動かされる繊維材料（９）例えば糸の光学的走査装置（１）は、繊維材料（９）用の通路（９１）を含んでいる。異なる場所に設けられて通路（９１）のそれぞれ１つの照明範囲（８１，８２）を照明するため異なるスペクトル特性を持つ光（７１，７２）を放射する少なくとも２つの光源（２１，２２）が、通路（９１）のそれぞれ１つの照明範囲（８１，８２）を照明する。光検出器（６）が、異なる照明範囲（８１，８２）に由来する光を検出する。少なくとも１つの視野絞り（５２）が、すべての照明範囲（８１，８２）の共通集合の部分量である走査範囲（８５）からの光のみを光検出器（６）へ当てる。それにより繊維材料（９）が、関与するすべての光成分（７３，７４）により走査される。
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【課題】マスク検査装置において、２つの検出画像を比較してマスクの欠陥有無を検出可能とする。
【解決手段】光源１から出射された深紫外線領域のレーザ光を照明光として、所定のパターンが形成されたマスク２００に照射する照明光学系２と、２つのＴＤＩセンサ１１，１２と、照明光が照射されたマスク２００の照明領域のうち、互いに異なる検出対象領域からの光を同時に、かつ各別に２つのＴＤＩセンサ１１，１２に結像させる２つの結像光学系と、２つのＴＤＩセンサ１１，１２によりそれぞれ検出して得られた２つの像のサイズを一致させる像倍率補正手段と、像倍率補正手段によりサイズが一致された２つの像に基づいて、マスク２００の欠陥を検出する信号処理系２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】光学画像の歪みを最小限にして、高い検査精度を実現可能な検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】検査装置１００において、光源１からマスク２２に照射された光は、マスク２２を透過した後、レンズ４を介しミラー２５で反射してラインセンサ５に結像する。ステージ２の位置はレーザ側長システム７ａで測定され、拡大光学系２００の位置はレーザ側長システム７ｂで測定される。得られたステージ２の位置と拡大光学系２００の位置との差分に基づき、ミラー制御部２６によってミラー２５の角度が制御される。また、これらの差分に基づき、ステージ制御部１５によってステージ２の移動速度が制御される。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの内部欠陥及び表裏面の欠陥検査を簡素化することにある。
【解決手段】光源と撮像器と光学系を備える２組の光源・撮像ユニット４、５をウェーハ１を挟んで対向して配置し、光源・撮像ユニット４、５の少なくとも一方からウェーハ１に赤外光を照射してウェーハ１からの透過光を受光してウェーハ１の透過画像を撮像する第１撮像工程と、光源・撮像ユニット４、５からウェーハ１に赤外光又は可視光を照射してウェーハ１からの反射光を受光してウェーハ両面の反射画像をそれぞれ撮像する第２撮像工程と、透過画像と両面の反射画像に基づいてウェーハ１の欠陥を抽出する抽出工程を有し、ウェーハの内部欠陥と表裏面の欠陥を同一時に検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検査対象物を撮影するための光路内の一部にその光路を遮るように介在物を挿入しても、その介在物が画像に与える影響を抑えて検査を正確に実施することが可能な検査装置を提供する。
【解決手段】検査対象物としてのボトル２を照明装置３からの赤外光を含む照明光で照明しつつボトル２の赤外波長域の画像をカメラ１１にて撮影し、得られた画像に基づいてボトル２を検査する検査装置１において、照明装置３からボトル２を経てカメラ１１に至る光路内に、該光路を部分的に遮るようにネックホールド５０を挿入し、そのネックホールド５０をボトル２のネック部２ｄと噛み合わせてボトル２の落下を防止する。ネックホールド５０は赤外光の波長域に対して透過性を有する材料にて形成する。 （もっと読む）

【解決手段】対象の検査方法およびシステムは、対象表面上の望まれないパーティクルを検出するための分光技術の使用を含む。この技術は、望まれないパーティクルと検査対象とが異なる材料により形成されることによる、検査対象と比較したときの望まれないパーティクルの異なる応答に基づく。対象の表面からの二次光子放出の時間分解分光法および／またはエネルギ分解分光法を使用することにより、ラマンおよび光ルミネッセンススペクトルを得ることができる。検査対象は例えばリソグラフィプロセスで使用されるパターニングデバイス、例えばレチクルであってもよい。その場合、例えば金属、金属酸化物、または有機物のパーティクルの存在が検出されうる。この方法および装置は高感度であり、例えばＥＵＶレチクルのパターン形成された側の小さなパーティクル（１００ｎｍ弱、特に５０ｎｍ弱）を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】偏光フィルム透明体（試料）の微小な凹凸欠陥を見やすく可視化し、容易にかつ正確に短時間で検査を行う。
【解決手段】照明部１２により試料３０のほぼ全面に平行光を照射する。試料３０を透過した平行光をアフォーカルレンズ１４により収束させる。アフォーカルレンズ１４と撮像用の小型テレセントリックレンズ１５及びＣＣＤカメラ１６とを、光軸１９上で空間的に２分割して配置する。小型テレセントリックレンズ１５及びＣＣＤカメラ１６を光軸１９上で移動して、試料３０の被検査面３０ａをフォーカスおよびデフォーカスして撮像する。デフォーカス撮影時の表示画面に微小欠陥が顕在化して表示されるため、熟練を要することなく、簡単・容易に短時間で微小欠陥を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】検査性能が安定したパターン欠陥検査装置を実現すること。
【解決手段】複数の構成ユニットを有し試料面上の欠陥を検査する欠陥検査装置において、一部または全部の構成ユニットの経時変化や故障をモニタリングするモニタリングする手段とモニタリングした結果をユーザに通知する手段を備える。また、補正が可能であるユニットに関しては、補正を行う手段を備える。また、故障した部品を、装置内に用意しておいた予備部品と交換する手段を備える。 （もっと読む）

【課題】検出する光の光量低下を防止した表面検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面検査装置１は、少なくとも熱線及び紫外光を射出する光源部と、所定の繰り返しパターンを有する被検基板の表面に、前記紫外光の直線偏光を照射する照明部と、前記直線偏光が照射された前記被検基板の表面からの反射光のうち前記直線偏光と振動方向が交差する偏光成分を検出する検出部と、前記検出部で検出された前記偏光成分に基づいて、前記繰り返しパターンにおける欠陥の有無を検査する検査部とを備え、
前記照明部または前記検査部の光路上に、前記直線偏光または前記偏光成分を得るための偏光板３４が密閉部材３６により外気に対して密閉された状態で配設されると共に、前記密閉部材３６のうちの前記紫外光の透過領域表面に紫外光透過性熱線吸収膜が形成されている。 （もっと読む）

軸Ｙ及びＺと共に空間の正規直交座標を定める軸Ｘの実質的に平面の軌道に沿って移動する基体（１）のＸＹ平面に対して実質的に平行な表面（２）に対するトポグラフィ装置であって、装置は、基体（１）の移動中に表面（２）のトポグラフィを測定するために表面（２）によって後方散乱される照明を測定するための手段（２０）と協動することができる表面（２）の構造化照明のための手段（１０）を含み、構造化照明のための手段（１０）は、表面（２）上に入射角「ａ」で光ビーム（Ｆ）を投影し、そこに各光筋（Ｓ）がＸ軸と角度「ｂ」を構成する複数の「ｎ」本の光筋（Ｓ１，Ｓ２．．．Ｓｎ）を形成することができ、この装置において、測定手段（２０）は、平面ＸＹ及び平面ＸＺと交差する平面Ｐに位置する線形カメラで構成され、平面Ｐと平面ＸＹとの交差は、Ｙ軸との角度「ｃ」を形成し、平面ＰとＸＺ平面との交差は、Ｚ軸との角度「ｅ」を形成し、この装置において、入射角「ａ」は、３０°と７０°の間にあり、角度「ｂ」は、−４５°と＋４５°の間にあり、角度「ｃ」は、−３０°と＋３０°の間にあり、角度「ｅ」は、−４５°と＋４５°の間にある。 （もっと読む）

【課題】実際の光学系を用いてゴーストを検査できる検査装置を提供する。
【解決手段】発光ダイオードＬＥＤと絞りＡＰをＸ軸方向及びＹ軸方向にマトリクス状に移動させ、撮像素子ＣＣＤをＺ軸方向に移動させながら、ゴーストの検査を行うことで、ゴーストが発生する、光学系ＯＰＳに対する、発光ダイオードＬＥＤ、絞りＡＰ、撮像素子ＣＣＤの相対位置がわかる。 （もっと読む）

【課題】複数の突起部を有する検査対象物を迅速に検査する。
【解決手段】検査装置は、検査対象物Ａ載せる透明なテーブル１２と、テーブル１２の下面から光の強度が周期的に変化する光パターンを照射する光照射部と、光パターンが照射された検査対象物Ａを、テーブル１２の下面から撮影する撮像部２２と、検査対象物Ａの画像を処理して、検査対象物Ａの表面の３次元形状を表す表面形状データを生成する画像処理部１０３と、表面形状データにより表される検査対象物Ａにおける複数の突起部それぞれにおいて、テーブル１２の上面に対する位置を示す値の代表値を決定する代表値決定部１０２と、複数の突起部それぞれにおける代表値の分布が予め設定された基準を満たしているかを判定する判定部１０１と備える。 （もっと読む）

【課題】管状の貫通穴、有底穴の被検査物の内周囲面、及び周囲の被検査物の外観検査を容易に行うことができる検査装置を提供することを課題としている。
【解決手段１】管状の貫通穴、有底穴の被検査物（２）の内周囲面（２ａ）または周囲の被検査物に光を照射する照射手段（４）と、照射された光を、内周囲面（２ａ）または周囲に反射拡散する反射拡散手段（６）と、内周囲面または周囲を撮像する撮像手段（７）を備え、
該撮像手段（７）の魚眼レンズまたは広角レンズ（９）同軸上前方に該反射拡散手段（６）を配置した構成とし、該撮像手段（７）により検査を行う。 （もっと読む）

オブジェクト検査のための、特に、リソグラフィプロセスで使用されるレチクルの検査のためのシステムおよび方法が開示される。当該方法は、基準放射ビームをプローブ放射ビームと干渉法により合成することと、それらの合成視野像を記憶することと、を含む。そして、１つのオブジェクトの合成視野像を、基準オブジェクトの合成視野像と比較して差を求める。これらのシステムおよび方法は、欠陥に関するレチクルの検査において特定の有用性を有する。 （もっと読む）

【課題】感度の高い表面検査が可能な表面検査装置及び表面検査方法を提供する。
【解決手段】所定のパターンが形成されたウェハ２０の表面に直線偏光Ｌ１を照射する照明部１０と、ウェハ２０から出射される楕円偏光を受光し、直線偏光Ｌ１と振動方向が異なる第２の直線偏光成分のみを通過させる検光子３と、ウェハ２０の像の信号強度を検出し、信号強度に基づいて被検基板の表面におけるパターンが形成されている位置を検出する位置検出部８ｂと、パターンが形成されている位置の信号強度が最小となるように、楕円偏光及び検光子３のいずれか一方を他方に対して相対回転させ、上記位置の信号強度が最小となる楕円偏光に対する検光子３の相対位置を決定し、上記相対位置に相対回転させる回転駆動装置３０と、検光子３を通過した第２の直線偏光成分を検出し、パターンを検査する表面検査部とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】不感領域の影響を小さくして検査精度を向上させた表面検査装置を提供する。
【解決手段】被検物を支持するステージ１０と、ステージ１０に支持されたウェハＷの表面に照明光を照射する照明部２０と、照明光が照射されて被検物の表面から反射されて出射される光を所定の撮像面上に結像させるとともに光軸をずらす撮像光学系３０と、撮像光学系３０により撮像面上に結像された像を受光する画素及び画素の周囲に設けられて像を受光しない不感部を備え像を撮像する撮像部材と、撮像部材により撮像された像に基づいて被検物の表面の画像を生成する画像処理部４５とを備え、撮像光学系３０が撮像部材６０の撮像面上に結像される像の位置が所定長さだけずれるようにウェハＷの表面からの光軸をずらしながら撮像部材６０が複数回撮像し、画像処理部４５が撮像された複数の像における各画素を合成して合成画像を生成する。 （もっと読む）

【課題】
特にセラミックス球の外観検査装置において、静電気帯電防止を図ると共に、従来の装置で検出困難であったセラミックス球特有の色むら等の欠陥の検出を可能ならしめる。
【解決手段】
セラミックス球１を油中に浸漬し、油中で回転装置によって子午線状に回転するセラミックス球の表面に照明手段６により光を照射して撮影手段７により球全表面を撮影し、撮影された球表面の画像を処理してセラミックス球の欠陥の有無を判定する装置において、上記照明手段６を特にセラミックス球に明視野及び暗視野となるように光を照射可能な照明手段とした。 （もっと読む）

【課題】エッジ破断部を検査するための、新規の改善された検査システム及び方法を提供すること。
【解決手段】検査システム（１０）が、光源（２０）と、回折格子（２３）と、位相シフトユニットと、イメージャ（３０）と、プロセッサ（１１）とを備える。光源（２０）は、光を発生するように構成される。回折格子（２３）は、発生した光の経路内にあり、光が通過した後に回折格子像を生成するように構成される。位相シフトユニットは、回折格子像の複数の位相シフトパターンを形成し、それを物体表面（１６）上に反射して、複数の投影位相シフトパターンを形成するように構成される。イメージャ（３０）は、投影位相シフトパターンの像データを取得するように構成される。プロセッサ（１１）は、像データから物体表面を再現するように構成される。検査方法についても開示する。 （もっと読む）

【課題】プリント回路基板上における測定対象物の測定方法を提供すること。
【解決手段】プリント回路基板上の測定対象物を測定するために、第１照明ユニットを利用して格子パターン光をプリント回路基板に照射して撮影された第１画像を利用してプリント回路基板の３次元高さ情報を取得する。その後、取得された高さ情報を利用してプリント回路基板上に基準高さ以上で突出した第１領域を測定対象物として確定する。その後、第２照明ユニットから発生した光をプリント回路基板に照射して撮影された第２画像を利用して、プリント回路基板のカラー情報を取得する。取得されたプリント回路基板のカラー情報のうち、測定対象物に確定された第１領域の第１カラー情報を基準カラー情報に設定する。その後、基準カラー情報と第１領域以外の領域でのカラー情報とを比較して第１領域以外の領域で測定対象物が形成されているかを判断する。 （もっと読む）

【課題】透過サブストレートの欠陥を検出するための方法とシステム。
【解決手段】本願発明のシステムは、複数の検出チャネルを備え、その各々が、該サブストレートに照明を提供するための照明コンポーネントと、前記サブストレートの画像を提供するために前記サブストレートをスキャンする画像形成コンポーネントと、該サブストレートと該照明コンポーネントと複数の検出チャネルに含まれる画像形成コンポーネントの間の相対運動を生成するための移送モジュールと、前記複数の検出チャネルに含まれる前記照明コンポーネントと前記画像形成コンポーネントを制御するための制御モジュールと、を含む。前記複数の検出チャネルに含まれる前記照明コンポーネントの内の少なくとも２つの照明コンポーネントが、交替に照明を前記サブストレートに提供しその検出チャネルに含まれる前記照明コンポーネントが前記サブストレートを照明する場合には、前記複数の検出チャネルのいずれかに含まれる画像形成コンポーネントが、前記サブストレートをスキャンするようになっている。ここで、複数の検出チャネルの少なくとも２つの検出チャネルに含まれる前記画像形成コンポーネントが、同一の画像形成コンポーネントである。本願発明によって記述される方法とシステムは、実際の欠陥を検査されたサブストレートをクリーニングする必要がない疑似欠陥から識別することができる。 （もっと読む）