【目的】焦点位置の異なる検査画像を取得することでマスクの高精度な欠陥検出を実現するマスク欠陥検査装置を提供する。
【構成】光源と、光源から出射された光を第１および第２の検査光に分岐してマスクの同一面の異なる領域に照射する照明光学系と、マスクに照射された第１および第２の検査光を、第１および第２の像として同一像面に結像する結像光学系と、第１の像と第２の像を、それぞれ拡大する第１および第２の拡大光学系と、第１および第２の拡大光学系で拡大された第１および第２の像をそれぞれ撮像する第１および第２の画像センサと、第１および第２の画像センサで撮像された第１および第２の像の画像である、第１および第２の検査画像と、基準画像とを比較して前記マスクの欠陥を検出する比較部と、を備え、第１の拡大光学系の像面に対する焦点位置と、第２の拡大光学系の像面に対する焦点位置とを所定の量だけずらす機構を有することを特徴とするマスク欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】マスク基板に対して洗浄加工を行なった場合の洗浄加工後にマスク基板に残る欠陥が洗浄加工プロセスによるものなのか、マスク基板自体の内部欠陥によるものなかを容易に判定する。
【解決手段】第１及び第２の受光手段に受光された散乱光に基づいて基板の両面（表面及び裏面）に存在する欠陥を検出することができるので、基板の洗浄加工の前後で両面の欠陥の存在位置をそれぞれ比較することによって、洗浄加工によって基板両面に存在していた欠陥が除去されたか否かを容易に判定することができる。すなわち、基板の洗浄加工処理によって基板から所定数の欠陥が除去されなかった場合には、マスク基板の内部に欠陥が存在する可能性が高いので、基板内部の欠陥の検出処理行い。その結果に基づいて洗浄加工によって除去できなかった欠陥が基板内部の欠陥であるのか、洗浄加工プロセスの問題によるものかを容易に判定することができるようになる。 （もっと読む）

【課題】ガラス板上に形成された電極パターンの形状欠陥部を少ない測定回数で精度よく検出できる検査装置、検査方法およびこれらを用いた画像表示用パネルの製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】電極パターンを有するガラス板（被検査物１０６）の裏面に光を照射する第１投光装置１０１と、ガラス板の表面に斜め方向から光を照射する第２投光装置１０９と、ガラス板の表面を撮像する撮像装置１０２と、ガラス板の表面を撮像装置１０２に結像させるレンズ系１０３と、撮像装置１０２で撮像したガラス板の表面の画像を画像処理して、電極パターンの形状欠陥部を検出する処理装置とを備え、第１、第２投光装置１０１、１０９による照明条件が、ガラス板の内部に形成された内部気泡の画像、ガラス板の画像、電極パターンの画像の順に輝度が高くなるように設定されている。 （もっと読む）

【課題】異なるパラメータを使用して試験片の検査を行う方法とシステムを提供する。
【解決手段】コンピュータによって実施される方法は、選択された欠陥に基づいて検査のための最適パラメータを決定することを含む。また該方法は、検査に先行して、検査システムのパラメータを最適パラメータに設定する。別の該方法は、約３５０ｎｍより下の波長を有する光と、約３５０ｎｍより上の波長を有する光を用いて試験片を照明する。また該方法は、試験片から収集された光を表す信号を処理し、試験片上の欠陥または工程の変動を検出する。試験片を検査する１つのシステムは、広帯域光源５０４に結合された第１の光学サブシステムと、レーザ５０３に結合された第２の光学サブシステムを含む。またこのシステムは第１と第２の光学サブシステムから、光を試験片上に集束させる対物鏡５０７に光を結合するように構成された第３の光学サブシステムも含む。 （もっと読む）

【課題】電極パターンまたは配線パターンに安定的に焦点を合わせることができる画像取得装置、欠陥修正装置および画像取得方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、欠陥が生じている基板１１１の一部を拡大した画像を取得する欠陥修正装置１００であって、基板１１１の一部を撮像する撮像部１２１と、基板１１１を載置したステージを移動するステージ移動部１１３と、対物レンズ１２９の基板１１１に対する焦点合わせを行う合焦検出部１２３と、ステージ移動部１１３を制御して、合焦検出部１２３が焦点合わせを行う場合に合焦検出領域から基板１１１の画像取得対象領域内に含まれる欠陥を退避させるステージ制御部１５６と、合焦検出部１２３による焦点合わせ後の焦点条件を固定する合焦制御部１５５と、合焦制御部１５５による焦点条件の固定後に撮像部１２１に基板の一部を撮像させる撮像制御部１５３とを備える。 （もっと読む）

【課題】ガラス板上に形成された電極パターンの形状欠陥部を少ない測定回数で精度よく検出できる検査装置、検査方法およびこれらを用いた画像表示用パネルの製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】電極パターンを有するガラス板（被検査物１０６）の表面に光を照射する投光装置１０１と、この電極パターンを撮像する撮像装置１０２と、電極パターンを撮像装置１０２に結像させるレンズ系１０３と、撮像装置１０２で撮像した電極パターンの画像と予め登録した電極パターンの原画像とを比較して電極パターンの形状欠陥部を検出する処理装置とを備え、電極パターンで反射した反射光の輝度と、ガラス板で反射した反射光の輝度との差が所定以上になるように投光装置の光量が設定されている。 （もっと読む）

【課題】
試料全面を短時間で走査し，試料に熱ダメージを与えることなく微小な欠陥を検出することができるようにする。
【解決手段】
光源から発射されたパルスレーザをパルス分割し、パルス分割したパルスレーザを回転しながら一方向に移動している試料の表面に照射し、パルス分割されたパルスレーザが照射された試料からの反射光を検出し、反射光を検出した信号を処理して試料上の欠陥を検出し、検出した欠陥に関する情報を表示画面に出力する欠陥検査方法において、パルス分割したパルスレーザの光強度の重心位置をモニタし、モニタしたパルス分割されたパルスレーザの光強度の重心位置を調整するようにした。 （もっと読む）

【課題】画像全体で位置補正してもなお高い精度で印刷物の状態を判定する。
【解決手段】印刷物の検査装置１は、撮像部が得た撮像画像と基準画像との比較結果を基に、印刷物の印刷状態を判定する欠陥判定部４４と、撮像画像全体を単位として全体補正情報を算出する全体補正情報演算部４１と、撮像画像全体を分割して得た分割画像単位で複数の細分化補正情報を算出する細分化補正情報演算部４２と、全体補正情報及び細分化補正情報を基に、欠陥判定部４４の判定における撮像画像と基準画像との位置ずれを補正する位置補正部４３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】径サイズの異なるタイヤの検査に容易に適用可能なタイヤ検査装置及びタイヤ検査方法を提供する。
【解決手段】タイヤ検査装置１は、タイヤＴの検査面Ｔａを撮像する第１撮像部１０と、検査面Ｔａを撮像する第２撮像部２０と、画像データ補正部１０３とを備える。第１撮像部１０は、タイヤの回転軸方向視において、第１撮像部１０の光軸Ａｘ１０が法線Ｎ１に一致するとともに検査面Ｔａを撮像するように配置されており、第２撮像部２０は、第２撮像部２０の光軸Ａｘ２０が法線Ｎ１に平行に検査面Ｔａを撮像するように配置されている。画像データ補正部１０３は、第２撮像部２０によって取得された画像と第１撮像部１０によって取得された画像とを一致させるように第２撮像部２０によって取得された画像を補正する。 （もっと読む）

【課題】セパレートフィルム付き偏光板の欠陥を検査する際に、簡便な装置構成にて、問題とならないセパレートフィルムに起因する欠陥を検出せず、偏光板本体および粘着剤層に起因する欠陥のみを精度よく検出できる欠陥検査方法・検査装置も開発。
【解決手段】偏光板の一方の側に配置された光源と他方の側に配置されたカメラとを用い、偏光板の透過光を利用するセパレートフィルム付き偏光板の欠陥検査方法において、光源からの透過光が直接カメラに入射しないようにカメラの受光方向と光源の位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】板厚の大きい透明な基板の欠陥の検査において、基板の周辺環境から検出光学系に入り込む外乱光ノイズの影響を無くし、欠陥の検出精度を向上させる。
【解決手段】 基板の表面へ照射する光線として第１の偏光成分を多く含むものを用い、それぞれの受光手段の前に第１の偏光成分のみを通過させる偏光手段及びこの光線の周波数成分付近の光のみを通過させるバンドパスフィルタ手段を設ける。照射光線が第１の偏光成分を多く含むものなので、基板の表面、内部又は裏面で散乱する各散乱光も第１の偏光成分を多く含むものとなる。そして、第１の偏光成分を多く含む散乱光のみが偏光手段及びバンドパスフィルタ手段を通過して受光手段に取り込まれるようになる。これにより、基板の周辺環境から検出光学系に入り込もうとする外乱光ノイズの影響は極力低減され、欠陥の検出精度を向上させることができるようになる。 （もっと読む）

【課題】検査対象の端部を正確に検出することができる撮影検査システムを提供する。
【解決手段】照射部１０が、検査対象の裏面側に設けられ、検査対象の存在位置に向けて光を照射する。照射側偏光部１１が、照射部１０と検査対象の存在位置との間に設けられ、検査対象に向かう照射部１０からの光のうち特定方向に振動する光のみを通過させる。撮影側偏光部１２が、検査対象の表面と撮影部との間に設置され、特定方向と直交する方向に振動する光のみを通過させる。画像処理部１３は、撮影部が撮影した画像にもとづいて、検査対象の端部の位置を検出する。また、照射側偏光部１１は、検査対象の裏面と検査対象の側端部の外側の所定領域とに通過光を出射する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の表面において濃淡ばらつきと欠陥とが混在する場合であっても、欠陥のみを確実に検出することができる表面外観検査装置を提供する。
【解決手段】表面外観検査装置１００に、ＬＥＤマトリクス照明１と、ＣＣＤカメラ５と、画像処理ユニット６と、を備え、画像処理ユニット６が、基準調光設定値Ｄ１を、（１）式を用いて決定し、輝度閾値Ｌｔｈを（２）式を用いて決定し、（７）式を満たさない場合には、半導体モールドパッケージ２００に濃淡ばらつきがあると判断し、画像をｍ×ｎ個に分割して分割領域を生成し、分割領域毎の平均輝度階調値Ｌ１（ｍ，ｎ）ｍｅａｎに基づいて、分割領域毎に調光設定値Ｄ２（ｍ，ｎ）を決定し、ＬＥＤマトリクス照明１が分割領域毎の調光設定値Ｄ２（ｍ，ｎ）で照明光を出射し、ＣＣＤカメラ５によって生成された画像データに対して、輝度閾値Ｌｔｈを用いて２値化処理を行うように構成した。 （もっと読む）

【課題】開口から形成された２つのリングを備えたフレームを有するコンパクトな表面検査光学ヘッドを提供する。
【解決手段】検査される表面（２０）に対して垂直な方向を取り囲んだ第１の組の開口（１２ａ）が、マイクロスクラッチの検出に有用な散乱照射線を集めるために使用されるファイバ（４２）に接続され、パターン化された表面上の異常を検出する。さらに、検査される表面に対して低い高度角度の開口の第２のリング（１２ｂ）は、パターン化された表面上の異常検出を行う。開口のこのようなリング（１２ｂ）は、パターン回折や散乱によって飽和される検出器（４４）からの信号出力が捨てられるように収集スペースを方位角で区分し、飽和されていない検出器の出力のみが異常検出のために使用される。 （もっと読む）

【課題】SiC基板及びエピタキシャル層に形成されたマイクロパイプ欠陥及び基底面内欠陥を高精度に検出でき、他の欠陥から区別できる検査装置を実現する。
【解決手段】本発明では、微分干渉光学系を含む共焦点走査装置を用いて、SiC基板表面又はエピタキシャル層表面の共焦点微分干渉画像を撮像する。共焦点微分干渉画像は、試料表面の数ｎｍ程度の凹凸変化を輝度分布として表すので、SiC基板表面又はエピタキシャル層表面に出現した結晶欠陥を、輝度分布に基づいて検出することができる。欠陥の種類に応じて、輝度分布が相違するので、欠陥画像の形状及び輝度分布の観点より欠陥を分類する。特に、本発明による分類方法を用いることにより、マイクロパイプ欠陥及び基底面内欠陥を他の欠陥から区別することが可能である。 （もっと読む）

【課題】
レーザ光源と受光センサのみの簡易な装置で容易に極細のパイプ形状を含む丸棒の外周面の疵や汚れ等の表面欠陥を検出することができる丸棒検査装置及び丸棒検査方法を提供することにある。
【解決手段】
パイプ形状を含む丸棒の軸に略垂直に外周面に平行光であるレーザ光を照射するレーザ光源と、丸棒の軸断面視で、丸棒の軸におけるレーザ光の入射方向とのなす角度が９０度を超え１８０度未満になるように設けられた受光センサとを備え、レーザ光の外周面での反射光を受光センサで受光し、受光した光のレベルから外周面を検査することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】診断対象部位からレプリカを採取する必要がなく、現場で簡単かつ短時間に金属組織を観察することができる材料組織観察装置を提供すること。
【解決手段】本発明の材料組織観察装置は、画像データ上の結晶粒界を画定する境界線の内部に最初の位置である中心点を指定する中心線指定手段と、上記中心点を含む閉曲線を境界線の近傍に設定する閉曲線設定手段と、上記閉曲線近傍の画像データの濃淡情報に基づいて閉曲線を変形する閉曲線変形手段と、変形した閉曲線が画像データ上の結晶粒界を画定する境界線のすべてと重なった場合に当該閉曲線を結晶粒界とする結晶粒界決定手段と、結晶粒界決定手段により決定された結晶粒界から結晶粒の変形度を求める第一演算処理手段と、記憶手段に予め記憶された同一材料のクリープ損傷度と結晶粒の変形度との検定曲線に基づいて第一演算処理手段で求めた結晶粒の変形度からクリープ損傷度を求める第二演算処理手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
プリント配線基板等、特に光透過型電子基板の欠陥を、基板のずれを気にせずに光学的処理により高精度、迅速、かつ、自動的に検出することができる形状欠陥等の検査方法および検査装置を提供する。
【解決手段】
可干渉性レーザ光源、可干渉性平行レーザ光束中に設置されたフーリエ変換レンズと、そのレンズの前方に設置された検査物体の回転を抑えるためのガイド溝を通して搬送する検査物体の導入手段または検査物体形状写出手段と、前記レンズの光軸中心の後焦点面または光軸中心の後焦点面付近に設置された形状識別手段としての光差分または排他的論理和を行う光学フィルタ(光差分フィルタまたは光相関フィルタ)を含む光差分器や光相関器と、光学フィルタを前焦点面として設置された逆フーリエ変換レンズと、逆フーリエ変換レンズからの画像を撮り込む電子カメラ、とで構成される画像の差異や画像欠陥を検査する方法および装置。 （もっと読む）

【課題】高精度のパターン検査を行うことが可能なパターン検査方法等を提供する。
【解決手段】披検査パターンの設計データを、披検査パターンの検査に用いる照明の照明条件に依存した情報に基づいて加工する工程（Ｓ１２）と、加工された設計データから披検査パターンの参照データを生成する工程（Ｓ１４）と、実際に形成された披検査パターンのデータと参照データとを比較する工程と（Ｓ１５）、を備える。 （もっと読む）

【課題】欠陥の種別によらず、確実に欠陥を検出する欠陥検査装置、欠陥検査方法、及びパターン基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかる欠陥検査装置は、同一形状のパターンが繰り返し設けられている試料３を検査する欠陥検査装置であって、試料３からの光を受光する光検出器５と、光検出器５の受光量に応じた受光量データを、上限値と下限値で規定される範囲内に含まれているか否かによって２値化処理を行って、２値化画像を生成する２値化処理部１２と、同一形状のパターンでの２値化画像の差分を算出して、差分画像を生成する差分処理部１５と、差分画像に基づいて、欠陥についての判定を行う欠陥判定部１６と、を備えるものである。 （もっと読む）