【課題】複雑な画像処理を行うことなく、虚報を減らすことで、安定的に欠陥を検出し、かつ生産性が向上する外観検査装置を提供する。
【解決手段】検査対象物を撮像して欠陥を検出する外観検査装置であって、照明・撮像系と、画像処理装置と、欠陥判定統合パーソナルコンピューター（ＰＣ）と、検査対象物を移動（搬送）する搬送部とを備え、前記照明・撮像系において、画像撮像用受光部（カメラ）、レンズ、照明を１系統とし、それらが、同一軸上に２系統以上配置され、移動（搬送）される検査対象物の同一フレームを同一条件で２回以上撮像し、その後、前記検査対象物の撮像画像の処理を画像処理装置で行い、それぞれの系統毎で前記検査対象物の欠陥検出候補を抽出し、その結果を、欠陥判定統合ＰＣに出力し、前記の結果の組み合わせにより、検査対象物の欠陥の有無を判定する、外観検査装置。 （もっと読む）

【課題】欠陥の検出感度を向上させる。
【解決手段】実施形態のパターン検査装置は、ステージ駆動手段と光源と検出手段と光学系とフォーカス位置変動手段と制御手段と判定手段とを含む。前記ステージ駆動手段は、検査対象のパターンが形成された基体を支持するステージを前記基体の表面に水平な方向に移動させる。前記検出手段は、前記基体からの反射光を検出して信号を出力する。前記光学系は、前記光源から照射された光を前記基体に導き、前記反射光を前記検出手段に導く。前記フォーカス位置変動手段は、照射された光の前記基体におけるフォーカス位置を前記基体の表面に垂直な方向に変動させる。前記制御手段は、前記ステージの移動と前記パターンの位置への前記光の照射とを対応させて前記フォーカス位置が変動するように前記ステージ駆動手段と前記フォーカス位置変動手段とを制御する。前記判定手段は、前記検出手段からの信号に基づいて前記パターンの欠陥の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】周期性のあるパターン、特に、ＬＣＤ製造用フォトマスクのような基板において、回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによって、むら検査を実施することができるむら検査装置、むら検査方法およびむら判定方法を提供することを課題とする。
【解決手段】回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによってむら検査を実施することができる検査装置およびむら検査方法。 （もっと読む）

【課題】ドライフィルムが積層された基板の蛍光イメージと散乱光イメージ、そして反射光イメージをさらに検出して、露光工程で発生する様々な欠陥を容易に検出できるようにしたパターン欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】光を生成して出射する光源１１と、光源１１から出射される光を基板２０にスキャンするスキャンミラー１４と、基板２０で蛍光された蛍光イメージを検出する蛍光イメージ検出部１７と、基板２０で散乱された散乱光イメージを検出する散乱光イメージ検出部１９と、を含むものである。 （もっと読む）

【課題】パターンを形成したウェハの検査において、表面の内部もしくは表面上の異常の有無を判定できる表面検査法を提供する。
【解決手段】サンプル表面２０ａからの散乱光は表面２０ａに対して垂直な線に対して略対称の光を集束する集束器３８，５２によって集束される。集束光は、異なる方位角で経路へと導かれ、集束した散乱光の線に対する相対的方位角位置に関する情報が保存される。集束光は、垂直な線に対して異なる方位角で散乱した光線を表すそれぞれの信号に変換される。異常の有無および／または特徴は、この信号から判定される。あるいは、集束器３８，５２によって集束された光線は、予測されるパターン散乱の角度差に対応する角度の環状ギャップを有する空間フィルタによって濾波され、狭角および広角集束経路から得た信号は比較され、マイクロスクラッチと粒子との間を識別する。 （もっと読む）

【課題】小型の装置構成で、高精度に、被検体（ワーク）の欠陥検査を行うことを可能にする。
【解決手段】複数のレンズがアレイ配列されてなるレンズアレイ１１と、該レンズアレイの複数のレンズのそれぞれにより略結像される被写体の縮小像（個眼像）の集合である複眼像を撮像する撮像素子１４とを備える撮像装置１０を使用する。処理装置２０は、該撮像装置１０により被写体を撮影して得られる複眼像を処理して被検体の欠陥を判定する。ここで、処理装置２０は、撮像装置１０により得られる複眼像を複数の個眼像に分離する画像キャプチャ部２１、分離された複数の個眼像それぞれを歪み補正する画像補正部２２、歪み補正された複数の個眼像に基づいて被検体の欠陥を判定する欠陥判定部２３からなる。 （もっと読む）

【課題】外観検査の欠陥分類において、重要欠陥のピュリティまたはアキュラシーまたはその両方が目標値以上になるように調整するなどのニーズがあるが、教示型の欠陥分類は平均的に分類正解率が高くなるよう条件設定されるため、そのようなニーズに応えられないという問題があった。
【解決手段】特徴量抽出部、欠陥分類部、分類条件設定部を含み、分類条件設定部は、欠陥の特徴量と正解のクラスを対応づけて教示する機能と分類の優先順位を指定する機能を有し、優先順位の高い分類の正解率が高くなるよう条件設定を行う。 （もっと読む）

【課題】短時間で、検査精度の高い検査を行うことができる穴内検査装置を提供する。
【解決手段】穴内検査装置１００は、複数の穴２を有する被検査物１の穴２の内部の異物を検査する穴内検査装置１００であって、被検査物１の穴２の内部を撮像する撮像部１０と、撮像部１０を制御する制御部２０と、を含み、制御部２０は、穴２の内部を撮像部１０に撮像させて、第１画像を取得する第１画像取得処理と、第１画像に基づいて異物を検出し、異物の大きさが所与の値よりも大きいか否かを判定して、前記所与の値よりも大きい異物がある穴２を選択する選択処理と、選択処理において選択された穴２の内部を、撮像部１０に複数回撮像させて、複数の第２画像を取得する第２画像取得処理と、を行い、複数の前記第２画像は、互いに異なる焦点位置で撮像される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、分解能よりも小さいサイズの欠陥を検出可能であって、より簡易な構成でより短い検査時間で欠陥を検出し得る内部欠陥検査装置および該方法を提供する。
【解決手段】本発明の内部欠陥検査装置Ｄａは、検査対象の物体ＳＭを透過可能な波長の照明光を放射する光源部１と、光源部１から放射された照明光を検査対象の物体ＳＭに照射する照明光学系２と、検査対象の物体ＳＭの光学像を形成する撮像光学系３ａと、撮像光学系３ａによって形成された光学像を光電変換することによって光学像の画像信号を生成する撮像素子４ａおよび画像処理部７１ａと、この生成された光学像の画像信号に基づいて検査対象の物体ＳＭを提示する出力部６とを備え、照明光学系２と撮像光学系３ａとは、暗視野光学系を形成している。 （もっと読む）

【課題】半田の撮像画像の欠落を無くすことが可能な印刷半田検査装置を提供することにある。
【解決手段】印刷半田検査装置の撮像素子７０は、走査方向の垂線に対してなす角θが０度を超え９０度未満となるように傾けられ、その撮像領域の長手方向とスリット照明の長手方向が平行となるように照射し走査したとき、そのときの角度を存在率の低いもしくは存在しない長方形や楕円形等の前記半田の回転角度に設定されている。これにより、照射光の長手方向中心軸と、半田の短手方向中心軸を平行にならないようにし、明るさが落ち込む場所が非常に長くなる現象の発生を防ぎ、また、サチュレーション部の欠落画像の補間を可能となる。 （もっと読む）

【課題】便器におけるトラップがある場合でも円滑に通過可能であり、流路の詰まり状況の確認や検査作業に最適な使い勝手の良いトイレ用内視鏡装置を提供することにある。
【解決手段】ケーブル線１０の先端にカメラ２１と照明用光源を内装したカメラヘッド１５を取り付け、カメラ２１により便器に接続される排水管の内部を撮影した画像が表示されるモニター本体１をケーブル線の後端に接続すると共にカメラヘッドとモニター本体とを接続する電線２３をケーブル線に内装するように設けたトイレ用内視鏡装置Ｓであって、
ケーブル線１０は、モニター本体１に着脱可能に設けた所定長さの密着巻きのコイルバネ１１を用いると共に当該コイルバネ１１の先端部１１ａと後端部１１ｂを密着巻きにしないで隙間１１ｃを生ずるように形成して柔軟性を有するようにした。 （もっと読む）

【課題】ウエーハ等の表面欠陥検査装置において、前方散乱光を高感度で検出し、正反射光をも同時に高感度検出可能とすることで、欠陥捕捉率の高い高効率の欠陥検査を実現。
【解決手段】前方散乱光検出手段２０は、ベアウエーハ１の前方散乱光を受光する光学系であり、照明手段１０よりベアウエーハ１に照射された検査光３による欠陥２からの散乱光を受光する検出レンズ２１と全反射ミラー２２とで構成され、その中央部（検査光入射平面と直行した方向）で分割した特徴を持つ。この全反射ミラー２２で側方に分離された前方散乱光は光電変換素子２３で検出され、中央の分割領域を直通する正反射光７は正反射光検出手段３０で検出されるので、前方散乱光と正反射光とで互の影響を抑制しつつ同時に検出することできる。 （もっと読む）

【課題】近赤外光の撮像が可能な簡便な近赤外撮影装置を提供すること、及び既存のデジタル画像撮影装置を用いた近赤外撮影機構を提供すること。
【解決手段】波長が９００ｎｍないし１０００ｎｍの範囲内で所定の波長の近赤外線を発する発光ダイオードを単数又は複数備えるＬＥＤ光源手段１４と、ＬＥＤ光源手段１４が照射する被写体からの反射光のうち波長が９００ｎｍより短い成分を遮断するフィルタ手段１６と、フィルタ手段１６を透過した反射光を撮像し、波長１０００ｎｍないし１１００ｎｍを感度限界とする分光特性を有する可視光用イメージセンサを備える撮像手段１２と、撮像手段の出力を画像表示する画像表示手段１３と該各手段で必要な電力を供給する電源手段とを一体的に組み合わせて小型カメラ形状に構成する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ上の欠陥の誤検出を抑制する欠陥検出方法を提供する。
【解決手段】ウェーハの表面全体に照射光を走査し、該照射光の散乱強度にて前記ウェーハの表面上の欠陥をＬＰＤとして検出するに当たり、散乱強度に関して初期値を設定し、該初期値の下でＬＰＤの数を検出し、該検出数が基準値以下であれば初期値を閾値とする一方、検出数が基準値を超える場合は、初期値を増加させてＬＰＤの検出を繰り返し、ＬＰＤの数が基準値以下となった際の当該初期値を閾値とし、次いで、該閾値の下でＬＰＤの数の検出を繰り返し行い、ウェーハ表面への照射光の散乱強度が閾値以上であり、かつウェーハの同一位置にて２回以上検出された、ＬＰＤの数および位置を以て、ウェーハにおける欠陥の数および位置を判定する。 （もっと読む）

【課題】
試料上の欠陥からの散乱光強度が、欠陥径に応じて微小になった場合には、センサから出力される検出信号にはセンサ素子自身の暗ノイズの占める割合が大きくなり、微小な欠陥の検出が困難となる。また、レーザ光源はパルス発振しているため、センサから出力される検出信号にはレーザ光源のパルス成分も重畳することになり、高精度に欠陥を検査することが困難となる。
【解決手段】
試料の表面にパルス発振してレーザビームを照射する照射手段と、前記照射手段による照射により該試料の表面より発生した散乱光を検出する検出手段と、前記照射手段により照射された該レーザビームに基づき遅延信号を生成し、該遅延信号を用いて前記検出手段により検出された散乱光を処理する処理部とを備えた欠陥検査装置である。 （もっと読む）

【目的】欠陥の検出および検出される欠陥種別の判定を行うパターン検査装置を提供する。
【構成】光源と、偏光状態の異なる第１の検査光と第２の検査光とを発生する検査光発生部を含み、第１の検査光と第２の検査光とを試料の同一面に照射する反射照明光学系と、試料に照射される第１の検査光と前記第２の検査光とを、それぞれ第１の像と第２の像として結像する結像光学系と、第１の像と第２の像とを拡大する拡大光学系と、拡大光学系で拡大される第１の像と第２の像とを撮像する画像センサと、画像センサで撮像される第１の像の画像である第１の検査画像と、第２の像の画像である第２の検査画像とを記憶する記憶部と、記憶部に記憶される第１の検査画像を第１の基準画像と比較し、第２の検査画像を第２の基準画像と比較して欠陥を検出する検出部と、欠陥の欠陥種別を判定する判定部と、を備えるパターン検査装置。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、基板が薄くなっても、基板自体の有する歪量を矯正し、基板を精度よく検査できる基板欠陥検査システム及び基板欠陥検査方法並びに、基板自体の有する歪量を矯正し、基板を検査可能範囲に維持して搬送できる搬送装置を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、基板を載置し前記基板を検査する検査領域に搬送し、前記検査領域に検査光を照射して前記基板を撮像し前記基板の欠陥を検査する基板欠陥検査システムまたは基板欠陥検査方法において、前記基板を湾曲形状に矯正し、前記湾曲形状に沿って配置され複数の光学検査ユニットで前記検査を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】測定対象物に対して、可視観察のみならず、近赤外観察や蛍光観察といった特殊観察を行うことを可能とした光学式測定装置を提供する。
【解決手段】白色光を出射する白色光源と、白色光源と測定対象物との間に配され、白色光源から出射された白色光と、測定対象物からの戻り光と、を通過させる第１対物レンズと、第１対物レンズを通過した戻り光を所定の倍率に変倍する複数のチューブレンズと、複数のチューブレンズのうち戻り光上に配置させる一のチューブレンズを選択的に切り替え可能なレンズ切替機構と、を備える可視観察部と、特殊光を出射する特殊光源と、特殊光源と測定対象物との間に配され、特殊光源から出射された特殊光と、測定対象物からの戻り光と、を通過させる第２対物レンズと、を備える特殊観察部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ＳＥＭの欠陥観察方法及びその装置において、ウェハ上の多様な欠陥を高速、高感度に欠陥を観察する。
【解決手段】他の検査装置で光学的に検査して検出した試料１上の欠陥の位置情報と他の検査装置の光学的な検査の条件の情報を得、他の検査装置で検出した欠陥をＳＥＭ６で観察するためのテーブル上に試料を載置し、このテーブル上に載置した試料上の欠陥を光学的に検出するための検出条件を得た他の検査装置の光学的な検査条件の情報に基づいて設定し、テーブル上に載置した試料上の欠陥の中から抽出した欠陥を設定した光学的な検出条件に基づいて検出してこの抽出した欠陥のテーブル上での位置情報を得、この得た抽出した欠陥のテーブル上での位置情報に基づいて他の検査装置で検査して検出した欠陥の位置情報を修正し、この修正した欠陥の位置情報を用いてテーブル上に載置した試料上の欠陥をＳＥＭ６で観察する欠陥観察方法及びその装置とした。 （もっと読む）

【課題】検査対象であるフォトマスクに所定波長の光束を照射し、フォトマスクを経た光束を撮像手段によって撮像して光強度データを求めるフォトマスクの検査方法において、実際の露光を行う露光装置との条件整合を良好に行う。
【解決手段】エッチング加工がなされる被加工層上に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いてｇ線、ｈ線及びi線の波長成分を含む露光光の露光を行い、レジスト膜をエッチング加工におけるマスクとなるレジストパターンとなすためのフォトマスクの検査に用いるテストマスクであり、露光光を透過させる透過部、遮光する遮光部、及び、一部を低減させて透過させるグレートーン部とを有するテストパターンを形成したテストマスクにおいて、テストパターンが一定の規則に基づいてパターン形状が逐次変化された複数の単位パターンが配列された部分を含み、パターン形状の逐次変化により、各単位パターンにおけるグレートーン部の幅をそれぞれ異ならせる。 （もっと読む）