説明

高周波回路モジュール

【課題】 高周波部品の間に高密度にシールド壁を実装することを目的とする。
【解決手段】 複数の高周波部品が実装された第1のプリント基板と、上記第1のプリント基板に対向配置され、上記高周波部品の実装領域に対向する部分に、複数の導体ビアの埋設壁面および表層または内層の導体層によって周囲が囲まれる掘り込みが設けられた第2のプリント基板と、上記第1、第2のプリント基板における、上記導体ビアに接続された対向する表層パターン同士が、半田によって電気的に接続されるとともに、上記第2のプリント基板における掘り込みを設けた空間内に上記高周波部品がそれぞれ収容され、上記高周波部品が当該掘り込みを設けたそれぞれの空間内に分離配置する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、マイクロ波またはミリ波帯の高周波信号が入出力される高周波回路モジュールに関する。
【背景技術】
【0002】
従来、マイクロ波回路モジュールのキャビティ内にマイクロ波部品を格納すると、キャビティ共振により部品間や端子間のアイソレーションが低下し、特性が悪化することがある。この端子間におけるアイソレーションの低下を抑えるモジュール構造として、導電性樹脂で形成されたシールド壁を、送信モジュールと受信モジュールの間に設けたシールドカバーを被せるものが知られている(例えば、特許文献1参照)。このモジュールでは、送信モジュールと受信モジュールがケースに載置され、シールドカバーは送信モジュールと受信モジュールを被うように、ケースに固定される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2006−41037号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、特許文献1に示す従来のモジュール構造では、導電性樹脂で形成されたシールド壁はねじを使用してケースに固定される。このため、ケースにおけるねじ固定部分の占有面積が大きくなりレイアウトの自由度が低く、送信モジュールまたは受信モジュールをそれぞれ構成する、マイクロ波部品間のアイソレーションを確保するように、マイクロ波部品間にシールド壁を配置することが難しい。このことから、マイクロ波やミリ波の高周波部品の間でのアイソレーションの低下を確実に抑えるまでには至っていないという課題があった。
【0005】
この発明は、係る課題を解決するためになされたものであり、高周波部品の間に高密度にシールド壁を実装することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
この発明による高周波回路モジュールは、複数の高周波部品が実装された第1のプリント基板と、上記第1のプリント基板に対向配置され、上記高周波部品の実装領域に対向する部分に、複数の導体ビアの埋設された壁面および表層または内層の導体層によって周囲が囲まれる掘り込みが設けられた第2のプリント基板と、上記第1、第2のプリント基板における、上記導体ビアに接続された対向する表層パターン同士が、半田によって電気的に接続されるとともに、上記第2のプリント基板における掘り込みを設けた空間内に上記高周波部品がそれぞれ収容され、上記高周波部品が当該掘り込みを設けたそれぞれの空間内に分離配置されたものである。
【発明の効果】
【0007】
この発明によれば、電磁シールド壁を得るための部品にプリント基板を用いて半田により接合するため、高密度でかつ高い自由度で電磁シールド壁を得ることが可能である。また、高周波回路モジュールの低コスト化および軽量化が可能である。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【図1】この発明に係る実施の形態1による高周波回路モジュールの構成を示す断面図である。
【図2】この発明に係る実施の形態1による高周波回路モジュールにおいて、プリント基板に高周波部品および制御回路部品が実装された状態の上面図である。
【図3】この発明に係る実施の形態1による高周波回路モジュールにおいて、プリント基板に半田ボールを配置した状態の上面図である。
【図4】この発明に係る実施の形態2による高周波回路モジュールの構成を示す断面図である。
【図5】この発明に係る実施の形態3による高周波回路モジュールの構成を示す断面図である。
【図6】この発明に係る実施の形態4による高周波回路モジュールの構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
実施の形態1.
図1は、この発明に係る実施の形態1による高周波回路モジュールの構成を示す断面図であり、図2はプリント基板に高周波部品および制御回路部品が実装された状態の上面図を示し、図3はプリント基板に半田ボールを配置した状態の上面図を示す。
図において、実施の形態1の高周波回路モジュールは、第1のプリント基板であるプリント基板1と、プリント基板1に対して導電性接合部材によって接合される第2のプリント基板であるプリント基板2と、プリント基板1を載置する平板状の金属ブロック11によって構成される。プリント基板1はねじまたは接着により金属ブロック11に設置されている。また、導電性接合部材として複数の半田ボール9が用いられる。
【0010】
プリント基板1は、金属パターン層3a〜3eが形成された多層基板であり、基板の厚み方向に貫通する貫通穴50が形成されている。金属パターン層3aはRF(Radio Frequency)信号層またはGND(グランド)層または制御信号層が形成されている。金属パターン層3bはRF信号層または制御信号層が形成されている。金属パターン層3c、3eはGND層が形成されている。金属パターン層3dはGND層または制御信号層または電源層が形成されている。それぞれの層間は導通ビア5で電気的に接続されており、RF信号または制御信号または電源が導通ビア5を介して層間を垂直に伝送される。金属パターン層3aのグランド層の一部は、プリント基板2の半田ボール9が接合される半田接合層になっている。
【0011】
プリント基板1には、制御回路部品6と、気密パッケージ部品7が実装されている。気密パッケージ部品7には増幅器、減衰器、移相器等のマイクロ波部品が内蔵されている。金属パッケージ部品8は、下部がプリント基板1の貫通穴50に収容され、ねじ12を用いて金属ブロック11に固定される。金属パッケージ部品8は高出力増幅器であり、金属ケースの内部空間にセラミック基板およびトランジスタ等の能動素子を収容する。金属パッケージ部品8は、上部がプリント基板1の貫通穴50から突き出し、上部に設けられたRF信号端子が、ボンディングワイヤ10を介してプリント基板1の金属パターン層3aのRF信号端子に接続されている。気密パッケージ部品7は、半田ボール9によってプリント基板1の金属パターン層3aに接合されるが、金属パッケージ部品8と同じようにボンディングワイヤでプリント基板1と接続する構成としても良い。
【0012】
プリント基板2は金属パターン層4a〜4fが形成された多層基板であり、それぞれの層間は導通ビア5で電気的に接続されている。プリント基板2は、プリント基板1の部品実装された領域に対向する部分において、掘り込み13が設けられている。掘り込み13の内部空間を包む外側壁70および中側壁40に設けられた導通ビア5は、波長の2分の1以下の間隔で配列されており、掘り込み13の内部空間を電磁的に遮蔽する近似シールド壁面を構成する。プリント基板2の金属パターン層4fには半田ボール9が配置されている。プリント基板1とプリント基板2は、それぞれを対向させて上記半田ボール9を介してBGA(Ball Grid Array)接続される。これによって、プリント基板2の掘り込み13が設けられた面と、プリント基板2の気密パッケージ部品7、金属パッケージ部品8および制御回路部品6の実装される面とが向き合うこととなり、気密パッケージ部品7、金属パッケージ部品8および制御回路部品6が掘り込み13の形成する空間に収容されることとなる。また、気密パッケージ部品7が収容される掘り込み13による形成空間と、金属パッケージ部品8が収容される掘り込み13による形成空間と、制御回路部品6が収容される掘り込み13により形成空間は、それぞれ異なる空間となるように、外側壁70および中側壁40によって隔成される。プリント基板2の掘り込み13により隔成されたそれぞれ空間は、外側壁70、中側壁40、半田ボール9および金属パターン層4fによって電磁的に遮蔽された電磁シールド空間を形成することとなり、同空間に収容される高周波部品間のアイソレーションを取ることができる。
【0013】
次に、実施の形態1による高周波回路モジュールの動作について説明する。
マイクロ波入力端子16から入力されたマイクロ波信号は、プリント基板1の金属パターン層3aのRF信号層と、内層配線である導体ビア5および金属パターン層3bのRF信号層を通り、半田ボール9を介して気密パッケージ部品7に入力される。気密パッケージ部品7に入力されるマイクロ波信号は、増幅器、減衰器、移相器等で振幅および位相を制御された後、半田ボール9および金属パターン層3aのRF信号層を介して再びプリント基板1の内層配線である導体ビア5および金属パターン層3bのRF信号層を通り、ボンディングワイヤ10および金属パターン層3aのRF信号層を介して金属パッケージ部品8に入力される。金属パッケージ部品8ではマイクロ波信号は増幅され、ボンディングワイヤ10を介してプリント基板1の金属パターン層3aのRF信号層に伝送され、金属パターン層3aのRF信号層からプリント基板1の内層配線である導体ビア5および金属パターン層3bのRF信号層を通り、金属パターン層3aのRF信号層を構成するマイクロ波出力端子17から、信号出力される。制御回路部品6は、金属パターン層3aの制御信号層、導体ビア5および金属パターン層3bの制御信号層を介して気密パッケージ部品7および金属パッケージ部品8にバイアス信号や電源、制御信号を供給する。制御回路部品6は、気密パッケージ部品7および金属パッケージ部品8に収容されたマイクロ波回路について、バイアスおよびタイミング制御を行う。
【0014】
このように、実施の形態1による高周波回路モジュールは、プリント基板2は、複数の導体ビアの埋設された外側壁70および中側壁40の下端面において、半田ボール9を介してプリント基板1に接合され、対向する表層のグランドパターン(金属パターン層3aと金属パターン層4f)同士を電気的に接続するBGA接続が行われる。プリント基板1とプリント基板2のBGA接続によって、掘り込み13空間の内部をグランドされた仮想的な電磁シールド壁によって電磁シールドすることができるので、特許文献1に示すような従来のシールド壁に比べて、高密度でかつ自由度の高い電磁シールド空間を配置することが可能である。
【0015】
以上説明したとおり、実施の形態1による高周波回路モジュールは、複数の高周波部品(マイクロ波部品7および金属パッケージ部品8)が実装されたプリント基板1と、プリント基板1に対向配置され、高周波部品の実装領域に対向する部分に、複数の導体ビア5の埋設壁面および表層または内層の導体層によって周囲が囲まれる掘り込み13が設けられたプリント基板2と、プリント基板1、2における、導体ビア5に接続された対向する表層パターン同士が、半田によって電気的に接続されるとともに、プリント基板2における掘り込み13を設けた空間内に高周波部品がそれぞれ収容され、高周波部品が当該掘り込み13を設けたそれぞれの空間内に分離配置したものである。
【0016】
これによって、制御回路部品6や気密パッケージ部品7、金属パッケージ部品8といった機能ブロックを、プリント基板1とプリント基板2のBGA接続によって完全に電磁シールドすることができる。また、電磁シールドを構成する部品はプリント基板であるため、モジュールの低コスト化、および軽量化が可能である。
【0017】
実施の形態2.
図4は、この発明に係る実施の形態2による高周波回路モジュールの構成を示す断面図である。図において、実施の形態2による高周波回路モジュールは、プリント基板1のマイクロ波部品7、金属パッケージ部品8および制御回路部品6が実装される領域に掘り込み30を設け、掘り込み30の空洞空間(キャビティ)内に部品(マイクロ波部品7、金属パッケージ部品8および制御回路部品6)を実装する構成としている。また、プリント基板2は、掘り込みの設けられていない平面板形状の単層基板が用いられる。なお、その他の構成については、実施の形態1の図1に示した構成と同じである。
【0018】
実施の形態2の高周波回路モジュールは、プリント基板1の掘り込み30が設けられた面に、気密パッケージ部品7、金属パッケージ部品8および制御回路部品6が実装される。また、プリント基板2の掘り込み30が設けられた面と、プリント基板1の上面とが向き合うこととなり、気密パッケージ部品7、金属パッケージ部品8および制御回路部品6が掘り込み30の形成する空間に収容されることとなる。また、気密パッケージ部品7が収容される掘り込み30による形成空間と、金属パッケージ部品8が収容される掘り込み30による形成空間と、制御回路部品6が収容される掘り込み30により形成空間は、それぞれ異なる空間となるように、側壁60によって隔成される。プリント基板1の掘り込み30により隔成されたそれぞれ空間は、側壁60、半田ボール9および金属パターン層4fによって電磁的に遮蔽された空間を形成することとなり、同空間に収容される高周波部品間のアイソレーションを取ることができる。プリント基板2は、側壁60の下端面の半田ボール9を介してプリント基板1に接合されることで、BGA接続が行われる。
【0019】
かくして、実施の形態2による高周波回路モジュールは、複数の導体ビア5の埋設壁面および表層または内層の導体層によって周囲が囲まれる掘り込み30が設けられ、複数の高周波部品が実装されたプリント基板1と、プリント基板1に対向配置された平面板形状のプリント基板2と、プリント基板1、2における導体ビア5に接続された対向する表層パターン同士が、半田によって電気的に接続され、上記高周波部品が、プリント基板1の掘り込みを設けたそれぞれの空間内に分離配置されることを特徴とする。 このように、プリント基板1とプリント基板2のBGA接続によって掘り込み30空間の内部を電磁シールドすることができるので、実施の形態1による高周波回路モジュールと同様、高密度でかつ自由度の高い電磁シールド空間を配置することが可能である。
【0020】
実施の形態3.
図5は、この発明に係る実施の形態3による高周波回路モジュールの構成を示す断面図である。実施の形態3による高周波回路モジュールは、実施の形態1の図1に示した半田ボール9によるBGA接続の代わりに、図5に示す全面半田接合14を導電性接続部材として用いて、プリント基板1の外側壁70とプリント基板2を接続する構成としたものである。なお、その他の構成については、実施の形態1の図1に示した構成と同じである。
【0021】
実施の形態4.
図6は、この発明に係る実施の形態4による高周波回路モジュールの構成を示す断面図である。実施の形態4による高周波回路モジュールは、実施の形態1の図1に示したプリント基板2の代わりに、図6に示す導電性樹脂15を用いたものである。なお、その他の構成については、実施の形態1の図1に示した構成と同じである。
【0022】
導電性樹脂15は、プリント基板1と接続する部分の表面に金属パターンが形成された樹脂である。導電性樹脂15は、プリント基板2と同様、掘り込み13によって隔成された空間が形成されている。導電性樹脂15は、外側壁70および中側壁40の下端部が半田ボール9によってプリント基板1に接合されることで、BGA接続が行われる。
【0023】
かくして、実施の形態4による高周波回路モジュールは、複数の高周波部品が実装されたプリント基板1と、プリント基板1に対向配置され、高周波部品の実装領域に対向する部分に、金属パターンによって表面の覆われる掘り込み13が設けられた導電性樹脂15と、プリント基板1および導電性樹脂15における、対向する表層パターン同士が、半田によって電気的に接続されるとともに、導電性樹脂15における掘り込み13を設けた空間内に上記高周波部品がそれぞれ収容され、上記高周波部品が当該掘り込み13を設けたそれぞれの空間内に分離配置されたことを特徴とする。
【0024】
このように、プリント基板1と導電性樹脂15のBGA接続によって掘り込み13空間の内部を電磁シールドすることができるので、実施の形態1による高周波回路モジュールと同様、高密度でかつ自由度の高い電磁シールド空間を配置することが可能である。
【符号の説明】
【0025】
1 プリント基板、2 プリント基板、3a〜3e 金属パターン層、4a〜4f 金属パターン層、5 導通ビア、6 制御回路部品、7 気密パッケージ部品、8 金属パッケージ部品、9 半田ボール、10 ボンディングワイヤ、11 金属ブロック、13 掘り込み、14 全周半田接合、15 導電性樹脂。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の高周波部品が実装された第1のプリント基板と、
上記第1のプリント基板に対向配置され、上記高周波部品の実装領域に対向する部分に、複数の導体ビアの埋設壁面および表層または内層の導体層によって周囲が囲まれる掘り込みが設けられた第2のプリント基板と、
上記第1、第2のプリント基板における、上記導体ビアに接続された対向する表層パターン同士が、半田によって電気的に接続されるとともに、上記第2のプリント基板における掘り込みを設けた空間内に上記高周波部品がそれぞれ収容され、上記高周波部品が当該掘り込みを設けたそれぞれの空間内に分離配置された高周波回路モジュール。
【請求項2】
複数の導体ビアの埋設壁面および表層または内層の導体層によって周囲が囲まれる掘り込みが設けられ、複数の高周波部品が実装された第1のプリント基板と、
上記第1のプリント基板に対向配置された平面板形状の第2のプリント基板と、
上記第1、第2のプリント基板における上記導体ビアに接続された対向する表層パターン同士が、半田によって電気的に接続され、上記高周波部品が、上記第1のプリント基板の掘り込みを設けたそれぞれの空間内に分離配置された高周波回路モジュール。
【請求項3】
上記第1のプリント基板と第2のプリント基板は、ボールグリットアレイ接続により電気的に接続されたことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の高周波回路モジュール。
【請求項4】
上記第1のプリント基板と第2のプリント基板は、外周壁が全面半田接合により電気的に接続されたことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の高周波回路モジュール。
【請求項5】
複数の高周波部品が実装された第1のプリント基板と、
上記第1のプリント基板に対向配置され、上記高周波部品の実装領域に対向する部分に、金属パターンによって表面の覆われる掘り込みが設けられた導電性樹脂と、
上記第1のプリント基板および導電性樹脂における、対向する表層パターン同士が、半田によって電気的に接続されるとともに、上記導電性樹脂における掘り込みを設けた空間内に上記高周波部品がそれぞれ収容され、上記高周波部品が当該掘り込みを設けたそれぞれの空間内に分離配置された高周波回路モジュール。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2011−165931(P2011−165931A)
【公開日】平成23年8月25日(2011.8.25)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−27536(P2010−27536)
【出願日】平成22年2月10日(2010.2.10)
【出願人】(000006013)三菱電機株式会社 (33,312)
【Fターム(参考)】