【課題】ウェハ上に存在する多種多様なパターン上においても欠陥を高感度且つ高捕捉率で検出する欠陥検査方法および欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】欠陥検査装置において、照明光学系をレーザ５によるコヒーレント照明とＬＥＤ６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄによるインコヒーレント照明の２系統とし、検出系ではそれぞれの照明光に対応した光路に分岐し、それぞれの検出光路に空間変調素子５５ａ、５５ｂを配置し、それぞれ空間変調素子５５ａ、５５ｂにて感度を阻害する散乱光を遮光し、空間変調素子５５ａ、５５ｂを透過した散乱光をそれぞれの光路に配置したイメージセンサ９０ａ、９０ｂにて検出し、これら、２つのイメージセンサ９０ａ、９０ｂにて検出した画像を比較処理して、欠陥候補を判定する。 （もっと読む）

【課題】ＴＤＩセンサ等のセンサのラインレート以上のスキャン速度で検査した場合、ＴＤＩセンサのラインレートとスキャン速度が非同期となり画像がボケてしまうため、ＴＤＩセンサのラインレート以上のスキャン速度では使えないという課題についての配慮がされていなかった。
【解決手段】ＴＤＩセンサのラインレートとステージスキャン速度を非同期で制御し、且つＴＤＩセンサの電荷蓄積による画像加算ずれの課題を解決するため、被検査物に細線照明を照射し、ＴＤＩセンサの任意の画素ラインのみに被検査物の散乱光を受光させる。また、ＴＤＩセンサのラインレートとステージスキャン速度の速度比によって、検出画素サイズの縦横比を制御する。 （もっと読む）

【課題】短時間かつ非接触にて、目封止部の深さ及び目封止部の欠陥を、同時に検査することが可能な目封止ハニカム構造体の検査装置を提供する。
【解決手段】一方の端面３５から他方の端面３６まで貫通する複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁を有し、セルの端部に目封止部を有する筒状の目封止ハニカム構造体３１を検査対象として、検査対象である目封止ハニカム構造体３１の一方の端面３５を照らす光源１と、光源１から一方の端面３５に照射されて目封止ハニカム構造体３１の目封止部を透過して他方の端面３６から放射される光を、集光するカメラ側レンズ２と、カメラ側レンズ２で集光した光を、受光するカメラ３と、カメラ３で受光した光を画像処理して、目封止ハニカム構造体３１の目封止部を透過した光の明暗を表示する画像処理機４を備えた目封止ハニカム構造体の検査装置１００。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布された着色膜に生じる微小な濃度変動を光学フィルターによって強調することでＳ／Ｎ比を向上させ、きわめて小さな濃度変動の良否判定を行う基板検査装置および基板観察装置を提供すること。
【解決手段】撮像素子をもつカメラ２２と、基板を把持するステージと、ステージ後方から基板を照明する照明手段２４と、カメラのシャッターを制御する制御手段と、カメラの撮像レンズ又は／及び照明手段の前面に、基板の光透過率の低い波長域のみを透過する光学フィルター２１と、カメラから得られた画像を蓄積、保存する記録手段と、画像を元に良否判定を行う判定手段とを有すること。 （もっと読む）

【課題】光の干渉による影響を大幅に抑制し、検査対象物の外観検査を極めて高精度に行うことを可能とすると共に、高い検査精度を確保しながら検査処理能力を向上させることのできる外観検査装置を提供する。
【解決手段】外観検査装置１０は、透明テーブルＴと、素体供給ユニットＡ１０と、外・内周側第１姿勢矯正ユニットＢ１０，Ｂ１１０と、外・内周側第２姿勢矯正ユニットＣ１０，Ｃ１１０と、外・内周側第１撮像ユニットＤ１０，Ｄ１１０と、外・内周側第２撮像ユニットＥ１０，Ｅ１１０と、外・内周側第３撮像ユニットＦ１０，Ｆ１１０と、外・内周側第４撮像ユニットＧ１０，Ｇ１１０と、外・内周側第５撮像ユニットＨ１０，Ｈ１１０と、外・内周側第６撮像ユニットＩ１０，Ｉ１１０と、外・内周側良品回収ユニットＪ１０，Ｊ１１０と、外・内周側不良品回収ユニットＫ１０，Ｋ１１０と、制御部１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】検査対象試料に形成されるパターンの依存性が低減される自動焦点調節機構及びこの自動焦点調節機構を備える光学画像取得装置を提供する。
【解決手段】自動焦点調節機構においては、パターンが形成された検査対象試料１０が載置部１２に載置され、検査対象試料１０のパターン形成面に視野絞り１６に形成されたスリット２０を通過した観察用光ビームが照射される。反射して生じた反射光ビームが分岐される。分岐された反射光ビームの夫々の光路上には、略菱形状の開口２６が形成された焦点調整用開口絞り２４Ａ，２４Ｂが配置されている。略菱形状の開口２６を通過した夫々の反射光ビームの光量が焦点調整用受光器２８Ａ，２８Ｂで検出される。検出された検出光量の差に基づいて載置部１２の位置が焦点調節装置３６によって制御される。 （もっと読む）

【課題】成膜用マスクの所望の品質特性を検出可能であって、効率的にマスク検査が可能
なマスク検査装置、これを備えた有機ＥＬ装置の製造装置、これを用いたマスク検査方法
および有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例のマスク検査装置１５０は、帯状に光を射出する光源１５３と、帯
状の光により成膜用マスクとしての蒸着マスク５０の表面を所定の方向に走査するように
、光源１５３と蒸着マスク５０とを相対移動させる走査機構としての搬送機構１１５と、
走査に伴って蒸着マスク５０の表面から反射した光を受光する受光部１５６と、受光部１
５６の受光信号を画像に合成する画像処理部と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】光の波長が３５０ｎｍ以下であってもクロスニコル光学系を構成できる表面検査装置を提供する。
【解決手段】所定パターンが形成されたウェハ２０に偏光照明光を照射して照明するための光源１０と、偏光照明光の照明を受けてウェハ２０から反射されて出射される回折光または正反射光を受光し、偏光照明光の偏光方向と略直交する偏光成分のみを通過させる検光子３と、検光子３を通過した光を受光し受光した光から特定波長帯域の光のみを透過させるバンドパスフィルタ３０と、バンドパスフィルタ３０を透過した光からウェハ２０の像の信号強度分布を検出し、信号強度分布によりパターンの形状誤差を検出する信号処理ユニット８とを備えた表面検査装置において、検光子３及びバンドパスフィルタ３０は、被検査基板から反射されて出射される回折光または正反射光の光路に対して挿脱可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】作業者が管状物の展開画像を立体的に認識することが可能な管内壁面画像展開システムを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る管内壁面画像展開システム５０によれば、画像データＳｖｐに対し視点の異なる２つの第１サンプリング位置Ｐａ、第２サンプリング位置Ｐｂで第１画像データＳＰａ、第２画像データＳＰｂをサンプリングし２つの第１展開画像Ｓｆａ、第２展開画像Ｓｆｂを作成する。そして、同一位置の第１展開画像Ｓｆａ、第２展開画像Ｓｆｂを左右に並べて表示することで、作業者は第１展開画像Ｓｆａ、第２展開画像Ｓｆｂを一つの立体的な展開画像として認識することができる。 （もっと読む）

【課題】 可視画像だけではとらえることの難しいひび割れなどの欠陥を検査する装置を提供する。
【解決手段】 可視画像撮像部２と赤外画像撮像部１０は、ともに同一の対象領域を撮像する。赤外画像欠陥部位特定手段１２は、当該赤外画像のいずれか１枚に基づいて、画像の濃度差によってパターン解析を行い、欠陥部位を特定する。赤外画画像検索領域設定手段１４は、赤外画像において、前記欠陥部位を含む検索領域を設定する。可視画像検索領域設定手段４は、赤外画像に設定された検索領域に対応させて、一連の可視画像に検索領域を設定する。可視画像高解像度処理手段５は、上記一連の可視画像に設定された検索領域について、高解像度化を行う。可視画像欠陥部位特定手段６は、高解像度化された一連の可視画像の検索領域に基づいて、画像の濃度差によってパターン解析を行い、欠陥部位を特定する。可視画像欠陥寸法特定手段８は、一連の可視画像の検索領域に基づいて、前記欠陥部位の寸法を特定する。 （もっと読む）

【課題】パターン付きウエハ検査装置を用い、信頼性の高い欠陥密度情報を得られる技術を提供する。
【解決手段】検査対象のチップ１６Ａと左隣のチップ１６Ｂとの差画像２１Ａと、検査対象のチップ１６Ａと右隣のチップ１６Ｃとの差画像２１Ｂとを算出し、差画像２１Ａ、２１Ｂの双方の検査の感度が一定の領域（メモリセル部２０およびパターン無し部１９を含む）に、事前に決定したしきい値以上の明るさのピクセル（ポイント）があれば、検査対象のチップ１６Ａのその部分に欠陥があると判定する。 （もっと読む）

【課題】膜種、膜厚、表面粗さ、結晶方位などの異なる多種多様なウェーハに対応できる欠陥検出精度が向上可能な欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】ウェーハ１００からの反射光が光検出器２０７により検出され、Ａ／Ｄ変換１１２を介してローパスフィルタ１１４、減算器１１５に供給され、低周波数成分が減算された信号が非線形フィルタ処理部１１８に供給される。処理部１１８にて信号時間幅を用いたノイズ除去が行われ、異物・欠陥判定部１０８で、予め定められた検出しきい値と比較され、散乱光強度値がしきい値以上であれば、異物・欠陥判定部１０８は異物・欠陥判定情報を発生する。処理部１１８にて、信号幅を用いたノイズ除去を行っているので、小さな異物を検出可能なしきい値に基づいて、異物・欠陥を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】搬送による基材である原反の伸縮及び蛇行や、インク濃度の微小な変動、製造条件の違いによる製品膜厚の微小なバラツキによらず、カラーで構成された印刷物を高精度に検査することが可能な印刷物検査方法および検査装置を提供すること。
【解決手段】表面、又は裏面、又はその両面に印刷が施された印刷物の表面を撮像する撮像手段と、印刷物表面に照明を照射する第１の照明手段と、印刷物裏面に照明を照射する第２の照明手段と、撮像段階にて得られた印刷物表面の画像データを用いて、印刷物に存在する欠陥を判定する画像処理・欠陥判定手段と、撮像手段にて得られた印刷物表面の画像データ及び画像処理・欠陥判定段階により得られた判定結果を用いて、画像処理・欠陥判定を行なうための基準画像を生成・更新する基準画像生成・更新手段とを有する印刷物の検査方法および検査装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】検出感度の校正を容易に行うことができる表面検査装置及びその校正方法を提供する。
【解決手段】照明光学系２により標準異物ウエハ１１０の表面に照明光を照射しつつ、その照射光により標準異物ウエハ１１０の表面を走査し、検出光学系３の検出器３１〜３４により標準異物ウエハ１１０の表面からの散乱光を検出し、その散乱光の検出結果と予め定めた基準値とを用いて検出器３１〜３４の光電子増倍管３３１〜３３４の検出感度を補正するための補正パラメータＣｏｍｐを算出し、その補正パラメータＣｏｍｐを経時劣化パラメータＰ、光学的特性パラメータＯｐｔ、及びセンサ特性パラメータＬｒに分離して管理する。 （もっと読む）

【課題】連続して搬送されてくる測定対象物を停止させずに、該測定対象物の内部に局所的な品質異常がある場合においても該品質異常の見逃しを少なくすることができるとともに、信頼性の低下及びコストが増大を抑制することができる品質測定装置を提供する。
【解決手段】フレネルレンズ１２，１２を上下方向に長く搬送方向に短い形状とし、これらを個別の基体１１，１１内に保持して上下方向に２個設け、基体１１，１１に個別に接続された、フレネルレンズ１２，１２により集光された光を伝送する２本の受光側光ファイバケーブル１４，１５の素線を合わせて１本の分光側光ファイバケーブル１６とし、上下２個のフレネルレンズ１２，１２により集光した光を受光側光ファイバケーブル１４，１５及び分光側光ファイバケーブル１６を通して伝送することにより、単一の分光光度計により分光する。 （もっと読む）

【課題】試料に付着した異物の存否のみならず、異物の種類をも簡易に識別できる異物の識別方法を提供する。
【解決手段】既知の物質に異なる励起波長の紫外線を照射し、各励起波長における試料からの蛍光強度と波長を分析して、蛍光強度がピークとなるときの励起波長を基準励起波長とし、蛍光強度がピークとなった蛍光波長を基準蛍光波長とするとき、次の過程を含む。（Ａ）試料に前記基準励起波長の紫外線を照射して、試料からの蛍光波長を分析する過程。（Ｂ）その試料からの蛍光波長が前記基準蛍光波長と合致すれば、試料に前記既知の物質が異物として存在すると判定し、合致しなければ試料に既知の物質がないと判定する過程。 （もっと読む）

半導体ウエハの端部を検査する装置に関し、照明用経路（１０）と解析用経路（２０）を有する共焦点色顕微鏡（７）を有し、照明用経路（１０）は多色光源（１１）とスロット（１２）と少なくともアッベ数５０未満の材料からなるレンズからなる軸上色収差対物レンズ（１５）とを有し、解析用経路（２０）は対物レンズと、色フィルタスロット（２２）と光強度センサ（２４）をこの順番に有し、照明用経路のスロットおよび解析用経路のスロットは検査されるウエハの端部からの光学距離がほぼ同じ場所に設けられている。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハの端縁に存在する欠陥を検出できると共に検出した欠陥を観察することができる欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】半導体ウェハ１の端縁を異なる複数の角度方向から照明する欠陥検査用の第１の照明光学系１０ａ〜１０ｂと、半導体ウェハの端縁に向けて観察用の照明光を投射する第２の照明光学系１６ａ〜１６ｂと、欠陥検査時において半導体ウェハの端縁から出射した散乱光を集光し、観察時において半導体ウェハの端縁から出射した正反射光を集光する対物レンズ１２とを具える。対物レンズにより集光された散乱光は光検出手段１５により受光され、対物レンズにより集光された正反射光は撮像装置１９により受光する。光検出手段からの出力信号及び撮像装置からの出力信号は信号処理装置５に供給して欠陥検出信号を発生すると共に半導体ウェハの端縁の２次元画像信号を出力する。 （もっと読む）

【課題】対象物の形状によらず、ライン照明とラインセンサの構成の光学的測定装置を用いて高速かつ高精度に、測定対象物のエッジ周辺部付近まで測定する方法および装置を提供する。
【解決手段】支持部材により支持された測定対象物の表面に、ライン照明光を照射し、測定対象物の表面からの散乱光あるいは反射光あるいは透過光を結像光学系を介して受光部に結像させて、測定対象物の状態を測定する場合、ライン照明光が測定対象物のエッジ周辺部にあたらないようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）

主支持部材（２１８）であって、第１の端部と第２の端部とを有するベース部材（２２２）と、近位端部と遠位端部（２３４）とを有する第１の部材（２２８）であって、近位端部が、ベース部材（２２２）の第１の端部の第１の端部と接続され、第１の部材が、光源（２０６）を支持するように適合される、第１の部材（２２８）と、近位端部と遠位端部とを有する第２の部材であって、近位端部が、ベース部材の第２の端部と接続され、第２の部材の遠位端部が、カメラ（２０４）を支持するように適合される、第２の部材と、を含む、主支持部材（２１８）と、第１の端部（２９０）と第２の端部（２８６）とを有する位置合わせ（augment）部材（２４０）であって、第１の端部（２９０）が、第１の部材の遠位端部（２３４）と解放可能に接続可能であり、第２の端部（２８６）がベース部材（２２２９と解放可能に接続可能である、位置合わせ部材と、を含み、位置合わせ部材（２４０）が、第１の部材（２２８）と平行な少なくとも１つのスロットを含む、撮像装置を支持するための装置（２０２）。
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