【課題】液体への投入・排出時におけるワークへの負荷を低減して、ワークの折損や装置からの脱落を防止できると共に、貯留槽からリークする液体の量を削減でき、また、装置全長を短縮することができる搬送装置を提供する。
【解決手段】この搬送装置１は、板状のワークＷを貯留槽の液体に対して投入・排出を行う搬送装置において、前記ワークＷの保持を行う保持部１１、１２、２１、２２を有すると共に回転可能に支持されたワーク保持手段１０、２０を備え、前記ワークＷを保持させた前記ワーク保持手段１０、２０を回転させて該ワークＷを前記貯留槽３０の液体Ｌに対して投入・排出を行う。 （もっと読む）

【課題】 設備コスト、設置場所の縮小を図ることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】 基板Ｗに対して剥離処理と洗浄処理を行なう基板処理装置において、導入された空気を窒素ガスと酸素ガスのガス成分に分離して取り出し可能とするガス分離モジュール９と、この分離モジュール９から分離取り出された窒素ガス、酸素ガスをそれぞれ用いたマイクロナノバブル発生装置５、６を設け、各発生装置で発生した微小気泡を剥離部２、洗浄部３にそれぞれ供給する。 （もっと読む）

【課題】ランニングコストや設備投資の増大、さらにはガラス基板の生産性低下を極力招くことなく、ガラス基板の有効面を効果的に清浄化することができる技術を提供する。
【解決手段】搬送されるガラス基板Ｇの有効面に対し、洗浄液２１を供給しつつ、洗浄ヘッド１５を回転させながら押し当てることにより、ガラス基板Ｇの有効面に付着した異物を取り除く洗浄工程において、洗浄ヘッド１５または洗浄ヘッド１５を保持する第１保持部材１３の少なくとも一方の膨張収縮を利用して、ガラス基板Ｇに対する洗浄ヘッド１５の接触圧を調整する。具体的には、洗浄ヘッド１５がある程度摩耗したときに、洗浄液２１の供給温度を上昇させて、洗浄ヘッド１５または第１保持部材１３の少なくとも一方を熱膨張させ、洗浄ヘッド１５の摩耗によって低下したガラス基板Ｇに対する洗浄ヘッド１５の接触圧を再度高める。 （もっと読む）

【課題】 基板の表面の検査結果に応じて基板を適正に処理することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置における搬入部１１と、第１処理部１２と、第２処理部１３と、搬出部１４とは、昇降用モータ２０の駆動により、それらが水平面に対して平行に向く位置と水平面から傾斜した位置との間を、軸１５を中心に一体となって揺動する。制御部がエッチングすべき膜の膜厚が均一であると判断した場合には、第１処理部１２および第２処理部１３を、搬入部１１および搬出部１４とともに、水平面に対して傾斜させる。制御部がエッチングすべき膜の膜厚が不均一であると判断した場合には、第１処理部１２および第２処理部１３を、搬入部１１および搬出部１４とともに、水平面と平行に向く位置に配置する。 （もっと読む）

【課題】洗浄液を少量に抑えながら簡便に基板を洗浄する技術を提供すること。
【解決手段】水平姿勢にて水平に移動している基板Ｇの上面に洗浄ノズル２より洗浄液Ａを供給した後、その基板Ｇを、基板Ｇの移動路における洗浄ノズル２の下流側に設けられた磁場形成部材３、４の間を通過させる。このとき、基板Ｇの表面上に供給された洗浄液Ａは、反磁性であるため、磁場形成部材３、４の間に形成された強力な磁場の作用により通過を阻止される。これにより基板Ｇの表面上の液切りを行って洗浄液Ａを除去するようにしている。 （もっと読む）

【課題】 基板を均一に処理することが可能な基板処理装置および搬送ローラを提供する。
【解決手段】 搬送ローラ１は、駆動軸３と、複数のローラ部２とから成る。そして、複数のローラ部２は、各々、同一形状を成す３個のローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃから構成される。これらのローラ部材２ａ、２ｂ、２ｃには、その表面が駆動軸３を中心とする円上に配置されたガラス基板との当接領域と、その表面が円より駆動軸３の軸心側に配置されたガラス基板との非当接領域とが形成されている。この当接領域は、円の円周全域の１／３をわずかに越えている。 （もっと読む）

【課題】除去性能を高めた空調用フィルタの洗浄を効率的に行う。
【解決手段】ローラコンベア９とローラコンベア９で搬送されるフィルタ２に洗浄液を散布する洗浄液散布ノズル５０ａ〜５０ｆと、フィルタ２に高圧ガスを噴射する高圧ガス噴射ノズル６０ａ〜６０ｃと、散布された洗浄液１７ａ〜１７ｃを回収する回収タンク７２ａ〜７２ｃと、洗浄液を洗浄液散布ノズル５０ａ〜５０ｆに循環させる循環系統と、を含む各洗浄ステージ４ａ〜４ｃを含み、精密洗浄ステージ４ｃは、未使用洗浄液噴霧ノズル５０ｇが配置され、精密洗浄ステージ４ｃ、粗洗浄ステージ４ｂは各回収タンク７２ｃ，７２ｂからフィルタ搬送方向上流側の各回収タンク７２ｂ，７２ａに洗浄液を順次移送する移送系統を備え、予備洗浄ステージ４ａは回収タンク７２ａの洗浄液９０ａを外部に排水する排水ポンプ７７ａを備える。 （もっと読む）

【課題】ワークが搭載されるトレイを安定して、かつ、連続的に移動させ、処理室での処理効率を向上させつつ、処理室での処理をより確実に行うこと。
【解決手段】ワークが搭載される複数のトレイと、前記複数のトレイが係合される第１レール部と、前記複数のトレイのうちの搬送方向上流側端部に位置するトレイを搬送方向下流側に向けて前記第１レール部に沿って移動させる第１移動手段と、前記第１レール部が貫通するように配置され、前記第１移動手段によりその内部に搬入されたトレイに搭載されたワークに対して所定の処理を行う処理室と、を備え、前記トレイが、前記第１レール部と係合し、前記第１レール部に沿う前記トレイの移動が案内される被案内部を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で、周囲の空気との干渉による水流の微粒化を抑制でき、高いデスケーリング又は洗浄能力を発現できる噴射ノズル装置を提供する。
【解決手段】フラットパターンの主水流５０を噴射可能な主吐出口１５と、主水流の厚み方向の両側から、それぞれ第１の被覆気流５１及び第２の被覆気流５２を噴射可能であり、主水流を第１及び第２の被覆気流のサンドイッチ状に被覆して噴射するための第１の補助吐出口及び第２の補助吐出口とを備えた噴射ノズルを用いて鋼板表面のスケールを除去する。前記主水流の噴射圧力は、被覆気流の噴射圧力の７０倍以上に調整する。補助吐出口の噴射出口は、主吐出口の噴射出口よりも５〜１００ｍｍ上流側に位置させてもよい。主水流の噴射方向に向かって５〜３５°の角度で被覆気流を噴射してもよい。 （もっと読む）

【課題】圧力制御された複数の区画でナノ材料の秤量・包装および容器の洗浄を分担して行うことにより、作業者のナノ材料からの暴露危険性を低減するナノ材料秤量包装装置を提供する。
【解決手段】ナノ材料を秤量して包装容器に充填する区画Ａと、前記区画Ａから移送された包装容器の外側を洗浄する区画Ｂと、前記区画Ｂから移送された包装容器を保管する区画Ａと、前記各室間を仕切る仕切壁と、前記各室と調整弁を介してダクトで接続され各室を陰圧に保つ吸引ファンと、各室の圧力を区画Ａ＜区画Ｂ＜区画Ａに保つように前記ダクトの調整弁を制御する制御装置を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】微細気泡を用いた基板処理能力低下を防止すること。
【解決手段】微細気泡を含む処理液Ｓ２を生成する微細気泡発生装置３と、微細気泡を含む処理液Ｓ２を吐出するノズル５と、微細気泡発生装置３とノズル５を接続する配管４ｂと、前記配管４ｂ途中で配管内壁に付着した気泡を取り除く排気機構を設ける。ここで、排気機構は、内側の配管４１ａ、この内側の配管４１ａと外側の配管４１ｂとの間に形成された空間Ｋ、ポンプＰ２によって構成される。 （もっと読む）

【課題】
炊飯釜等の容器洗浄装置において、容器洗浄面の最短距離まで洗浄ノズルを挿入し、洗浄面を死角なく効率的に洗浄することを可能ならしめると共に装置の小型化を達成する。
【解決手段】
容器３の取手部３ａが挿入される凹状部４を有する反転回動可能な容器支持体２と、ノズルアーム７ａ先端に取り付けられ、容器支持体２が反転したとき、該容器支持体に取り付けられた容器３内部を洗浄する回転式洗浄ノズル７を設けて、回転式洗浄ノズル７を容器支持体２の反転に伴って容器３内に移行して挿入し、回転しながら下向き姿勢の容器３内部を全面にわたり洗浄し得る如く構成した。なお、支持体２内への容器３の挿入、洗浄後の支持体内からの取り出しはガイドローラーを使用し、バッチ式としてもよく、搬送コンベアを用いて連続式又は往復式としてもよい。 （もっと読む）

【課題】トンネル式洗浄機において、流体排気通路で洗浄機の各チャンバからの均等な蒸気排気を容易にし、各チャンバからの熱損失を最小限にするため最適化される。
【解決手段】トンネル式洗浄機には、トンネル式洗浄機のチャンバを分離する間隔を保つ二重壁カーテンが含まれ、チャンバ間およびトンネル式洗浄機外への流体および熱移動が防止される。二重壁カーテンにはトンネル式洗浄機の操作の間にカーテンが互いに粘着することを抑制する表面が含まれる。またトンネル式洗浄機には種々の寸法の物品に対し乾燥効率を均等にする空気マニホールドが含まれる。 （もっと読む）

【課題】洗浄液の飛散による弊害を少なくできる洗浄装置を提供する。
【解決手段】搬入部２に搬入された被洗浄物を第一の洗浄部４、第二の洗浄部５、第三の洗浄部６、第一の乾燥部７、待機部８、第二の乾燥部９及び搬出部３に順次搬送する搬送部69を備える。第一の洗浄部４、第二の洗浄部５、第三の洗浄部６、第一の乾燥部７、待機部８、第二の乾燥部９及び搬出部３の高さＨを、順次高く配置する。パイプＰを支持して上段側に持ち上げて移す第一の搬送台70などの搬送部69を設ける。第一の洗浄部４で発生したパイプＰの汚れがその上方にある第二の洗浄部５に飛散することを阻止でき、第二の洗浄部５で発生したパイプＰの汚れがその上方にある第三の洗浄部６に飛散することを阻止できるなどによって、パイプが絶えることなく各工程が同期して連続的に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】エッチング残渣を良好に除去することが可能なウエットエッチング方法及びウエットエッチング装置を提供する。
【解決手段】本発明のウエットエッチング方法は、基板Ａ上に形成された少なくとも１層の膜をウエットエッチングする処理工程と、処理工程を終えた基板Ａを水洗する水洗工程と、水洗工程を終えた基板Ａを乾燥する乾燥工程とを含み、処理工程と水洗工程との間に、超音波を印加したエッチング液ＥＬを基板Ａに噴射する超音波液噴射工程を実施する。 （もっと読む）

【課題】洗浄工程数を減らし、さらに、基板に対する汚染粒子の再付着を防止する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、基板Ｗを搬送する搬送部２と、その搬送部２により搬送される基板Ｗの被洗浄面Ｓに、酸化膜除去可能な液体中に酸化性ガスを溶存状態および微小気泡状態で有する洗浄液を供給する供給ノズル３とを備え、その供給ノズル３は、被洗浄面Ｓ上に到達した微小気泡がサイズ変化を抑えつつ基板Ｗの外縁まで移動する流速で洗浄液を供給する。 （もっと読む）

【課題】 多目的な洗浄に対応するワーク洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本願発明では、ワークＷを洗浄するワーク洗浄装置において、洗浄液の噴射部と、複数のプレート４…４と、プレート移動部５とを備え、プレート移動部５は、少なくとも一部のプレート４を移動させて、洗浄するワークの周囲を各プレート４…４にて取り囲むことにより、洗浄液の液溜まりを形成することができ、且つ、移動させたプレート４…４を元の位置に後退させることができるものであり、 噴射部６は、洗浄するワークを、プレート４…４にて取り囲んだ状態と取り囲んでいない状態の何れにおいても、ワークに向け洗浄液を噴射することができるものである。 （もっと読む）

【課題】 多目的な洗浄に対応するワーク洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本願発明では、ワークＷを洗浄するワーク洗浄装置において、洗浄液の噴射部と、複数のプレート４…４と、プレート移動部５とを備え、プレート移動部５は、少なくとも一部のプレート４を移動させて、洗浄するワークの周囲を各プレート４…４にて取り囲むことにより、洗浄液の液溜まりを形成することができ、且つ、移動させたプレート４…４を元の位置に後退させることができるものであり、 噴射部６は、洗浄するワークを、プレート４…４にて取り囲んだ状態と取り囲んでいない状態の何れにおいても、ワークに向け洗浄液を噴射することができるものである。 （もっと読む）

【課題】 洗浄液の使用量を低減させながら、パーティクルや異物が基板に固着することを防止して、清浄に基板を洗浄することが可能な基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液を貯留する貯留槽１２と、貯留槽１２に貯留された洗浄液をガラス基板１００の表面に供給するスプレーノズル１と、ガラス基板１００に供給された洗浄液を貯留槽１２に回収する回収槽１９とを備えた第１洗浄部１０１と、下方を向く洗浄液吐出口を有する洗浄液吐出ノズル２と、洗浄液の液溜まりを保持する洗浄液保持面を備えた液溜まり保持部材３と、ガラス基板１００の裏面に純水を供給する裏面洗浄部４とを備えた第２洗浄部１０２と、第１洗浄部１０１におけるスプレーノズル１と、第２洗浄部１０２における洗浄液吐出ノズル２との間に配設されガラス基板１００の表面から洗浄液を除去する上下一対のエアナイフ８とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ガラス・シリコン薄膜・フイルム等の大面積基板の薬液反応において、薬液との接液を面状態とし、さらに節液状態で行える超音波薬液反応装置を提供することにある。
【解決手段】 薬液供給口２１，３２より薬液６０を上下薬液槽２０，３０に送り、上部薬液槽２０の液吸引パイプ２３からの流量バランスで、基板出入り口になる上下槽間の空隙部１２に薬液６０を保持する。薬液６０には下部槽３０より超音波定在波１３が付加され、振動波の最大振幅位置と一致させた空隙レベルに基板５０をローラー４０で搬送し、キャビテーション効果で基板表裏の薬液反応を促進化させる。液吸引パイプ２３の位置を振動波の最小振幅位置と一致させ液面レベルを反射面として機能させる。 （もっと読む）