【課題】励起光遮断特性を高めることにより、励起光カットフィルタの厚みを従来の色ガラス材よりも薄くできる色ガラス材を提供する。
【解決手段】 陽イオンとして、陽イオン％表示で、
Ｓｉ^４＋ ２５〜６０％
Ａｌ^３＋ ３〜１９％
Ｂ^３＋ １８〜３８％
Ｋ^＋ ９〜３１％
Ｃｏ^２＋ ０．１〜１．５％
を含み、陰イオンとして、Ｏ^２−を主成分として含み、さらに陰イオン％表示で、
Ｆ⁻ １〜１２％
Ｃｌ⁻ ０．０１〜２％
を含むことを特徴とするコバルト含有ガラスである。
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【課題】ターゲットが破損することがなく、かつ小型軽量化を可能とする放射線発生装置を提供する。
【解決手段】電子放出源１側から第２の遮蔽体２１、ターゲット１６、第１の遮蔽体２０の順で配置され、ターゲット１６の放射線強度最大の箇所から第１の遮蔽体２０までの最短距離は、ターゲット１６の放射線強度最大の箇所から第２の遮蔽体２１までの最短距離よりも短いことを特徴とする放射線発生装置。 （もっと読む）

【課題】輝度ムラを低減して、被検体のハンドリングが容易なＸ線断層撮像装置を提供すること。
【解決手段】
プリント基板５１にＸ線を照射するＸ線照射器２、３とプリント基板５１を透過したＸ線を検出するＦＰＤ５、６とで構成される複数組の照射ユニット７、８と、各照射ユニット７，８の各Ｘ線照射器２、３とＦＰＤ５，６との間にプリント基板５１を平行移動させる搬送器４と、少なくとも１つの照射ユニット８のＸ線中心軸がプリント基板５１の搬送方向に傾斜しており、少なくとも１つの他の照射ユニット７のＸ線中心軸がプリント基板５１の搬送方向の逆方向に傾斜している。 （もっと読む）

【課題】異物を精度良く識別する最適な画像処理アルゴリズムの設定操作を容易に行うことができるＸ線検査装置を提供すること。
【解決手段】画像処理アルゴリズムを予め複数記憶する情報蓄積部４７と、被検査物Ｗ中から検出する異物について、主に検出すべき異物の成分を含む異物検出能力を表す異物検出特性を選択する設定操作部４５と、設定操作部４５で選択された異物検出特性に近似する少なくとも１つの画像処理アルゴリズムを情報蓄積部４７から抽出する制御部４６と、制御部４６により抽出された画像処理アルゴリズムを所定形式で表示する表示部５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】対象の外郭を示す形状情報だけでなく内部構造に関する情報をも含む立体画像を再構成する。
【解決手段】対象の立体画像を再構成する立体画像再構成装置であって、濃淡で示された複数の透過型画像を撮像する撮像部と、透過型画像において複数の特徴領域を選択する特徴領域選択部と、複数の特徴領域のそれぞれの、透過型画像上の位置に基づいて、複数の特徴領域の空間的な分布を算出する特徴領域分布算出部と、複数の透過型画像を重ね合わせて対象の立体構造を示す立体画像を再構成する場合に、複数の特徴領域の空間的な分布に基づいて、複数の透過型画像により示される濃淡を、複数の特徴領域のそれぞれの位置に割り付けて、複数の特徴領域のそれぞれにおける立体構造を示す立体画像を再構成することにより、対象全体に濃淡を割り付けた立体画像を再構成する立体画像再構成部とを備える立体画像再構成装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑える。
【解決手段】開口部Ａpの側壁は、遮蔽板７５を平面視した場合において開口部Ａpが四角形状を有するように当該四角形の各辺に対応する４つの面を有している。しかも、開口部Ａpの側壁が有する面のうち少なくとも一つの面Ｓal、Ｓbl、Ｓbr、Ｓcr等は、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている。その結果、開口部Ａpの側壁で反射されて、遮蔽板７５の他方主面７５b側に設けられた放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線分析を行うのに好適なＸ線分析装置及びＸ線分析方法を提供する。
【解決手段】照射Ｘ線用の開口部３６と参照Ｘ線用の孔３８とが形成されたマスク１８と、供試体２０を支持する支持部１９と、マスクを介して供試体にＸ線を照射することにより得られるホログラム像を取得する２次元Ｘ線検出器２２とを有し、マスクと支持部とが相対的に移動自在である。 （もっと読む）

【課題】減厚による歪緩和の影響を補正して、バルクの結晶中の歪を測定する。
【手段】結晶基材を含む被測定試料に集束イオンビームを照射して減厚し、被測定試料薄片とする減厚工程と、減厚工程途中の複数時点で、被測定試料薄片に集束電子線を照射して高角度散乱電子の電子線強度Ｉ１〜Ｉ３を測定する工程と、前記複数時点で、結晶基材の格子定数を電子線回折法により測定し、被測定試料薄片の歪Ｅ１〜Ｅ３を算出する工程と、散乱電子の電子線強度Ｉ１〜Ｉ３及び歪Ｅ１〜Ｅ３に基づき、散乱電子の電子線強度Ｉを変数とする歪の近似式Ｅ＝Ｅ（Ｉ）を作成する工程と、減厚に伴い歪緩和が始まる臨界厚さに等しい厚さの結晶基材に、集束電子線を照射したとき測定される高角度散乱電子の臨界電子線強度Ｉｏを予測する工程と、臨界電子線強度Ｉｏを近似式Ｅ＝Ｅ（Ｉ）に代入して、被測定試料の歪Ｅｏを算出する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線の伝搬損失が少なく、導波モードが位相制御されたＸ線導波路を提供する。
【解決手段】 Ｘ線導波路は、物質の屈折率実部が１以下となる波長帯域のＸ線を導波させるためのコア４０４と、コア４０４にＸ線を閉じ込めるためのクラッド４０２，４０３と、を備える。コア４０４とクラッド４０２，４０３が、コア４０４とクラッド４０２，４０３との界面での全反射によりＸ線をコアに閉じ込めてＸ線を導波するように構成されている。コア４０４が、屈折率実部が異なる複数の物質が２次元以上の方向に周期的に配列された周期構造を持つ。Ｘ線導波路には、コア４０４のＸ線の導波方向に垂直な方向においてＸ線の電場強度分布または磁場強度分布の腹または節の数と周期構造の周期数とが一致する導波モードが存在する。 （もっと読む）

【課題】広い検出範囲面積を有しつつ複雑さ及び費用を抑えたＸ線検出器アセンブリを設計する。
【解決手段】Ｘ線検出器アセンブリ（８４）が、第一のフラット・パネル型ディジタル投影検出器（８６）と、第二のフラット・パネル型ディジタル投影検出器（９０）とを含んでいる。Ｘ線検出器アセンブリ（８４）はさらに、Ｘ線透過方向にＸ線源（７４）から第二のフラット・パネル型ディジタル投影検出器（９０）に向かって発散するＸ線を受光しないように第二のフラット・パネル型ディジタル投影検出器（８６）を遮断する第一の位置において第一のフラット・パネル型ディジタル投影検出器（８４）を整列させるように構成されている第一の検出器装着構造（８８）を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】２層塗工において基材側に形成される層の塗布状態を検査することができる塗工装置、塗工方法、電池の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様は、搬送される銅泊３０に対しダイ１０からバインダ液３２と負極ペースト３６を排出してバインダ層３４に重ねて負極ペースト層３８を形成する塗工装置１において、ダイ１０におけるバインダ液３２が排出される第１排出口２２を形成する中仕切部１８の内部にバインダ層３４を検査する検査機構１２が設けられていること、を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鉛含有量を簡易かつ正確に測定することのできる蛍光Ｘ線分析法および装置を提供する。
【解決手段】鉛含有量が既知の標準試料により得られる鉛含有量と鉛特性Ｘ線強度との関係と、鉛特性Ｘ線強度とに基づいて鉛含有量を求める蛍光Ｘ線分析法において、Ｘ線管球電圧を変えながらＸ線透視像を観察し、Ｘ線透視像に投影された鉛含有粒子の影の有無を調べることにより、所定のＸ線管球電圧でのＸ線が貫通していない鉛含有粒子を有しているか否かを判定基準として、貫通していない鉛含有粒子を有しないグループ１と、貫通していない鉛含有粒子を有するグループ２とに分類し、グループ１の蛍光Ｘ線分析については、所定のＸ線管球電圧でのＸ線が貫通していない鉛含有粒子を有しないものを標準試料として選定し、グループ２の蛍光Ｘ線分析については、所定のＸ線管球電圧でのＸ線が貫通していない鉛含有粒子を有するものを標準試料として選定する。 （もっと読む）

【課題】空港や港のターミナルゲート等、荷を搬送するコンベアが設けられ且つ人が多く集まる場所での設置に適した中性子照射手段を有する危険物検知システムの提供。
【解決手段】コンベア１０と、コンベア１０における搬送経路途中に設けられた核物質探知装置３０と、を有する危険物検知システム１であって、核物質探知装置３０は、上記中性子を放射状に照射する中性子発生装置３１と、中性子発生装置３１とその放射方向において間隔をあけて配置された円筒形の側壁３２を有し、該側壁３２に形成された手荷物の搬入口３３ａ及び搬出口３３ｂを開閉する開閉扉３４ａ，３４ｂを備える中性子遮蔽壁３５と、中性子発生装置３１と側壁３２との間において中性子発生装置３１を中心として回転可能に設けられると共にその回転方向において手荷物を複数、互いに間隔をあけて支持する回転床３６と、を有するという構成を採用する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線を試料表面に対して、所望の領域に広範囲の角度で照射可能な荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】イオンビームカラム２０１ａの中心軸の延長線に沿う方向の位置、直交する方向の位置）や傾斜角度（イオンビームカラム２０１ａの中心軸の延長線と直交する面に対する傾斜角度）を調整可能な電極を有する電極部２０４を、試料室２０３内に配置し、電極等により、曲げられたイオンビーム２０１ｂを試料２０２の表面に照射するように構成する。イオンビーム２０１ｂを試料２０２の表面の所望の領域に、試料表面に対して広範囲の角度で照射可能となる。 （もっと読む）

【課題】画素毎に、検出素子の個体差を考慮した校正を施す。
【解決手段】格子状に等間隔に配列された複数の検出素子６１を有し、各検出素子６１が検出した被写体としてのプリント基板Ｗの画像を画素毎に分解して出力する撮像ユニット２０、４０を備えている装置に適用される。個々の画素の個体差を表す個体差ファクタα、βを記憶し、記憶された個体差ファクタα、βに基づいて、当該検出素子６１毎に線形な校正値を出力し、前記検出値校正処理部２２５が演算した校正値Ｉχｃに基づいて、画素毎に目標物理量としての輝度値Ｂや材料厚さχを演算する。 （もっと読む）

【課題】１０μｍ以下の幅を有する極めて微細な観察対象領域を可視化し、そのような観察対象領域の大きさの識別を可能にできる装置および方法を提供する。
【解決手段】装置１０は、１０μｍ以下の幅を有する観察対象領域５２を可視化する装置であって、観察対象領域５２にＸ線を照射する発光面２１を有し、観察対象領域５２の幅方向における発光面２１の幅が観察対象領域５２の幅より大きい光源２０と、観察対象領域５２に対して光源２０とは反対側に配置され、観察対象領域５２を通過したＸ線に応じた二次元データＤ_１を生成する二次元Ｘ線検出器３０と、二次元データＤ_１に基づいて、観察対象領域５２を可視化するための可視化データを生成する画像処理部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】対象物をミリング加工及び検査する。
【解決手段】対象物の第一の表面のミリング加工期間中に、粒子ビームにより対象物の第一の表面をミリング加工する工程と、少なくとも第一の表面ミリング加工期間の大部分において、第一及び第二の表面の間に置かれた関心要素（ＥＯＩ）から構成されうる対象物を、電子検出器により対象物の第二の表面の画像を取得する工程と、対象物の第二の表面のミリング加工期間中に、粒子ビームにより対象物の第二の表面をミリング加工する工程と、少なくとも第二の表面ミリング加工期間の大部分において、電子検出器により対象物の第一の表面の画像を取得する工程とからなるシーケンスを、少なくとも一回反復する。 （もっと読む）

【課題】 ダイナミックレンジが広くかつ密度分解能が高い屈折コントラスト型X線撮像方法を提供する
【解決手段】 被写体の密度分布に応じて、非対称結晶の非対称度を変化させることによって、入射Ｘ線と回折Ｘ線がほぼ比例する角度領域を広げ、回折Ｘ線強度が最大値の半分となる低角および高角の入射角度で測定を行う。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子光学装置において試料キャリアの温度を決定する方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、荷電粒子光学装置において試料キャリアの温度を決定する方法に関し、該方法は、荷電粒子のビームを用いた試料キャリアの観測を含み、その観測は、その試料キャリアの温度に関する情報を与える。本発明は、TEM、STEM、SEM又はFIBなどの荷電粒子光学装置が、試料キャリアの温度に関する変化を観測するために使用することができるという見識に基づく。その変化は、力学的変化（例えば、二次金属）、結晶学的変化（例えば、ぺロブスカイトの）、及び発光変化（強度又は減衰期間）であってよい。望ましい実施形態において、異なる熱膨張係数を持つ金属（208、210）を示す2つの二次金属（210a、210b）を示し、反対方向に湾曲する。その2つの二次金属間の距離は、温度計として使用され得る。 （もっと読む）

【課題】感度の低下を抑えつつ鮮鋭度の高い放射線画像を撮影できる放射線撮影装置を提供する。
【解決手段】放射線が照射されることにより光を発生するシンチレータ８と、光を受光することにより電荷が発生する有機光電変換材料を含んで構成されたセンサ部１３が複数設けられたＴＦＴ基板３０と、が順次積層された放射線検出器２０を、被写体Ｂを透過した放射線がＴＦＴ基板３０側から入射するように配置する。 （もっと読む）