【課題】Ｘ線に基づいた分析の際に対象物にビームをマッチングさせる際の問題点を解決する。
【解決手段】検査方法は、サンプルの表面上においてスポットを画定するべく合焦されるＸ線ビームを使用してサンプルを照射する段階を含んでいる。表面上の特徴部を横断するスキャン経路に沿ってスポットをスキャンするべく、サンプル及びＸ線ビームの中の少なくとも１つをシフトさせる。スポットが異なる個々の程度の特徴部とのオーバーラップを具備しているスキャン経路に沿った複数の場所において、Ｘ線ビームに応答してサンプルから放射される蛍光Ｘ線の個々の強度を計測する。スキャン経路における放射蛍光Ｘ線の調節値を演算するべく、複数の場所において計測された強度を処理する。調節済みの値に基づいて、特徴部の厚さを推定する。 （もっと読む）

【課題】膜の水素透過率等を直接的に測定し得る手法を提供する。
【解決手段】実施形態に係る評価方法は、互いに積層された複数の膜からなる試料について、水素共鳴核反応で発生するガンマ線の強度のイオンドーズに対する依存性のデータを取得するステップと、上記イオンドーズの関数式で上記データをフィッティングするステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】広範囲な医療用途などに対して適用することが可能な、高出力かつ高輝度で平行性に優れたＸ線を利用して、高解像度かつ短時間で目的とする被写体のＸ線画像を得ることが可能な画像測定方法及び画像測定装置を提供する。
【解決手段】回転式ターゲットの表面に所定のエネルギー線源からエネルギー線を照射し、被写体の最大長に相当するような大きさを有するように前記ターゲットからＸ線を発生させる。次いで、前記Ｘ線を分光器に入射させ、前記Ｘ線から波長及び波長幅を選択するとともに、平行光となった平行Ｘ線を生成する。次いで、前記平行X線を前記被写体の周りに相対的に回転させながら照射し、前記被写体より得たＸ線画像を検知する。 （もっと読む）

本発明は、観察周期（Ｔ）中に連続的に変化するエネルギースペクトル（Ｐ（Ｅ，ｔ））を有するＸ放射線を生成するＸ線源（１０）を有する、特にスペクトルＣＴスキャナである、Ｘ線撮像装置（１００）に関する。好適な一実施形態において、放射線（Ｘ）は、エネルギーに依存する減衰係数（μ（Ｅ，ｒ））に従って対象物（１）内で減衰し、透過した放射線が検出器（２０，３０）のセンサユニット（２２）によって測定され、得られた測定信号（ｉ（ｔ））がサンプリングされ且つＡ／Ｄ変換される。これは好ましくは、例えばΣΔ−ＡＤＣといったオーバーサンプリングＡ／Ｄ変換器によって行われる。Ｘ線源を駆動する管電圧（Ｕ（ｔ））が高周波でサンプリングされる。評価システム（５０）にて、これらのサンプリングされた測定値が、対応する実効エネルギースペクトル（Φ（Ｅ））に関連付けられ、エネルギーに依存する減衰係数（μ（Ｅ，ｒ））が決定される。
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【課題】二次電子又は反射電子の強度が時間的に変化しても適切な条件で検査を行う。
【解決手段】電子線を検査対象物に照射する照射光学系（１，４）と、この照射光学系の照射位置をＸ方向及びＹ方向に走査する走査部（７）と、電子線が照射されることにより検査対象物で発生した二次電子又は反射電子を制御する帯電制御電極（５）と、この帯電制御電極を介して二次電子又は反射電子を検出するセンサ（１３）と、このセンサで検出した信号を電子線の照射開始時刻からディジタル画像信号に逐次変換するＡ／Ｄ変換器（１４）とを備えた半導体ウェーハ検査装置であって、ディジタル画像信号を第１の設定時刻から第２の設定時刻まで画素毎に加算して検出画像を生成する加算回路（１５）と、検出画像と検査対象物に形成された回路パターンの参照画像とを比較して欠陥を判定する画像処理回路（１６）とを備える。 （もっと読む）

【課題】広範囲な医療用途などに対して適用することが可能な、高出力かつ高輝度で平行性に優れたＸ線を利用して、高解像度かつ短時間で目的とする被写体のＸ線画像を得ることが可能な画像測定方法及び画像測定装置を提供する。
【解決手段】ターゲットの表面に所定のエネルギー線源からエネルギー線を照射し、被写体の最大長に相当するような大きさを有するように前記ターゲットからＸ線を発生させる。次いで、前記Ｘ線を分光器に入射させ、前記Ｘ線から波長及び波長幅を選択するとともに、平行光となった平行Ｘ線を生成する。次いで、前記平行Ｘ線を前記被写体の周りに相対的に回転させながら照射し、前記被写体より得たＸ線画像を検知する。 （もっと読む）

空間的配向が変化するビームで対象を照射するように、離散Ｘ線供給源のアレイを所定の時間的パターンで起動するステップと、対象との相互作用後に、ビームのＸ線を検出するステップと、検出信号を生成するステップとに基づいて、対象を画像化するためのシステムと方法とが提供される。次いで、検出信号の時間変化に基づいて、対象の画像が構築され得る。離散Ｘ線供給源は、検査の際に移動され得、さらに、所定の時間的パターンはアダマール符号を構成し得る。離散Ｘ線供給源は、カーボンナノチューブＸ線供給源であり得る。
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【課題】厚さが厚い試料の分析に好適でかつ凹部の形状が鮮明な画像を得ることができる試料分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の試料分析装置は、表面に部分的に凹部が存在するウエハ１８に合焦位置を変更可能にして荷電粒子を照射する照射系と、荷電粒子の照射に基づきウエハ１８の表面側から得られたルミネッセンスを集光する回転楕円反射鏡１７と、回転楕円反射鏡１７に導かれたルミネッセンスを検出する光検出器３３と、ウエハ１８の表面から反射された反射荷電粒子を検出する荷電粒子検出器２５と、荷電粒子検出器２５の検出信号に基づき凹部の位置を求める信号処理部２４とを備え、照射系により荷電粒子を凹部に照射するときに、信号処理部２４は光検出器３３の検出信号に基づいて荷電粒子の合焦位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】二次電子放出量を正確に測定できる表面分析装置を提供する。
【解決手段】赤外線ランプ３０によって裏面から加熱した試料２１に、グラウンド電極に電流が流れないように径を絞ったイオンビーム５を照射する。グラウンド電極１５とコレクタ電極１８の間に配置した制御電極に負電圧を印加し、試料２１から放出した二次電子だけをコレクタ電極１８で捕集するようにする。試料２１がチャージアップした場合、サプレッサ電極１２の電圧を調節し、試料２１に電子を照射し、正電荷を中和する。二次電子放出比を正確に求めることが可能になる。 （もっと読む）

【課題】厚さが厚い試料の分析に好適でかつ試料の材質の同定も行うことができる試料分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の試料分析装置は、表面に部分的に凹部が存在するウエハ１８に荷電粒子を照射する照射系と、荷電粒子の照射に基づき試料の表面側から得られたルミネッセンスを集光する回転楕円反射鏡１７と、回転楕円反射鏡１７に導かれたルミネッセンスを検出する光検出器３３と、試料の表面から反射された反射荷電粒子を検出する荷電粒子検出器２５と、荷電粒子検出器２５の検出信号に基づき試料の形状を求めると共に光検出器３３の検出信号に基づきウエハ１８の材質を同定する信号処理部２４とを備え、照射系は荷電粒子をウエハに間欠的に照射するように制御され、信号処理部２４は荷電粒子の間欠照射終了時点から間欠照射開始時点までの期間における光検出器３３からの検出信号の減衰特性に基づき試料の同定を行う。 （もっと読む）

【課題】エネルギ識別型診断イメージング・システムでのフォトン計数の制限の影響の低減を促進する。
【解決手段】高周波電磁エネルギ源（１４）は、撮像対象（２２）に向けて１又は複数の高周波電磁エネルギ・ビーム（１６）を放出する。検出アセンブリ（１８）は、同じ投影経路にあり複数の別個の入射エネルギ・スペクトルに対応する複数の投影データを測定する。検出アセンブリ（１８）は、１又は複数の高周波電磁エネルギ源（１４）によって放出される高周波電磁エネルギを受光する１若しくは複数のエネルギ識別型（ＥＤ）検出器（３０２）及び／又は１若しくは複数のエネルギ積算型（ＥＩ）検出器（３０４）を含んでいる。データ取得システム（ＤＡＳ）（３２）は、１若しくは複数のＥＤ検出器（３０２）及び／又は１若しくは複数のＥＩ検出器（３０４）に接続されて動作する。コンピュータ（３６）は、ＤＡＳ（３２）に接続されて動作する。 （もっと読む）

【課題】 電子プローブマイクロアナライザを用いる地質年代測定と年代マップの表示を効率よく行う。
【解決手段】 （ａ）の分析領域Ｒに設定されているグリッド状の分析点（白丸で示す）と（ｂ）の分析領域に対応した反射電子像（原子番号の高い部分を黒く表示）の位置を対応させた状態が（ｃ）である。（ｄ）の棒グラフは、（ｃ）の直線Ｌ上に位置する分析点Ｌ１〜Ｌ１２における反射電子強度を表す。閾値Ｈ以上の反射電子強度を持つ分析点のみを測定対象とすると、（ｅ）中のＲ１〜Ｒ３は反射電子強度が閾値Ｈ以上の条件を満たす測定対象領域である。 （もっと読む）

【課題】 基板内部に生じる局所的帯電の定量的で詳細な大きさを把握でき、チャージングを低減することができる荷電粒子ビーム検査方法及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 荷電粒子ビーム検査方法及び装置において、荷電粒子ビーム光学鏡筒の下面と試料との間に、導電性を有し、かつ、荷電粒子光学系の光路に沿って開口を有し、かつ、試料の表面上のＥＢ照射点から見て、鏡筒の下部の一部を覆う板を設ける。複数枚のスキャン画像の各々、あるいは複数枚のスキャン画像を積算した積算画像と、設計データとの比較照合を行い、倍率を求め、当該倍率の変動または変動の傾向から、荷電粒子ビームが照射されている局所領域における倍率との相関量を求め、その値に応じてランディングエネルギーを変化させる。 （もっと読む）

【課題】面分析における定量分析の精度を向上させる方法を提供する。
【解決手段】試料表面上に点分析位置と点分析位置を含むように面分析領域を指定し、点分析位置に一次エネルギー線を照射して発生した二次エネルギー線に基づいて点分析におけるピーク強度とバックグランド強度を取得し、面分析領域内を一次エネルギーで走査して発生した二次エネルギー線に基づいて面分析におけるピーク強度とバックグランド強度を取得し、次に、点分析におけるピーク強度とバックグランド強度から原子濃度を求め、面分析におけるピーク強度とバックグランド強度の内で点分析位置に対応した位置に存在する元素に対応したピーク強度とバックグランド強度と、求めた原子濃度から元素に対応した相対感度係数値を求め、この相対感度係数と面分析におけるピーク強度とバックグランド強度とに基づいて面分析領域の定量計算を行う。 （もっと読む）

【課題】
被検査基板の帯電状態を任意に制御でき、信頼性の高い電子ビームを用いた回路パターンの検査装置を提供する。
【解決手段】
回路パターンが形成されたチップを複数有する基板表面に電子ビームを照射し、該照射によって基板から発生する信号を検出して画像化し、該画像と他の画像とを比較して回路パターン上の欠陥を検出する回路パターンの検査装置において、電子ビームで走査しながら一方向に移動する基板のひとつの移動であるラインに含まれるチップ列に電子ビームを照射する検査スキャンにより検査用の画像を取得した後に、検査スキャンにより電子ビームが照射された領域の帯電状態を飽和状態にする、あるいは帯電状態を元に戻すことによって画像の質が均一になるように、該照射された領域に再び電子ビームを照射するポストスキャンの電子光学条件を設定する条件設定手段を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 自動焦点合わせ可能な範囲を超える程度の反りが発生した場合でも、半導体ウエハ表面のすべての欠陥に焦点を合わせて欠陥画像を取得することができる欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】 表面上の欠陥の位置情報が知られている半導体ウエハを、撮像装置のステージに載置する。半導体ウエハの表面上の複数箇所の、高さ方向の位置を測定する。測定された高さ方向の位置に基づいて、表面内を複数の部分領域に区分する。部分領域から、欠陥画像の取得が終了していない部分領域を１つ選択する。選択された部分領域内が、撮像装置の自動フォーカス範囲内に位置するように、ステージの高さを調整する。選択された部分領域内の欠陥を撮像装置で撮像し、欠陥画像を取得する。すべての部分領域内の欠陥の欠陥画像が取得されるまで、部分領域の選択からｅから撮像までの工程を繰り返す。 （もっと読む）

本発明は、装置が、電磁ビーム、特にＸ線ビーム又は極端紫外線ビームを発生するように構成されており、その際、粒子、特に電子が、調節可能な集束装置（２２）によってターゲット（５）に向けて転向されるので、粒子によってターゲット（５）において電磁ビームが発生され、少なくとも１つの対象物、特に校正対象物（７０）が、電磁ビームによって通過照射され、かつ対象物の通過ビーム画像が撮影され、１つ又は複数の通過ビーム画像が自動的に評価され、かつ評価に依存して、集束装置（２２）が調節される装置の動作方法に関する。
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【課題】パイルアップの影響を抑えて最適な検出下限となるように、入射線の強度を決定して測定を行うことが可能なエネルギー分散型放射線検出システム及び対象元素の含有量測定方法を提供する。
【解決手段】エネルギー分散型放射線検出システム１は、試料Ｍに所定の強度で入射線Ｐを照射する入射系２と、入射線Ｐが照射されることで試料Ｍから放出される放射線Ｑを検出する検出系３とを備え、検出された放射線Ｑのスペクトルに基づいて試料Ｍの対象元素の含有量を特定するもので、検出された放射線Ｑのスペクトルに基づいて、対象元素の検出下限が最小となる入射線Ｐの最適強度を決定して、入射線Ｐを最適強度で照射させることが可能な制御部１０を備える。 （もっと読む）

【課題】試料表面の電位を一定にして精度よく試料を測定することのできる電子ビーム寸法測定装置及び電子ビーム寸法測定方法を提供すること。
【解決手段】電子ビーム寸法測定装置は、電子ビームを試料の表面に照射する電子ビーム照射手段と、試料から放出される電子を検出する検出手段と、試料と検出手段の二次電子制御電極との間の距離を測定する距離測定手段と、試料を載置するステージと、距離測定手段に測定させた距離が予め定めた一定の距離になるようにステージの高さを調整し、該距離のときに試料の表面の電位が一定になるように予め求めた制御電圧を検出手段の二次電子制御電極に印加し、所定の加速電圧を印加して電子ビームを照射させる制御手段とを有する。前記ステージは、試料を電気的に接続しない保持手段と、試料を上下方向に移動させる移動手段とを有するようにしても良い。 （もっと読む）

被検査物体の安全検査を有する多視角物品安全検査方法は、物品安全検査システムを実現する。物品安全検査システムは、被検査物体を透過する放射線ビームを発生する放射線源と、放射線ビームが被検査物体を透過した後に透過投影データを収集するデータ収集ユニットとを備える。方法は、スキャン工程を備える。スキャン工程は、前記非検査物体に関して回転軸の周りに回転する放射線源と、これによって放射線源は前記被検査物体に対して異なる視角を有する複数の離間位置に位置決めされ、各視角において、放射線源は前記回転軸と平行な方向に沿って直線的に移動するとともに被検査物体をスキャンして、各視角における透過投影データを取得することを有する。
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