【課題】板状透明体の表面に存在している長径１０μｍ程度の微細傷を、顕微鏡精査を行うことなく検出することができる板状透明体の欠陥検査装置及びその方法を提供する。
【解決手段】欠陥検査装置１０は、ガラス基板Ｇの下面に存在している微細傷に強い受光感度を有する受光角度θ_１（０°＜θ１≦６０°、好ましくは３０°≦θ_１≦４５°）に、受光器２２、２４の受光方向を設定した。また、受光器２２、２４による観察部位に到達する照明光の光量が一定となるように、投光器１８、２０側の出力強度をＣＰＵによって制御することで、受光器２２、２４側のダイナミックレンジ不足を補い、受光器２２、２４側で信号補正を行うことなく、微細傷の検出を可能にした。更に、双方の受光器２２、２４で検出された総受光量（輝度）の積分値に基づいて微細傷の深さを算出した。 （もっと読む）

【課題】凝集性が強い粉体であってもホッパーから塊となることなく定量切出しを行うことができる粉体切出装置及びこれを使用した粉体異物検査装置を提供する。
【解決手段】粉体を貯留し、粉体を帯状に切り出す切出用開口を有するホッパー１１と、該ホッパー１１の切出用開口に連接して配設された当該切出用開口の長手方向に対向して回転自在に配設された外周面を凝集性が強い粉体を切出し可能な粗面とした切出ローラ１２を有する粉体切出機構１３と、前記切出ローラ１２を一定方向に回転駆動するローラ駆動機構１４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で粉粒体の篩い分けを行うことができる粉粒体篩い装置を使用した粉粒体異物検査装置を提供する。
【解決手段】貯留した粉粒体を供給する粉粒体供給機構１３と、該粉粒体供給機構１３から供給される粉粒体が投入されて篩い網１５ｈによって篩い分けする篩い装置本体１５ａと、該篩い装置本体１５ａを固定部に弾性支持する弾性支持部材１５ｖと、前記篩い装置本体に装着されて振動を伝達する振動発生源１５ｗとを備え、篩い装置から篩い分けされた粉粒体を粉体搬送機構にて搬送しながら平準化し、粉体搬送機構から供給される粉体に混入された異物を異物検査機構にて検査する。 （もっと読む）

【課題】反射防止フィルムに一定周期で発生する低コントラストの共通欠陥を容易に検出し、更に共通欠陥の発生原因を同定可能な反射防止フィルム検出装置を提供する。
【解決手段】基材を搬送する搬送手段と、基材を照明する手段と、基材を撮像して撮像画像を得る撮像手段と、所定の搬送長さ毎に撮像タイミング信号を発生する手段と、撮像画像を記憶保持する手段その（１）と、撮像画像を特定の周期で重ね合わせ処理を行い欠陥を検出する画像処理手段と、記憶保持された撮像画像から基材の搬送方向の濃度分布波形を求め、該濃度分布波形を解析して欠陥及び欠陥が発生する周期を求める手段と、重ね合わせ処理を行い検出された欠陥及び前記濃度分布波形を解析して検出された欠陥の画像を記憶保持する手段その（２）と、前記各手段を構成する各装置を制御する制御手段と、出力部と、を備えたことを特徴とする反射防止フィルム欠陥検出装置。 （もっと読む）

【課題】高速で走行する透明フィルムに生じた欠陥をリアルタイムに高い検出率で検査できる欠陥検査装置及び該装置を用いる透明フィルムの欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】暗室環境下で、透明フィルムの欠陥を検査するための装置において、透明フィルムの下方に設置された平行光源から照射される光が格子状チャートユニットを介して透明フィルムに垂直に当たり、キャプチャーされた画像に写る欠陥箇所の異常屈折を検出する。キャプチャー時に発生するノイズは、画像処理ユニットにより除去を行い欠陥部分とノイズ部分を誤認識することを避け、レンズの歪みによる補正は、取り込む画像を制限することにより処理効率の向上を図りリアルタイム処理を実現している。 （もっと読む）

【目的】経時的な、光量変化やセンサの各受光素子自体の感度変化に起因するセンサの出力レベル変化を補正する。
【構成】センサ出力データの補正装置は次回路を備える。オフセット回路は試料を照明して、透過或いは反射して得られる光を受光して画像データを出力するセンサからの出力データを入力し、オフセット補正を行う。ゲイン補正回路はゲイン補正係数を入力し、入力されたゲイン補正係数でゲイン補正を行う。平均値算出回路はオフセット補正とゲイン補正が行われたセンサの出力データのうち、透過の場合はパターンから光が透過する位置で、反射の場合はパターンから光が反射する位置で取得したセンサの出力データを用いて、各画素値の平均値を演算する。ゲイン補正係数算出回路は設定された基準値からの平均値の変化率を用いてゲイン補正に用いるゲイン補正係数を補正し前記ゲイン補正回路にフィードバックする。 （もっと読む）

【課題】参照画像と光学画像との高精度な位置合わせを行う方法および装置を提供することを目的とする。
【解決手段】パターン検査装置は、残差２乗和演算による光学画像と参照画像との位置ずれ量を取得するＳＳＤアライメント演算部３１０と、最小二乗法により、前記光学画像と前記補正された参照画像との合わせ位置からの位置ずれ量を演算する最小二乗法アライメント演算部３２０と、前記光学画像と前記残差２乗和および前記最小二乗法を用いて補正された参照画像とを比較する比較回路１０８と、を備え、前記ＳＳＤアライメント演算部３１０による演算を最初として、前記ＳＳＤアライメント演算部３１０と前記最小二乗法アライメント演算部３２０は、交互に同回数だけ複数回演算を繰り返し、比較回路１０８は、複数回演算が繰り返された結果得られた位置に補正された参照画像と前記光学画像とを比較することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】測定誤差を最小限にしてステージ位置を正確に測定することのできる検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】測長システム１２２は、ＸＹθステージ１０２の位置をレーザ干渉計２０１とリニアスケール２０２を用いて測定する。レーザ干渉計２０１で測定された測定値は、位置演算部２０３で位置成分のデータに変換された後、ローパスフィルタ２０４を通過する。リニアスケール２０２で測定された測定値は、位置演算部２０３で位置成分のデータに変換された後、ハイパスフィルタ２０５を通過する。ローパスフィルタ２０４を通過したデータと、ハイパスフィルタ２０５を通過したデータとは、加算器２０６で加算されて合成される。 （もっと読む）

【目的】信号振幅が低下したパターンが形成されたマスクを検査する場合であっても、検査で必要な十分なコントラストを得ることが可能な装置を提供することを目的とする。
【構成】実施形態によれば、パターン検査装置は、センサと、記憶装置と、階調変換部と、比較部と、を備えている。かかるセンサは、パターン形成された被検査マスクの光学画像を撮像する。記憶装置は、マスク種に応じて作成された複数の階調変換テーブルを記憶する。階調変換部は、前記記憶装置に記憶された複数の階調変換テーブルの中から前記被検査マスクの種類に対応する階調変換テーブルを選択し、選択された階調変換テーブルに沿って前記センサにより撮像された光学画像データの画素値を階調変換する。比較部は、階調変換された光学画像データの比較対象となる参照画像データを入力し、前記階調変換された光学画像データと前記参照画像データとを画素毎に比較する。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンのサイズエラーの検出を可能とするパターン検査装置を提供する。
【解決手段】設計データに基づきパターンが形成された試料を撮像する画像取得部１０と、設計データから展開画像を生成する展開画像生成部２２と、展開画像を参照画像生成モデルに入力して参照画像を生成する参照画像生成部２４であって、モデルパラメータを被検査画像と参照画像との間で画素の階調値の差が最小化されるよう最適化する参照画像生成部と、参照画像の基準パターンの測定値と、被検査画像の基準パターンの測定値から求められた基準パターンの変換差を用いて、参照画像と被検査画像のいずれか一方の被検査パターンの測定値を補正し、補正された参照画像の被検査パターンの測定値と、被検査画像の被検査パターンの測定値とを比較し欠陥の有無を検出する。 （もっと読む）

【課題】オフセット量を正確かつ容易に取得する。
【解決手段】第１の位置情報に基づいて特定される位置Ｏｂ上にビーム照射部が位置するように移動させた後に、照射部をＸ方向（矢印Ａ１，Ａ２の向き）に移動させながらレーザービームを照射させたときのレーザービームの反射光量の変化、およびＹ方向（矢印Ｂ１，Ｂ２の向き）に移動させながら照射させたときの反射光量の変化に基づいてマーク２１の位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２を取得すると共に、位置Ｍｘ１，Ｍｘ２，Ｍｙ１，Ｍｙ２と、第２の位置情報とに基づいて基板保持機構によって保持されているオフセット量取得用基板におけるマーク２１の位置Ｍｂを特定し、位置Ｍｂ，ＯｂのＸ方向に沿った位置ずれ量Ｘｂ、およびＹ方向に沿った位置ずれ量Ｙｂを、照射部のＸ方向に沿った移動量、およびＹ方向に沿った移動量をそれぞれ補正するためのオフセット量として特定する。 （もっと読む）

【課題】検出光学系で検出された検査光の照度分布に適合するようにしきい値の設定が可能な欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】検出光学系で検出された光の照度分布を取り込み、取り込んだデータを基に、検出光学系の画素毎にしきい値を算出する。次に、検査結果データから、しきい値係数の変更による検査結果の再計算を可能とし、アシストツール画面(ＧＵＩ)上に表示させ、検出欠陥の観察も可能とする。また、複数個のしきい値係数の算出ができ、アシストツール画面(ＧＵＩ)上にそれぞれのしきい値係数で再算出した結果を表示させることができる。したがって、ＴＤＩセンサに取り込まれる光の照度分布に適合したしきい値を設定することができる。つまり、光学部品の劣化や装置固有の照射系、検出系の特性に適合したしきい値を設定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で素材、板厚、端面の状態等を含めたガラス基板等の状態の検査を行うことが可能なガラス基板検査装置及びガラス基板の製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】画像データを解析する解析手段を有し、前記解析手段は、前記画像データの所定領域内における色に基づき前記ガラス基板の素材を判別する判別手段と、前記ガラス基板の板厚を算出する板厚算出手段と、前記ガラス基板の端面に対する加工が行われているか否かを検出する端面状態検出手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ガラス壜の壜底部のビリ（底ビリ）と壜底外周縁の欠け（底欠け）とを単一の光学撮像系を用いて確実に検出することができるガラス壜の検査装置を提供する。
【解決手段】直立した状態で搬送されるガラス壜１の下方に配置された照明３０と、ガラス壜の壜底部１ｂの側方に配置され、ガラス壜の底面から上方に立ち上がっていく部分である彎曲した曲面の壜底外周縁１ｅと該壜底外周縁１ｅに連なる壜底部１ｂとを撮像するＣＣＤカメラ４２とを備え、照明３０はガラス壜１の底面側からガラス壜を照明し、ガラス壜の底面を透過して壜内に入射した光を壜底部のカメラ側の面の肉厚内に入射させる。 （もっと読む）

【課題】
レーザ暗視野方式の基板検査装置では，照明光の可干渉性が高いことにより，酸化膜(透明膜)が表面に形成された基板の検査においては膜内多重干渉による反射強度の変動が生じる。また，金属膜が表面に形成された基板の検査においては，金属膜の表面粗さ(ラフネス，グレインなど)による散乱光が干渉して背景光ノイズが大きくなり，欠陥検出を感度低下させていた。
【解決手段】
指向性の良いブロードバンド光源（スーパーコンティニュアム光源など）を用いた低干渉かつ高輝度な照明により上記課題を解決する。また，従来のレーザ光源も併用し，光源を使い分けることでウエハの状態に応じて高感度な検査を可能とする。さらに，調整機構を設けた照明光学系により，両光源の照明光学系を共通化し，簡略な光学システムで上記効果を実現する。 （もっと読む）

【課題】異なるパラメータを使用して試験片の検査を行う方法とシステムを提供する。
【解決手段】コンピュータによって実施される方法は、選択された欠陥に基づいて検査のための最適パラメータを決定することを含む。また該方法は、検査に先行して、検査システムのパラメータを最適パラメータに設定する。別の該方法は、約３５０ｎｍより下の波長を有する光と、約３５０ｎｍより上の波長を有する光を用いて試験片を照明する。また該方法は、試験片から収集された光を表す信号を処理し、試験片上の欠陥または工程の変動を検出する。試験片を検査する１つのシステムは、広帯域光源５０４に結合された第１の光学サブシステムと、レーザ５０３に結合された第２の光学サブシステムを含む。またこのシステムは第１と第２の光学サブシステムから、光を試験片上に集束させる対物鏡５０７に光を結合するように構成された第３の光学サブシステムも含む。 （もっと読む）

【課題】画像全体で位置補正してもなお高い精度で印刷物の状態を判定する。
【解決手段】印刷物の検査装置１は、撮像部が得た撮像画像と基準画像との比較結果を基に、印刷物の印刷状態を判定する欠陥判定部４４と、撮像画像全体を単位として全体補正情報を算出する全体補正情報演算部４１と、撮像画像全体を分割して得た分割画像単位で複数の細分化補正情報を算出する細分化補正情報演算部４２と、全体補正情報及び細分化補正情報を基に、欠陥判定部４４の判定における撮像画像と基準画像との位置ずれを補正する位置補正部４３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ユーザの意図を反映可能な分類条件設定機能を有する二分木構造を用いて欠陥を分類する装置の提供。
【解決手段】欠陥検査装置から取得される検出信号を基に抽出される欠陥の特徴量に基づいて二分木構造の分類器を用いて欠陥を分類する欠陥分類方法であって、予め欠陥クラスと対応付けられた特徴量データとの教示に基づいて、二分木構造の分岐点毎に、分岐の両側のグループにそれぞれ属する欠陥クラス、分岐に使用する特徴量および判別基準からなる分岐条件を設定することにより前記二分木構造の分類器を構築する分類器構築過程を有し、該分類器構築過程において、さらに予め欠陥クラス毎並びに全体および最悪のピュリティおよびアキュラシーの目標分類性能について優先順位をつけて指定しておく優先順位指定過程と、前記設定した分岐条件による前記指定した目標分類性能を満足するか否かを項目毎に評価して該項目毎の評価結果を表示する。 （もっと読む）

【課題】
試料全面を短時間で走査し，試料に熱ダメージを与えることなく微小な欠陥を検出することができるようにする。
【解決手段】
光源から発射されたパルスレーザをパルス分割し、パルス分割したパルスレーザを回転しながら一方向に移動している試料の表面に照射し、パルス分割されたパルスレーザが照射された試料からの反射光を検出し、反射光を検出した信号を処理して試料上の欠陥を検出し、検出した欠陥に関する情報を表示画面に出力する欠陥検査方法において、パルス分割したパルスレーザの光強度の重心位置をモニタし、モニタしたパルス分割されたパルスレーザの光強度の重心位置を調整するようにした。 （もっと読む）

【課題】径サイズの異なるタイヤの検査に容易に適用可能なタイヤ検査装置及びタイヤ検査方法を提供する。
【解決手段】タイヤ検査装置１は、タイヤＴの検査面Ｔａを撮像する第１撮像部１０と、検査面Ｔａを撮像する第２撮像部２０と、画像データ補正部１０３とを備える。第１撮像部１０は、タイヤの回転軸方向視において、第１撮像部１０の光軸Ａｘ１０が法線Ｎ１に一致するとともに検査面Ｔａを撮像するように配置されており、第２撮像部２０は、第２撮像部２０の光軸Ａｘ２０が法線Ｎ１に平行に検査面Ｔａを撮像するように配置されている。画像データ補正部１０３は、第２撮像部２０によって取得された画像と第１撮像部１０によって取得された画像とを一致させるように第２撮像部２０によって取得された画像を補正する。 （もっと読む）