【課題】ワークの表面塗膜の下層の影響を受けずに、表面塗膜の検査精度を向上させる表面検査装置及び表面検査方法を提供する。
【解決手段】表面検査装置１０は、ワーク３０の表面に形成された特定の波長帯域を吸収する上塗りクリア塗膜４０に前記特定の波長帯域の光を照射する照射部１６と、照射部１６によりワーク３０に照射された光の反射光を撮像し、且つ、前記特定の波長帯域の光に対して感度を有する撮像部２０と、撮像部２０が撮像した画像を用いて、上塗りクリア塗膜４０の状態を検査する画像処理装置２２と、前記ワークの表面を、前記撮像部２０に対して相対的に移動可能するアーム２６とを備える。 （もっと読む）

【課題】板厚の大きい透明な基板の欠陥の検査において、基板の周辺環境から検出光学系に入り込む外乱光ノイズの影響を無くし、欠陥の検出精度を向上させる。
【解決手段】 基板の表面へ照射する光線として第１の偏光成分を多く含むものを用い、それぞれの受光手段の前に第１の偏光成分のみを通過させる偏光手段及びこの光線の周波数成分付近の光のみを通過させるバンドパスフィルタ手段を設ける。照射光線が第１の偏光成分を多く含むものなので、基板の表面、内部又は裏面で散乱する各散乱光も第１の偏光成分を多く含むものとなる。そして、第１の偏光成分を多く含む散乱光のみが偏光手段及びバンドパスフィルタ手段を通過して受光手段に取り込まれるようになる。これにより、基板の周辺環境から検出光学系に入り込もうとする外乱光ノイズの影響は極力低減され、欠陥の検出精度を向上させることができるようになる。 （もっと読む）

【課題】格子欠陥等のステップバンチング以外の欠陥とステップバンチングとを個別に検出できる検査装置を実現する。
【解決手段】ステップバンチング以外の欠陥を検出する第１検査モードとステップバンチングを検出する第２の検査モードを有する。第１の検査モードでは、微分干渉光学系のシャーリング方向を調整し又は基板を支持するステージの回転角度を調整することにより、微分干渉光学系のシャーリング方向をステップバンチングの延在方向と平行に設定する。これにより、ステップバンチング以外の欠陥が検出される。また、第２の検査モードでは、微分干渉光学系のシャーリング方向をステップバンチングの延在方向と平行から外れた状態に設定する。この状態において走査を行い、微分干渉画像を撮像する。そして、画像処理工程において、ステップバンチングの延在方向と直交する方向の輝度変化を強調する画像処理を実行し、ステップバンチングを検出する。 （もっと読む）

【課題】安価且つ小型の塗布検査装置を提供する。
【解決手段】塗布検査装置１０は、シリンジ５４から吐出された励起光の照射により蛍光を発する接着剤が、塗布対象物７０に塗布されたか否かを検査する。塗布検査装置１０は、励起光源１２から出射された励起光を伝搬する第２光ファイバ２２と、第２光ファイバ２２の先端部と、第２光ファイバ２２の先端部から出射された励起光を集光して塗布された接着剤に照射するとともに、励起光が照射された接着剤から発生する蛍光を集光して第２光ファイバ２２へ導くレンズ２８とを含むプローブ１８と、第２光ファイバ２２を伝搬した蛍光を受光する検出器１６と、プローブ１８とシリンジ５４とを一体的に連結する連結機構６０とを備える。 （もっと読む）

【目的】 透光性物品における光学的な不均一性の有無を正確に検査できる透光性物品の
検査方法を提供する。
【構成】 透光性物品に２００ｎｍ以下の波長を有する検査光を導入した場合に、該透光
性物品内部で前記検査光が伝播する光路に前記局所又は局部的に光学特性が変化する部位
がある場合にこの部位から発せられる光であって前記検査光の波長よりも長い光を感知す
ることにより、前記透光性物品における光学的な不均一性の有無を検査する。 （もっと読む）

【課題】 被検対象の物体にはない特定成分を確実に選択できるようにして異物を確実に特定できるようにし、物体中に異物が混入しているか否かを確実に判別できるようにして判別精度の向上を図る。
【解決手段】 被検対象の物体に、物体を構成する成分以外の特定成分を含む異物が混入しているか否かの判別を行なうものであって、予め、異物有りのサンプル物体と異物無しのサンプル物体とに近赤外線を照射し、サンプル物体からの反射光あるいは透過光を受光し、受光した光の吸光度における二次微分スペクトルの統計学的解析により特定成分に起因する帰属波長に係る判別式を算出しておき、被検対象の物体に近赤外線を照射し、被検対象の物体からの反射光あるいは透過光を受光し、受光した光の吸光度を測定し、これらの吸光度と判別式とから算出された算出結果から物体中の異物の有無を判別する。 （もっと読む）

【課題】 外観が類似しているブツと塗装後の塵埃とを区別して検査できる欠陥検査技術を提供する。
【解決手段】
入射光の角度を変化させて対象物の一定の領域を照射する照射手段と、入射光が対象物に照射されたときの画像を撮像素子で取得する撮像手段と、撮像手段によって取得した画像から欠陥候補を抽出し、該欠陥候補の特性に基づいてブツと塗装後の塵埃とを区別する欠陥種別を判定する欠陥判定手段を有することを特徴とする欠陥検査装置に関する。 （もっと読む）

【課題】パターンドメディアディスク上に繰り返し発生した欠陥をスタンパの経時的変化による劣化により発生した欠陥と、プロセスの不良により発生した欠陥とを識別して、スタンパの経時変化により発生した欠陥を検出する。
【解決手段】試料上に塗布されたレジストに微細なパターンを転写するためのスタンパの不良を検出するパターンドメディア用スタンパの検査方法において、表面に塗布されたレジスト膜にスタンパの微細なパターンが転写された試料に光を照射し、光が照射された試料からの反射光を分光検出し、分光検出して得た検出波形から欠陥を抽出し、抽出した欠陥のうち複数の試料上の同じ位置に発生した欠陥についてスタンパに起因する欠陥と、レジスト膜のパターンを形成するプロセスに起因する欠陥とを弁別し、スタンパに起因する欠陥の個数が予め設定した個数を超えたときに警告を通知するようにした。 （もっと読む）

【課題】本発明は、分光反射強度に含まれる迷光成分を低減し、パターンドディスク表面のパターン形状を精度よくまたはパターン欠陥を確実に検出できるハードディスクメディアの検査装置または検査方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、パターンが形成されたハードディスクメディアの表面に複数の波長を含む光を照射し、波長毎に検出される反射光の強度を前記ハードディスクメディアからの反射光を検出する検出器に発生する迷光成分の強度で補正し、前記補正された反射光の強度から分光反射率を算出することを第１の特徴とする。前記補正は、前記ハードディスクメディアからの反射光の強度を前記反射光の短波長領域をカットした状態とカットしない状態で波長毎に検出し、両者の前記反射光の強度との差に基づいて行なうことを第２の特徴とする （もっと読む）

【課題】
ハードディスク用のパターンドメディアの光学的な検査において、下地膜の膜厚変動，膜質変動の影響を受けることなくパターンの検査を行えるようにする。
【解決手段】
パターン検査装置を、試料を載置して回転可能な回転テーブル手段と、試料に照明光を照射する照明手段と、照明手段で光を照射された領域からの反射光を分光して検出する分光検出手段と、分光検出手段で分光して検出した基板のパターンが形成されていない領域からの反射光検出信号を処理して多層膜の光学特性を検出するとともに多層膜を含むパターンからの反射光検出信号を処理して多層膜を含むパターンからの反射光の光学特性を検出する光学特性検出手段と、光学特性検出手段で検出した多層膜からの反射光の光学特性の情報を用いて多層膜を含むパターンからの反射光の光学特性の情報を処理することにより多層膜上に形成されたパターンを検査するパターン検査手段とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】Ａ面とＢ面とで構成された両面を有する平板ガラスの表面に付着した異物を検出する。
【解決手段】平板ガラス３０のＡ面に向かって、Ａ面の法線ベクトルを基準にして第１の角度で、Ｓ偏光された第１波長のレーザー光を照射するＡ面レーザー光照射装置５１と、平板ガラスのＡ面に照射される箇所を撮影するＡ面撮影装置１１と、Ａ面の法線ベクトルを基準にして、第１の角度よりも小さな第２の角度で前記Ａ面に向かって照射し、照射されたレーザー光の大部分が平板ガラスの厚さ方向に透過する第２波長のレーザー光を照射するＢ面レーザー光照射装置５３と、平板ガラスのＢ面に照射される箇所を撮影するＢ面撮影装置１３と、ならびに、前記Ａ面撮影装置とＢ面撮影装置とから入力された映像イメージを分析して、異物がいずれの撮影装置でより鮮やかに出力されるのかを判別することにより、異物が付着された面を判別する検出信号処理部９０とを含む。 （もっと読む）

【課題】半田の厚さに関係なくツノ不良及びブリッジ不良の判定を簡便かつ精度良く行う。
【解決手段】画像入力手段１２が、カメラ１の撮像したプリント基板の半田付け部位のＲＧＢカラー画像を取得し、画像変換手段１３がＨＳＶ色空間画像に変換する。半田領域抽出手段１４はＲＧＢカラー画像をＨＳＶ色空間画像と比較して半田領域を抽出し、ランド領域抽出手段１５はパターンマッチング用モデルデータ作成手段１１の作成したモデルデータでＲＧＢカラー画像をパターンマッチングしてランド領域を特定する。不良判定手段１６は、半田領域とランド領域の差領域に基づいて良否判定を行う。 （もっと読む）

【課題】メタリック塗膜の色ムラを目視評価と相関の高い定量値として得ることができるメタリック塗膜の色ムラ評価装置を提供する。
【解決手段】メタリック塗膜１０の色ムラ評価装置１００は、メタリック塗膜１０の色ムラを評価する装置であって、載置部１０１と、測定部１１０とを備える。載置部１０１は、メタリック塗膜１０を載置するための載置面１０２を有する。測定部１１０は、メタリック塗膜１０上の測定点に光を入射し、測定点から反射する光を測定する。測定部１１０では、複数の測定点に対して、入射光軸と受光光軸とを含む測定面が２以上存在するように、２以上の光軸の光を異なったタイミングで入射する。載置部１０２は、測定部１１０に対して相対的に移動可能である。 （もっと読む）

【課題】多成分の波長の強度データを画素毎に有する画像データの分析を高精度且つ高速に行う。
【解決手段】分析ユニット３０の線形識別部４２において、画像データの強度データを特徴量として、計算量が少なく識別に係る処理を高速に行うことができる線形ＳＶＭを用いて画素毎に予め識別が行われ、次に、線形ＳＶＭによる識別の結果強度データがオブジェクトデータであると識別された画素のみに対して、非線形識別部４３において、識別時の計算量が多く高精度な識別能力を有する非線形ＳＶＭによる識別が行われる。したがって、全ての画素について線形ＳＶＭのみにより識別を行う場合と比較して高精度の識別を行うことができ、また、全ての画素について非線形ＳＶＭにより識別を行う場合と比較して高速に識別を行うことができる。したがって、画像データの分析を高精度且つ高速に行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】腐食環境に応じてセンサの長寿命化を図ることができる腐食検知装置を備えた屋外構造物を提供する。
【解決手段】屋外構造物に備えられる腐食検知装置１０Ａは、腐食環境を監視する腐食センサ１１０と、腐食センサ１１０の劣化度合いを計測する劣化度合い判定部である表面劣化度合い分析部１１と、表面劣化度合い判定部１１の判定の結果に応じて、腐食センサを使用する際に、計測時のみスイッチングをＯＮとする指令を行う制御装置１２とを有する。 （もっと読む）

【課題】任意の孵卵工程における任意の種卵に対する生存・非生存を鑑別し、その要因まで分類することができ、さらに１時間あたり数万個の判定処理能力を達成することができる種卵検査装置および種卵検査方法を提供する。
【解決手段】トレイ１の卵座に置かれた卵にＬＥＤ光源７から光を照射し、吸盤８とともにヘッド９に取り付けられたフォトダイオードＰＤによって卵の中を透過・散乱した光を受光する。受光した光を受光電圧に変換し、受光電圧があらかじめ与えられた設定範囲に収まるようにＬＥＤ光源７の光源光量を制御することで、種卵の状態によらず適切なレベルの受光電圧の時系列を得て、受光電圧時系列の平均周りの変動分と卵に対する光の透過率等から種卵の内部状態を判定する。 （もっと読む）

【課題】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。
【解決手段】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布フィルタを挿入する構成とする。 （もっと読む）

【課題】試料表面の色むらと凹凸とを容易に検査を行うことのできる表面欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】各々の領域ごとに複数の色相の光を照射することが可能な照明部と、前記照明部より検査対象に照射された反射光を検出するための撮像部と、を有し、前記各々の領域には、各々異なる波長を発光することが可能な複数の発光素子を有しており、前記照明部は、前記各々の領域において白色光を発光させるため前記複数の発光素子を発光させることができ、また、前記各々の領域において隣接する領域が異なる色相となる光を発光させるため前記各々の領域において前記複数の発光素子の一部を発光させることができるものであって、前記検査対象の表面における欠陥の検査を行うものであることを特徴とする表面欠陥検査装置により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】
スキャトロメトリを用いることにより、基板上に形成された線幅数１００ｎｍ以下のパターンの断面形状を、例えばディスク全面を数マイクロメータ程度の領域毎に検査・測定することも可能となる。しかし、ディスク全面を数マイクロメータ程度の領域毎に検査・測定したパターンの幅や高さ等を全て表示することは困難であり、また全て表示することが必ずしも有効であるとはいえない。
【解決手段】
本発明では、パターンの幅や高さ、特にデバイスの性能に直接影響を及ぼすパターン断面の磁性体部分の断面積(単位長さあたりの体積)等の分布を独立に、又は組み合わせて表示する。また、結果の特徴を強調して表示する。さらに、リードライトテスト結果との相関を予め評価しておくことにより、パターン断面形状の検査・測定時に最終的な不良箇所の特定を可能とし、不良の発生を事前に防止することができる。 （もっと読む）

【解決手段】対象の検査方法およびシステムは、対象表面上の望まれないパーティクルを検出するための分光技術の使用を含む。この技術は、望まれないパーティクルと検査対象とが異なる材料により形成されることによる、検査対象と比較したときの望まれないパーティクルの異なる応答に基づく。対象の表面からの二次光子放出の時間分解分光法および／またはエネルギ分解分光法を使用することにより、ラマンおよび光ルミネッセンススペクトルを得ることができる。検査対象は例えばリソグラフィプロセスで使用されるパターニングデバイス、例えばレチクルであってもよい。その場合、例えば金属、金属酸化物、または有機物のパーティクルの存在が検出されうる。この方法および装置は高感度であり、例えばＥＵＶレチクルのパターン形成された側の小さなパーティクル（１００ｎｍ弱、特に５０ｎｍ弱）を検出することができる。 （もっと読む）