【課題】Ｘ線検出器を移動する機構を簡素化し、Ｘ線検査を高速化する。
【解決手段】一実施の形態に従うＸ線検査装置は、Ｘ線を用いて撮像するためのＸ線検出器２３．１と、Ｘ線検出器を移動するためのＸ線検出器駆動部２２と、検査対象領域を透過したＸ線が、Ｘ線検出器に入射するようにＸ線を出力するＸ線源１０と、Ｘ線検査装置の動作を制御する演算部７０と、Ｘ線検出器２３．１による複数の撮像のための各位置が同一平面に存在し、かつ、各位置におけるＸ線検出器の向きが一定となるように、Ｘ線検出器駆動部２２を制御するセンサ駆動制御部とを含む。 （もっと読む）

【課題】データ処理アプリケーション等の他のアプリケーションを用いることなく分析条件を決定すること。
【解決手段】分析対象元素が指定される分析対象元素指定手段１８と、分析対象元素が指定されることにより、予めデータベース１６に記憶されている当該元素のピーク位置とバックグラウンド測定位置を検索する検索手段１５と、スペクトル収集が指示されると、前記検索された当該元素のピーク位置とバックグラウンド測定位置情報に基づいて実際の試料を用いた時の所定の波長範囲のスペクトルを測定してディスプレイに表示する表示手段１５と、表示されたスペクトル上でピーク位置とバックグラウンド測定位置を指定して、指定されたピーク位置とバックグラウンド測定位置におけるＸ線強度を測定するための、ピーク位置とバックグラウンド測定位置を設定するピーク位置とバックグラウンド測定位置設定手段１５と、を有して構成される。 （もっと読む）

【課題】ウェハの評価の良い部分の領域や悪い部分の領域が分かる半導体検査装置のデータ処理方法とデータ表示方法と半導体検査装置を提供する。
【解決手段】電子ビームを用いた吸収電流測定方法を用いて、ウェハ２３のコンタクトホール界面状況を評価する半導体検査装置において、電子銃１０によって所定の電子ビームサイズでコンタクトホールを照射し、その際に測定される吸収電流値をコンタクトホールサイズで正規化した値をグラフ化し、そのグラフから任意の領域を指定して、表示装置１５０に表示されるウェハ上のマップにその測定点を表示する。 （もっと読む）

【課題】 凹凸のある試料でも装置と試料との衝突を回避することが可能なＸ線分析装置及びＸ線分析方法を提供すること。
【解決手段】 試料Ｓ上の照射ポイントに１次Ｘ線Ｘ１を照射するＸ線管球２と、試料Ｓから放出される特性Ｘ線及び散乱Ｘ線を検出し該特性Ｘ線及び散乱Ｘ線のエネルギー情報を含む信号を出力するＸ線検出器３と、信号を分析する分析器４と、試料Ｓを載置する試料ステージ１と、該試料ステージ１上の試料ＳとＸ線管球２及びＸ線検出器３とを相対的に移動可能な移動機構６と、試料Ｓの最大高さを測定可能な高さ測定機構７と、測定した試料Ｓの最大高さに基づいて移動機構６を制御して試料ＳとＸ線管球２及びＸ線検出器３との距離を調整する制御部８と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】絶縁コンポーネントの部分放電テストにおいて、部分放電の開始電圧を低く抑えることのできる方法及びシステムを提供する。
【解決手段】フラッシュＸ線源６により少なくとも一つのＸ線パルス７が、絶縁コンポーネント２に照射され、交流電圧源５により絶縁コンポーネント２に加えられた交流電圧を電圧センサー９により測定する。また、前記少なくとも一つのＸ線パルス７により引き起こされる部分放電が部分放電センサー８で測定され、部分放電検出装置１０で評価される。コントロール・ユニット１１が設けられ、交流電圧源５、フラッシュＸ線源６、および／または、部分放電検出装置１０が、コントロールされ、特に加えられる交流電圧に依存して、コントロールされる。ここで、前記少なくとも一つのＸ線パルス７の線量は、少なくとも１０^-2Ｇｒａｙ／ｓとする。 （もっと読む）

【課題】 電子顕微鏡の超微小焦点より発生するＸ線を用いて、Ｘ線拡大撮影を行うこと。
【解決手段】 電子顕微鏡で用いられる電子線の超微小焦点の位置に、台形の金属ターゲットを設置し、加速された電子をターゲットにあてることにより、発生する制動Ｘ線を、電子顕微鏡の加速筒（鏡筒）と直角方向に置かれたアダプター内に導き、ターゲットの近傍に設置された試料に当てる。透過したＸ線は、ターゲットから遠くに置かれたＸ線検出器によって拡大画像を得る。照射する電子線の焦点のターゲット上の位置を変えることにより、観察する試料部位と拡大率を決める。 （もっと読む）

【課題】エネルギー分解能が良好な１次元の位置感応型Ｘ線検出器を用いることで、受光側にモノクロメータを配置することなく、蛍光Ｘ線に起因するバックグラウンドを低減する。
【解決手段】入射Ｘ線２８と回折Ｘ線３０とのなす角度を変更しながら試料２０からの回折Ｘ線３０の強度をＸ線検出器１０で検出する。Ｘ線検出器１０はシリコン・ストリップ検出器であり、細長く延びる単位検出領域を複数個備えている１次元の位置感応型検出器である。この検出器は、受光したＸ線のうち、そのＸ線エネルギーが上限値と下限値の間にあるものだけを弁別する機能を備えている。ＣｕＫαにおけるエネルギー分解能は２０％以下である。上述の上限値と下限値を適切に設定することで、蛍光Ｘ線の大半をカウントしないようにすることができて、本来の回折Ｘ線の強度をあまり下げずに、バックグラウンドを大幅に下げることができる。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線マッピングされた画像から特定元素に関して所定濃度以上の部位等を容易にかつ直接的に認識でき、特定することが可能なＸ線分析装置等を提供すること。
【解決手段】 試料Ｓ上に放射線を照射するＸ線管球２と、特性Ｘ線及び散乱Ｘ線を検出しそのエネルギー情報を含む信号を出力するＸ線検出器３と、信号を分析する分析器５と、予め設定されたマッピング領域Ｍ内で試料Ｓに対して照射ポイントを相対的に移動可能な試料ステージ１と、特定の元素に対応したＸ線強度を判別し、該Ｘ線強度に応じて色又は明度を変えた強度コントラストを決定して照射ポイントに対応した位置に画像表示するＸ線マッピング処理部６と、を備え、該Ｘ線マッピング処理部６が、予め組成元素及びその濃度が既知の標準物質７について判別したＸ線強度を基準にして、照射ポイントにおけるＸ線強度の強度コントラストを決定する。 （もっと読む）

Ｘ線分光器は解析中の試料からエネルギー分散スペクトルを収集し、試料中に存在し得る候補元素のリストを生成する。その後、波長分散スペクトル収集手段は、候補元素のいくつかまたはすべてのエネルギー／波長においてＸ線強度測定値を取得するように調整され、これによりこれらの候補元素が試料中に実際に存在するかどうかを検証する。さらに、候補元素から選択された１つ（好ましくは、試料中にその存在が検証されたもの、または試料中に存在する可能性が高いもの）のエネルギー／波長に波長分散スペクトル収集手段を調節し、次に、波長分散スペクトル収集手段が選択された候補元素の最大強度測定値を戻すまで波長分散スペクトル収集手段と試料との位置合わせを変更することにより、波長分散スペクトル収集手段と試料との位置合わせを最適化することができる。次に、他の候補元素の強度測定値はこの最適化された位置合わせにおいて収集される。
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【課題】同一の基板において微小異物の検出と成分分析を行うことができる異物検出方法を提供する。
【解決手段】光学式異物検査装置１３、電子ビーム照射装置１４、水蒸気供給ユニット１５及び圧力制御バルブ１７を備える異物検出装置１０において、ウエハＷの温度及び該ウエハＷの表面を取り巻く雰囲気中の水蒸気圧を制御することによってパーティクルＰの周りに選択的に水分を結露させ、その後、ウエハＷの温度を低下させながら、上記水蒸気圧がウエハの表面にパーティクルが付着していない場合の飽和蒸気圧曲線を越えないように制御して結露した水分から氷の結晶Ｔを発生・成長させ、ウエハＷの表面を光学的に検査し、検査対象のパーティクルＰの位置を特定し、氷の結晶Ｔを蒸発させて除去し、さらに、特定されたパーティクルＰの成分をエレクトロンビームを用いて分析する。 （もっと読む）

【課題】余分な時間をかけずに、観察像取得手段の視野に関係なく、マッピングの観察範囲と同じ視野の光学的観察像が、位置ズレも伴わずに得られるマッピング分析装置を提供する。
【解決手段】試料１１の表面に複数配列されたマッピング単位領域から、放出されるマップ像用信号を検出するマップ像用検出手段（Ｘ線検出器）２８と、試料１１の表面の光学的観察像を撮像する撮像手段２２と、撮像手段２２の出力信号から光学的信号ではない部分を除去する信号補間抽出回路２３ａと、マップ像用信号検出手段２８及び信号補間抽出回路２３ａの出力信号を格納する画像メモリ２５と、試料１１を移動させ、マッピング単位領域を逐次走査するＸ−Ｙステージ１２と、Ｘ−Ｙステージ１２の動きに同期してマップ像用信号検出手段２８及び信号補間抽出回路２３ａの出力信号を画像メモリ２５に取り込ませる同期制御回路２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハのパターンの検査において、非検査領域が混在する試料でも非検査領域への電子ビームの照射を防止し、所望の検査領域を検査することができる検査装置、および検査方法を提供する。
【解決手段】電子ビームは試料の照射領域を画像化するための照射エネルギーを有し、電子ビームの走査中に電子ビームが試料へ照射するのを妨げるように電子ビームをブランキング偏向するブランキング偏向器と、電子ビームの走査中に試料を連続的に移動させるステージと、電子ビームの照射領域の選択に従って、電子ビームの非照射領域では電子ビームをブランキング偏向するブランキング偏向器へ偏向指令を送信する制御装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線二次元検出器に得られる投影像の明度を低下させることなく、撮像時間を短縮する。
【解決手段】Ｘ線二次元検出器２に対し、被検査体７の撮像時（静止時）には長いパルス幅（期間）の第１のパルス領域、被検査体７の回転時には短いパルス幅（期間）の第２のパルス領域となるよう同期信号発生部２６から同期信号を送り、Ｘ線二次元検出器２による投影像の撮像を制御するようにした。そして、Ｘ線二次元検出器２で各角度位相の投影像を撮像し、得られた投影像より内部構造データの再構成計算を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】半導体基板の外周面に存在する不純物を簡易的に分析する方法を提供する。
【解決手段】測定対象となる半導体基板４を分割構造のステージ２で挟持し、半導体基板４の外周面とステージ２の外周面とで、半導体基板４の外周面を中心とする平坦部Ｆを形成する。半導体基板４の外周面とステージ２の外周面とで形成された平坦部ＦにＸ線を全反射条件で照射し、半導体基板４の外周面から発生した不純物の蛍光Ｘ線を検出する。蛍光Ｘ線の検出結果に基づいて半導体基板４の外周面の不純物による汚染状態を評価する。 （もっと読む）

【課題】安全にかつ短時間で被計測物の傾斜角度を調整できる被計測物の保持装置を提供する。
【解決手段】細長な被計測物３内の内容物をＸ線検査により確認すべくその被計測物３を傾斜させて保持する被計測物３の保持装置６において、基台１４上に、被計測物３を載置する傾斜調整トレイ１５を傾動自在に設け、基台１４上に傾斜調整トレイ１５の傾斜角度を調整する傾斜角度調整装置１６を設けたものである。 （もっと読む）

【課題】２次電子像による半導体装置の不具合解析の効率化。
【解決手段】半導体装置の解析装置は、半導体装置に荷電粒子ビームを照射して得られる２次電子を検出して得られる２次電子像を入力する手段と、比較元となる半導体装置の設計データと、該比較元となる半導体装置の２次電子像とに基づいて、比較元となる半導体装置の２次電子像を電位別の領域に区分けする手段と、前記比較元となる半導体装置の設計データに基いて、前記比較元となる半導体装置の２次電子像の電位別に区分けされた前記各領域の電位濃度分布を計算する手段と、前記電位濃度分布に従って、前記比較元となる半導体装置の２次電子像の前記各領域を着色し、擬似良品２次電子像を生成する手段と、前記擬似良品２次電子像と、解析対象の半導体装置の２次電子像とを、表示する手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】ＣＴイメージング・システムにおける高速二重ｋＶｐ切り換えの方法及び装置を提供する。
【解決手段】システムが、少なくとも一つの電圧レベルを出力するように構成されている発生器と、対象に向けて照射されるＸ線を発生するように構成されているＸ線源とを含んでいる。このシステムは、発生器の出力及びＸ線源の入力に結合されており、第一の電圧レベルと第二の電圧レベルとの間でＸ線源への出力を切り換える又は切り換えることを支援するように構成されているモジュールを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】透視観察作業の後でも、内部欠陥等の被検査物中での３次元位置情報等を容易に把握することを可能とし、検査後の検証作業等の容易化を達成することのできるＸ線透視検査装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線発生装置１とＸ線検出器２の間に設けられた試料ステージ７に配置された被検査物Ｗを撮影する光学カメラ１０と、その光学カメラによる被検査物Ｗの外観像を用いて、被検査物ＷのＸ線透視像と併せてその刻々の透視観察位置および方向を表示器２５に表示する観察位置・方向表示手段を備え、表示器２５に表示されている被検査物ＷのＸ線透視像を経時的に連続もしくは断続して記録し、かつ、その刻々のＸ線透視像に対応して表示される観察位置・方向表示手段による表示内容を併せて記録する記録手段２９を設け、その記録内容を再生することで、透視観察時と同等の表示を随意に再現可能とし、被検査物Ｗ中の欠陥等の位置や構造等を立体的に把握する。 （もっと読む）

【課題】直接変換方式のＸ線センサの使用を前提として、分極の問題を解消して検出性能の低下を回避し得る、Ｘ線検査装置を得る。
【解決手段】Ｘ線検査装置１は、Ｘ線照射器７と、直接変換方式のＸ線センサを有するＸ線ラインセンサ８と、物品１２を搬送するベルトコンベア６と、Ｘ線ラインセンサ８へ印加するバイアス電圧を制御する制御部３０と、バイアス電圧を継続して印加している継続印加時間を検出する計時手段３５と、Ｘ線検査装置１の前段の処理装置２５に対してベルトコンベア６への物品１２の供給を停止させる停止制御部６０とを備える。継続印加時間が所定の時間を超えたことを計時手段３５が検出した場合、停止制御部６０は、前段の処理装置２５に対してベルトコンベア６への物品１２の供給を一時的に停止させる。 （もっと読む）

【課題】
電子顕微鏡を用いた欠陥のレビュー方法、および欠陥のレビュー装置において、電子ビームの自動焦点合わせの設定に要するユーザの工数を低減し、試料の観察を容易化する。
【解決手段】
観察対象の座標上に予め登録された複数個の座標位置について焦点合わせを行い、座標位置における各焦点位置に基づいて焦点合わせの基準を作成し、該基準と前記焦点位置との間のずれ量に基づいて焦点探索範囲を設定し、観察対象の欠陥検出の自動焦点合わせの範囲を、設定された焦点探索範囲に基づいて決定する。 （もっと読む）