【課題】微弱信号を増幅可能な増幅装置を提供する。
【解決手段】増幅装置は、被測定系の観測量＾Ａを測定する際に、測定器と、初期状態が事前選択された被測定系を相互作用させ、次に被測定系の終状態を事後選択し、測定器の波動関数ξ（ｐ）を用いて物理量の測定を行う。被測定系の量子状態の事前選択状態、事後選択状態それぞれのベクトルを｜ｉ＞、｜ｆ＞とするとき、式（１）の弱値Ａ_Ｗが既知であり、Ａ_Ｗ＝＜ｆ｜＾Ａ｜ｉ＞／＜ｆ｜ｉ＞…（１）、測定器と被測定系の相互作用ハミルトニアンＨが、測定器の運動量演算子＾ｐおよび結合係数ｇ（ただしｇ＞０）を用いて式（２）で与えられ、Ｈ＝ｇ・δ（ｔ−ｔ_０）・＾Ａ・＾ｐ…（２）、＾Ａ^２＝１のときに、測定器は、波動関数ξ（ｐ）が運動量表示で実質的に式（３）となる。
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【課題】被測定物に対する面方向の分解能や測定位置の変更を容易に行うことができる形状測定装置を提供する。
【解決手段】光源１０と、光源１０からの光を２つの光束に分割して、一方の光束を被測定物Ｔに照射し、他方の光束を参照ミラー４０に照射させると共に、これらから反射された光を合波させるスプリッタ２０と、スプリッタ２０によって合波された光により得られる画像を撮像するＣＣＤ５０と、２つの傾き状態に制御される複数の微小ミラーを有するＤＭＤと、複数の微小ミラーを制御して被測定物Ｔや参照ミラー４０への照射光等を絞り込み、その状態で撮像された画像に基づき、測定点の高さを測定する制御手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】さらに付加的な情報の取得が可能で、かつ堅牢な装置構造と高度な測定精度とを有する光干渉測定技術の提供。
【解決手段】光干渉測定装置は、光源１からの出発ビーム２を測定ビーム３と第１の参照ビーム４ａとに分割するビームスプリッタ５ａと、光の重ね合わせ手段と、第１の検出器８ａとを備える。重ね合わせ手段と第１の検出器８ａとは互いに連携する。物体７によって反射された測定ビームと第１の参照ビームとが第１の検出器の検出面で重ね合わされる。ビームスプリッタ５ａは、出発ビーム２を測定ビーム３と、第１の参照ビーム４ａと、少なくとも第２の参照ビーム４ｂとに分割する。重ね合わせ手段と互いに連係する第２の検出器８ｂが備えられ、物体７によって散乱させられた第１の受信ビーム４ｂ’としての測定ビームと第２の参照ビーム４ｂとが第２の検出器８ｂの検出面で重ね合わされる。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で参照面と被検面との間の絶対距離を高精度かつ高速に計測可能な計測装置を提供すること
【解決手段】波長走査干渉計は、複数の光源ＩＬ１〜ＩＬ３と、複数の光束を合成するビームスプリッタ１０３ｂと、ビームスプリッタ１０３ｂからの光を参照光束と被検光束に分割し、干渉計ユニット３００によって検出された干渉信号に基づいて参照面と被検面との間の絶対距離を決定する処理部１０７と、を有する。干渉計ユニットは、複数の種類の光束に対応する複数の種類の干渉縞のそれぞれを、合成された干渉信号Ｓ１００として検出する単一の光検出部１０６を有し、処理部は、合成された干渉信号に対してＦＦＴを行って複数の種類の光束のそれぞれについて絶対距離Ｌ_１〜Ｌ_３を取得し、取得した複数の絶対距離を演算して一つの絶対距離Ｌ_４を出力する。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度に被検面の形状を計測することが可能な計測装置を提供すること
【解決手段】計測装置は、光コム光源１０１から射出された光束を、被検光束と参照光束に分割するＰＢＳ１５と、前記参照光束と前記被検光束の光路長差を変化させる遅延素子９と、前記被検光束と前記参照光束が干渉して形成する干渉縞を撮像する撮像素子２４と、遅延素子が光路長差を変化させて撮像された干渉縞の信号に基づいて被検面２３の位置を算出する解析器２５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】同じ支持板の径（面積）であっても、より光路長の変化を大きくすることのできる断層測定装置を提供する。
【解決手段】断層測定装置を、光を放出する光源と、光源から放出された光を第一の光と第二の光に分割する第一の光分割部材と、第一の光の光路を変化させる光路可変部材と、第一の光と前記第二の光を結合させる光結合部材と、結合部材により結合した光の振幅を測定する振幅測定部材と、を有し、光路可変部材は、支持板４１と、支持板を支持し、かつ回転させる回転支持部材と、第一の光を第三の光と第四の光２４に分割する第二の光分割部材と、支持板上に配置される支持反射部材４３と、支持反射部材から反射された第三の光を再度支持反射部材に入射させる第一の固定反射部材４５と、支持反射部材から反射された第四の光を再度支持反射部材に入射させる第二の固定反射部材４８を有するものとする。 （もっと読む）

【課題】汎用性の高い横座標の校正方法によって横座標を校正する形状計測装置、及びその横座標校正方法を提供する。
【解決手段】複数の開口が形成され、これら複数の開口の配列によって校正パターンを形成するアパーチャー板２０をワークＷの被検面Ｗｓの前面に配置する。この開口を通過すると共に、被検面Ｗｓで反射され、再度開口を通過した測定光Ｌｍを撮像素子５によって検出する。撮像素子上にて結像した校正パターンの横座標位置と、予め計測されている校正パターンの基準横座標位置とを、演算装置７によって比較することによって、形状計測装置１の横座標を校正する。 （もっと読む）

【課題】被計測物が様々な屈折率で、かつ様々な厚さの透明媒質の下に配置されていても、その被計測物の高さを容易に計測する。
【解決手段】高さ計測装置１は、照明光から分岐された第１照明光を被計測物６に導く対物レンズ２４と、照明光から分岐された第２照明光を参照ミラー２８に導く対物レンズ２６と、第２照明光の光路長を調整する移動部３６と、被計測物６及び参照ミラー２８で反射される２つの照明光の干渉像を撮像する高速度カメラ１２と、対物レンズ２４と被計測物６とを光軸方向に相対移動するピエゾ駆動装置１８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】計測装置の測長軸の調整を不要とし、簡便な取り付け及び光学素子の汚染防止の点で有利な技術を提供する。
【解決手段】参照面と被検面との間の距離を計測する計測装置であって、光源からの光を分割させる光分割素子と、前記参照面、前記被検面及び前記光分割素子を内部に収納すると共に、前記内部において前記参照面及び前記光分割素子を固定するハウジングと、前記ハウジングの外部に設けられ、前記光分割素子から前記参照面までの第１の光路長と前記光分割素子から前記被検面までの第２の光路長とが等しくなるときの前記被検面の位置を示す測長基点を表示する第１の表示部と、前記ハウジングの外部に設けられ、前記第２の光の光路に平行な軸を示す測長軸を表示する第２の表示部と、前記参照面と前記被検面からの反射光との干渉信号から前記参照面と前記被検面との間の距離を算出する処理部と、を有することを特徴とする計測装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】収束光学系を有するレーザ干渉測定装置における測定面上の位置の校正が簡便かつ高精度に行えるレーザ干渉測定装置の横座標校正治具および横座標校正方法を提供すること。
【解決手段】横座標校正治具１０は、マーカを有する画像を投影する画像投影手段１９と、画像投影手段１９を第１回動軸線Ａ１まわりに回動自在に支持しかつ第１回動軸線が所定の回動中心Ｃを通る第１支持機構１１と、第１支持機構を第２回動軸線Ａ２まわりに回動自在に支持しかつ第２回動軸線が回動中心Ｃで第１回動軸線Ａ１と交叉する第２支持機構１２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】検出用走査を行うことなく、ワンショット撮影により、高さ方向のダイナミックレンジの大きい、被検面の１ライン上の微細な凹凸形状情報を容易に取得し得る、形状測定装置および形状測定方法を提供する。
【解決手段】 空間的にインコヒーレントで広帯域スペクトルを有する光を射出する面状の光源１０からの照明光を、対物レンズ１３Ａ、Ｂを介して参照面１４および被検面２０に照射し、得られた参照光と測定光を干渉させ、その干渉光をスリット１６Ａにより線状に整形し、分光器１６により分光し、２次元撮像手段１７により得られたスペクトル干渉情報に基づき被検面２０の形状を解析する。光源１０、被検面２０、スリット１６Ａ、および光源１０、参照面１４、スリット１６Ａは各々互いに共役である。被検面２０を介する系路の光路長と、参照面１４を介する経路の光路長との間にオフセットが設けられる。 （もっと読む）

【課題】試料の表面形状を測定する際に、干渉波形の包絡線と位相との両方に基き試料の表面形状を算出できるようにした走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法を提供する。
【解決手段】撮影した動画ファイルデータに基づき、試料の表面上の位置に対応する各画素において、ヒルベルト変換を用いて干渉波形の包絡線と位相を算出し、包絡線がピークになる走査位置と、位相が０になる走査位置を算出し、両位置の差から、試料表面の反射光の位相変化による位置ずれの値を検出し、その値の大きさから、その画素の試料表面が他の画素の試料表面と同種であるか異種であるかを判定し、同種のもの同士で干渉波形の位相が０になる走査位置のずれの平均値を算出しておき、各画素で、位相が０になる位置から対応する試料の表面上の物質での位相が０になる走査位置のずれの平均値を引くことで、反射光の位相変化の影響が消されて試料の表面形状が測定される。 （もっと読む）

【課題】走査型白色干渉計を用いて試料の表面形状を測定する際に、少ないデータ数で精度よく試料の表面形状を測定できるようにするデータ処理方法を提供する。
【解決手段】走査型白色干渉計のデータ処理方法は、干渉計で得た動画ファイルデータを読み出し、それぞれの画素において時間軸方向のデータに基き、ヒルベルト変換を用いて、時間軸上での位置で、干渉計の光路差が０になる走査距離に対応した干渉波形の最大のピークの位置を求め、それを全画素で表わす。 （もっと読む）

【課題】試料の表面形状の測定精度を大幅に向上させることのできる、走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法を提供する。
【解決手段】対物レンズの下にビームスプリッター及びミラーを配し、試料表面を含めて、マイケルソン型などの干渉計を構成し、試料までの距離又はミラーまでの距離をピエゾアクチュエーターで走査し、それによりできる干渉波形をCCDカメラで撮影して動画ファイルデータとして記録し、データ収集間隔をナイキスト間隔（干渉波形の周期の１／２）よりも広く取って試料の表面形状を測定する、走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法において、得られた収集波形についてヒルベルト変換を行い、包絡線と位相を得、こうして得られた位相が０になる走査位置と試料の表面高さとの関係を用いて位相が0になる走査位置から試料表面の高さを算出する。 （もっと読む）

【課題】測定範囲を拡大できるとともに機器の簡略化が可能な斜入射干渉計を提供すること。
【解決手段】光源４１と、光源４１からの原光を分割する光束分割部と、測定光を被測定物Ｗに照射する照射部４３と、測定光と参照光とを合成する光束合成部４４と、合成された光束を受光する受光部４５とを有する斜入射干渉計１において、干渉計本体３０と、被測定物Ｗを保持する基台１０と、干渉計本体３０を被測定物Ｗに沿って移動可能な移動機構２０と、干渉計本体３０の移動軸線の延長上に配置された補助反射鏡５１と、光源４１からの原光から補助光を分割して補助反射鏡５１に照射する補助光束分割部５２と、干渉計本体に設置されかつ補助反射鏡５１で反射された補助光を受光する補助受光部５５と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は隣接するスペクトルの重なりの影響を低減することができ、且つ、波数空間上のスペクトルをフィッティングして位相回復を行うよりも少ない計算量で位相回復を行うことができる計算方法、プログラムと、撮像装置を提供すること。
【解決手段】 撮像装置は、シアリング干渉計と、シアリング干渉計により得られる干渉パターンから被検体の情報を算出する算出手段を備える。
算出手段は、干渉パターンを窓フーリエ変換することにより得られる波数空間上の座標におけるフーリエ成分を表す式を３以上用い、それらのフーリエ成分を表す式を連立方程式として解くことで被検体の情報を算出する。 （もっと読む）

【課題】試料表面の変位量が大きくても、フェーズラッピングの問題が生ずることなく、試料の微細な表面形状を高分解能で測定できる形状測定装置を実現する。
【解決手段】白色光源から出射した照明光は、入射光をシャーリングする第１の光路と入射光に対して可変光路長ないし可変位相量を導入してフリンジスキャンを行う第２の光路とを有する干渉光学系及び対物レンズを経て試料に入射する。試料上には、シャーリングされた参照ビームにより形成される第１の照明領域とフリンジスキャンされた測定ビームにより形成される第２の照明領域が形成される。第１及び第２の照明領域から出射した反射光は、対物レンズ及び干渉光学系を介して２次元撮像装置に入射し、２つの照明領域の画像が合成された干渉画像が形成される。フリンジスキャンにより、２つの画像を構成する反射光間に白色干渉が発生し、干渉信号を検出することで、試料の形状又は孔の深さが測定される。 （もっと読む）

【課題】移動する被検体までの絶対距離を高精度に計測する。
【解決手段】第１光源からの第１光束によって形成される被検体の位置情報を含む第１干渉信号と、第２光源からの第２光束によって形成される前記被検体の位置情報を含む第２干渉信号と、前記第１光束の波長を走査しながらの前記第１干渉信号と前記第２光束の波長を走査しながらの前記第２干渉信号とに基づいて前記被検体までの絶対距離を算出する処理部とを備え、前記処理部は第１時刻から第２時刻までの時間間隔における前記第１干渉信号の位相と前記第２干渉信号の位相との差分の変化量によって得られる前記被検体の速度によって、前記第１干渉信号および前記第２干渉信号の少なくとも一方に基づいて算出される誤差を有する絶対距離を補正し、誤差が補正された絶対距離を算出する。前記第１時刻および前記第２時刻は前記第１光束の波長と前記第２光束の波長との差分が互いに等しい時刻である。 （もっと読む）

【課題】スペックル低減を、拡散板を動かすのではなく、ビームを動かして、質量及びモーメントだけでなく、付随する熱及び振動を低減することにより達成する。
【解決手段】コヒーレント光のスペックルを低減するシステム２５０において：拡散板２８６と；少なくとも１つのビームステアラー２７０および第１軸を有するビームステアリングシステムと；拡散板２８６とビームステアリングシステムとを相互接続する光学系であって、光を、少なくとも１つのビームステアラー２７０を介して拡散板２８６の連続する軸外領域に、そして拡散板２８６の連続する軸外領域から少なくとも１つのビームステアラー２７０に誘導することにより、拡散板２８６の連続する軸外領域からの光の角度分布が、第２軸を略中心とするようになり、かつ第２軸に略揃うようになって、スペックル低減システムから射出する光学系と；を備える。 （もっと読む）