【課題】管状体の内表面に発生しうる凹凸疵及び模様系の疵を同時に検出すること。
【解決手段】本発明に係る欠陥検出装置は、管状体の軸方向に沿って移動しながら管状体の内表面に対して環状のレーザ光を照射して環状ビーム画像を複数生成する管状体撮像装置と、生成された環状ビーム画像に対して画像処理を行い、管状体の内表面に欠陥が存在するかを判断する演算処理装置とを備え、演算処理装置は、各環状ビーム画像における環状のレーザ光の照射部分の重心位置を算出する環状ビームセンター算出部と、環状ビーム画像の座標系を変換して光切断画像を複数生成する座標変換部と、各光切断画像から生成された縞画像フレームに基づき管状体の内表面の凹凸状態を表す深さ画像及び管状体の内表面でのレーザ光の輝度分布を表す輝度画像を算出する画像算出部と、算出された深さ画像及び輝度画像に基づき内表面に存在する欠陥を検出する欠陥検出部とを有する。 （もっと読む）

【課題】受光素子の種類に依存したアルゴリズムを検討することなく、スポット像位置検出を高精度に行うことができるスポット像位置検出装置を提供する。
【解決手段】本発明のスポット像位置検出装置５０は、レーザー光３を結像するレンズ（光学系）６、及び受光素子７から構成されるカメラ１０と、カメラ１０に対してレーザー光３を照射するレーザー光源（発光手段）１と、レーザー光源１の射出ビーム径２よりもカメラ１０のレンズ６に入射する際のビーム径５が細くなる位置に配置されたレンズ（ビームウエスト光学系）４と、受光素子７上の輝度情報に基づいて光スポット像位置を算出する画像処理装置（画像処理手段）８と、画像処理装置８により画像処理された画像データを表示するディスプレイ９と、を備えて構成されている。 （もっと読む）

【課題】切削部の撮影画像が不明瞭なものとなる場合にも、溶接ビート切削幅の測定の信頼性を向上させうる撮影画像データ処理方法を提供する。
【解決手段】照明光をエリア光とし、該エリア光による測定領域の照明輝度をビード長手方向で相異なる三輝度とし、これら三輝度の各領域（Ａ，Ｂ，Ｃ各部）の撮影画像を同時に画像処理して溶接ビード切削幅を測定する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に薄膜を形成する基板処理で、処理の進行具合をリアルタイムで把握して処理の終了時点を精度よく検出できる方法を提供すること。
【解決手段】基板１上に絶縁膜２を形成する基板処理装置１０であって、絶縁膜２を波長可変単色光ｓで照射し、絶縁膜２および基板１からの各反射光を干渉させる干渉光発生手段１２と、所望膜厚での干渉光強度Ｉが極小になるように単色光ｓの基準波長λ_０を設定する基準波長設定部２８と、基準波長を挟む２波長（λ_１、λ_２）間で単色光ｓを波長変調する変調部２６と、これに応じた干渉光強度Ｉを検出する干渉光検出器１８と、絶縁膜２が所望膜厚に達する直前から所望膜厚に達するまでの干渉光強度Ｉの変化に基づいて、最大波長（λ_２）時と最小波長（λ_１）時の干渉光強度の差分ΔＩが零または所定値になる時点を基板処理の終了時点として検出する終了時点検出手段２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】高精度なオートフォーカス処理が可能な画像測定装置を提供する。
【解決手段】画像測定装置は、ワーク３を撮像する、露光時間が可変の撮像装置１４１と、所定の発光周波数で発光制御されてワーク３に対して照明光を照射する照明装置１４２と、撮像装置１４１の合焦位置を制御して合焦位置を合焦軸方向の位置情報として出力する位置制御システム１５１と、位置制御システム１５１による合焦位置の制御に際して室内光の点灯周波数が第１の周波数及び第２の周波数のいずれであるかに基づいて撮像装置１４１の露光時間を室内光の点灯周期の整数倍となるように設定する制御装置１５２とを備え、照明装置１４２の発光周波数は、第１の周波数及び第２の周波数の公倍数に設定される。 （もっと読む）

【課題】位相シフト法による干渉縞を用いた高さ計測装置において、位相シフト画像に内包する各種ノイズ成分の影響を抑制し高精度な光学的計測装置を提供する。
【解決手段】測定対象物の測定面の高さと上記測定面の高さに応じた複数の異なる波長の光による干渉縞画像内の各点の明るさが変化する部分の位相との関係を所定の演算式に数式化するとともに、上記測定対象物の測定面の高さと測定面の高さに応じた上記複数の異なる波長の光による干渉縞画像内の各点の明るさが変化する部分の位相との組合せを、同数式化した所定の演算式に基いて演算し、この演算により求めた位相情報を位相コード変換テーブルに反映させることによって、上記測定対象物の測定面の高さを計測する。 （もっと読む）

【課題】位相シフト法を利用した三次元計測を行うにあたり、計測精度の向上を図ることのできる基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板検査装置８は、プリント基板に対し光を照射する照明装置１０と、当該プリント基板を撮像するＣＣＤカメラ１１と、制御装置１２とを備えている。制御装置１２は、ＣＣＤカメラ１１により撮像された元画像データを記憶する元画像データ記憶手段２４と、元画像データからＲＧＢ各色成分を抜き出す抜き出し画像データ作成手段２５と、抜き出し画像データのデータ欠落部分を補完する補完画像データ作成手段２６と、当該補完画像データを基にカラー輝度画像を作成するカラー画像作成手段２７と、当該カラー輝度画像を基に計測対象領域を抽出する二次元計測手段２８と、当該計測対象の三次元計測を行う三次元計測手段２９と、当該計測結果を基にハンダの印刷状態を検査する判定手段３０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ストレートエッジと同等の精度で真直度の測定、調整ができる小型軽量安価な真直度測定装置の提供。
【解決手段】光位置センサ７が、測定対象１２に沿って摺動させられつつ、光ビーム出力部１からの光ビームを受光した平面上の位置を検出することにより、測定対象１２の真直度を測定する真直度測定装置。光ビーム出力部１及び光位置センサ７間の距離を距離センサ６が測定し、受光する平面上の任意の位置を基準位置として受付け、校正動作時に、基準位置及び光位置センサ７が検出した位置の差を算出し、算出した差を、位置の検出時に距離センサ６が測定した距離と共に記憶しておき、測定動作時に、基準位置及び光位置センサ７が検出した位置の差を算出し、算出した差から、位置の検出時に測定した距離に対応して記憶している差を差引いた結果を距離と共に表示部１１に表示する構成である。 （もっと読む）

【課題】被検面の形状を高精度に計測すること。
【解決手段】部分計測を複数回行い、それらを合成して全体の形状を得るスティッチ計測方法において、全体計測領域に対して、部分計測領域を複数配置するラティス構築ステップと、ラティスにおいて、全体計測領域の外部が存在する周辺部分計測領域に対しては、全体計測領域の内部の第1の領域と外部の第2の領域とに分割し、全体計測領域の外部が存在しない中央部分計測領域に対しては、周辺部分計測領域の分割パターンによって第1の領域と第2の領域とに分割するステップと、第1の領域上に第1の直交関数系を構築するステップと、全体計測領域における各部分計測領域に対して、第1の領域上に第1の直交関数系の各関数の線形結合を第1のシステムエラーとして定義するステップと、線形結合における係数を変数として含む整合性関数を構築するステップと、整合性関数を最適化することにより決定された変数からシステムエラーを算出するステップとを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】記録媒体の変位に追従して外周面が変位させられる追従部材の変位量を、回転体の偏心の影響を受けずに計測すること。
【解決手段】計測装置２００は、搬送路３２に沿って搬送される記録媒体Ｐに外周面を接触させ、記録媒体Ｐの変位に追従して当該外周面が変位させられる追従部材２１０と、当該外周面の変位量を光学的に計測する変位量計測手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】うねりによる影響を極力無くして被検面の変位量を検出する。
【解決手段】 対物レンズ１８は、光源１３が発した光束を被検面２３ａ上に微小なビーム光として投射する。シリンドリカルレンズ２１は、被検面２３ａで反射した反射光束に非点収差を与える。受光センサ１９は、非点収差が与えられた反射光束を入射させて受光パターンに応じた出力変化が得られるように受光面が複数に分割されている。信号処理部２６は、受光面から得られる変位信号に基づいて被検面２３ａの変位を検出する。表面すねり補正部２８は、変位信号に基づいて表面のうねりの周期ピッチを求め、その時点の被検面２３ａ上のビーム径が周期ピッチよりも大きくなるように集光レンズ２０と受光面１９ａとの間隔を変え、これに連動して対物レンズ１８を移動する。 （もっと読む）

【課題】新規な接触面積測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】接触面積測定装置は、試料７に接する光透過性基板６と、前記試料７とは反対側から、前記光透過性基板６に光を照射する照射手段と、前記試料７からの反射光と前記光透過性基板６からの反射光とから生じる干渉画像を取得する干渉画像取得手段１２と、前記干渉画像の輝度値情報を補正処理し、得られた補正輝度値情報から輝度値ヒストグラムを作成する輝度値ヒストグラム作成手段１４と、前記輝度値ヒストグラムから接触面積を算出する接触面積演算手段１５を有し、前記補正処理は、割り算演算を有する式により、補正画像輝度を算出する。ここで、補正画像輝度は、式（補正画像輝度＝（対象画像輝度／参照画像輝度）×定数）により算出することが好ましい。また、参照画像輝度は、荷重ゼロ時の元画像に対し、ガウスぼかしフイルター処理して求めることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、マーカとマーカの観測物が正対する付近でも、マーカを観測物により正確に計測することができるマーカを提供することである。
【解決手段】上記の課題を解決するために、本発明に係るマーカは、模様と、模様の上に付けられたレンズであって、レンズを観測する方向に応じてレンズ上に観測される濃淡パターンが変化するレンズとを含むマーカユニットを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来よりもガラス基板の欠陥の検査感度を向上可能であり、かつ、欠陥を検査する時間を短縮できるガラス基板の欠陥検査方法及び欠陥検査装置、並びに、前記欠陥検査方法又は前記欠陥検査装置を用いたガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本ガラス基板の欠陥検査方法の一形態は、第１主平面及びその対向面である第２主平面を有するガラス基板に、複数方向から光を順次照射し、前記ガラス基板の画像を順次撮像する順次撮像工程と、前記順次撮像工程で順次撮像した各ガラス基板の画像に基づいて、前記ガラス基板の前記第１主平面及び前記第２主平面の欠陥の有無を検査する欠陥検査工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 コンパクトな構成で作業台の回転制御の精度の向上を図ることができる回転制御装置及び回転制御方法を提供する。
【解決手段】 回転体の回転に連動して回転するロータリーエンコーダの読取信号を処理して回転ムラ信号と回転ブレ量信号とを生成し、回転駆動部において回転ムラ信号に応じて回転体の回転速度サーボ制御をなすステップと、処理部において回転ブレ量信号に応じてワークに対する位置サーボ制御をなす。 （もっと読む）

【課題】動的干渉計を使用した薄膜形成監視方法の提供。
【解決手段】動的干渉計（dynamic interferometer）を用いた薄膜成長リアルタイム監視方法が開示される。光学監視により成長薄膜スタックの反射係数の時間的位相変化を抽出する。該動的干渉計（dynamic interferometer）は、振動と乱気流の影響を排除し、直接的に成長薄膜スタックの変動位相を検出する方法に使用される。反射率或いは透過率測定と組み合わせて、監視光の垂直入射下でのリアルタイム反射係数が光学アドミタンスと同様に見つけられ、これにより薄膜成長の誤り補償強化に供される。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された凹部の深さを、加工方法の制約を受けず、かつ、任意の時間に、非破壊、非接触で測定する技術を提供する。
【解決手段】基板９に形成された貫通ビア９Ｈ（凹部）の深度を検査する基板検査装置１００であって、基板９に向けて電磁波パルスを照射する電磁波パルス照射部１３と、電磁波パルスを検出する電磁波パルス検出部１５とを備える。また、基板検査装置１００は、貫通ビア９Ｈが形成されているビア形成領域９２Ｒを透過した電磁波パルスの時間波形と、ビア形成領域９２Ｒとは異なる参照領域を透過した電磁波パルスの時間波形とを比較して、その位相差を取得する位相差取得部２５と、前記位相差に基づいて、前記ビア形成領域に形成された貫通ビアの深度を取得するビア深度取得部２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】ダイヤモンドライクカーボン等のカーボン薄膜について、その膜厚を簡易な手法で評価できるようにした、カーボン薄膜の膜厚評価方法を提供する。
【解決手段】基材上に形成された厚さ１００ｎｍ以下のカーボン薄膜の膜厚評価方法である。カーボン薄膜の膜厚と明度計測装置で計測したカーボン薄膜の明度との相関を求める工程と、明度計測装置によって被評価膜となるカーボン薄膜の明度を計測する工程と、計測した被評価膜となるカーボン薄膜の明度から先に求めた相関に基づき、被評価膜となるカーボン薄膜の膜厚を評価する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光路長差が小さくなっても被加工物の厚みまたは上面高さ位置を正確に計測することができる計測装置を提供する。
【解決手段】被加工物保持手段に保持された被加工物の基準面から上面までの距離を計測する計測装置であって、被加工物の上面で反射した反射光と基準面で反射した基準反射光を受光したイメージセンサーからの検出信号に基づいて分光干渉波形を求め、この分光干渉波形における各波長毎の隣接する１またはｎ個隣の光強度との差を演算して分光干渉差分波形を求め、分光干渉差分波形と理論上の波形関数に基づいて波形解析を実行し、被加工物の上面で反射した反射光の光路長と基準面で反射した基準反射光の光路長との光路長差に基づいて被加工物の基準面から上面までの距離を求める。 （もっと読む）

【課題】対象物の相対的な位置情報を短時間で精度良く検出することができる光学センサを提供する。
【解決手段】 面発光レーザアレイを含む光源１１、非平行透明部材１２、コリメートレンズ１３、対物レンズ１４、及び処理装置などを備えている。面発光レーザアレイの複数の発光部から射出された複数の光束は、Ｚ軸方向に関して互いに異なる位置に集光される。そして、処理装置は、面発光レーザアレイの複数の発光部に一定の電圧を印加するとともに、発光部毎にセルフミキシング信号をプリンタ制御装置に出力する。プリンタ制御装置は、各発光部のセルフミキシング信号に基づいて、Ｚ軸方向に関する記録紙との距離を求める。 （もっと読む）