである。無電解めっきシステムは一般に、金属へ還元することができる金属イオン；および電子を金属イオンに送ることができる化学還元剤を有する。最も一般的な無電解めっき方法は、還元剤として次亜リン酸ナトリウムと金属イオンとしてニッケル（ＩＩ）イオンとを使用する無電解ニッケルめっきである。２つのめっきプロセスが組み合わせて用いられてもよい。パターニングされた触媒層が伝導性であるとき、電気めっきを最初から適用することができる。パターンの伝導性が不十分であるとき、小さい厚さを有する第１伝導性層が無電解めっきによって形成され；次に第２伝導性層が電解めっきによって形成されて、パターニングされた金属層を形成する。本発明の一実施形態は、めっき金属が、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ａｇ、Ａｕ、Ｗ、Ｚｎ、およびそれらの合金からなる群から選択されるものである。好ましいめっき金属はＮｉおよびＣｕである。
【００９１】
めっきプロセスは、パターニングされた触媒層上への金属の全体堆積に有益である可能性がある、めっきの技術分野で公知であるあらゆる処理プロセスをさらに含んでもよい。たとえば、パターニングされた基体は、金属の堆積前に、増感剤、クリーニング剤などで前処理されてもよい。
【００９２】
めっきプロセスによって提供されるパターニングされた金属層は、単層あるいは２、３またはそれ以上のサブ層を有する多層であってもよい。パターニングされた金属層の厚さは通常、約０．１〜約２０ミクロン、好ましくは約０．１〜約５ミクロンである。一実施形態においてパターニングされた金属層は、ＨＰ ３４７８Ａマルチメーターの４プローブ抵抗関数を用いて測定されるとき１平方当たり０．２オーム未満の抵抗を有する。好ましくはパターニングされた金属層は、１５０〜５００ミクロンの範囲のピッチ、および約１０〜８０ミクロンの線幅を有するメッシュを形成する線の幾何パターンの形態にある。
【００９３】
暗色化剤
別の実施形態においては、この方法は、目視検査により明らかなように、金属層の反射率を下げるために、パターニングされた金属層を暗色化剤で処理して、暗色化されたパターニングされた金属層を得るステップをさらに含む。暗色化剤は、Ｃｕ、Ｎｉおよびそれらの合金のような金属を酸化する酸化剤とすることができる。たとえば、ＥＢＯＮＯＬ（登録商標）−Ｃ酸化剤は、パターニングされた金属層の処理における暗色化剤として有用である；Ｃｏｏｋｓｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ（Ｐｒｏｖｉｄｅｎｃｅ，ＲＩ）によって販売される銅および銅合金用の独自開発の黒色化剤である。
【００９４】
図５は、レシーバーベース層２０２、パターニングされた反射防止層２０４、パターニングされた触媒層１０６、パターニングされた金属層２１０、および暗色化されたパターニングされた金属層２１２を含むレシーバー２００を包含する一実施形態の側面図である。
【００９５】
電子デバイス
別の実施形態は、基体上にパターニングされた金属層を有する電子デバイスであって、前記基体が可視光を実質的に通し；前記パターニングされた金属層が積層順で前記基体上に、付着促進剤層、触媒層、およびめっき金属層を含み；前記パターニングされた金属層が約１ミリメートル以下の幅の少なくとも１つの線を持ったパターンを有する電子デバイスである。好ましくはパターニングされた金属層は、約２００ミクロン以下の幅の少なくとも１つの線を有する。他の実施形態においてパターニングされた金属層は、約１５０ミクロン以下、１００ミクロン以下、５０ミクロン以下、２０ミクロン以下および１０ミクロン以下の幅の少なくとも１つの線を有する。電子デバイスの別の実施形態においては、付着促進剤層は、ガラスフリット、ならびに金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含み；触媒層は、（ｉ）触媒層の総重量を基準にして、約０．５〜約９９重量％の触媒画分であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む前記触媒画分と；（ｉｉ）約０．５〜約９９重量％のポリマーバインダーとを含む。
【００９６】
別の実施形態は、上に開示されたような、電子デバイスであって、付着促進剤層が反射防止剤画分をさらに含む電子デバイスである。好ましい反射防止剤は上に開示された通りである。
【００９７】
別の実施形態は、上に開示されたような、電子デバイスであって、付着促進剤層が反射防止剤画分をさらに含み；パターニングされた金属層が付着促進剤層とは反対側の金属層上に反射防止層をさらに含む電子デバイスである。
【００９８】
電子デバイスの好ましい実施形態は、上に開示されたように、タッチパッドセンサーおよび電磁妨害（ＥＭＩ）シールドを含む。
【００９９】
上記のようなパターニングされた金属層を含むタッチパッドセンサーは、誘電体層、典型的には好適な誘電特性を有する有機ポリマーをさらに含む。一実施形態においてタッチパッドセンサーは、第１のパターニングされた金属層を有する第１ベース層；第２のパターニングされた金属層を有する第２ベース層；および第１のパターニングされた金属層と第２のパターニングされた金属層との間に配置された誘電体層を含む。別の実施形態においてタッチパッドセンサーは、２つの対向面を有するベース層、２つの対向面のそれぞれの上に配置されたパターニングされた金属層；およびパターニングされた金属層のそれぞれのトップ上の誘電体層を含む。
【０１００】
この方法の種々の実施形態は、形成中のパターンの正確なデジタル制御；１０ミクロンの線幅までの、微細な線を有するメッシュを作製する能力；および反射防止層、接着層、誘電体層等々の、他の層を金属パターンに正確な関係で配置する能力など、金属パターンの他の製造方法よりも優れたいくつかの利点を有する。さらにパターニングされた触媒層の製造のステップは乾式ステップである、すなわち、それらは、従来のフォトリソグラフィー法で典型的に使用される溶媒、エッチング液、およびマスクの使用を必要としない。従来の「湿式」処理を必要とする唯一のステップは、めっきステップである。したがって、この全体方法は、金属メッシュの製造に用いられる従来の方法より環境にやさしい可能性がある。
【０１０１】
材料、装置および方法
特に示されない限り、化学物質は、さらに精製せずに入手したままの状態で使用した。ポリマー、可塑剤、ＩＲ染料、および界面活性剤は、本明細書に挙げた供給元から入手するかまたはＡｌｄｒｉｃｈから購入した。カーボンブラック分散液などの顔料は、Ｐｅｎｎ Ｃｏｌｏｒ，Ｉｎｃ．（Ｄｏｙｌｅｓｔｏｗｎ，ＰＡ）から入手した。銀ナノ粒子は、Ｆｅｒｒｏ Ｃｏ．−Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ（Ｃｌｅｖｅｌａｎｄ，Ｏｈｉｏ）；Ｎａｎｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ ＆ Ａｍｏｒｐｈｏｕｓ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃ．、および三井物産株式会社から購入した。
【０１０２】
フラットベッドプリンターを、触媒転写層をガラス基体上に転写するために使用した。使用した画像形成ヘッドは、Ｃｒｅｏ／Ｋｏｄａｋ（Ｖａｎｃｏｕｖｅｒ，Ｃａｎａｄａ）によって製造されたＳＱＵＡＲＥｓｐｏｔ（登録商標）熱画像形成ヘッドであった。このヘッドを、論文「Ｔｈｅｒｍａｌ Ｔｒａｎｓｆｅｒ ｆｏｒ Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ（フラットパネルディスプレイ製造のための熱転写）」、Ｅｒａｎ Ｅｌｉｚｕｒ ａｎｄ Ｄａｎ Ｇｅｌｂａｒｔ、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ、第１１巻、ナンバー１、１９９−２０２ページに記載されているようにフラットベッドスキャナーに取り付けた。
【０１０３】
Ｃｒｅｏ Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ（登録商標）８００（Ｃｒｅｏ／Ｋｏｄａｋ（Ｖａｎｃｏｕｖｅｒ，Ｃａｎａｄａ））を可撓性基体に画像形成するために用いた。Ｃｒｅｏ Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ（登録商標）８００は、５０８０ｄｐｉ分解能で８３０ｎｍの波長で１２．５ワットの最大平均動作電力を有する改造されたＴｈｅｒｍａｌ １．７Ｈｅａｄを用いる改造されたドラム型の画像形成装置である。この８００Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒを、約６８℃の平均温度および約４０〜５０％の平均相対湿度の制御された温度／湿度環境で動作させた。それぞれの印刷実験について、熱画像形成レシーバーの部分をドラム上に位置決めした。ドナー要素の、触媒転写層でコーティングされた側がレシーバーの自由面に面するように、熱転写ドナーを取り付けた。画像形成組立体（ａｓｓｅｍｂｌａｇｅ）を、ドナーフィルムベースを通して裏側から露光した。真空ホールドダウン（ｖａｃｕｕｍ ｈｏｌｄ ｄｏｗｎ）を用いて、ドラムに機械的に固定された標準的なプラスチックまたは金属担体プレートにフィルムを取り付けた。Ｃｒｅｏ Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ（登録商標）８００サーマルプレートセッターを用いたある実験では、通常のドナーおよびレシーバーのサイズに適合するようにドラム上に直接機械加工された吸引孔を有する非標準ドラムを、標準的なドラム／担体プレート組立体の代わりとして用いた。約６００ｍｍのＨｇ減圧によって、ドナーとレシーバーとを接触させた。レーザー出力は、コンピュータの制御下で、所望の画像形成パターンを形成するためのものであった。レーザー出力およびドラム速度は制御可能であり、受像表面上に転写される画像の目視検査によって判断されるような画像品質を最適化するために、それらを繰返し調節した。
【０１０４】
方法１：硬質基体上への熱転写
レシーバーベース層として機能する、ガラスパネルを、Ｍｉｃｒｏ ９０、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｃｏｒｐ．（Ｂｕｒｌｉｎｇｔｏｎ，ＮＪ）によって製造されるクリーニング液を使用して洗浄し、ＵＶＯ（ＵＶＯは、表面が空気の存在下に約３０ｍＪ／秒ｃｍ２の強度を有する遠紫外光（１８５ｎｍ〜２５４ｎｍ）に露光されるプロセスである）で約５分間処理し、次にＤＩ水でリンスした。熱転写ドナーを、論文「Ｔｈｅｒｍａｌ Ｔｒａｎｓｆｅｒ ｆｏｒ Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ」、Ｅｒａｎ Ｅｌｉｚｕｒ ａｎｄ Ｄａｎ Ｇｅｌｂａｒｔ、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ、第１１巻、ナンバー１、１９９−２０２ページに記載されているようにフラットベッドスキャナー上のレシーバーと減圧接触させた。熱画像形成ドナーとガラスパネルとの組立体を次に、Ｃｒｅｏ／Ｋｏｄａｋ（Ｖａｎｃｏｕｖｅｒ，Ｃａｎａｄａ）によって製造されたＳＱＵＡＲＥＳＰＯＴ熱画像形成ヘッドを用いてドナーベースフィルムを通して先ず裏面から所望のパターンで露光した。迅速に移動するヘッドに２１．５ワットの出力エネルギーの８３０ｎｍ赤外レーザーを備え付け、このヘッドをドナーベースフィルム上の、またはＬＴＨＣ層が存在するときにはベースフィルムとＬＴＨＣ層との界面上の約５μｍ×５μｍのスポットサイズに焦点を合わせた。スキャン速度は典型的には０．５ｍ／秒〜１．３ｍ／秒の範囲であった。レーザー出力は、コンピュータの制御下で、所望のパターンを形成するためのものであった。レーザー出力およびスキャン速度は制御可能であり、レシーバー上のパターニングされた触媒層の目視検査によって判断されるような転写品質を最適化するために、それらを繰返し調節した。フラットベッド画像形成装置を、約７０°Ｆの平均温度および約４５〜５５％の平均相対湿度の制御された温度／湿度環境で動作させた。
【０１０５】
評価方法
固有抵抗−固有抵抗は、ＨＰ ３４７８Ａマルチメーター（Ｈｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋａｒｄ）の４プローブ抵抗関数を用いて測定した。典型的には一辺が約１５ｍｍのメッシュの正方形を測定した。
厚さ−転写される触媒層、Ｃｕめっきおよび黒色化層の厚さは、ＫＬＡ Ｔｅｎｃｏｒ
Ｐ−１５プロフィラーを用いて測定した。
付着性−付着性の定性的評価は、付着の変化が起こったかどうかを評価するための下記のクライテリアを用いることによって行った。小さな先の尖ったプローブをパターンの金属線に押し付けるために使用するとき、下記が観察された場合に１〜５の格付けを与えた：
１ 金属線は基体から剥がれなかったか、小さいチップが剥がれたにすぎなかったかのどちらかであり、かなりの力を必要とした。
２ 金属線はかなりの力を加えられて小片で基体から剥がれた。
３ 金属線は最小限の努力で基体から剥がれ、隣接小片がエッジに沿ってほぐれた。
４ 金属線は少ない努力で基体から離昇し、隣接メッシュの小さい区画が離れた。
５ 金属線は接触と無関係に基体から剥がれるか、または接触したときにシングルピースとして基体から離れた。
【０１０６】
【表１】
【０１０７】
有機ＬＴＨＣ層
有機ＬＴＨＣ層を、上記のＰＣＴ／ＵＳ０５／３８００９号明細書の実施例の配合Ｌに報告されるように調製した。
ＬＴＨＣコーティング配合物を以下の材料から調製した：（ｉ）脱塩水：８９４ｇ；（ｉｉ）ジメチルアミノエタノール：５ｇ；（ｉｉｉ）ハンプフォード（Ｈａｍｐｆｏｒｄ）染料８２２（ハンプフォード・リサーチ（Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ）；配合物はＳＤＡ ４９２７に該当する）：１０ｇ；（ｉｖ）ポリエステルバインダー（アメルテック・ポリエステル・クリア（Ａｍｅｒｔｅｃｈ Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ Ｃｌｅａｒ）；アメリカン・インク・アンド・コーティング社（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｉｎｋｓ ａｎｄ Ｃｏａｔｉｎｇｓ Ｃｏｒｐ）；ペンシルベニア州バレーフォージ（Ｖａｌｌｅｙ Ｆｏｒｇｅ；ＰＡ））：６５ｇの３０％水溶液；（ｖ）テゴウェット（ＴｅｇｏＷｅｔ）（商標）２５１（４）（ポリシロキサンコポリマー）：２．５ｇ；（ｖｉ）ジメチルアミノエタノールエチルリン酸カリウム：１４ｇの１１．５％水溶液［この１１．５％水溶液を、３部の水および０．５部のエチルリン酸（ｅｔｈｙｌ ａｃｉｄ ｐｈｏｓｐｈａｔｅ）（ストーファ・ケミカル社（Ｓｔａｕｆｆｅｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ）、コネチカット州ウェストポート（Ｗｅｓｔｐｏｒｔ，ＣＴ）：ルーブリゾール（Ｌｕｂｒｉｚｏｌ）、オハイオ州ウィクリフ（Ｗｉｃｋｌｉｆｆｅ，ＯＨ））ならびに十分な４５％水酸化カリウム水溶液を組み合わせて４．５のｐＨを得た後、十分なジメチルアミノエタノールを加えて７．５のｐＨを得て、最後に水で希釈して、水を含まない化合物の１１．５相対質量パーセントの、合計５部の最終水溶液を得ることによって調製した］；（ｖｉｉ）架橋剤サイメル（Ｃｙｍｅｌ）（商標）３５０（メラミンホルムアルデヒド樹脂、サイテック・インダストリーズ社（Ｃｙｔｅｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｉｎｃ．）、ニュージャージー州ウエストパターソン（Ｗｅｓｔ Ｐａｔｅｒｓｏｎ，ＮＪ））：１０ｇの２０％溶液；ならびに（ｖｉｉｉ）アンモニウムｐ−トルエンスルホン酸：２ｇの１０％水溶液。
【０１０８】
成分（ｉｉ）および（ｉｉｉ）を水に加え、最大で２４時間攪拌させてから、他の成分を示した順序で加えた。この配合物を濾過する必要はない。その配合物をインラインコーティング（ｉｎ−ｌｉｎｅ ｃｏａｔｉｎｇ）技術で以下のように適用した：ＰＥＴベースフィルム組成物を溶融押し出しし、冷却された回転ドラム上にキャスティングし、７５℃の温度でその元の寸法の約３倍になるまで押し出し方向に延伸した。次に、冷却された延伸フィルムの１つの側部をＬＴＨＣコーティング組成物でコーティングして、２０〜３０μｍのウェットコーティング厚さを得た。直接グラビアコーティングシステムを用いて、コーティングをフィルムウェブに適用した。６０ＱＣＨグラビアロール（パマルコ（Ｐａｍａｒｃｏ）によって供給される）を溶液に通して回転させて、溶液がグラビアロール表面を覆うようにする。グラビアロールを、フィルムウェブに対して反対方向に回転させ、１つの接触点でウェブにコーティングを適用する。コーティングされたフィルムを、１００〜１１０℃の温度で乾燥器（ｓｔｅｎｔｅｒ ｏｖｅｎ）内に通し、ここで、フィルムを乾燥させ、その元の寸法の約３倍になるまで横方向に延伸した。二軸延伸コーティングフィルムを、従来の手段によって約１９０℃の温度でヒートセットした。次に、コーティングポリエステルフィルムを、ロールに巻き付ける。最終的なフィルムの全厚は５０μｍであり；転写補助コーティング層の乾燥厚さは０．０７μｍである。ＰＥＴベースフィルムは、ソルベント・グリーン（Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ）２８染料を含有し、ベースフィルムのポリマーの、典型的に０．２重量％〜０．５重量％の最終染料濃度を得た。ソルベント・グリーン（Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ）２８染料（０．４０重量％）を含有するベースフィルムは、６７０ｎｍで１．２の吸収度、および８３０ｎｍで＜０．０８の吸収度を有した。ドナー基体を、有機ＬＴＨＣグリーン（Ｇｒｅｅｎ）ＰＥＴドナー基体と本明細書で呼ぶこととする。
【実施例】
【０１０９】
実施例１
この実施例では、付着促進剤としてガラスフリットを使用する黒ずんだ銅めっきメッシュの形成を説明する。
【０１１０】
ベースフィルムおよび触媒層を含む熱転写ドナーを先ず、次の手順を用いて作製した。Ａｇ粉末（２６．２４４ｇ、粒度ｄ５０＝２２０ｎｍおよびｄ９０＝４３０ｎｍ）、ＤＩ水（１０．３５８ｇ）、ＣＡＲＢＯＳＥＴ ＧＡ ２３００スチレン−アクリル系ポリマー（１３．４０４ｇ、水中２８重量％）、ＺＯＮＹＬ ＦＳＡ界面活性剤（０．５２３ｇ）、ＢＹＫ−０２５消泡剤（０．２９９ｇ）およびガラスフリット（０．５２９ｇ、ＥＧ２９２２ＳＭＺ、Ｆｅｒｒｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｃｌｅｖｅｌａｎｄ，Ｏｈｉｏ））の混合物を、音波処理プローブ（Ｄｕｋａｎｅ Ｃｏ．Ｍｏｄｅｌ ４０ＴＰ２００，Ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒ Ｍｏｄｅｌ ４１Ｃ２８）で１５分間処理し、この間５分間隔でスパチュラで混合物を撹拌した。混合物が入った容器を、１時間音波処理を行いながら水浴中に入れ、この間０．５時間間隔でスパチュラで混合物を撹拌した。次にこの混合物を、室温の水浴中でプローブ音波処理をさらに１５分間行って処理し、この間、５分間隔でスパチュラで混合物を穏やかに撹拌した。得られた分散液を２．０ミクロンＷＨＡＴＭＡＮ ＧＦＭ−１５０シリンジ−ディスクフィルター（Ｗｈａｔｍａｎ Ｉｎｃ．（Ｃｌｉｆｔｏｎ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ））で２回濾過した。
【０１１１】
有機ＬＴＨＣ Ｇｒｅｅｎ ＰＥＴ熱転写ドナーベースフィルムを、コーティングの直前に加圧窒素流れで洗浄した。前述の分散液を、ＷＡＴＥＲＰＲＯＯＦ Ｃｏｌｏｒ Ｖｅｒｓａｔｉｌｉｔｙコーティングシステム（Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ Ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ，Ｉｎｃ．（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ））を用いて５．８フィート／分でＣＮ＃５ロッド（Ｂｕｓｃｈｍａｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｃｌｅｖｅｌａｎｄ，Ｏｈｉｏ））を使用してベースフィルム上に塗布した。ウェットフィルムを４８℃で２０分間乾燥させてベースフィルムおよび銀触媒層を含む熱転写ドナーを得た。
【０１１２】
熱転写ドナーを、ガラスパネル（厚さ約０．７ｍｍのボロ−アルミノシリケートガラス）と減圧接触させた。このガラスレシーバーを、上記のようなフラットベッドスキャナーに取り付けた。熱転写を、約５ｍｍの直線パターンで０．５〜１．３ｍ／秒で変わるスキャン速度を用いる約２０．５Ｗの画像形成面での全レーザー出力の画像形成ヘッドからの画像形成放射線にドナーを露光することによって行った。
【０１１３】
パターニングされた触媒層の転写の後、使用済みドナーをガラスから除去し、パターニングされた基体を得た。パターニングされたガラス基体を次に、１０℃／分の速度で５２５℃に加熱されるＦｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ ＩＳＯＴＥＭＰ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｍｕｆｆｌｅ Ｆｕｒｎａｃｅ Ｍｏｄｅｌ ６５０（等温プログラム可能マッフル炉モデル６５０）においてアニール温度で加熱し、その温度に１５分間放置した。サンプルを次に、炉への電力を切ることによって室温（ＲＴ）近くに冷却した。サンプルのアニーリングの後に、このサンプルメッシュは、１１０Ω／平方の抵抗を有し、プローブでこすることによって除去するのは困難であった。
【０１１４】
パターニングされた基体を次に、伝導性接着剤を有する、１／２インチ幅のＣｕテープを銀パターンの辺縁に沿って適用することによって電気めっきのために作製した。電気めっきを、Ｔｅｃｈｎｉｃ，Ｉｎｃ．「Ｍｉｎｉ Ｐｌａｔｉｎｇ Ｐｌａｎｔ ３」電気めっきシステムで行った。銅めっき浴電解質は、光沢剤「ＰＣ ６５ Ｂ」が１容量％で添加された「ＰＣ−６５」であった。両方ともＴｅｃｈｎｉｃ Ｉｎｃ．（Ｃｒａｎｓｔｏｎ，ＲＩ）によって製造されている。めっき浴をめっきの間ずっと２２℃に保った。約１１８Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を４００秒間パターニングされた基体に適用し、銀パターン上に約８μｍの銅を堆積して０．２Ω／平方未満の固有抵抗を有するパターニングされた銅層を得た。図６は、パターニングされた金属層の顕微鏡写真である。
【０１１５】
パターニングされたＣｕ層の黒色化を、１００℃に１２０秒間加熱されるＥＢＯＮＯＬ−Ｃ（製造供給元、都市州）の５０重量％溶液中にめっきされたパターニングされた基体を浸漬することによって行った。得られた黒ずんだ銅めっきメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗および低い反射率を有した。
【０１１６】
実施例２
この実施例では、付着促進剤として添加されたＴＹＺＯＲ（登録商標）２１２オルガノジルコネートを使用する黒ずんだＣｕめっきメッシュの形成を説明する。
【０１１７】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表２および３に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．５ｍ／秒であった。画像形成の後、ドナーシートをガラスから除去して、画像形成されたＡｇパターンを有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体を、Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｉｓｏｔｅｍｐ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｍｕｆｆｌｅ Ｆｕｒｎａｃｅ Ｍｏｄｅｌ ６５０で１０℃／分の速度で２３０℃に熱処理し、その温度に１５分間放置した。パターニングされた基体を次に、発熱体への電力を切ることによってＲＴに冷却した。
【０１１８】
熱処理されたパターニングされた基体の電気めっきを、約２４８Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を３００秒間サンプルに適用して、約５．７μｍのＣｕ厚さのパターニングされたＣｕ層を得ることを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。Ｃｕめっきメッシュの抵抗は０．２Ω／平方未満であった。
【０１１９】
パターニングされたＣｕ層の黒色化を、１００℃に７秒間加熱されるＥｂｏｎｏｌ−Ｃの１００％溶液中にめっきされたパターニングされた基体を浸漬することによって行った。得られたメッシュは、良好な伝導性および低い反射率を有した。
【０１２０】
【表２】
【０１２１】
【表３】
【０１２２】
実施例３
この実施例では、付着促進剤として添加された、有機ポリオール、ＰＲＩＭＩＤ（登録商標）ＸＬ５５２ポリオールを使用する黒ずんだＣｕめっきメッシュの形成を説明する。
【０１２３】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表２および３に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．５ｍ／秒であった。
【０１２４】
画像形成の後、ドナーシートをガラスから除去して、画像形成されたＡｇパターンを有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体を次に、Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｉｓｏｔｅｍｐ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｍｕｆｆｌｅ Ｆｕｒｎａｃｅ Ｍｏｄｅｌ ６５０で１０℃／分の速度で２３０℃に熱処理し、その温度に１５分間放置した。パターニングされた基体を次に、発熱体への電力を切ることによってＲＴに冷却した。熱処理されたＡｇメッシュの抵抗は、１４４Ω／平方であった。
【０１２５】
熱処理されたパターニングされた基体の電気めっきを、約２４８Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を３００秒間サンプルに適用して、約５．７μｍのＣｕ厚さのパターニングされたＣｕ層を得ることを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。Ｃｕめっきメッシュの抵抗は０．２Ω／平方未満であった。
【０１２６】
パターニングされたＣｕ層の黒色化を、１００℃に７秒間加熱されるＥｂｏｎｏｌ−Ｃの１００％溶液中にめっきされたパターニングされた基体を浸漬することによって行った。得られたメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗および低い反射率を有した。
【０１２７】
実施例４
この実施例では、付着促進剤の不存在下でのＣｕめっきメッシュの形成を説明する。
【０１２８】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表２および３に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．９ｍ／秒であった。
【０１２９】
パターニングされた基体の電気めっきを、約１２４Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を４８０秒間サンプルに適用し、約７μｍのＣｕを堆積することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。得られたメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗を有した。
【０１３０】
実施例５
この実施例では、黒ずんだＣｕめっきメッシュの生成を説明する。
【０１３１】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表４および５に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置で画像形成した。画像形成速度は０．６ｍ／秒であった。
【０１３２】
画像形成の後、ドナーシートをガラスから除去して、画像形成されたＡｇパターンを有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体を次に炉で、１０℃／分の速度で５２５℃に熱処理し、その温度に１５分間放置した。パターニングされた基体を次に、発熱体への電力を切ることによってＲＴに冷却した。この熱処理は、基体への良好な付着性をＡｇパターンに提供した。
【０１３３】
電気めっきを、約１２４Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を２００秒間サンプルに適用し、約１
．４μｍのＣｕをパターニングされた触媒層上に堆積することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。めっきパターンは、パターンのエッジでわずかな離層を示した。
【０１３４】
めっきＣｕパターンの黒色化を、１００℃に６０秒間加熱されるＥｂｏｎｏｌ−Ｃの５０％溶液中にパターニングされた金属層を浸漬することによって行った。得られたメッシュは、良好な伝導性および低い反射率を有した。黒ずんだサンプルは、ガラスへの不十分な付着性を有し、ガラスプレートから容易に除去された。
【０１３５】
実施例６
この実施例では、付着促進剤としてガラスフリットを使用するＣｕめっきメッシュの生成を説明する。
【０１３６】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表４および５に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のＣＲＥＯ ＴＲＥＮＤＳＥＴＴＥＲ（登録商標）８００を用いてＭＥＬＩＮＥＸ（登録商標）ＳＴ５０４のシート上に画像形成した。画像形成は、６０ｒｐｍのドラム回転速度ならびに６．９、７．０、７．１および７．２Ｗのレーザー出力で行った。
【０１３７】
パターニングされた基体の電気めっきを、約２２６Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を４８０秒間サンプルに適用し、約７μｍのＣｕを堆積することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。得られたメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗を有した。
【０１３８】
【表４】
【０１３９】
【表５】
【０１４０】
実施例７
この実施例では、Ｃｕめっきメッシュの形成を説明する。
【０１４１】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表４および５に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置を用いてガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．９ｍ／秒であった。
【０１４２】
電気めっきを、実施例１に記載されるものと同じ技法を用いて行った。パターニングされた金属層は、すべてのめっき条件下に基体から離層した。
【０１４３】
実施例８
この実施例では、ガラスプレート上でのＣｕめっきメッシュの生成を説明する。
【０１４４】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表４および５に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．８ｍ／秒であった。
【０１４５】
電気めっきを、約２４８Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を２００秒間サンプルに適用し、１．５μｍのＣｕを堆積することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。Ｃｕの堆積は不規則であり、元の画像の数部分がパターン中の裂け目によってかまたはパターン中の他の非伝導性要素によってめっき電極から分離されることを示唆した。得られたメッシュのめっきエリアは、約０．５Ω／平方の固有抵抗を有した。
【０１４６】
実施例９
この実施例では、トリアセチルセルロースフィルム上でのＣｕめっきメッシュの生成を説明する。
【０１４７】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表４および５に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のＣＲＥＯ ＴＲＥＮＤＳＥＴＴＥＲ（登録商標）８００を用いてＴＡＣフィルムのシート上に画像形成した。画像形成は、４０ｒｐｍのドラム回転速度および４．０Ｗのレーザー出力で行った。
【０１４８】
電気めっきを、約３４４Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を１８０秒間サンプルに適用し、約５μｍのＣｕを堆積することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。得られたメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗を有した。
【０１４９】
実施例１０
この実施例では、付着促進剤としてガラスフリットを使用する黒ずんだＣｕめっきメッシュの形成を説明する。
【０１５０】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表６および７に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．６ｍ／秒であった。
【０１５１】
画像形成の後、ドナーシートをガラスから除去して、画像形成されたＡｇパターンを有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体を次に、１０℃／分の速度で５２５℃に加熱される炉で熱処理し、その温度に１５分間放置した。サンプルを次に、発熱体への電力を切ることによってＲＴ近くに冷却した。この熱処理は、基体への良好な付着性をＡｇパターンに提供した。
【０１５２】
電気めっきを、約５１６Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を１１１秒間サンプルに適用することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。得られためっきメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗を有し、基体への良好な付着性を有した。
【０１５３】
めっきＣｕの黒色化を、１００℃に６０秒間加熱されるＥｂｏｎｏｌ−Ｃの５０％溶液中にめっきサンプルを浸漬することによって行った。得られたメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗および低い反射率を有した。黒ずんだサンプルは、ガラス基体への良好な付着性を有した。
【０１５４】
【表６】
【０１５５】
【表７】
【０１５６】
実施例１１
この実施例では、付着促進剤としてガラスフリット、およびパターニングされた触媒層用の黒色化剤としてＲｕＯ２を使用する暗色化されたＣｕめっきメッシュの生成を説明する。
【０１５７】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表６および７に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．６ｍ／秒であった。
【０１５８】
画像形成の後、ドナーシートをガラスから除去して、画像形成されたＡｇパターンを有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体を次に、１０℃／分の速度で５２５℃に加熱される炉で熱処理し、その温度に１５分間放置した。サンプルを次に、発熱体への電力を切ることによってＲＴ近くに冷却した。この熱処理は、基体への良好な付着性をＡｇパターンに提供した。
【０１５９】
電気めっきを、約５１６Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を１１１秒間サンプルに適用することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。得られたメッシュは、約０．５Ω／平方の固有抵抗を有した。得られためっきパターンは、基体への良好な付着性を示した。
【０１６０】
実施例１２
この実施例では、その上にパターニングされた黒色層を有するパターニングされた基体上でのパターニングされた金属層の形成を説明する。
【０１６１】
Ｃｒ３Ｏ４を含む第１ドナーシートを、次の成分：キシレン（１２．０１８ｇ）、ＥＬＶＡＣＩＴＥ（登録商標）２０２８（２１．２６４ｇ）、ＤＥＧＤＢ（０．０８２ｇ）、ガラスフリット（ＥＧ ２９２２ ＳＭＺ、８．６１２ｇ）およびＤｕＰｏｎｔ Ｉ−２２１８ Ｃｒ３Ｏ４粉末（１２．１６１ｇ）で、実施例１に概説されるものと同じ一般手順に従って作製した。触媒層を含有する第２ドナーシートを、実施例１に記載されるものと同じ一般手順ならびに表６および７に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。
【０１６２】
第１ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．７ｍ／秒であった。第１画像形成ドナーシートを除去してパターニングされた黒色層をその上に有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体の位置を変えずに、第２ドナーシートを、０．７ｍ／秒の画像形成速度を用いてパタニーングされた黒色層の境界内でパターニングされた基体上に画像形成した。
【０１６３】
画像形成の後、第２画像形成ドナーシートを除去して、積層順で、Ａｇ触媒層、黒色層、およびガラス基体をを有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体を次に、１０℃／分の速度で５２５℃に加熱される炉で熱処理し、その温度に１５分間放置した。サンプルを次に、発熱体への電力を切ることによってＲＴ近くに冷却した。この熱処理は、基体への良好な付着性をＡｇパターンに提供した。
【０１６４】
電気めっきを、約１９０Ａｍｐ／ｍ２の電流密度をサンプルに４０秒間適用し、約４ミクロンのＣｕを堆積させることを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。得られためっきパターンは、良好な伝導性を示した。図７は、パターニングされた黒色層の境界内のめっきパターンの顕微鏡写真を示す。
【０１６５】
【表８】
【０１６６】
【表９】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気用途向け伝導性金属パターンの提供方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイなどの、光透過性表面用の電磁妨害シールドおよびタッチスクリーンは、典型的には基体上に取り付けられた伝導性金属メッシュを含む。メッシュによって、他の電磁放射線を遮蔽しながら、可視光のかなりの部分を通過させることができる。そのような金属メッシュ物品を製造するために利用可能な種々の方法がある。たとえば、特許文献１には、ガラス基体と、オフセット印刷法でこの基体上に形成された幾何パターンとを有する電磁遮蔽プレートが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第６，７１７，０４８号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
形成中のパターンの高分解能および正確なデジタル制御を可能にする；たとえば１０ミクロンの線幅までの、微細な線を有するメッシュを作製する能力がある、伝導性金属パターンを提供するために有用な新規方法が必要とされている。さらに、従来のフォトリソグラフィー法に典型的に使用される、湿式処理ステップと、溶媒、エッチング液、およびマスクの使用とを最小限にすることが望ましい。湿式処理ステップおよび溶媒の排除は、金属メッシュの製造に用いられる従来の方法よりかなり環境にやさしい全体的方法を提供するであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
一実施形態は、高い伝導性を有するパターニングされた金属層の製造方法であって：
ベース基体上にパターニングされた触媒層を含むパターニングされた基体を提供するステップであって；前記パターニングされた基体が、
（ａ）ベースフィルムおよび触媒転写層を含む熱転写ドナーを提供する工程であって、触媒転写層が、（ｉ）触媒画分；場合により（ｉｉ）付着促進剤画分；および、場合よりおよび独立して、（ｉｉｉ）ポリマーバインダー画分を含む工程；
（ｂ）熱転写ドナーをレシーバーと接触させる工程であって、レシーバーがベース層を含む工程；ならびに
（ｃ）触媒転写層の少なくとも一部を熱転写によってレシーバー上に転写して、パターニングされたレシーバーを前記パターニングされた基体として提供する工程
を含む熱画像形成方法によって製造されるステップと；
金属を前記パターニングされた基体上にめっきして、パターニングされた基体と接続したパターニングされた金属層を提供するステップと
を含む製造方法である。
【０００６】
別の実施形態は、ベースフィルム、触媒転写層（Ａ）、および前記ベースフィルムと前記触媒転写層（Ａ）との間に介在するＬＴＨＣ層を含む熱転写ドナーであって、前記触媒転写層（Ａ）が、
（ｉ）触媒層の総重量を基準にして、約１．０〜約９９重量％の触媒画分（Ａ）であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分と；
（ｉｉ）ガラスフリット；ならびに金属水酸化物およびアルコキシドから選択される約０．５〜約１０重量％の付着促進剤画分と；
（ｉｉｉ）約０．５〜約９８．５重量％のポリマーバインダーと
を含む熱転写ドナーである。
【０００７】
別の実施形態は、積層順で、ベースフィルム、触媒転写層（Ｂ）および付着促進剤層を含む熱転写ドナーであって、前記触媒転写層（Ｂ）が、
（ｉ）触媒層の総重量を基準にして、約１．０〜約９９重量％の触媒画分であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分；
（ｉｉｉ）約１．０〜約９９重量％のポリマーバインダー
を含み；
付着促進剤層が、ガラスフリット；ならびに金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含む熱転写ドナーである。
【０００８】
別の実施形態は、パターニングされた金属層を基体上に有する電子デバイスであって、前記基体が可視光を実質的に通し；前記パターニングされた金属層が、積層順で前記基体上に：付着促進剤層、触媒層、およびめっき金属層を含み；前記パターニングされた金属層が約１ミリメートル以下の幅の少なくとも１つの線を有する、電子デバイスである。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１Ａ】本発明の実施形態による熱画像形成ドナー１００の断面図である。
【図１Ｂ】本発明の実施形態による熱画像形成ドナー１００の断面図である。
【図２Ａ】レシーバーベース層２０２を有する熱画像形成レシーバー２００の断面図である。
【図２Ｂ】パターニングされた黒色層２０４を有するレシーバー２００の断面図である。
【図３】パターニングされた基体を作製するためのレーザー媒介転写方法を示している。
【図４Ａ】パターニングされた触媒層の熱転写後の使用済み熱転写ドナーおよびレシーバー要素の分離を示している。
【図４Ｂ】パターニングされた触媒層の熱転写後の使用済み熱転写ドナーおよびレシーバー要素の分離を示している。
【図５】本発明の一実施形態によって提供されるパターニングされた金属層の側面図である。
【図６】パターニングされた金属層の顕微鏡写真である。
【図７】本発明の方法によって提供されるパターニングされた黒色層の境界内のめっきパターンの顕微鏡写真を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本明細書ではすべての商標は大文字で示される。
【００１１】
本明細書における、「アクリル」、「アクリル樹脂」、「（メタ）アクリル樹脂」、および「アクリルポリマー」という用語は、特に明記しない限り同義である。これらの用語は、メタクリル酸およびアクリル酸ならびにそれらのアルキルおよび置換アルキルエステルから誘導されるエチレン性不飽和モノマーの従来の重合から誘導される付加ポリマーの一般的種類を指す。これらの用語はホモポリマーおよびコポリマーを包含する。これらの用語は、具体的には、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸およびグリシジル（メタ）アクリレートのホモポリマーおよびコポリマーを包含する。本明細書におけるコポリマーという用語は、特に明記しない限り、２種以上のモノマーの重合から誘導されるポリマーを包含する。（メタ）アクリル酸という用語は、メタクリル酸およびアクリル酸の両方を包含する。（メタ）アクリレートという用語は、メタクリレートおよびアクリレートを包含する。
【００１２】
「スチレンアクリルポリマー」、「アクリルスチレン」および「スチレンアクリル」という用語は、同義であり、上記の「アクリル樹脂」と、スチレン、および例えばα−メチルスチレンといった置換されたスチレンモノマーとのコポリマーを包含する。
【００１３】
本明細書において用いられるとき、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含める（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「含める（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」という用語またはそれらの任意の他の活用形は、非限定的な包含をカバーするものとする。例えば、一連の要素を含むプロセス、方法、物品、または装置は、それらの要素のみに必ずしも限定されず、特に明記されていないかあるいはかかるプロセス、方法、物品、または装置に固有の他の要素を含めてもよい。さらに、特に矛盾する記載がない限り、「または」は包括的な「または」を指し、限定的な「または」を指さない。例えば、条件ＡまたはＢは、以下のいずれか１つによって満たされる。Ａが真であり（または存在する）かつＢが偽である（または存在しない）、Ａが偽であり（または存在しない）かつＢが真である（または存在する）、ＡおよびＢの両方が真である（または存在する）。
【００１４】
また、単数形（「ａ」または「ａｎ」）の使用は、本明細書に記載の要素および成分を表すために用いられる。これは、単に便宜上、本発明の範囲の一般的な意味を示すために用いられる。本明細書は、１つまたは少なくとも１つを含めるように読まれるべきであり、複数でないことを意図することが明白でない限り、単数形は複数形も含める。
【００１５】
特に定義しない限り、本明細書中で用いられる全ての技術用語および科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者によって一般的に理解されるものと同じ意味を有する。本明細書に記載された方法および材料と同様なまたは等価な方法および材料を本発明の実施形態の実施または試験において用いることができるが、好適な方法および材料は以下に記載される。矛盾がある場合、定義を含む本明細書が優先される。さらに、材料、方法、および実施例はあくまで例示であり、限定されるものではない。
【００１６】
本明細書に記載されない範囲の、具体的な材料、処理行為、および回路に関する多くの詳細は従来通りであり、それらは、有機発光ダイオードディスプレイ、光検出器、光電池、および半導体要素の技術分野の教科書およびその他の情報源中に見ることができる。
【００１７】
用語「メッシュ」は本明細書においてはウェブ様のパターンまたは構造を意味する。メッシュは、たとえば、自立スクリーン、およびベース層上に付着させられたまたは取り付けられたウェブ様パターンを含む。
【００１８】
用語「熱画像形成ドナー」および「熱転写ドナー」は、本明細書においては同じ意味で用いることができ、同義語であることを意図される。
【００１９】
本発明の一実施形態は、高い伝導性を有するパターニングされた金属層の製造方法である。この方法は、ベース基体上にパターニングされた触媒層を含むパターニングされた基体を提供することを必要とする。この実施形態は、パターニングされた基体が、
（ａ）ベースフィルムおよび触媒転写層を含む熱転写ドナーを提供する工程であって、触媒転写層が、（ｉ）触媒画分；場合により（ｉｉ）付着促進剤画分；および、場合よりおよび独立して、（ｉｉｉ）ポリマーバインダー画分を含む工程；
（ｂ）熱転写ドナーをレシーバーと接触させる工程であって、レシーバーがベース層を含む工程；ならびに
（ｃ）触媒転写層の少なくとも一部を熱転写によってレシーバー上に転写して、パターニングされたレシーバーを前記パターニングされた基体として提供する工程
を含む熱画像形成方法によって製造されるステップの後；
金属を前記パターニングされた基体上にめっきして、パターニングされた基体と接続したパターニングされた金属層を提供するステップ
を含む熱画像形成方法によって製造されることを必要とする。この方法によって提供されるパターニングされた金属層は、基体に付着するまたは、必要に応じて、基体から分離される金属メッシュの形態にあってもよい。
【００２０】
本明細書において、先ず、高い伝導性を有するパターニングされた金属層を得るための；熱画像形成方法に必要とされる熱転写ドナーの詳細が；その後、熱画像形成方法およびめっきステップの詳細が開示される。
【００２１】
熱転写ドナー
本発明の一実施形態は、多層熱転写ドナーである。種々の実施形態において熱転写ドナーは、積層順で、ベースフィルム、および任意選択のＬＴＨＣ層、触媒転写層および任意選択の保護可剥性カバー層を含む。他の実施形態は、ベースフィルムと触媒転写層との間に介在するおよび／または金属転写層のトップ上に存在する１つ以上の追加層を含むことができる。したがって、１つ以上の他の従来の熱転写ドナー要素層を熱画像形成ドナー中に含むことができ、そのような層としては中間層、プライマー層、剥離層、放出層、断熱層、下層、接着層、湿潤剤層、および光減衰層が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２２】
図１Ａは、本発明の一実施形態による熱画像形成ドナー１００の断面図である。熱画像形成ドナー１００は、ベースフィルム１０２、およびベースフィルム１０２の表面上にある触媒層１０６を含む。ベースフィルム１０２は、熱画像形成ドナー１００の他の層を支持する。ベースフィルム１０２は、好ましくは透明である可撓性ポリマーフィルムを含む。ベースフィルム１０２の好適な厚さは約２５μｍ〜約２００μｍであるが、より厚いまたはより薄い支持層を使用することもできる。ベースフィルムは、延伸フィルムを形成するために、当技術分野において周知の標準的な方法で延伸することができ、光熱変換（ＬＴＨＣ）層などの１種類以上の他の層をベースフィルム上にコーティングした後に、延伸プロセスを完了することができる。好ましいベースフィルムは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、トリアセチルセルロース、およびポリイミドからなる群から選択される材料を含む。
【００２３】
光減衰剤（吸収剤または拡散剤）は、別個の層中に存在することができるし、ベースフィルム、ＬＴＨＣ層、または触媒層などの熱転写ドナーの他の機能層の１つの中に混入することもできる。一実施形態においては、ベースフィルムは、熱画像形成ステップ中にＬＴＨＣ層中の放射線吸収剤上に放射線源が集中するのを補助できる染料などの光減衰剤を少量（典型的にはベースフィルムの０．２％〜０．５重量％）含み、それによって熱転写の効率が改善される。参照として本明細書に援用される米国特許第６６４５６８１号明細書（参照により本明細書に援用される）には、レーザー放射線源の集中を補助するためにベースフィルムを改質できる上記およびその他の方法が記載されており、レーザー放射線源の装置は、画像形成レーザーおよび非画像形成レーザーを含み、非画像形成レーザーは、画像形成レーザーと連絡する光検出器を有する。画像形成レーザーおよび非画像形成レーザーが動作する波長範囲（典型的には約３５０ｎｍ〜約１５００ｎｍの範囲内）によって、吸収剤および／または拡散剤が活性および不活性となる波長範囲が決定される。たとえば、非画像形成レーザーが６７０ｎｍ領域付近で動作し、画像形成レーザーが８３０ｎｍで動作する場合、吸収剤および／または拡散剤の作用によって、８３０ｎｍ領域ではなく６７０ｎｍ領域内の波長の光が吸収または拡散されることが好ましい。本発明においては、光減衰剤は、好ましくは可視領域内の光を吸収または拡散し、一実施形態においては６７０ｎｍ付近の光を吸収する。好適な光減衰剤は当技術分野において周知であり、そのようなものとしては、市販のディスパース・ブルー（Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｂｌｕｅ）６０およびソルベント・グリーン（Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ）２８染料、ならびにカーボンブラックが挙げられる。好ましくは光減衰剤の量は、約４００〜約７５０ｎｍのある波長において光学濃度（ＯＤ）が０．１以上、より好ましくは約０．３〜約１．５となるのに十分な量である。
【００２４】
光熱変換層（ＬＴＨＣ）
本発明の熱画像形成ドナーは、場合により、図１Ｂに示されるようにベースフィルムと別の層との間に介在する光熱変換層（ＬＴＨＣ）を有することができる。熱画像形成ドナー１００は、ベースフィルム１０２と触媒層１０６との間に介在するＬＴＨＣ層１０８を含む。ＬＴＨＣ層１０８は、放射線誘導熱転写のための熱画像形成ドナー１００の一部として組み込まれ、発光源から熱転写ドナー内に放射される光エネルギーと結合する。典型的には、ＬＴＨＣ層（または別の層）中の放射線吸収剤は、電磁スペクトルの赤外領域、可視領域、および／または紫外領域内の光を吸収し、吸収した光を熱に変換する。放射線吸収剤は、典型的には高吸収性であり、画像形成放射線の放射線におけるＯＤが０．１〜３以上、好ましくは０．２〜２となる。好適な放射線吸収材料としては、たとえば、染料（たとえば、可視染料、紫外染料、赤外染料、蛍光染料、および放射線偏光染料）、顔料、金属、金属化合物、金属化フィルム、および他の好適な吸収材料を挙げることができる。
【００２５】
ＬＴＨＣ層の好適な放射線吸収剤およびバインダーは、当技術分野において周知であり、それらの一覧および参考文献は、例えば国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／３８０１０号明細書、国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／３８００９号明細書；米国特許第６，２２８，５５５Ｂ１号明細書；マツオカ（Ｍａｔｓｕｏｋａ），Ｍ．，「赤外吸収材料」（Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ａｂｓｏｒｂｉｎｇ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ），プレナム・プレス（Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓｓ）、ニューヨーク（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ），１９９０；およびマツオカ（Ｍａｔｓｕｏｋａ），Ｍ．，ダイオードレーザー用染料の吸収スペクトル（Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒａ ｏｆ Ｄｙｅｓ ｆｏｒ Ｄｉｏｄｅ Ｌａｓｅｒｓ）、ぶんしん出版（Ｂｕｎｓｈｉｎ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．），東京，１９９０に見ることができる。
【００２６】
ＬＴＨＣ層用の好ましい種類の近赤外染料は、インドシアニン、多置換フタロシアニンや金属含有フタロシアニンなどのフタロシアニン、およびメロシアニンからなる群から選択されるシアニン化合物である。好適な赤外吸収染料の供給元としては、Ｈ．Ｗ．サンズ社（Ｈ．Ｗ．Ｓａｎｄｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）（米国フロリダ州ジュピター（Ｊｕｐｉｔｅｒ，ＦＬ，ＵＳ））、アメリカン・サイアナミッド社（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｙａｎａｍｉｄ Ｃｏ．）（ニュージャージー州ウェイン（Ｗａｙｎｅ，ＮＪ））、サイテック・インダストリーズ（Ｃｙｔｅｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ）（ニュージャージー州ウエストパターソン（Ｗｅｓｔ Ｐａｔｅｒｓｏｎ，ＮＪ））、グレンデール・プロテクティブ・テクノロジーズ社（Ｇｌｅｎｄａｌｅ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ．）（フロリダ州レークランド（Ｌａｋｅｌａｎｄ，ＦＬ））およびハンプフォード・リサーチ社（Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃ．）（コネチカット州ストラトフォード（Ｓｔｒａｔｆｏｒｄ，ＣＴ））が挙げられる。ＬＴＨＣ、キャリア層、および転写層用の好ましい染料は、ＣＡＳ番号［１２８４３３−６８−１］および分子量約６１９グラム／モルを有し、コネチカット州ストラトフォードのハンプフォード・リサーチ社（Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃ，Ｓｔｒａｔｆｏｒｄ，ＣＴ）よりＴＩＣ−５ｃとして入手可能な２−［２−［２−クロロ−３−［（１，３−ジヒドロ−１，３，３−トリメチル−２Ｈ−インドール−２−イリデン）エチリデン］−１−シクロペンテン−１−イル］エテニル］−１，３，３−トリメチル−３Ｈ−インドリウムのトリフルオロメタンスルホン酸（１：１）との塩；ＣＡＳ番号［１６２４１１−２８−１］を有しＨ．Ｗ．サンズ社（Ｈ．Ｗ．Ｓａｎｄｓ Ｃｏｒｐ）よりＳＤＡ ４９２７として入手可能な２−（２−（２−クロロ−３−（２−（１，３−ジヒドロ−１，１−ジメチル−３−（４−スルホブチル）−２Ｈ−ベンズ［ｅ］インドール−２−イリデン）エチリデン）−１−シクロヘキセン−１−イル）エテニル）−１，１−ジメチル−３−（４−スルホブチル）−１Ｈ−ベンズ［ｅ］インドリウム、分子内塩、遊離酸；ならびにＨ．Ｗ．サンズ社（Ｈ．Ｗ．Ｓａｎｄｓ Ｃｏｒｐ）のインドレニン染料ＳＤＡ ２８６０およびＳＤＡ ４７３３である。ＳＤＡ ４９２７はＬＴＨＣ層用に特に好ましい染料である。
【００２７】
ＬＴＨＣ層は、バインダー中に粒子状放射線吸収剤を含むことができる。好適な顔料の例としてはカーボンブラックおよび黒鉛が挙げられる。
【００２８】
重量パーセントの計算において溶媒を排除した層中の放射線吸収剤の重量パーセントは、一般に１重量％〜８５重量％、好ましくは３重量％〜６０重量％、最も好ましくは５重量％〜４０重量％であり、これはＬＴＨＣ層中に使用される個別の放射線吸収剤およびバインダーによって変動する。
【００２９】
ＬＴＨＣ層中に使用すると好適なバインダーとしては、たとえば、フェノール樹脂（たとえば、ノボラックおよびレゾール樹脂）、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレート、およびスチレンアクリル樹脂などのフィルム形成性ポリマーが挙げられる。ＬＴＨＣ層の％透過率は、放射線吸収剤の種類および量、ならびにＬＴＨＣ層の厚さの影響を受ける。ＬＴＨＣ層は、好ましくは、熱転写画像形成方法において使用される画像形成放射線の波長における放射線透過率が約２０％〜約８０％、より好ましくは約４０％〜約５０％である。バインダーが存在する場合、放射線吸収剤対バインダーの重量比は、一般に重量で約５：１〜約１：１０００、好ましくは重量で約２：１〜約１：１００である。ポリマーまたは有機のＬＴＨＣ層は、０．０５μｍ〜２０μｍ、好ましくは、０．０５μｍ〜１０μｍ、より好ましくは、０．１０μｍ〜５μｍの厚さにコーティングされる。
【００３０】
本発明の好ましい実施形態においては、ＬＴＨＣ層は、前出の参考文献の国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／３８０１０号明細書および国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／３８００９号明細書に開示されるような組成を有する多種多様の水溶性または水分散性のポリマーバインダーを含むことができる。好ましくは、水分散性バインダーのその水相中の平均粒度は、０．１ミクロン未満であり、より好ましくは０．０５ミクロン未満であり、好ましくは狭い粒度分布を有する。本発明において有用なＬＴＨＣ層に好ましい水溶性または水分散性のポリマーバインダーは、アクリル樹脂および親水性ポリエステルの群から選択されるものであり、より好ましくは前出の参考文献の国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／３８００９号明細書に記載されるようなスルホン化ポリエステルから選択されるものである。
【００３１】
ＬＴＨＣ層の他の好ましいポリマーバインダーは、無水マレイン酸ポリマー、ならびに無水マレイン酸ポリマーおよび／またはコポリマーをアルコール、アミン、およびアルカリ金属水酸化物で処理することによって得られる官能性を有するものなどのコポリマーである。無水マレイン酸系コポリマーの特定の種類は式（ＩＩＩ）で表される構造を含み
【化１】
上式中、ｘおよびｚは任意の正の整数であり；
ｙは、０または任意の正の整数であり；
Ｒ２１およびＲ２２は、同種の場合も異種の場合もあり、個別に水素、アルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、およびハロゲンであり、但しＲ２１およびＲ２２の１つは芳香族基であり；
Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１、およびＲ４２は、同種または異種であり、水素、または１〜約５個の炭素原子のアルキルであってよく；
Ｒ５０は：
ａ）１〜約２０個の炭素原子を含有するアルキル基、アラルキル基、アルキル置換アラルキル基；
ｂ）１〜約２０個の繰り返し単位であってよい、各オキシアルキレン基中に約２〜約４個の炭素原子を含有するアルキル基、アラルキル基、アルキル置換アラルキル基のオキシアルキル化誘導体；
ｃ）１〜約６個の繰り返し単位であってよい、各オキシアルキレン基中に約２〜約４個の炭素原子を含有するアルキル基、アラルキル基、アルキル置換アラルキル基のオキシアルキル化誘導体；
ｄ）少なくとも１つの不飽和部分；
ｅ）少なくとも１つのヘテロ原子部分；
ｆ）Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、およびＮＨ４＋から選択される塩を形成することができるアルカリ分子；ならびに
ｇ）それらの組み合わせから選択される官能基である。
【００３２】
ＬＴＨＣ層の好ましい無水マレイン酸ポリマーの１つは、Ｒ２１、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３が個別に水素であり、Ｒ２２がフェニルであり、Ｒ５０が２−（ｎ−ブトキシ）エチルである式（ＩＩＩ）のコポリマーを含む。ＬＴＨＣ層において有用な無水マレイン酸コポリマーの具体例の１つは、ペンシルバニア州エクストンのサートマー社（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｅｘｔｏｎ，ＰＡ）の製品のＳＭＡ１４４０Ｈなどのスチレン無水マレイン酸コポリマーである。
【００３３】
本発明の一実施形態においては、好ましいＬＴＨＣ層の１つは、インドシアニン、多置換フタロシアニンや金属含有フタロシアニンなどのフタロシアニン、およびメロシアニンからなる群から選択される１種類以上の水溶性または水分散性の放射線吸収性シアニン化合物と；アクリル樹脂、親水性ポリエステル、スルホン化ポリエステル、ならびに無水マレイン酸ホモポリマーおよびコポリマーからなる群から選択される１種類以上の水溶性のまたは水分散性のポリマーバインダーとを含む。最も好ましいＬＴＨＣ層の１つは：第４級アンモニウム陽イオン化合物；ホスフェート陰イオン化合物；ホスホネート陰イオン化合物；１〜５個のエステル基と２〜１０個のヒドロキシル基とを含む化合物；アルコキシル化アミン化合物；およびそれらの組み合わせからなる群から選択される１種類以上の剥離改質剤をさらに含む。
【００３４】
米国特許第５，２５６，５０６号明細書に記載されているように、粒子の形態、あるいは熱蒸着、ｅ−ビーム加熱、およびスパッタリングなどの種々の技術によって堆積されたフィルムとしてのいずれかで、金属放射線吸収剤をＬＴＨＣ層として使用することもできる。ニッケルおよびクロムがＬＴＨＣ層１０８に好ましい金属であり、クロムが特に好ましい。加熱層用に、あらゆる他の好適な金属を使用することもできる。金属加熱層の好ましい厚さは、使用される金属の光吸収に依存する。クロム、ニッケル／バナジウム合金、またはニッケルの場合、８０〜１００オングストロームの層が好ましい。
【００３５】
本発明において使用されるＬＴＨＣ層に好ましい放射線吸収剤は、ＣｒおよびＮｉから選択される金属膜、カーボンブラック、黒鉛からなる群から選択され、ならびに特に好ましくは、ＬＴＨＣ層内で約６００〜１２００ｎｍの範囲内の吸収極大を有する近赤外染料である。
【００３６】
触媒転写層
熱転写によって提供される触媒転写層およびパターニングされた触媒層は、（ｉ）触媒画分；場合により（ｉｉ）付着促進剤画分；ならびに、場合によりおよび独立して、（ｉｉｉ）ポリマーバインダー画分を含む。触媒転写層は、非伝導層または伝導層であることができる。触媒転写層の厚さは、約５ｎｍ〜約５μｍ、より好ましくは約１００ｎｍ〜約３μｍのいずれかの厚さであることができる。
【００３７】
触媒画分は、パターニングされた触媒層の必須の特性、処理条件、めっき方法などに依存して、伝導性材料、または非伝導性材料であることができる。触媒画分は、基体に適用されるときに、めっきを、あるいは電解めっきまたは無電解めっき条件にかけられるときに、金属堆積を提供することができる１種以上の触媒を含む。
【００３８】
無電解めっき用の一般的な触媒は、「Ｅｌｅｃｔｒｏｌｅｓｓ Ｎｉｃｋｅｌ Ｐｌａｔｉｎｇ（無電解ニッケルめっき）」、Ｗｏｌｆｇａｎｇ Ｒｉｅｄｅｌ，Ｆｉｎｉｓｈｉｎｇ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ Ｌｔｄ（Ｓｔｅｖｅｎａｇｅ，ＵＫ）、（１９９１年）に、具体的には３４−３６ページで議論されている。電解めっき用の一般的な触媒は、「Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌｓ ｏｆ Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ（電気化学堆積の基礎、第２版）」、Ｍｉｌａｎ Ｐａｕｎｏｖｉｃ ａｎｄ Ｍｏｒｄｅｃｈａｙ Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．（２００６年）に議論されているような金属および伝導形態のカーボンなどの伝導性材料である。
【００３９】
一実施形態において触媒画分は、群：（１）粉末およびコロイドなどの、金属粒子；（２）金属酸化物；（３）有機金属錯体；（４）金属塩；（５）セラミックス、および金属塩、金属酸化物、金属錯体、金属またはカーボンでコーティングされた他の非伝導体粉末；ならびに（６）すべての伝導性形態でのカーボンから選択される１種以上の触媒を含み；（１）〜（５）の各金属はＡｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｓｎおよびそれらの合金からなる群から選択される。
【００４０】
触媒として有用な金属合金の例は、ステンレス鋼、炭素鋼、低−および高−合金鋼；ならびにニッケル、銅、アルミニウム、マグネシウム、ベリリウム、チタン、亜鉛、モリブデン、タングステン、スズ、鉛、銀およびマンガンの合金である。基体の包括的リストは、Ｇａｗｒｉｌｏｖ，Ｇ．Ｇ．：「Ｃｈｅｍｉｃａｌ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｅｓｓ）Ｎｉｃｋｅｌ Ｐｌａｔｉｎｇ（化学（無電解）ニッケルめっき）」、Ｐｏｒｔｃｕｌｌｉｓ Ｐｒｅｓｓ（Ｒｅｄｈｉｌｌ，ＵＫ）１９７９年；およびＳｉｍｏｎ，Ｈ．：Ｇａｌｖａｎｏｔｅｃｈｎｉｋ、７４（１９８３）、７７６−７７１ページに見つけることができる。
【００４１】
一実施形態においては、触媒は、インジウム−スズ−酸化物（ＩＴＯ）、アンチモン−スズ−酸化物（ＡＴＯ）、酸化スズ、フッ素ドープ酸化スズ、酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、および亜鉛スズ酸化物（ＺＴＯ）などの透明伝導性酸化物などのドープおよび非ドープ金属酸化物粒子；それらの合金から選択される伝導性金属酸化物である。
【００４２】
一実施形態において触媒画分は、約５ｎｍ〜約１５００ｎｍの平均最長寸法を有する金属粒子を含む。
【００４３】
別の実施形態において触媒画分は、１種以上の有機金属錯体を含む。使用することができる有機金属錯体の例としては、アセチルアセトナト白金、シス−ビス（ベンゾニトリル）ジクロロ白金、アセチルアセトナトパラジウム、ビス（ベンジリデンアセトン）パラジウム、ビス（ベンゾニトリル）ジクロロパラジウム、ビス［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム、ヘキサフルオロアセチル−アセトナトパラジウムなどが挙げられる。
【００４４】
別の実施形態において触媒画分は、１種以上の金属塩、たとえば、酢酸パラジウムおよび塩化パラジウムを含む。
【００４５】
触媒として有用な白金コロイド懸濁液は、Ｓｈａｈ，Ｐ．ら、Ｌａｎｇｍｕｉｒ １５（１９９９）、１５８４−１５８７ページに開示されているように塩化白金酸（白金酸水素ヘキサクロル）から調製することができる。一般的に使用されるパラジウムコロイドは、Ｈｉｄｂｅｒ，Ｐ．Ｃ．ら、Ｌａｎｇｍｕｉｒ、１２（１９９６）、５２０９−５２１５ページに開示されているような臭化テトラオクタデシルアンモニウム安定化パラジウムコロイドである。
【００４６】
付着促進剤
種々の実施形態において触媒転写層は、熱転写が完了した後にレシーバーのベース層へのパターニングされた触媒層の接合を改善するのに有用である付着促進剤を有する。付着促進剤はまた、めっきが完了した後にパターニングされた基体へのパターニングされた触媒層の接合を改善する傾向がある。特定の付着促進剤では、典型的にはガラスフリットおよび金属酸化物では、基体へのパターニングされた触媒層およびパターニングされた金属層の最適な付着を実現するために加熱またはアニーリングなどの追加の処理が必要とされる。一実施形態において触媒層は、触媒層の総重量を基準にして、約０．５〜約１０重量％、好ましくは約１．０〜約４．０重量％の付着促進剤画分を含む。
【００４７】
付着促進剤として有用なガラスフリットは通常、約２００〜７００℃、好ましくは約３５０〜７００℃、より好ましくは４００〜６２０℃の軟化点を有する。付着促進剤として有用なガラスフリットは典型的には、約１００ｎｍ〜約５ミクロン；好ましくは約１００ｎｍ〜約８００ｎｍの平均粒度を有する。しかし、必要に応じて、１００ｎｍ未満の平均粒度のガラスフリットを付着促進剤として使用することができる。ガラスフリットは好適には、上記の範囲の軟化点を有する従来のガラスフリットから選択され、次にベーキングされる。従来のガラスフリットの例としては、元素Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｎａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｏ、Ｂａ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｗ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｃｏ、Ｒｕ、Ｖ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｃｅ、Ｃｄ、およびＰの酸化物を含む上記範囲の低い軟化点を有するガラスフリットが挙げられる。具体的なガラスは、ＰｂＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３ガラス、ＰｂＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＺｎＯガラス、ＰｂＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３−ＺｎＯガラス、Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３ガラス、ＺｎＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３ガラスなどを含む。これらの材料は、独立してかまたは組み合わせて付着促進剤として使用することができる。一実施形態において付着促進剤画分は、ガラスフリットが使用されるとき、触媒層の総重量を基準にして、０．５〜約１０重量％、好ましくは１．０〜約４．０重量％である。
【００４８】
付着促進剤として有用な金属酸化物は、たとえば、Ｎａ２Ｏ、ＣａＯ、ＣｄＯ、ＢａＯ、ＺｒＯ、ＺｎＯ、ＭｇＯ、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＦｅＯ、ＭｎＯ、ＰｂＯおよびそれらの組み合わせ；ならびにＳｉＯ２と組み合わせてであることができる。
【００４９】
付着促進剤として有用な金属水酸化物およびアルコキシドは、周期表の族ＩＩＩａ〜ＶＩＩＩａ、Ｉｂ、ＩＩｂ、ＩＩＩｂ、およびＩＶｂならびにランタニド類のそれらを含む。具体的な付着促進剤は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、およびＢからなる群から選択される金属の金属水酸化物およびアルコキシドである。好ましい金属水酸化物およびアルコキシドはＴｉおよびＺｒのそれらである。具体的な金属アルコキシド付着促進剤は、式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）：
【化２】
の化合物などのチタネートおよびジルコネート・オルトエステルおよびキレートであり、上式中、
ＭはＴｉまたはＺｒであり；
Ｒは一価のＣ１〜Ｃ８の直鎖または分岐鎖アルキルであり；
Ｙは、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２−、または−ＣＨ２ＣＨ２−から選択される二価の基であり；
Ｘは、ＯＨ、−Ｎ（Ｒ１）２、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ３、−Ｃ（Ｏ）Ｒ３、−ＣＯ２−Ａ＋から選択され；ここで、
Ｒ１は、場合によりヒドロキシルで置換されたまたはエーテル酸素で割り込まれた、−ＣＨ３あるいはＣ２〜Ｃ４の直鎖または分岐鎖アルキルであり；但し１個以下のヘテロ原子がどれか一個の炭素原子に結合しており；
Ｒ３はＣ１〜Ｃ４の直鎖または分岐鎖アルキルであり；
Ａ＋は、ＮＨ４＋、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、またはＫ＋から選択される。
【００５０】
一実施形態において付着促進剤画分は、金属水酸化物およびアルコキシドが付着促進剤画分として使用されるとき、触媒層の総重量を基準にして、約０．５〜約２０重量％、好ましくは約０．５〜約５．０重量％である。付着促進剤として有用な市販のチタネートおよびジルコネート・オルトエステルおよびキレートは、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ，Ｉｎｃ．（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ）から入手可能なＴＹＺＯＲ（登録商標）有機チタネートおよびジルコネートである。具体的な有機ジルコネートはＴＹＺＯＲ（登録商標）２１２、２１７、ＴＥＡＺ、およびＣｌ−２４有機ジルコネートである。具体的な有機チタネートはＴＹＺＯＲ（登録商標）ＴＥおよびＬＡ有機チタネートである。
【００５１】
付着促進剤として有用なシリケート水酸化物およびアルコキシドは式（ＩＶ）
（Ｒ１１Ｏ）４−ｍＳｉ（Ｒ１２）ｍ
のものを含み、
上式中、
ｍは０、１、２、または３に等しい整数であり；
Ｒ１１は水素あるいはＣ１〜Ｃ６の直鎖または分岐鎖アルキルであり；
Ｒ１２は、場合により１または２個の炭素−炭素二重結合を有し、場合により−ＮＨ２、−ＣＮ、−ＮＣＯ、または−ＯＣ（Ｏ）−ＣＲ１３＝ＣＨ２（ここで、Ｒ１３は水素またはＣ１〜Ｃ４アルキルである）で置換された、Ｃ１〜Ｃ１２の直鎖または分岐鎖アルキルである。
【００５２】
本発明に有用なシリケートアルコキシドの具体例は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、トリメトキシメチルシラン、トリエトキシメチルシラン、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、および３−シアノプロピルトリメトキシシランである。
【００５３】
一実施形態において付着促進剤画分は、シリケート水酸化物およびアルコキシドが付着促進剤画分として使用されるとき、触媒層の総重量を基準にして、約０．５〜約２０重量％、好ましくは約０．５〜約５．０重量％である。
【００５４】
付着促進剤として有用な有機ポリオールは、１分子当たり２個以上のヒドロキシル基を有する、および約３０〜約２００ｇ／当量、好ましくは約３０〜約１００ｇ／当量、より好ましくは約３０〜約６０ｇ／当量のヒドロキシル当量を有する有機ポリオールを含む。より具体的な一実施形態において付着促進剤として有用な有機バインダーは、それぞれ場合により１種以上の−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（Ｏ）−、および−ＮＲ１１Ｃ（Ｏ）−（ここで、Ｒ１１は水素あるいはＣ１〜Ｃ６の直鎖または分岐鎖アルキルである）で割り込まれた；Ｃ２〜Ｃ６０の直鎖または分岐鎖アルキル；Ｃ５〜Ｃ６０の脂環式；および直鎖または分岐鎖アルキルと脂環式基との組み合わせからなるＣ６〜Ｃ６０基からなる群から選択される有機ポリオールである。一実施形態においては、付着促進剤画分は、エチレングリコール、グリコール誘導体、グリセロールおよびグリセロール誘導体、ペンタエリスリトール（ＣＡＳ［１１５−７７−５］）、トリメチロールプロパン（ＣＡＳ［７７−９９−６］）、ジペンタエリスリトール（ＣＡＳ［１２６−５８−９］）、ジトリメチロールプロパン（ＣＡＳ［２３２３５−６１−２］）、ソルビトール（ＣＡＳ［５０−７０−４］）、ソルビタンモノオレエート（ＣＡＳ［１３３８−４３−８］）、ソルビタンモノラウレート（ＣＡＳ［１３３８−３９−２］）、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（ＣＡＳ［１１５−８４−４］）、２−メチル−１，３−プロパンジオール（ＣＡＳ［２１６３−４２−０］）、ネオペンチルグリコール（ＣＡＳ［１２６−３０−７］）、１，４−ブタンジオール（ＣＡＳ［１１０−６３−４］）、および１，６−ヘキサンジオール（ＣＡＳ［６２９−１１−８］）から選択される少なくとも１種のポリオールを含有することができる。
【００５５】
一実施形態においては、付着促進剤画分として有用な有機バインダーは、エトキシル化ペンタエリスリトール（ＣＡＳ［４２５０３−４３−７］）、プロポキシル化ペンタエリスリトール（ＣＡＳ［９０５１−４９−４］）、エトキシル化トリメチロールプロパン付加体、たとえば１モルの成分当たり３〜８モルのエチレンオキシドでのエトキシル化に相当するもの（ＣＡＳ［５０５８６−５９−９］）、１モルの成分当たり３〜９モル当量でのプロピレンオキシドに相当するエトキシル化トリメチロールプロパンプロピレンオキシド付加体（ＣＡＳ［２５７２３−１６−４］）、１モルの成分当たり２０〜８０のエチレンオキシドモルでのエチレンオキシド付加体に相当するエトキシル化ソルビタンモノオレエート（ＣＡＳ［９００５−６５−６］）、およびエトキシル化ソルビタンモノラウレート（ＣＡＳ［９００５−６４−５］）などのエトキシル化またはプロポキシル化化合物の少なくとも１種を含有することができる。
【００５６】
一実施形態においては、付着促進剤画分として有用な有機バインダーは、超分岐ポリオール、たとえば樹枝状超分岐ポリオール、超分岐樹枝状ポリエーテルまたはポリエステル、超分岐ポリエーテルまたはポリエステル、アーボロール（ａｒｂｏｒｏｌ）、樹枝状またはカスケード状超分子およびそれらの超分岐一族、または１個以上の反応性ヒドロキシル基を有するポリエステル型の樹枝状高分子を含有することができる。そのような超分岐ポリオールは、たとえば「Ｄｅｎｄｒｉｔｉｃ Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ ａｎｄ Ｐｒｏｃｅｓｓ ｆｏｒ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ Ｔｈｅｒｅｏｆ（樹枝状高分子およびそれの製造方法）」という表題のＰｅｒｓｔｏｒｐ ＡＢに譲渡されたＨｕｌｔらの米国特許第５，４１８，３０１号明細書、「Ｈｙｐｅｒｂｒａｎｃｈｅｄ Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ ｆｒｏｍ Ｅｐｏｘｉｄｅ Ｎｕｃｌｅｕｓ ａｎｄ Ｈｙｄｒｏｘｙ−ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ Ａｃｉｄ Ｃｈａｉｎ Ｅｘｔｅｎｄｅｒｓ（エポキシド核およびヒドロキシ官能性カルボン酸連鎖延長剤からの超分岐高分子）」という表題のＰｅｒｓｔｏｒｐ ＡＢに譲渡されたＳｏｒｅｎｓｅｎらの米国特許第５，６６３，２４７号明細書、「Ｈｙｐｅｒｂｒａｎｃｈｅｄ Ｄｅｎｄｒｉｔｉｃ Ｐｏｌｙｅｔｈｅｒ ａｎｄ Ｐｒｏｃｅｓｓ ｆｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ Ｔｈｅｒｅｏｆ（超分岐樹枝状ポリエーテルおよびそれらの製造方法）」という表題のＰｅｒｓｔｏｒｐ ＡＢに譲渡されたＭａｇｎｕｓｓｏｎらの米国特許第６，６１７，４１８号明細、および「Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｐｒｏｄｕｃｉｎｇ Ｈｉｇｈｌｙ−Ｂｒａｎｃｈｅｄ Ｇｌｙｃｉｄｏｌ−ｂａｓｅｄ Ｐｏｌｙｏｌｓ（高度分岐グリシドール系ポリオールの製造方法）」という表題のＢａｙｅｒ Ａｋｔｉｅｎｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔに譲渡されたＳｕｎｄｅｒらの米国特許第６，７６５，０８２号明細書に記載されている。市販の超分岐鎖ポリオール製品は、Ｐｅｒｓｔｏｒｐのもの、たとえば、１６、１２、６．４、３２、６４、１４、および詳細不明の１分子当たりのそれぞれの平均ＯＨ官能性、ならびに２１００、２５００、３２００、３５００、５４００、１５００、および詳細不明のそれぞれの平均相対分子質量のＢｏｌｔｏｒｎ Ｈ２０、Ｈ２００３、Ｈ２００４、Ｈ３０、Ｈ４０、Ｐ１０００、およびＨ３１１を含む。超分岐ポリオールの例としては、ペンタエリスリトールをベースとするポリエーテル構造（Ｖ）およびポリエステル構造（ＶＩ）：
【化３】
【００５７】
【化４】
が挙げられる。
【００５８】
一実施形態においては、付着促進剤画分として有用な有機バインダーは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（Ｏ）−、および−ＮＲ１１Ｃ（Ｏ）−で割り込まれた分岐鎖アルキルを含有することができる。−ＯＣ（Ｏ）−で割り込まれたポリオールの具体例は上に示される。アミドポリオールと呼ばれる、−ＮＲ１１Ｃ（Ｏ）−で割り込まれたポリオールの具体例は、ＥＭＳ Ｃｈｅｍｉｅ（Ｄｏｍａｔ／Ｅｍｓ，Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ）からＰＲＩＭＩＤ（登録商標）ＸＬ５５２ポリオールとして商業的に入手可能な、式（ＶＩＩ）である。
【化５】
【００５９】
一実施形態において付着促進剤画分は、有機ポリオールが付着促進剤画分として使用されるとき、触媒層の総重量を基準にして、約０．５〜約２０重量％、好ましくは約０．５〜約５．０重量％である。
【００６０】
ポリマーバインダー画分
触媒層は、場合により、および付着促進剤が存在するかどうかとは無関係に、ポリマーバインダー画分を有する。一実施形態において触媒層は、ポリマーバインダー画分を有し、好ましくは、ポリマーバインダーは、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリヘテロ芳香族ビニレン、およびそれらの誘導体からなる群から選択される１種以上の伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；アクリルラテックス、スチレンラテックスおよびスチレン−アクリルラテックス；溶液系のアクリル系ポリマー、スチレン系ポリマーおよびスチレン−アクリル系ポリマー；ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される１種以上の非伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；エチレンと、アルキル（メタ）アクリレート（ここで、アルキル基はＣ１〜Ｃ１８の直鎖または分岐鎖アルキルである）、ノルボルネン、酢酸ビニル、一酸化炭素、（メタ）アクリル酸からなる群から選択される１種以上のモノマーとのコポリマー；ならびにポリ酢酸ビニルおよびそのコポリマー；酢酸ビニル、塩化ビニル、ビニルブチルアルデヒド、ビニルアルコールおよびビニルピロリドンからなる群から選択される繰り返し単位を含むビニル（コ）ポリマーまたは（コ）オリゴマー；ポリ（４−ビニル）ピリジン、ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、部分水素化ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、およびそれらのコポリマーからなる群から選択されるヘテロ原子置換スチレン系ポリマー；フェノール−アルデヒド（コ）ポリマーおよび（コ）オリゴマーならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００６１】
一実施形態においてポリマーバインダー画分は、アクリルラテックスおよびスチレン−アクリルラテックス、ならびにランダムおよびグラフトコポリマーなどの溶液系のアクリル系（コ）ポリマーおよびスチレン−アクリル系（コ）ポリマー；ならびにそれらの組み合わせ；エチレンと、（メタ）アクリレート、酢酸ビニル、一酸化炭素および（メタ）アクリル酸からなる群から選択される１種以上のモノマーとのコポリマー；ポリ酢酸ビニルおよびそのコポリマー；ならびにポリビニルピロリドンおよびポリビニルピロリドン−コ−酢酸ビニルなどのそのコポリマーからなる群から選択されるポリマーを含む。好ましくはラテックスは、約１５０ｎｍ未満、より好ましくは、約１００ｎｍ未満の平均粒度を有する。好ましい溶液系のアクリル系ポリマー、スチレン系ポリマーおよびスチレン−アクリル系ポリマーは約１００，０００未満、好ましくは５０，０００未満、より好ましくは３０，０００未満のＭｗを有する。一実施形態においてポリマーバインダー画分は約１０〜約３００の酸価を有する。この酸価は、ラテックスまたは溶液ポリマー中の酸官能性を中和するために必要とされる、標準中和技術によって測定されるような、１グラム当たりのＫＯＨのマルチ当量である。酸官能性は一般に、アクリル酸、メタクリル酸等々の、エチレン性不飽和カルボン酸の共重合によってアクリル系ポリマーおよびスチレン−アクリル系ポリマーに組み込まれる。ポリマーバインダーとして有用な溶液系のアクリル系ポリマーおよびスチレンアクリル系ポリマーの市販の例としては、Ｃａｒｂｏｓｅｔ（登録商標）ＧＡ２３００（Ｎｏｖｅｏｎ）、Ｊｏｎｃｒｙｌ（登録商標）６３（Ｊｏｈｎｓｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ）、およびＥｌｖａｃｉｔｅ（登録商標）２０２８（Ｌｕｃｉｔｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ）が挙げられる。ポリマーバインダーとして有用なアクリルラテックスおよびスチレンアクリルラテックスの市販の例としては、Ｊｏｎｃｒｙｌ（登録商標）９５、５３８および１９１５（コ）ポリマー（Ｊｏｈｎｓｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ）が挙げられる。好適なラテックスポリマーの合成方法は国際公開第０３／０９９５７４号パンフレットに報告されている。
【００６２】
一実施形態において触媒層およびパターニングされた触媒層は、約１．０〜９９重量％の触媒画分；約０．５〜１０重量％の付着促進剤画分；および約０．５〜９８．５重量％のポリマーバインダー画分を含む。
【００６３】
別の実施形態は、有機ポリオールを含む付着促進剤画分と、約２５０未満；好ましくは約１００未満の酸価を有するアクリルラテックスおよびスチレン−アクリルラテックスならびに溶液系のアクリル系（コ）ポリマーおよびスチレン−アクリル系（コ）ポリマーを含むポリマーバインダー画分とを含む触媒転写層を含む。好ましくは有機ポリオールは、上に議論されたような、アミドポリオールである。
【００６４】
反射防止剤画分
本発明によって提供されるパターニングされた金属層が、たとえば、ディスプレイ装置用のフロント・フィルターとしてディスプレイ用途に使用されることになっているとき、触媒層は、場合によりおよび好ましくは、触媒層、およびその上にめっきされた金属層の反射率を下げるようにデザインされた反射防止剤画分を有する。具体的な実施形態において反射防止剤は、ルテニウム、マンガン、ニッケル、クロム、鉄、コバルト、銅、およびそれらの合金；それらの酸化物；ならびにそれらの混合物からなる群から選択される黒色顔料である。好ましい反射防止剤はＲｕＯ２、Ｃｒ３Ｏ４、Ｃｏ２Ｏ３、およびＮｉを含む。非伝導性反射防止剤の例は、Ｆｅ−Ｃｏクロマイト、Ｃｒ−Ｆｅ−Ｎｉスピネル、およびＣｕ−クロマイトなどのセラミック系黒色物質である。触媒層が反射防止剤画分を含有するとき、触媒層の伝導性は多くの場合低下する。それ故、反射防止剤の量を調節することが望ましい。別の実施形態において反射防止剤は、処理により反射防止剤を提供する、反応性前駆体であることができる。反射防止剤の反応性前駆体の例としては、ルテニウム、マンガン、ニッケル、クロム、鉄、コバルト、または銅などの金属；アルコキシド誘導体、β−ジケトンとの錯体、β−ケト酸エステルと錯体、およびこれらの金属の有機カルボキシレートエステルが挙げられる。それらは、ベーキングにより対応する酸化物に変換されて黒色および反射防止性を示す。そのようなものとして金属が反射防止剤の反応性前駆体として使用されるとき、それは、触媒画分として使用される金属粉末とは異なってもよいし、または一金属が二重機能を有してもよい。たとえば、銅粉末が触媒画分として使用されるとき、銅粉末の一部はベーキングにより黒色の酸化銅になる可能性がある。
【００６５】
本発明の別の実施形態は、ベースフィルム、触媒転写層（Ａ）、および前記ベースフィルムと前記触媒転写層（Ａ）との間に介在するＬＴＨＣ層を含む熱転写ドナーであって、前記触媒転写層（Ａ）が、
（ｉ）触媒層の総重量を基準にして、約１．０〜約９９重量％の触媒画分（Ａ）であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分と；
（ｉｉ）ガラスフリット；ならびに金属水酸化物およびアルコキシドから選択される約０．５〜約１０重量％の付着促進剤画分と；
（ｉｉｉ）約０．５〜約９８．５重量％のポリマーバインダーと
を含む熱転写ドナーである。
【００６６】
別の実施形態は、上記のような熱転写ドナーであって、触媒層（Ａ）が、上記のように、成分（ｉ）、（ｉｉ）、および（ｉｉｉ）から実質的になり；ポリマーバインダーが、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリヘテロ芳香族ビニレン、およびそれらの誘導体からなる群から選択される１種以上の伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；アクリルラテックス、スチレンラテックスおよびスチレン−アクリルラテックス；溶液系のアクリル系ポリマー、スチレン系ポリマーおよびスチレン−アクリル系ポリマー；ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される１種以上の非伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；エチレンと、アルキル（メタ）アクリレート（ここで、アルキル基はＣ１〜Ｃ１８の直鎖または分岐鎖アルキルである）、ノルボルネン、酢酸ビニル、一酸化炭素、（メタ）アクリル酸からなる群から選択される１種以上のモノマーとのコポリマー；ならびにポリ酢酸ビニルおよびそのコポリマー；酢酸ビニル、塩化ビニル、ビニルブチルアルデヒド、ビニルアルコールおよびビニルピロリドンからなる群から選択される繰り返し単位を含むビニル（コ）ポリマーまたは（コ）オリゴマー；ポリ（４−ビニル）ピリジン、ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、部分水素化ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、およびそれらのコポリマーからなる群から選択されるヘテロ原子置換スチレン系ポリマー；フェノール−アルデヒド（コ）ポリマーおよび（コ）オリゴマーならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される、熱転写ドナーである。
【００６７】
別の実施形態は、ＬＴＨＣ層が、ＣｒおよびＮｉから選択される金属フィルム；カーボンブラック；黒鉛；およびＬＴＨＣ層内で約６００〜１２００ｎｍの範囲内の吸収極大を有する近赤外染料からなる群から選択される１種以上の放射線吸収剤を含む熱転写ドナーである。
【００６８】
別の実施形態は、ＬＴＨＣ層が、インドシアニン、フタロシアニン、およびメロシアニンからなる群から選択される１種以上の水溶性または水分散性の放射線吸収シアニン化合物と；アクリル樹脂、親水性ポリエステル、スルホン化ポリエステルならびに無水マレイン酸ホモポリマーおよびコポリマーからなる群から選択される１種以上の水溶性または水分散性ポリマーバインダーとを含む熱転写ドナーである。
【００６９】
熱転写ドナーは、本明細書において金属転写層の上として定義される、前記ベースフィルムとは反対側の触媒転写層の面上に配置される１つ以上の追加の転写層を有してもよい。追加の転写層の厚さは、約５ｎｍ〜約５μｍ、より好ましくは約１００ｎｍ〜約３μｍのいずれかの厚さであってよい。追加の転写層は、伝導層、半導体層、絶縁層、接着層、平坦化層、光減衰層または保護層として機能する、機能性層であってもよく、熱転写プロセスにおいて金属転写層とともに転写される。転写の後、追加の転写層は、レシーバーのパターニングされた触媒作用層とベース層との間に配置されるであろう。
【００７０】
別の実施形態は、
積層順で、ベースフィルム、触媒転写層（Ｂ）および付着促進剤層を含む熱転写ドナーであって、前記触媒転写層（Ｂ）が、
（ｉｉ）触媒層の総重量を基準にして、約１．０〜約９９重量％の触媒画分であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分；
（ｉｉｉ）約１．０〜約９９重量％のポリマーバインダー
を含み；
付着促進剤層が、ガラスフリット；ならびに金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含む熱転写ドナーである。
【００７１】
別の実施形態は、積層順で、ベースフィルム、触媒層（Ｂ）および付着促進剤層を含む熱転写ドナーであって、前記触媒層（Ｂ）が、上記のように、成分（ｉ）および（ｉｉｉ）から実質的になり；ポリマーバインダーが、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリヘテロ芳香族ビニレン、およびそれらの誘導体からなる群から選択される１種以上の伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；アクリルラテックス、スチレンラテックスおよびスチレン−アクリルラテックス；溶液系のアクリル系ポリマー、スチレン系ポリマーおよびスチレン−アクリル系ポリマー；ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される１種以上の非伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；エチレンと、アルキル（メタ）アクリレート（ここで、アルキル基はＣ１〜Ｃ１８の直鎖または分岐鎖アルキルである）、ノルボルネン、酢酸ビニル、一酸化炭素、（メタ）アクリル酸からなる群から選択される１種以上のモノマーとのコポリマー；ならびにポリ酢酸ビニルおよびそのコポリマー；酢酸ビニル、塩化ビニル、ビニルブチルアルデヒド、ビニルアルコールおよびビニルピロリドンからなる群から選択される繰り返し単位を含むビニル（コ）ポリマーまたは（コ）オリゴマー；ポリ（４−ビニル）ピリジン、ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、部分水素化ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、およびそれらのコポリマーからなる群から選択されるヘテロ原子置換スチレン系ポリマー；フェノール−アルデヒド（コ）ポリマーおよび（コ）オリゴマーならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される熱転写ドナーである。
【００７２】
上記の実施形態における付着促進剤層は好ましくは、ガラスフリット；ならびに、上記のように、金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含む。別の実施形態において付着促進剤層は、アクリルラテックス、スチレンラテックスおよびスチレン−アクリルラテックス；溶液系のアクリル系ポリマー、スチレン系ポリマーおよびスチレン−アクリル系ポリマー；ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される１種以上の非伝導性（コ）ポリマー／（コ）オリゴマー；エチレンと、アルキル（メタ）アクリレート（ここで、アルキル基はＣ１〜Ｃ１８の直鎖または分岐鎖アルキルである）、ノルボルネン、酢酸ビニル、一酸化炭素、（メタ）アクリル酸からなる群から選択される１種以上のモノマーとのコポリマー；ならびにポリ酢酸ビニルおよびそのコポリマー；酢酸ビニル、塩化ビニル、ビニルブチルアルデヒド、ビニルアルコールおよびビニルピロリドンからなる群から選択される繰り返し単位を含むビニル（コ）ポリマーまたは（コ）オリゴマー；ポリ（４−ビニル）ピリジン、ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、部分水素化ポリ（４−ヒドロキシ）スチレン、およびそれらのコポリマーからなる群から選択されるヘテロ原子置換スチレン系ポリマー；フェノール−アルデヒド（コ）ポリマーおよび（コ）オリゴマーならびにそれらの組み合わせからなる群から選択されるポリマーバインダーをさらに含む。
【００７３】
別の実施形態は、上記のように、付着促進剤層を含む熱転写ドナーであって、付着促進剤層が、上に開示されたように、付着促進剤層の反射率を下げるようにデザインされた、反射防止剤画分をさらに含む熱転写ドナーである。反射防止剤画分を含む付着促進剤層は、追加の転写層として触媒転写層のトップ上に配置することができる。
【００７４】
場合により、保護可剥性カバーシートが熱転写ドナーの最も外側の層上に存在してもよい。カバーシートは、下にある転写層を保護し、容易に除去可能である。
【００７５】
触媒転写層を含む熱画像形成ドナーは、ベースフィルム、または、存在する場合、ＬＴＨＣ層の表面上に触媒転写層組成物の分散液を適用し、そのキャリア流体を揮発させることによって作製されてもよい。分散液の適用は、均一層が得られる、あるいは必要に応じて、パターニングされたまたは不均一の触媒転写層が得られるあらゆる方法によって行うことができる。ロッドコーティングおよびスピンコーティングなどのコーティング、吹き付け、印刷、ブレーディングまたはへら付けを使用することができる。コーティングおよび吹き付けは、均一な触媒転写層を得るために好ましい分散液の適用方法である。キャリア流体を蒸発させると触媒転写層が得られ、またはこの層は、加熱および／または減圧などのあらゆる従来の乾燥方法によって乾燥させることができる。
【００７６】
レシーバー
熱画像形成方法は、パターニングされた触媒層を受けるための熱画像形成レシーバーの存在を必要とする。図２Ａは、レシーバーベース層２０２を有する熱画像形成レシーバー２００の断面図である。レシーバーベース層２０２は、熱転写ドナーのベースフィルムについて定義されたような寸法安定性のあるシート材料である。さらに、レシーバーベース層は、二酸化チタンなどの白色顔料入りのポリエチレンテレフタレート；アイボリー紙；またはＴｙｖｅｋ（登録商標）スパンボンドポリオレフィンなどの合成紙などの、不透明な材料であることができる。ベース層材料はまたガラスであることができる。レシーバー用の好ましいベース層はポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、たとえばＫａｐｔｏｎ（登録商標）ポリイミド、およびガラスである。
【００７７】
別の実施形態において熱画像形成レシーバーは、ベース層またはパターニングされた層上の連続層であってもよい、接着層、反射防止層等々の、１つ以上の任意選択の追加層を含んでもよい。特定の有用なレシーバーは、図２Ｂに示されるように、パターニングされた反射防止層２０４をさらに含む。パターニングされた反射防止層は、下に開示されるような類似の熱画像形成プロセスを用いて製造することができる。好適な反射防止層は、ＲｕＯ２、酸化コバルト、酸化ニッケル、鉄−コバルトクロマイト、銅クロマイト、および非伝導性カーボンブラックからなる群から選択される１種以上の非伝導性材料を含む。
【００７８】
接触
本発明の熱転写ドナーは、熱画像形成レシーバーに接触させられる。この接触は、ドナーの触媒転写層と、または触媒転写層を覆うあらゆる任意選択層と行うことができる。「接触」とは、ドナーがレシーバーと非常に接近し、好ましくは数ミクロンの範囲内となることを意味する。あらかじめ印刷された層、繊維、または粒子などによって、ドナーとレシーバーとの間の間隙を制御するスペーサーとして機能させて、レシーバーをドナーから偏らせることができる。真空および／または圧力を使用して、ドナー要素１００およびレシーバー要素２００を互いに保持することができる。一代替法として、組立体の周囲部分で層を溶融させることによって、ドナー要素１００およびレシーバー要素２００を互いに保持することができる。さらなる一代替法として、ドナー要素１００およびレシーバー要素２００を互いにテープで留め、画像形成装置にテープで留めることができる。ピン／締め付けシステムを使用することもできる。さらに別の一代替法として、ドナー要素をレシーバー要素に積層することができる。ドナー要素１００およびレシーバー要素２００が可撓性である場合には、それらの組立体を、レーザー画像形成に有用なドラム上に好都合に取り付けることができる。
【００７９】
転写
熱転写は、図３に示すようなレーザー媒介転写方法によって行うことができる。一実施形態においては、ドナー１００とレシーバー２００との組立体が、好ましくはレーザー放射線（Ｒ）の形態である熱に、レシーバー上に形成される所望のパターンの画像の曝露パターンで選択的に曝露される。レーザー放射線またはレーザービーム（Ｒ）、触媒転写層１０６と、存在する場合にはＬＴＨＣ層１０８との間の界面付近に焦点が合わされ、その他の場合には１０６とベースフィルム１０２との間の界面付近に焦点が合わされる。触媒層をレシーバーに転写するのに十分な放射線が照射される。
【００８０】
熱転写ドナー要素を加熱するために種々の発光源を使用することができる。類似の技術（たとえば、マスクを介した露光）の場合は、高出力光源（たとえば、キセノンフラッシュランプおよびレーザー）が有用である。デジタル画像形成技術の場合は、赤外レーザー、可視レーザー、および紫外レーザーが特に有用である。特に、ドナー要素の構造、転写層材料、熱転写の方式、および他のそのような要因に基づいて、他の光源および照射条件が好適となりうる。
【００８１】
放射線は、好ましくはベースフィルム１０２の裏側、すなわち、触媒転写層を含有しない側から照射される。レーザー放射線は、好ましくは最大約６００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは約７５〜４４０ｍＪ／ｃｍ２のレーザーフルエンスで照射される。約３５０ｎｍ〜約１５００ｎｍの動作波長のレーザーが好ましい。約７５０〜約８７０ｎｍ、および最高１２００ｎｍなどの領域で発光するダイオードレーザーが特に好都合であり、これらは小型、低コスト、安定性、信頼性、耐久性、および変調の容易さに関して実質的に好都合となる。このようなレーザーは、たとえば、スペクトラ・ダイオード・ラボラトリーズ（Ｓｐｅｃｔｒａ Ｄｉｏｄｅ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ）（カリフォルニア州サンノゼ（Ｓａｎ Ｊｏｓｅ，ＣＡ））より入手可能である。レシーバーに画像を適用するために使用される装置の１つは、クレオ・スペクトラム・トレンドセッター（Ｃｒｅｏ Ｓｐｅｃｔｒｕｍ Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ）３２４４Ｆであり、これは８３０ｎｍ付近で発光するレーザーを使用している。この装置は空間光変調器（Ｓｐａｔｉａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）を利用して、約８３０ｎｍのレーザーダイオードアレイからの５〜５０ワットの出力の分割および変調を行っている。関連する光学素子によって、画像形成可能な要素上にこの光の焦点が合わせられる。これによって、０．１〜３０ワットの画像形成光がドナー要素上に生成して、５０〜２４０の個別のビームの配列として集中し、それぞれ約１０×１０〜２×１０ミクロンのスポット中に１０〜２００ｍＷの光を有する。米国特許第４，７４３，０９１号明細書に開示されるようにスポットごとに個別のレーザーを使用して、類似の露光を行うこともできる。この場合、各レーザーは、７８０〜８７０ｎｍで電気的に変調された５０〜３００ｍＷの光を発する。他の選択肢としては、５００〜３０００ｍＷを放出するファイバー結合レーザーが挙げられ、そのそれぞれが変調され媒体上に焦点が合わせられる。このようなレーザーは、アリゾナ州トゥーソン（Ｔｕｃｓｏｎ，ＡＺ）のオプト・パワー（Ｏｐｔｏ Ｐｏｗｅｒ）から入手することができる。
【００８２】
熱画像形成に好適なレーザーとしては、たとえば、高出力（＞９０ｍＷ）シングルモードレーザーダイオード、ファイバー結合レーザーダイオード、およびダイオード励起固体レーザー（たとえば、Ｎｄ：ＹＡＧおよびＮｄ：ＹＬＦ）が挙げられる。レーザー露光滞留時間は、広範囲で変動させることができ、たとえば、百分の数マイクロ秒〜数十マイクロ秒以上とすることができ、レーザーフルエンスは、たとえば約０．０１〜約５Ｊ／ｃｍ２以上の範囲内とすることができる。
【００８３】
熱画像形成方法は、触媒転写層の少なくとも一部が熱転写によって熱画像形成レシーバー上に転写されて、パターニングされた触媒層をレシーバーベースフィルム上に提供することを必要とする。レシーバーベースフィルム上のパターニングされた触媒層は、使用済み熱画像形成ドナーの除去によって、めっきステップのために必要とされる、パターニングされた基体になる。
【００８４】
この方法の別の実施形態においては、ドナーは、ベースフィルムとは反対側の触媒転写層上に、付着促進剤層をさらに含み；前記転写は、付着促進剤層の対応する隣接部分を転写して、積層順でレシーバー上に、パターニングされた付着促進剤層および前記パターニングされた触媒層を有する前記パターニングされた基体を提供するステップをさらに含む。好ましい付着促進剤層は、ガラスフリット、金属水酸化物および金属アルコキシドから選択される材料を含む。用語「付着促進剤層の対応する隣接部分を一緒に転写するステップ」は、レシーバー上への露光触媒転写層の転写が、触媒転写層に隣接して存在する、露光付着促進剤層のレシーバー上への同時マッチング転写を含むことを意味する。触媒転写層が２つ以上の層を含むかまたは追加の転写層が触媒転写層のトップ上に存在する実施形態においては、これらの層は同様なやり方で転写される。
【００８５】
この方法の別の実施形態において付着促進剤層は、上に開示されたような、反射防止剤画分をさらに含む。
【００８６】
露光後、ドナー要素１００およびレシーバー要素２００は、図４Ａおよび４Ｂに示されるように分離されて、触媒転写層１０６の転写されなかった部分がドナー要素１００上に残り、パターニングされた触媒層はレシーバー要素２００上に残る。通常、ドナーおよびレシーバーの分離は、これら２つの要素を単純に剥離して引き離すことによって行われる。これは、一般には必要とする剥離力は非常に小さく、ドナー要素をレシーバー要素から単純に分離することで行われる。これはあらゆる従来の分離技術を使用して行うことができ、手作業または自動的に行うことができる。
【００８７】
別の実施形態は、レシーバーが、境界を有するパターニングされた反射防止層をさらに含む熱画像形成方法であって；レシーバー上への触媒転写層の少なくとも一部の前記転写がパターニングされた反射防止層の境界内である方法である。これは、パターニングされた触媒層の暗色化を可能にする別の有用な方法である。パターニングされた反射防止層は、予備画像形成プロセス；引き続く、パターニングされた反射防止層と正確に合わせた、パターニングされた触媒層の転写でレシーバーベース層上に堆積させることができる。
【００８８】
通常、転写層の転写された部分は、レーザー放射線に露光した転写層部分に対応する。場合によっては、ドナー要素およびレシーバー要素の性質、ならびに転写プロセスパラメーターに依存するが、ドナー要素１００およびレシーバー要素２００が分離されるときに、レシーバー要素が、１つ以上の転写層の露光部分と未露光部分との両方を含む。熱画像形成レシーバーの表面上に１つ以上の熱転写層の露光部分と未露光部分とを含む、熱画像形成レシーバー上のパターンの解像度を向上させる方法の１つは：（ａ）熱画像形成レシーバーの前記表面を接着面に接触させて、一時的な積層体を得るステップと；（ｂ）一時的な積層体から前記接着面を除去して、１つ以上の転写層の前記未露光部分が実質的に存在しない表面を有する熱画像形成レシーバーを得るステップとを含む。この方法を実施するのに好適な接着面は、市販の接着テープであり、たとえば、３Ｍカンパニー（３Ｍ ｃｏｍｐａｎｙ）より入手可能なスコッチ（Ｓｃｏｔｃｈ）（登録商標）ブランドのテープである。粘着性ローラー、たとえば、ＳＤＩのほこり除去システム−１（赤）（Ｄｕｓｔ Ｒｅｍｏｖａｌ Ｓｙｓｔｅｍ−１（ｒｅｄ））（システムズ・ディビジョン社（Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｄｉｖｉｓｉｏｎ，Ｉｎｃ．）、アーバイン（Ｉｒｖｉｎｅ），ＣＡ ９２６１８−２００５）の形態で入手可能な中間粘着性ローラーが上記方法に好適な接着面である。前述のＬＴＨＣ層として使用されるクロムフィルムも、非常に穏やかな条件下で転写層の未露光部分を除去するための有用な低粘着性接着層となる。
【００８９】
熱画像形成方法の別の実施形態は、
（ｄ）パターニングされた基体をアニール温度にアニール期間加熱して、アニール化されたパターニングされた基体を提供するステップをさらに含み；前記金属のめっきは、前記アニール化されたパターニングされた基体をめっきするステップを含む。熱画像形成方法のこの態様は、パターニングされた触媒層中に存在するかまたはそれに隣接する、付着促進剤をレシーバーに固定するのに有用である。パターニングされた基体のアニーリングは、めっきステップによって提供されるパターニングされた金属層がベース層に接合したままであることを意図されるプロセスにおいて特に有用である。ガラスフリットは典型的には、上に開示されたように軟化または溶融温度に加熱される。ポリカルボキシレート、金属水酸化物およびアルコキシドと組み合わせたポリオールなどの他の付着促進剤もまた、アニール温度への加熱時に基体への改善された付着を与えることができる。ポリマーベース層については、アニール温度は通常８０〜１５０℃であり；ガラスベース層については、アニール温度はより高く、ポリマーバインダーがパターニングされた触媒層中に存在するかどうかおよび付着促進剤の特定の性質に依存して、典型的には１５０〜５５０℃であることができる。
【００９０】
めっき
この方法は、前記パターニングされた基体上に金属をめっきして、パターニングされた触媒層と接続したパターニングされた金属層を得るステップをさらに含む。本明細書において用語「めっき」は、パターニングされた触媒層の存在の結果として、パターニングされた触媒作用層上に選択的な金属堆積を提供するあらゆる方法を意味する。湿式めっきは、パターニングされた触媒層上に金属層を選択的に形成することができるので好ましい。湿式めっきは、無電解めっきおよび電解めっき、またはそれらの組み合わせを含み、パターニングされた触媒層の必要とされる伝導性に依存して適切に選択される。電解めっきは、還元することができる金属イオンを含有する電解質溶液に電流が通されることを必要とする通電プロセスである。最も一般的な電解めっきシステムは、陽極（めっきを受ける基体）として伝導性基体；めっきされるべきイオン形態の金属を含有する化学品溶液；および金属のフィルムを生成するために電子が供給されている陰極を含む。無電解めっきは、外部電力の使用なしに起こる、水溶液におけるいくつかの同時化学反応を含む非通電めっきである。無電解めっきシステムは一般に、金属へ還元することができる金属イオン；および電子を金属イオンに送ることができる化学還元剤を有する。最も一般的な無電解めっき方法は、還元剤として次亜リン酸ナトリウムと金属イオンとしてニッケル（ＩＩ）イオンとを使用する無電解ニッケルめっきである。２つのめっきプロセスが組み合わせて用いられてもよい。パターニングされた触媒層が伝導性であるとき、電気めっきを最初から適用することができる。パターンの伝導性が不十分であるとき、小さい厚さを有する第１伝導性層が無電解めっきによって形成され；次に第２伝導性層が電解めっきによって形成されて、パターニングされた金属層を形成する。本発明の一実施形態は、めっき金属が、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ａｇ、Ａｕ、Ｗ、Ｚｎ、およびそれらの合金からなる群から選択されるものである。好ましいめっき金属はＮｉおよびＣｕである。
【００９１】
めっきプロセスは、パターニングされた触媒層上への金属の全体堆積に有益である可能性がある、めっきの技術分野で公知であるあらゆる処理プロセスをさらに含んでもよい。たとえば、パターニングされた基体は、金属の堆積前に、増感剤、クリーニング剤などで前処理されてもよい。
【００９２】
めっきプロセスによって提供されるパターニングされた金属層は、単層あるいは２、３またはそれ以上のサブ層を有する多層であってもよい。パターニングされた金属層の厚さは通常、約０．１〜約２０ミクロン、好ましくは約０．１〜約５ミクロンである。一実施形態においてパターニングされた金属層は、ＨＰ ３４７８Ａマルチメーターの４プローブ抵抗関数を用いて測定されるとき１平方当たり０．２オーム未満の抵抗を有する。好ましくはパターニングされた金属層は、１５０〜５００ミクロンの範囲のピッチ、および約１０〜８０ミクロンの線幅を有するメッシュを形成する線の幾何パターンの形態にある。
【００９３】
暗色化剤
別の実施形態においては、この方法は、目視検査により明らかなように、金属層の反射率を下げるために、パターニングされた金属層を暗色化剤で処理して、暗色化されたパターニングされた金属層を得るステップをさらに含む。暗色化剤は、Ｃｕ、Ｎｉおよびそれらの合金のような金属を酸化する酸化剤とすることができる。たとえば、ＥＢＯＮＯＬ（登録商標）−Ｃ酸化剤は、パターニングされた金属層の処理における暗色化剤として有用である；Ｃｏｏｋｓｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ（Ｐｒｏｖｉｄｅｎｃｅ，ＲＩ）によって販売される銅および銅合金用の独自開発の黒色化剤である。
【００９４】
図５は、レシーバーベース層２０２、パターニングされた反射防止層２０４、パターニングされた触媒層１０６、パターニングされた金属層２１０、および暗色化されたパターニングされた金属層２１２を含むレシーバー２００を包含する一実施形態の側面図である。
【００９５】
電子デバイス
別の実施形態は、基体上にパターニングされた金属層を有する電子デバイスであって、前記基体が可視光を実質的に通し；前記パターニングされた金属層が積層順で前記基体上に、付着促進剤層、触媒層、およびめっき金属層を含み；前記パターニングされた金属層が約１ミリメートル以下の幅の少なくとも１つの線を持ったパターンを有する電子デバイスである。好ましくはパターニングされた金属層は、約２００ミクロン以下の幅の少なくとも１つの線を有する。他の実施形態においてパターニングされた金属層は、約１５０ミクロン以下、１００ミクロン以下、５０ミクロン以下、２０ミクロン以下および１０ミクロン以下の幅の少なくとも１つの線を有する。電子デバイスの別の実施形態においては、付着促進剤層は、ガラスフリット、ならびに金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含み；触媒層は、（ｉ）触媒層の総重量を基準にして、約０．５〜約９９重量％の触媒画分であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む前記触媒画分と；（ｉｉ）約０．５〜約９９重量％のポリマーバインダーとを含む。
【００９６】
別の実施形態は、上に開示されたような、電子デバイスであって、付着促進剤層が反射防止剤画分をさらに含む電子デバイスである。好ましい反射防止剤は上に開示された通りである。
【００９７】
別の実施形態は、上に開示されたような、電子デバイスであって、付着促進剤層が反射防止剤画分をさらに含み；パターニングされた金属層が付着促進剤層とは反対側の金属層上に反射防止層をさらに含む電子デバイスである。
【００９８】
電子デバイスの好ましい実施形態は、上に開示されたように、タッチパッドセンサーおよび電磁妨害（ＥＭＩ）シールドを含む。
【００９９】
上記のようなパターニングされた金属層を含むタッチパッドセンサーは、誘電体層、典型的には好適な誘電特性を有する有機ポリマーをさらに含む。一実施形態においてタッチパッドセンサーは、第１のパターニングされた金属層を有する第１ベース層；第２のパターニングされた金属層を有する第２ベース層；および第１のパターニングされた金属層と第２のパターニングされた金属層との間に配置された誘電体層を含む。別の実施形態においてタッチパッドセンサーは、２つの対向面を有するベース層、２つの対向面のそれぞれの上に配置されたパターニングされた金属層；およびパターニングされた金属層のそれぞれのトップ上の誘電体層を含む。
【０１００】
この方法の種々の実施形態は、形成中のパターンの正確なデジタル制御；１０ミクロンの線幅までの、微細な線を有するメッシュを作製する能力；および反射防止層、接着層、誘電体層等々の、他の層を金属パターンに正確な関係で配置する能力など、金属パターンの他の製造方法よりも優れたいくつかの利点を有する。さらにパターニングされた触媒層の製造のステップは乾式ステップである、すなわち、それらは、従来のフォトリソグラフィー法で典型的に使用される溶媒、エッチング液、およびマスクの使用を必要としない。従来の「湿式」処理を必要とする唯一のステップは、めっきステップである。したがって、この全体方法は、金属メッシュの製造に用いられる従来の方法より環境にやさしい可能性がある。
【０１０１】
材料、装置および方法
特に示されない限り、化学物質は、さらに精製せずに入手したままの状態で使用した。ポリマー、可塑剤、ＩＲ染料、および界面活性剤は、本明細書に挙げた供給元から入手するかまたはＡｌｄｒｉｃｈから購入した。カーボンブラック分散液などの顔料は、Ｐｅｎｎ Ｃｏｌｏｒ，Ｉｎｃ．（Ｄｏｙｌｅｓｔｏｗｎ，ＰＡ）から入手した。銀ナノ粒子は、Ｆｅｒｒｏ Ｃｏ．−Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ（Ｃｌｅｖｅｌａｎｄ，Ｏｈｉｏ）；Ｎａｎｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ ＆ Ａｍｏｒｐｈｏｕｓ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃ．、および三井物産株式会社から購入した。
【０１０２】
フラットベッドプリンターを、触媒転写層をガラス基体上に転写するために使用した。使用した画像形成ヘッドは、Ｃｒｅｏ／Ｋｏｄａｋ（Ｖａｎｃｏｕｖｅｒ，Ｃａｎａｄａ）によって製造されたＳＱＵＡＲＥｓｐｏｔ（登録商標）熱画像形成ヘッドであった。このヘッドを、論文「Ｔｈｅｒｍａｌ Ｔｒａｎｓｆｅｒ ｆｏｒ Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ（フラットパネルディスプレイ製造のための熱転写）」、Ｅｒａｎ Ｅｌｉｚｕｒ ａｎｄ Ｄａｎ Ｇｅｌｂａｒｔ、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ、第１１巻、ナンバー１、１９９−２０２ページに記載されているようにフラットベッドスキャナーに取り付けた。
【０１０３】
Ｃｒｅｏ Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ（登録商標）８００（Ｃｒｅｏ／Ｋｏｄａｋ（Ｖａｎｃｏｕｖｅｒ，Ｃａｎａｄａ））を可撓性基体に画像形成するために用いた。Ｃｒｅｏ Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ（登録商標）８００は、５０８０ｄｐｉ分解能で８３０ｎｍの波長で１２．５ワットの最大平均動作電力を有する改造されたＴｈｅｒｍａｌ １．７Ｈｅａｄを用いる改造されたドラム型の画像形成装置である。この８００Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒを、約６８℃の平均温度および約４０〜５０％の平均相対湿度の制御された温度／湿度環境で動作させた。それぞれの印刷実験について、熱画像形成レシーバーの部分をドラム上に位置決めした。ドナー要素の、触媒転写層でコーティングされた側がレシーバーの自由面に面するように、熱転写ドナーを取り付けた。画像形成組立体（ａｓｓｅｍｂｌａｇｅ）を、ドナーフィルムベースを通して裏側から露光した。真空ホールドダウン（ｖａｃｕｕｍ ｈｏｌｄ ｄｏｗｎ）を用いて、ドラムに機械的に固定された標準的なプラスチックまたは金属担体プレートにフィルムを取り付けた。Ｃｒｅｏ Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ（登録商標）８００サーマルプレートセッターを用いたある実験では、通常のドナーおよびレシーバーのサイズに適合するようにドラム上に直接機械加工された吸引孔を有する非標準ドラムを、標準的なドラム／担体プレート組立体の代わりとして用いた。約６００ｍｍのＨｇ減圧によって、ドナーとレシーバーとを接触させた。レーザー出力は、コンピュータの制御下で、所望の画像形成パターンを形成するためのものであった。レーザー出力およびドラム速度は制御可能であり、受像表面上に転写される画像の目視検査によって判断されるような画像品質を最適化するために、それらを繰返し調節した。
【０１０４】
方法１：硬質基体上への熱転写
レシーバーベース層として機能する、ガラスパネルを、Ｍｉｃｒｏ ９０、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｃｏｒｐ．（Ｂｕｒｌｉｎｇｔｏｎ，ＮＪ）によって製造されるクリーニング液を使用して洗浄し、ＵＶＯ（ＵＶＯは、表面が空気の存在下に約３０ｍＪ／秒ｃｍ２の強度を有する遠紫外光（１８５ｎｍ〜２５４ｎｍ）に露光されるプロセスである）で約５分間処理し、次にＤＩ水でリンスした。熱転写ドナーを、論文「Ｔｈｅｒｍａｌ Ｔｒａｎｓｆｅｒ ｆｏｒ Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ」、Ｅｒａｎ Ｅｌｉｚｕｒ ａｎｄ Ｄａｎ Ｇｅｌｂａｒｔ、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ、第１１巻、ナンバー１、１９９−２０２ページに記載されているようにフラットベッドスキャナー上のレシーバーと減圧接触させた。熱画像形成ドナーとガラスパネルとの組立体を次に、Ｃｒｅｏ／Ｋｏｄａｋ（Ｖａｎｃｏｕｖｅｒ，Ｃａｎａｄａ）によって製造されたＳＱＵＡＲＥＳＰＯＴ熱画像形成ヘッドを用いてドナーベースフィルムを通して先ず裏面から所望のパターンで露光した。迅速に移動するヘッドに２１．５ワットの出力エネルギーの８３０ｎｍ赤外レーザーを備え付け、このヘッドをドナーベースフィルム上の、またはＬＴＨＣ層が存在するときにはベースフィルムとＬＴＨＣ層との界面上の約５μｍ×５μｍのスポットサイズに焦点を合わせた。スキャン速度は典型的には０．５ｍ／秒〜１．３ｍ／秒の範囲であった。レーザー出力は、コンピュータの制御下で、所望のパターンを形成するためのものであった。レーザー出力およびスキャン速度は制御可能であり、レシーバー上のパターニングされた触媒層の目視検査によって判断されるような転写品質を最適化するために、それらを繰返し調節した。フラットベッド画像形成装置を、約７０°Ｆの平均温度および約４５〜５５％の平均相対湿度の制御された温度／湿度環境で動作させた。
【０１０５】
評価方法
固有抵抗−固有抵抗は、ＨＰ ３４７８Ａマルチメーター（Ｈｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋａｒｄ）の４プローブ抵抗関数を用いて測定した。典型的には一辺が約１５ｍｍのメッシュの正方形を測定した。
厚さ−転写される触媒層、Ｃｕめっきおよび黒色化層の厚さは、ＫＬＡ Ｔｅｎｃｏｒ
Ｐ−１５プロフィラーを用いて測定した。
付着性−付着性の定性的評価は、付着の変化が起こったかどうかを評価するための下記のクライテリアを用いることによって行った。小さな先の尖ったプローブをパターンの金属線に押し付けるために使用するとき、下記が観察された場合に１〜５の格付けを与えた：
１ 金属線は基体から剥がれなかったか、小さいチップが剥がれたにすぎなかったかのどちらかであり、かなりの力を必要とした。
２ 金属線はかなりの力を加えられて小片で基体から剥がれた。
３ 金属線は最小限の努力で基体から剥がれ、隣接小片がエッジに沿ってほぐれた。
４ 金属線は少ない努力で基体から離昇し、隣接メッシュの小さい区画が離れた。
５ 金属線は接触と無関係に基体から剥がれるか、または接触したときにシングルピースとして基体から離れた。
【０１０６】
【表１】
【０１０７】
有機ＬＴＨＣ層
有機ＬＴＨＣ層を、上記のＰＣＴ／ＵＳ０５／３８００９号明細書の実施例の配合Ｌに報告されるように調製した。
ＬＴＨＣコーティング配合物を以下の材料から調製した：（ｉ）脱塩水：８９４ｇ；（ｉｉ）ジメチルアミノエタノール：５ｇ；（ｉｉｉ）ハンプフォード（Ｈａｍｐｆｏｒｄ）染料８２２（ハンプフォード・リサーチ（Ｈａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ）；配合物はＳＤＡ ４９２７に該当する）：１０ｇ；（ｉｖ）ポリエステルバインダー（アメルテック・ポリエステル・クリア（Ａｍｅｒｔｅｃｈ Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ Ｃｌｅａｒ）；アメリカン・インク・アンド・コーティング社（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｉｎｋｓ ａｎｄ Ｃｏａｔｉｎｇｓ Ｃｏｒｐ）；ペンシルベニア州バレーフォージ（Ｖａｌｌｅｙ Ｆｏｒｇｅ；ＰＡ））：６５ｇの３０％水溶液；（ｖ）テゴウェット（ＴｅｇｏＷｅｔ）（商標）２５１（４）（ポリシロキサンコポリマー）：２．５ｇ；（ｖｉ）ジメチルアミノエタノールエチルリン酸カリウム：１４ｇの１１．５％水溶液［この１１．５％水溶液を、３部の水および０．５部のエチルリン酸（ｅｔｈｙｌ ａｃｉｄ ｐｈｏｓｐｈａｔｅ）（ストーファ・ケミカル社（Ｓｔａｕｆｆｅｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ）、コネチカット州ウェストポート（Ｗｅｓｔｐｏｒｔ，ＣＴ）：ルーブリゾール（Ｌｕｂｒｉｚｏｌ）、オハイオ州ウィクリフ（Ｗｉｃｋｌｉｆｆｅ，ＯＨ））ならびに十分な４５％水酸化カリウム水溶液を組み合わせて４．５のｐＨを得た後、十分なジメチルアミノエタノールを加えて７．５のｐＨを得て、最後に水で希釈して、水を含まない化合物の１１．５相対質量パーセントの、合計５部の最終水溶液を得ることによって調製した］；（ｖｉｉ）架橋剤サイメル（Ｃｙｍｅｌ）（商標）３５０（メラミンホルムアルデヒド樹脂、サイテック・インダストリーズ社（Ｃｙｔｅｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｉｎｃ．）、ニュージャージー州ウエストパターソン（Ｗｅｓｔ Ｐａｔｅｒｓｏｎ，ＮＪ））：１０ｇの２０％溶液；ならびに（ｖｉｉｉ）アンモニウムｐ−トルエンスルホン酸：２ｇの１０％水溶液。
【０１０８】
成分（ｉｉ）および（ｉｉｉ）を水に加え、最大で２４時間攪拌させてから、他の成分を示した順序で加えた。この配合物を濾過する必要はない。その配合物をインラインコーティング（ｉｎ−ｌｉｎｅ ｃｏａｔｉｎｇ）技術で以下のように適用した：ＰＥＴベースフィルム組成物を溶融押し出しし、冷却された回転ドラム上にキャスティングし、７５℃の温度でその元の寸法の約３倍になるまで押し出し方向に延伸した。次に、冷却された延伸フィルムの１つの側部をＬＴＨＣコーティング組成物でコーティングして、２０〜３０μｍのウェットコーティング厚さを得た。直接グラビアコーティングシステムを用いて、コーティングをフィルムウェブに適用した。６０ＱＣＨグラビアロール（パマルコ（Ｐａｍａｒｃｏ）によって供給される）を溶液に通して回転させて、溶液がグラビアロール表面を覆うようにする。グラビアロールを、フィルムウェブに対して反対方向に回転させ、１つの接触点でウェブにコーティングを適用する。コーティングされたフィルムを、１００〜１１０℃の温度で乾燥器（ｓｔｅｎｔｅｒ ｏｖｅｎ）内に通し、ここで、フィルムを乾燥させ、その元の寸法の約３倍になるまで横方向に延伸した。二軸延伸コーティングフィルムを、従来の手段によって約１９０℃の温度でヒートセットした。次に、コーティングポリエステルフィルムを、ロールに巻き付ける。最終的なフィルムの全厚は５０μｍであり；転写補助コーティング層の乾燥厚さは０．０７μｍである。ＰＥＴベースフィルムは、ソルベント・グリーン（Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ）２８染料を含有し、ベースフィルムのポリマーの、典型的に０．２重量％〜０．５重量％の最終染料濃度を得た。ソルベント・グリーン（Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ）２８染料（０．４０重量％）を含有するベースフィルムは、６７０ｎｍで１．２の吸収度、および８３０ｎｍで＜０．０８の吸収度を有した。ドナー基体を、有機ＬＴＨＣグリーン（Ｇｒｅｅｎ）ＰＥＴドナー基体と本明細書で呼ぶこととする。
【実施例】
【０１０９】
実施例１
この実施例では、付着促進剤としてガラスフリットを使用する黒ずんだ銅めっきメッシュの形成を説明する。
【０１１０】
ベースフィルムおよび触媒層を含む熱転写ドナーを先ず、次の手順を用いて作製した。Ａｇ粉末（２６．２４４ｇ、粒度ｄ５０＝２２０ｎｍおよびｄ９０＝４３０ｎｍ）、ＤＩ水（１０．３５８ｇ）、ＣＡＲＢＯＳＥＴ ＧＡ ２３００スチレン−アクリル系ポリマー（１３．４０４ｇ、水中２８重量％）、ＺＯＮＹＬ ＦＳＡ界面活性剤（０．５２３ｇ）、ＢＹＫ−０２５消泡剤（０．２９９ｇ）およびガラスフリット（０．５２９ｇ、ＥＧ２９２２ＳＭＺ、Ｆｅｒｒｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｃｌｅｖｅｌａｎｄ，Ｏｈｉｏ））の混合物を、音波処理プローブ（Ｄｕｋａｎｅ Ｃｏ．Ｍｏｄｅｌ ４０ＴＰ２００，Ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒ Ｍｏｄｅｌ ４１Ｃ２８）で１５分間処理し、この間５分間隔でスパチュラで混合物を撹拌した。混合物が入った容器を、１時間音波処理を行いながら水浴中に入れ、この間０．５時間間隔でスパチュラで混合物を撹拌した。次にこの混合物を、室温の水浴中でプローブ音波処理をさらに１５分間行って処理し、この間、５分間隔でスパチュラで混合物を穏やかに撹拌した。得られた分散液を２．０ミクロンＷＨＡＴＭＡＮ ＧＦＭ−１５０シリンジ−ディスクフィルター（Ｗｈａｔｍａｎ Ｉｎｃ．（Ｃｌｉｆｔｏｎ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ））で２回濾過した。
【０１１１】
有機ＬＴＨＣ Ｇｒｅｅｎ ＰＥＴ熱転写ドナーベースフィルムを、コーティングの直前に加圧窒素流れで洗浄した。前述の分散液を、ＷＡＴＥＲＰＲＯＯＦ Ｃｏｌｏｒ Ｖｅｒｓａｔｉｌｉｔｙコーティングシステム（Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ Ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ，Ｉｎｃ．（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ））を用いて５．８フィート／分でＣＮ＃５ロッド（Ｂｕｓｃｈｍａｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｃｌｅｖｅｌａｎｄ，Ｏｈｉｏ））を使用してベースフィルム上に塗布した。ウェットフィルムを４８℃で２０分間乾燥させてベースフィルムおよび銀触媒層を含む熱転写ドナーを得た。
【０１１２】
熱転写ドナーを、ガラスパネル（厚さ約０．７ｍｍのボロ−アルミノシリケートガラス）と減圧接触させた。このガラスレシーバーを、上記のようなフラットベッドスキャナーに取り付けた。熱転写を、約５ｍｍの直線パターンで０．５〜１．３ｍ／秒で変わるスキャン速度を用いる約２０．５Ｗの画像形成面での全レーザー出力の画像形成ヘッドからの画像形成放射線にドナーを露光することによって行った。
【０１１３】
パターニングされた触媒層の転写の後、使用済みドナーをガラスから除去し、パターニングされた基体を得た。パターニングされたガラス基体を次に、１０℃／分の速度で５２５℃に加熱されるＦｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ ＩＳＯＴＥＭＰ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｍｕｆｆｌｅ Ｆｕｒｎａｃｅ Ｍｏｄｅｌ ６５０（等温プログラム可能マッフル炉モデル６５０）においてアニール温度で加熱し、その温度に１５分間放置した。サンプルを次に、炉への電力を切ることによって室温（ＲＴ）近くに冷却した。サンプルのアニーリングの後に、このサンプルメッシュは、１１０Ω／平方の抵抗を有し、プローブでこすることによって除去するのは困難であった。
【０１１４】
パターニングされた基体を次に、伝導性接着剤を有する、１／２インチ幅のＣｕテープを銀パターンの辺縁に沿って適用することによって電気めっきのために作製した。電気めっきを、Ｔｅｃｈｎｉｃ，Ｉｎｃ．「Ｍｉｎｉ Ｐｌａｔｉｎｇ Ｐｌａｎｔ ３」電気めっきシステムで行った。銅めっき浴電解質は、光沢剤「ＰＣ ６５ Ｂ」が１容量％で添加された「ＰＣ−６５」であった。両方ともＴｅｃｈｎｉｃ Ｉｎｃ．（Ｃｒａｎｓｔｏｎ，ＲＩ）によって製造されている。めっき浴をめっきの間ずっと２２℃に保った。約１１８Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を４００秒間パターニングされた基体に適用し、銀パターン上に約８μｍの銅を堆積して０．２Ω／平方未満の固有抵抗を有するパターニングされた銅層を得た。図６は、パターニングされた金属層の顕微鏡写真である。
【０１１５】
パターニングされたＣｕ層の黒色化を、１００℃に１２０秒間加熱されるＥＢＯＮＯＬ−Ｃ（製造供給元、都市州）の５０重量％溶液中にめっきされたパターニングされた基体を浸漬することによって行った。得られた黒ずんだ銅めっきメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗および低い反射率を有した。
【０１１６】
実施例２
この実施例では、付着促進剤として添加されたＴＹＺＯＲ（登録商標）２１２オルガノジルコネートを使用する黒ずんだＣｕめっきメッシュの形成を説明する。
【０１１７】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表２および３に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．５ｍ／秒であった。画像形成の後、ドナーシートをガラスから除去して、画像形成されたＡｇパターンを有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体を、Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｉｓｏｔｅｍｐ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｍｕｆｆｌｅ Ｆｕｒｎａｃｅ Ｍｏｄｅｌ ６５０で１０℃／分の速度で２３０℃に熱処理し、その温度に１５分間放置した。パターニングされた基体を次に、発熱体への電力を切ることによってＲＴに冷却した。
【０１１８】
熱処理されたパターニングされた基体の電気めっきを、約２４８Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を３００秒間サンプルに適用して、約５．７μｍのＣｕ厚さのパターニングされたＣｕ層を得ることを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。Ｃｕめっきメッシュの抵抗は０．２Ω／平方未満であった。
【０１１９】
パターニングされたＣｕ層の黒色化を、１００℃に７秒間加熱されるＥｂｏｎｏｌ−Ｃの１００％溶液中にめっきされたパターニングされた基体を浸漬することによって行った。得られたメッシュは、良好な伝導性および低い反射率を有した。
【０１２０】
【表２】
【０１２１】
【表３】
【０１２２】
実施例３
この実施例では、付着促進剤として添加された、有機ポリオール、ＰＲＩＭＩＤ（登録商標）ＸＬ５５２ポリオールを使用する黒ずんだＣｕめっきメッシュの形成を説明する。
【０１２３】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表２および３に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．５ｍ／秒であった。
【０１２４】
画像形成の後、ドナーシートをガラスから除去して、画像形成されたＡｇパターンを有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体を次に、Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｉｓｏｔｅｍｐ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｍｕｆｆｌｅ Ｆｕｒｎａｃｅ Ｍｏｄｅｌ ６５０で１０℃／分の速度で２３０℃に熱処理し、その温度に１５分間放置した。パターニングされた基体を次に、発熱体への電力を切ることによってＲＴに冷却した。熱処理されたＡｇメッシュの抵抗は、１４４Ω／平方であった。
【０１２５】
熱処理されたパターニングされた基体の電気めっきを、約２４８Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を３００秒間サンプルに適用して、約５．７μｍのＣｕ厚さのパターニングされたＣｕ層を得ることを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。Ｃｕめっきメッシュの抵抗は０．２Ω／平方未満であった。
【０１２６】
パターニングされたＣｕ層の黒色化を、１００℃に７秒間加熱されるＥｂｏｎｏｌ−Ｃの１００％溶液中にめっきされたパターニングされた基体を浸漬することによって行った。得られたメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗および低い反射率を有した。
【０１２７】
実施例４
この実施例では、付着促進剤の不存在下でのＣｕめっきメッシュの形成を説明する。
【０１２８】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表２および３に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．９ｍ／秒であった。
【０１２９】
パターニングされた基体の電気めっきを、約１２４Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を４８０秒間サンプルに適用し、約７μｍのＣｕを堆積することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。得られたメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗を有した。
【０１３０】
実施例５
この実施例では、黒ずんだＣｕめっきメッシュの生成を説明する。
【０１３１】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表４および５に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置で画像形成した。画像形成速度は０．６ｍ／秒であった。
【０１３２】
画像形成の後、ドナーシートをガラスから除去して、画像形成されたＡｇパターンを有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体を次に炉で、１０℃／分の速度で５２５℃に熱処理し、その温度に１５分間放置した。パターニングされた基体を次に、発熱体への電力を切ることによってＲＴに冷却した。この熱処理は、基体への良好な付着性をＡｇパターンに提供した。
【０１３３】
電気めっきを、約１２４Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を２００秒間サンプルに適用し、約１
．４μｍのＣｕをパターニングされた触媒層上に堆積することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。めっきパターンは、パターンのエッジでわずかな離層を示した。
【０１３４】
めっきＣｕパターンの黒色化を、１００℃に６０秒間加熱されるＥｂｏｎｏｌ−Ｃの５０％溶液中にパターニングされた金属層を浸漬することによって行った。得られたメッシュは、良好な伝導性および低い反射率を有した。黒ずんだサンプルは、ガラスへの不十分な付着性を有し、ガラスプレートから容易に除去された。
【０１３５】
実施例６
この実施例では、付着促進剤としてガラスフリットを使用するＣｕめっきメッシュの生成を説明する。
【０１３６】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表４および５に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のＣＲＥＯ ＴＲＥＮＤＳＥＴＴＥＲ（登録商標）８００を用いてＭＥＬＩＮＥＸ（登録商標）ＳＴ５０４のシート上に画像形成した。画像形成は、６０ｒｐｍのドラム回転速度ならびに６．９、７．０、７．１および７．２Ｗのレーザー出力で行った。
【０１３７】
パターニングされた基体の電気めっきを、約２２６Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を４８０秒間サンプルに適用し、約７μｍのＣｕを堆積することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。得られたメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗を有した。
【０１３８】
【表４】
【０１３９】
【表５】
【０１４０】
実施例７
この実施例では、Ｃｕめっきメッシュの形成を説明する。
【０１４１】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表４および５に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置を用いてガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．９ｍ／秒であった。
【０１４２】
電気めっきを、実施例１に記載されるものと同じ技法を用いて行った。パターニングされた金属層は、すべてのめっき条件下に基体から離層した。
【０１４３】
実施例８
この実施例では、ガラスプレート上でのＣｕめっきメッシュの生成を説明する。
【０１４４】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表４および５に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．８ｍ／秒であった。
【０１４５】
電気めっきを、約２４８Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を２００秒間サンプルに適用し、１．５μｍのＣｕを堆積することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。Ｃｕの堆積は不規則であり、元の画像の数部分がパターン中の裂け目によってかまたはパターン中の他の非伝導性要素によってめっき電極から分離されることを示唆した。得られたメッシュのめっきエリアは、約０．５Ω／平方の固有抵抗を有した。
【０１４６】
実施例９
この実施例では、トリアセチルセルロースフィルム上でのＣｕめっきメッシュの生成を説明する。
【０１４７】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表４および５に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のＣＲＥＯ ＴＲＥＮＤＳＥＴＴＥＲ（登録商標）８００を用いてＴＡＣフィルムのシート上に画像形成した。画像形成は、４０ｒｐｍのドラム回転速度および４．０Ｗのレーザー出力で行った。
【０１４８】
電気めっきを、約３４４Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を１８０秒間サンプルに適用し、約５μｍのＣｕを堆積することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。得られたメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗を有した。
【０１４９】
実施例１０
この実施例では、付着促進剤としてガラスフリットを使用する黒ずんだＣｕめっきメッシュの形成を説明する。
【０１５０】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表６および７に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．６ｍ／秒であった。
【０１５１】
画像形成の後、ドナーシートをガラスから除去して、画像形成されたＡｇパターンを有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体を次に、１０℃／分の速度で５２５℃に加熱される炉で熱処理し、その温度に１５分間放置した。サンプルを次に、発熱体への電力を切ることによってＲＴ近くに冷却した。この熱処理は、基体への良好な付着性をＡｇパターンに提供した。
【０１５２】
電気めっきを、約５１６Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を１１１秒間サンプルに適用することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。得られためっきメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗を有し、基体への良好な付着性を有した。
【０１５３】
めっきＣｕの黒色化を、１００℃に６０秒間加熱されるＥｂｏｎｏｌ−Ｃの５０％溶液中にめっきサンプルを浸漬することによって行った。得られたメッシュは、０．２Ω／平方未満の固有抵抗および低い反射率を有した。黒ずんだサンプルは、ガラス基体への良好な付着性を有した。
【０１５４】
【表６】
【０１５５】
【表７】
【０１５６】
実施例１１
この実施例では、付着促進剤としてガラスフリット、およびパターニングされた触媒層用の黒色化剤としてＲｕＯ２を使用する暗色化されたＣｕめっきメッシュの生成を説明する。
【０１５７】
ドナーシートを、実施例１に概説されるものと同じ一般手順ならびに表６および７に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．６ｍ／秒であった。
【０１５８】
画像形成の後、ドナーシートをガラスから除去して、画像形成されたＡｇパターンを有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体を次に、１０℃／分の速度で５２５℃に加熱される炉で熱処理し、その温度に１５分間放置した。サンプルを次に、発熱体への電力を切ることによってＲＴ近くに冷却した。この熱処理は、基体への良好な付着性をＡｇパターンに提供した。
【０１５９】
電気めっきを、約５１６Ａｍｐ／ｍ２の電流密度を１１１秒間サンプルに適用することを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。得られたメッシュは、約０．５Ω／平方の固有抵抗を有した。得られためっきパターンは、基体への良好な付着性を示した。
【０１６０】
実施例１２
この実施例では、その上にパターニングされた黒色層を有するパターニングされた基体上でのパターニングされた金属層の形成を説明する。
【０１６１】
Ｃｒ３Ｏ４を含む第１ドナーシートを、次の成分：キシレン（１２．０１８ｇ）、ＥＬＶＡＣＩＴＥ（登録商標）２０２８（２１．２６４ｇ）、ＤＥＧＤＢ（０．０８２ｇ）、ガラスフリット（ＥＧ ２９２２ ＳＭＺ、８．６１２ｇ）およびＤｕＰｏｎｔ Ｉ−２２１８ Ｃｒ３Ｏ４粉末（１２．１６１ｇ）で、実施例１に概説されるものと同じ一般手順に従って作製した。触媒層を含有する第２ドナーシートを、実施例１に記載されるものと同じ一般手順ならびに表６および７に示される成分およびプロセス変量を用いて作製した。
【０１６２】
第１ドナーシートを、前述のフラットベッド画像形成装置でガラスプレート上に画像形成した。画像形成速度は０．７ｍ／秒であった。第１画像形成ドナーシートを除去してパターニングされた黒色層をその上に有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体の位置を変えずに、第２ドナーシートを、０．７ｍ／秒の画像形成速度を用いてパタニーングされた黒色層の境界内でパターニングされた基体上に画像形成した。
【０１６３】
画像形成の後、第２画像形成ドナーシートを除去して、積層順で、Ａｇ触媒層、黒色層、およびガラス基体をを有するパターニングされた基体を得た。パターニングされた基体を次に、１０℃／分の速度で５２５℃に加熱される炉で熱処理し、その温度に１５分間放置した。サンプルを次に、発熱体への電力を切ることによってＲＴ近くに冷却した。この熱処理は、基体への良好な付着性をＡｇパターンに提供した。
【０１６４】
電気めっきを、約１９０Ａｍｐ／ｍ２の電流密度をサンプルに４０秒間適用し、約４ミクロンのＣｕを堆積させることを除けば実施例１に記載されるものと同じ方法で行った。得られためっきパターンは、良好な伝導性を示した。図７は、パターニングされた黒色層の境界内のめっきパターンの顕微鏡写真を示す。
【０１６５】
【表８】
【０１６６】
【表９】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高い伝導性を有するパターニングされた金属層の製造方法であって：
ベース基板上にパターニングされた触媒層を含むパターニングされた基板を備えるステップであって；該パターニングされた基板が、
（ａ）ベースフィルムおよび触媒転写層を含む熱転写ドナーを備える工程であって、ここで触媒転写層が、（ｉ）触媒画分；場合により（ｉｉ）付着促進剤画分；および場合によりおよび独立して、（ｉｉｉ）ポリマーバインダー画分を含む工程；
（ｂ）熱転写ドナーをレシーバーと接触させる工程であって、ここでレシーバーがベース層を含む工程；そして
（ｃ）触媒転写層の少なくとも一部を熱転写によってレシーバー上に転写して、パターニングされたレシーバーを上記パターニングされた基板として備える工程
を含む熱画像形成方法によって製造されるステップ；そして
金属を上記パターニングされた基板上にめっきして、パターニングされた触媒層と接続したパターニングされた金属層を備えるステップ
を含む製造方法。
【請求項２】
触媒転写層およびパターニングされた触媒層が、ガラスフリット；金属酸化物；金属水酸化物およびアルコキシド；シリケート水酸化物およびアルコキシド；および有機ポリオールから選択される付着促進剤画分を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
触媒画分が、群：（１）金属粒子；（２）金属酸化物；（３）有機金属錯体；（４）有機金属塩；（５）金属塩、金属酸化物、金属錯体、金属またはカーボンでコーティングされたセラミックスおよび他の非伝導体粉末；および（６）すべての伝導性形態でのカーボンから選択される１種以上の触媒であって；（１）〜（５）の各金属がＡｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｓｎおよびそれらの合金からなる群から選択される触媒を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
触媒転写層およびパターニングされた触媒層が、約１．０〜９９質量％の触媒画分；約０．５〜１０質量％の付着促進剤画分；および約０．５〜９８．５質量％のポリマーバインダー画分を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
転写がレーザー媒介転写によって実現され、該レーザーが約３５０〜１５００ｎｍの動作波長を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
熱転写ドナーが、ベースフィルムと触媒転写層との間に配置された、ＬＴＨＣ層であって、ＣｒおよびＮｉから選択される金属フィルム；カーボンブラック；黒鉛；およびＬＴＨＣ層内で約６００〜１２００ｎｍの範囲内の吸収極大を有する近赤外染料からなる群から選択される１種以上の放射線吸収剤を含むＬＴＨＣ層をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
熱画像形成方法が、
（ｄ）パターニングされた基板をアニール温度にアニール期間加熱して、アニールされたパターニングされた基板を備える工程
をさらに含み、金属のメッキが上記アニールされたパターニングされた基板をめっきすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
レシーバーが、境界を有するパターニングされた反射防止層をさらに含み；そしてレシーバー上への触媒転写層の少なくとも一部の転写がパターニングされた反射防止層の境界内である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
熱転写ドナーが、ベースフィルムとは反対側の触媒転写層上に、付着促進剤層をさらに含み；そして転写が、付着促進剤層の対応する近接部分を転写して、積層順で前記レシーバー上に、パターニングされた付着促進剤層および前記パターニングされた触媒層を有する前記パターニングされた基板を備えることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
レシーバーが付着促進剤層をさらに含み；そして転写が触媒層の少なくとも一部を上記レシーバーの付着促進剤層上に転写することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
ベースフィルム、触媒転写層（Ａ）、および該ベースフィルムと該触媒転写層（Ａ）との間に介在するＬＴＨＣ層を含む熱転写ドナーであって、該触媒転写層（Ａ）が、
（ｉ）触媒層の総質量に基づいて、約１．０〜約９９質量％の触媒画分（Ａ）であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分と；
（ｉｉ）ガラスフリット；および金属水酸化物およびアルコキシド；から選択される約０．５〜約１０質量％の付着促進剤画分と；
（ｉｉｉ）約０．５〜約９８．５質量％のポリマーバインダーと
を含む熱転写ドナー。
【請求項１２】
ＬＴＨＣ層が、ＣｒおよびＮｉから選択される金属フィルム；カーボンブラック；黒鉛；ならびにＬＴＨＣ層内で約６００〜１２００ｎｍの範囲内の吸収極大を有する近赤外色素からなる群から選択される１つまたはそれ以上の放射線吸収剤を含む、請求項１１に記載のドナー。
【請求項１３】
積層順で、ベースフィルム、触媒転写層（Ｂ）および付着促進剤層を含む熱転写ドナーであって、該触媒転写層（Ｂ）が、
（ｉ）触媒層の総質量に基づいて、約１．０〜約９９質量％の触媒画分であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分；
（ｉｉｉ）約１．０〜約９９質量％のポリマーバインダー
を含み；
ここで付着促進剤層が、ガラスフリット；および金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含む熱転写ドナー。
【請求項１４】
パターニングされた金属層を基板上に有する電子デバイスであって、該基板が可視光を実質的に通し；上記パターニングされた金属層が、積層順で上記基板上に：付着促進剤層、触媒層、およびめっき金属層を含み；そして上記パターニングされた金属層が約１ミリメートルまたはそれ未満の幅の少なくとも１つの線を有する、電子デバイス。
【請求項１５】
付着促進剤層が、ガラスフリット、ならびに金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含み；触媒層が（ｉ）触媒層の総質量に基づいて、約１．０〜約９９質量％の触媒画分であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分と；（ｉｉ）約１．０〜約９９質量％のポリマーバインダーとを含む、請求項１４に記載の電子デバイス。
【請求項１６】
付着促進剤層が反射防止剤画分をさらに含み；パターニングされた金属層が付着促進剤層とは反対側の金属層上に反射防止層をさらに含む、請求項１４に記載の電子デバイス。
【請求項１７】
電磁妨害（ＥＭＩ）シールドまたはタッチパッドセンサーである請求項１４に記載の電子でバイス。
【請求項１】
高い伝導性を有するパターニングされた金属層の製造方法であって：
ベース基板上にパターニングされた触媒層を含むパターニングされた基板を備えるステップであって；該パターニングされた基板が、
（ａ）ベースフィルムおよび触媒転写層を含む熱転写ドナーを備える工程であって、ここで触媒転写層が、（ｉ）触媒画分；場合により（ｉｉ）付着促進剤画分；および場合によりおよび独立して、（ｉｉｉ）ポリマーバインダー画分を含む工程；
（ｂ）熱転写ドナーをレシーバーと接触させる工程であって、ここでレシーバーがベース層を含む工程；そして
（ｃ）触媒転写層の少なくとも一部を熱転写によってレシーバー上に転写して、パターニングされたレシーバーを上記パターニングされた基板として備える工程
を含む熱画像形成方法によって製造されるステップ；そして
金属を上記パターニングされた基板上にめっきして、パターニングされた触媒層と接続したパターニングされた金属層を備えるステップ
を含む製造方法。
【請求項２】
触媒転写層およびパターニングされた触媒層が、ガラスフリット；金属酸化物；金属水酸化物およびアルコキシド；シリケート水酸化物およびアルコキシド；および有機ポリオールから選択される付着促進剤画分を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
触媒画分が、群：（１）金属粒子；（２）金属酸化物；（３）有機金属錯体；（４）有機金属塩；（５）金属塩、金属酸化物、金属錯体、金属またはカーボンでコーティングされたセラミックスおよび他の非伝導体粉末；および（６）すべての伝導性形態でのカーボンから選択される１種以上の触媒であって；（１）〜（５）の各金属がＡｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｓｎおよびそれらの合金からなる群から選択される触媒を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
触媒転写層およびパターニングされた触媒層が、約１．０〜９９質量％の触媒画分；約０．５〜１０質量％の付着促進剤画分；および約０．５〜９８．５質量％のポリマーバインダー画分を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
転写がレーザー媒介転写によって実現され、該レーザーが約３５０〜１５００ｎｍの動作波長を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
熱転写ドナーが、ベースフィルムと触媒転写層との間に配置された、ＬＴＨＣ層であって、ＣｒおよびＮｉから選択される金属フィルム；カーボンブラック；黒鉛；およびＬＴＨＣ層内で約６００〜１２００ｎｍの範囲内の吸収極大を有する近赤外染料からなる群から選択される１種以上の放射線吸収剤を含むＬＴＨＣ層をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
熱画像形成方法が、
（ｄ）パターニングされた基板をアニール温度にアニール期間加熱して、アニールされたパターニングされた基板を備える工程
をさらに含み、金属のメッキが上記アニールされたパターニングされた基板をめっきすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
レシーバーが、境界を有するパターニングされた反射防止層をさらに含み；そしてレシーバー上への触媒転写層の少なくとも一部の転写がパターニングされた反射防止層の境界内である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
熱転写ドナーが、ベースフィルムとは反対側の触媒転写層上に、付着促進剤層をさらに含み；そして転写が、付着促進剤層の対応する近接部分を転写して、積層順で前記レシーバー上に、パターニングされた付着促進剤層および前記パターニングされた触媒層を有する前記パターニングされた基板を備えることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
レシーバーが付着促進剤層をさらに含み；そして転写が触媒層の少なくとも一部を上記レシーバーの付着促進剤層上に転写することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
ベースフィルム、触媒転写層（Ａ）、および該ベースフィルムと該触媒転写層（Ａ）との間に介在するＬＴＨＣ層を含む熱転写ドナーであって、該触媒転写層（Ａ）が、
（ｉ）触媒層の総質量に基づいて、約１．０〜約９９質量％の触媒画分（Ａ）であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分と；
（ｉｉ）ガラスフリット；および金属水酸化物およびアルコキシド；から選択される約０．５〜約１０質量％の付着促進剤画分と；
（ｉｉｉ）約０．５〜約９８．５質量％のポリマーバインダーと
を含む熱転写ドナー。
【請求項１２】
ＬＴＨＣ層が、ＣｒおよびＮｉから選択される金属フィルム；カーボンブラック；黒鉛；ならびにＬＴＨＣ層内で約６００〜１２００ｎｍの範囲内の吸収極大を有する近赤外色素からなる群から選択される１つまたはそれ以上の放射線吸収剤を含む、請求項１１に記載のドナー。
【請求項１３】
積層順で、ベースフィルム、触媒転写層（Ｂ）および付着促進剤層を含む熱転写ドナーであって、該触媒転写層（Ｂ）が、
（ｉ）触媒層の総質量に基づいて、約１．０〜約９９質量％の触媒画分であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分；
（ｉｉｉ）約１．０〜約９９質量％のポリマーバインダー
を含み；
ここで付着促進剤層が、ガラスフリット；および金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含む熱転写ドナー。
【請求項１４】
パターニングされた金属層を基板上に有する電子デバイスであって、該基板が可視光を実質的に通し；上記パターニングされた金属層が、積層順で上記基板上に：付着促進剤層、触媒層、およびめっき金属層を含み；そして上記パターニングされた金属層が約１ミリメートルまたはそれ未満の幅の少なくとも１つの線を有する、電子デバイス。
【請求項１５】
付着促進剤層が、ガラスフリット、ならびに金属水酸化物およびアルコキシドから選択される材料を含み；触媒層が（ｉ）触媒層の総質量に基づいて、約１．０〜約９９質量％の触媒画分であって、Ａｇ、Ｃｕ、およびそれらの合金から選択される金属粒子を含む触媒画分と；（ｉｉ）約１．０〜約９９質量％のポリマーバインダーとを含む、請求項１４に記載の電子デバイス。
【請求項１６】
付着促進剤層が反射防止剤画分をさらに含み；パターニングされた金属層が付着促進剤層とは反対側の金属層上に反射防止層をさらに含む、請求項１４に記載の電子デバイス。
【請求項１７】
電磁妨害（ＥＭＩ）シールドまたはタッチパッドセンサーである請求項１４に記載の電子でバイス。
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図３】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図５】
【図６】
【図７】
【図１Ｂ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図３】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図５】
【図６】
【図７】
【公表番号】特表２０１１−５０３３４８（Ｐ２０１１−５０３３４８Ａ）
【公表日】平成２３年１月２７日（２０１１．１．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−５３１２１６（Ｐ２０１０−５３１２１６）
【出願日】平成２０年１０月２３日（２００８．１０．２３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００８／０８０８５１
【国際公開番号】ＷＯ２００９／０５５５１５
【国際公開日】平成２１年４月３０日（２００９．４．３０）
【出願人】（３９００２３６７４）イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー (2,692)
【氏名又は名称原語表記】Ｅ．Ｉ．ＤＵ ＰＯＮＴ ＤＥ ＮＥＭＯＵＲＳ ＡＮＤ ＣＯＭＰＡＮＹ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２３年１月２７日（２０１１．１．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１０月２３日（２００８．１０．２３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００８／０８０８５１
【国際公開番号】ＷＯ２００９／０５５５１５
【国際公開日】平成２１年４月３０日（２００９．４．３０）
【出願人】（３９００２３６７４）イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー (2,692)
【氏名又は名称原語表記】Ｅ．Ｉ．ＤＵ ＰＯＮＴ ＤＥ ＮＥＭＯＵＲＳ ＡＮＤ ＣＯＭＰＡＮＹ
【Ｆターム（参考）】
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