【課題】エッチングエンドのタイミングを確実に判別し、エッチングに必要な薬液の使用量を低減する。
【解決手段】エッチング室の入口から導入された処理基板を傾斜した状態で搬送する送りローラと、エッチング室内において送りローラによって搬送される処理基板に向けてエッチングに必要な薬液を吐出する吐出ノズルと、エッチング室内の入口側に設けられ傾斜した状態で搬送される処理基板の傾斜上方に位置する一端部に対向する第１センサ、エッチング室内の入口側に設けられ傾斜した状態で搬送される処理基板の傾斜下方に位置する他端部に対向する第２センサ、エッチング室内の出口側に設けられ処理基板の一端部と他端部との間の中央部に対向する第３センサを含むセンサ群と、センサ群に含まれる第１乃至第３センサの各々からの出力信号に基づいてエッチングエンドを判別する演算装置と、を備えたエッチング装置。 （もっと読む）

【課題】化石燃料の使用量の削減を図ることができ、ランニングコストおよびＣＯ_２排出量を抑制することができ、且つ作業者の作業環境の改善を図ることが可能な洗浄システムを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる洗浄システムの構成は、湯を用いて被処理体（番重１０２）を洗浄する洗浄システム１００であって、被処理体を移動させる被処理体移動経路１０４と、被処理体移動経路の下方に配置され、湯を貯留する貯湯槽１１０ａおよび１１０ｂと、貯湯槽に接続され、貯留された湯を被処理体に散水する散水手段１２０ａおよび１２０ｂと、空気を熱源として貯湯槽に供給する湯を生成するヒートポンプ１３０と、ヒートポンプで冷却された空気を被処理体移動経路が設置される室内の所定位置に噴出する冷気噴出器１０８ａ〜１０８ｃと、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】装置全体での熱消費量を抑えた洗浄装置を実現することを目的とする。
【解決手段】
外部の給水箇所から水を供給する水供給ラインと、水供給ラインから供給された水を加熱して温水を生成する加熱手段と、加熱手段により生成された温水を第二洗浄手段に供給する第二供給ラインと、第一洗浄手段及び第二洗浄手段から噴射された温水を回収する回収タンクと、回収タンクに回収された温水を第一洗浄手段に供給する第一供給ラインと、回収タンクに溜まった温水を排出する排水ラインと排水ラインを流れる温水と加熱手段より上流において水供給ラインを流れる水との間で熱交換させる熱交換器とを備えた洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】より簡易な構造で安全性を確保することができる処理装置を提供することである。
【解決手段】発火及び爆発に対する所定の安全対策の施された設備が配置され、引火性のある処理液を用いて所定の処理が行われる処理室と、該処理室とは隔離されつつ一体となり、電気設備及び前記処理室にて用いられる前記処理液の通路が配置された遮蔽室とを備えた処理装置であって、前記遮蔽室内から気体を導出する気体導出手段と、該気体導出手段にて導出された気体のガス濃度を検出するガス濃度検出手段とを有する構成となる。 （もっと読む）

【課題】不良デバイスの発生を抑制できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、第１供給部からの帯状の基板を第１回収部へ送る第１送り機構と、第１供給部から送られた基板の裏面の少なくとも一部にカバー部材を着ける第１装置と、裏面にカバー部材が着けられた状態で第１装置から送られた基板の表面の処理を行う表面処理装置と、表面処理装置と第１回収部との間に配置され、表面処理装置から送られた基板からカバー部材を離す第２装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】処理液を効率的に利用しつつ処理性能を向上させることのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供することである。
【解決手段】
処理液を基板Ｐの表面に向けて吐出して基板Ｐの全幅にわたって処理液を吹付ける第１ノズルユニット１０と、第１ノズルユニット１０より基板Ｐの搬送方向の下流側に当該第１ノズルユニット１０と向き合うように配置され、処理液を基板Ｐの表面に向けて吐出して当該基板の全幅にわたって処理液を吹付ける第２ノズルユニット２０とを有し、相互に向き合う第１ノズルユニット１０及び第２ノズルユニット２０から吐出される処理液が基板Ｐの表面上でぶつかりあって基板Ｐの幅方向に延びる処理液の盛り上がり部分Ｍが形成されるように第１ノズルユニット１０及び第２ノズルユニット２０からの処理液の吐出方向が設定された構成となる。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の脱脂を不要とすることができる、機械加工品の洗浄方法を提供する。
【解決手段】まず、第１洗浄工程および第２洗浄工程が行われる。第１洗浄工程および第２洗浄工程では、シリンダヘッドに洗浄液が供給されて、シリンダヘッドが洗浄される。次に、第１乾燥工程が行われる。第１乾燥工程では、シリンダヘッドにエアが吹き付けられ、シリンダヘッドに付着した洗浄液が除去される。その後、ミスト工程が行われる。ミスト工程では、第１乾燥工程で一旦乾燥したシリンダヘッドに対して、洗浄液のミストが吹き付けられる。ミスト工程の後は、第２乾燥工程が行われ、シリンダヘッドにエアが再び吹き付けられて、シリンダヘッドから洗浄液が除去される。 （もっと読む）

【課題】洗浄液やすすぎ液を昇温するためのエネルギ使用量を大幅に削減し、しかも二酸化炭素排出量の削減にも寄与することができる、洗浄機を提供する。
【解決手段】少なくとも上部が開口された略箱状の洗浄機本体２内に、搬送手段を介して順次搬送されてくる容器８に対し、加温された洗浄液による洗浄と、加温されたすすぎ液によるすすぎとを行い、さらに洗浄に使用された洗浄液と、すすぎに使用されたすすぎ液とを、洗浄機本体２の下方に配置されたタンク１２内に戻すようにした洗浄機１０であって、洗浄機本体２の上部開口を覆うように天蓋９の内部に、排熱回収装置２０を設置し、箱状の洗浄機本体２内に充満する水蒸気を、排熱回収装置２０に導入し、導入された水蒸気から熱交換により回収した余剰熱量を供給水に蓄熱し、蓄熱され温水となった供給水を再使用することを特徴とする洗浄機。 （もっと読む）

【課題】シートガラスの表面の洗浄むらが発生し難く洗浄度を向上することができるシートガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】シートガラスの搬送中に、一方向に並んだ複数の洗浄ブラシを回転させることにより、前記シートガラスの少なくとも一方のガラス面を洗浄する。前記洗浄ブラシのそれぞれは、回転中心軸から放射状に延び、前記シートガラスに対して摺動する複数の羽根ブラシ部を備える。前記複数の洗浄ブラシのそれぞれと隣接する洗浄ブラシとの間の回転中心軸間距離は、前記回転中心軸から前記羽根ブラシ部の先端までの長さと、前記隣接する洗浄ブラシの回転中心軸から羽根ブラシ部の先端までの長さとの合計より短い。前記複数の洗浄ブラシのそれぞれの前記羽根ブラシ部のそれぞれは、前記隣接する洗浄ブラシの羽根ブラシ部と、この羽根ブラシ部に周上で隣り合う羽根ブラシ部との間に位置するように、前記複数の洗浄ブラシは同期して回転する。 （もっと読む）

【課題】 大型のフォトマスク用の遮光膜付き基板の洗浄方法で、付着異物の除去が効果的な洗浄方法を提供する。
【解決手段】 大型のフォトマスク用の遮光膜付き基板の洗浄方法であって、高い圧力をかけてノズルから、純水を微粒径の状態状態で噴射させて、前記遮光膜付き基板の遮光膜にあてる、純水ジェット洗浄処理を施す。 （もっと読む）

【課題】基板表面上に吐出された処理液の滞留を防止し基板全面における処理の均一化を有効に達成できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】スプレーパイプ部２２と、スプレーパイプ部２２の長手方向に一列に互いに近接して形設され処理液をその吐出口２６から基板Ｗの表面１０２へ吐出する複数のノズル部２４から構成される複数のスプレーノズル１４とを備える基板処理装置において、基板Ｗの表面１０２に対する複数のノズル部２４の吐出口２６の対向角度を、水平姿勢で搬送される基板Ｗの表面１０２の基板搬送方向Ｘに関して交差する方向における中央部付近から両端部付近にかけて、鉛直線に対して漸次大きくなるように、複数のノズル部２４を複数のスプレーパイプ部２２に形設することにより、基板Ｗの表面１０２上において吐出後の処理液の積極的な液流れを発生させる。 （もっと読む）

【課題】基板主面の全面に亙るウェット処理の均一化を図り、処理の歩留まりの向上や品質改善を達成することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】スプレーパイプ部２２と、スプレーパイプ部２２の長手方向に一列に互いに近接して形設され薬液をその吐出口２６から基板Ｗの表面１０２へ吐出する複数のノズル部２４から構成される複数のスプレーノズル１４とを備え、基板Ｗの表面１０２に対する複数のノズル部２４の吐出口２６の対向角度を、傾斜させた姿勢で搬送される基板Ｗの表面１０２の傾斜下端方向に向けて、基板Ｗの表面１０２の傾斜上端部付近から傾斜下端部付近にかけて、基板Ｗの表面１０２の法線３００に対して漸次小さくなるように、複数のノズル部２４を複数のスプレーパイプ部２２に形設することにより、基板Ｗの表面１０２上において吐出後の薬液の流速を傾斜上端部付近では相対的に小さく傾斜下端部付近では相対的に大きくする。 （もっと読む）

【課題】洗浄水の水流により微細な異物（埃）を効果的に除去することができる、フィルム洗浄装置を提供する。
【解決手段】１または２枚の供給部材と、前記供給部材に形成され供給部材に平行に走行するフィルムの表裏面の少なくとも一方の面に対して洗浄液を吹付ける洗浄液吐出口を備え、前記洗浄液吐出口を、走行するフィルムの面に対して複数方向の洗浄液の流れを形成するように構成した。前記洗浄液吐出口を、走行するフィルムに対してＶ字状に構成するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】複数の半導体ウエハ等といった複数の被処理物を処理液に浸漬するに際して、これら被処理物の間で処理具合にばらつきが生じないようにする。
【解決手段】処理装置１が、処理液３０が貯留される処理槽２と、処理槽２内に配置され、処理槽２内で回転する回転車４と、被処理物３２をそれぞれ保持し、回転車４に取り付けられ、回転車４の第１の回転軸６を中心にした円周方向に沿って配列された複数の保持具１０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板洗浄工程中に電析の発生を防止しつつ基板の状態を観察することが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】発電層が形成された基板１２を洗浄する洗浄部と、それらの上流側に設けられて、基板１２を基板搬入口から洗浄部に搬入する搬入部と、洗浄された基板１２の発電層を乾燥させる乾燥部と、乾燥部の下流側に設けられて乾燥した基板１２を基板搬出口へ搬出する搬出部と、基板搬入口を除く搬入部、洗浄部、乾燥部、基板搬出口を除く搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段９と、それに設けられる観察窓１０と、観察窓１０から入射する光のうち発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、発電層の発電電圧を波長の少なくとも一部を遮光しない場合の発電電圧の１／１０以下にする光透過手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 水面下に超音波振動子を配置した水槽の水中へ被洗浄物を搬送コンベヤでもって連続的に又は間欠的に水平に搬出入できて効率的な洗浄が行え、しかも通過する開口部からの水槽の洗浄水の排出量を低く抑えて小型化する。
【解決手段】 側壁の左右に開口部２，３を設けた水槽１内に超音波振動子７を上下及び前後に対向するように設け、開口部２，３を介して被洗浄物を収容するネットトレー５ｆが通過するように搬送コンベヤ５を設け、各開口部に上下動するシャッター４と水吹出ノズル８を設け、水槽１の外側に未洗浄の洗浄物を収容したネットトレー５ｆを搬送コンベヤ５に取り付ける投入ステーション１１と、水槽で洗浄したネットトレー５ｆ及び被洗浄物にリンス液を吹付けその後空気を吹付けて乾燥させる仕上げステーション（乾燥室１０）と、洗浄処理完了したネットトレー５ｆを搬送コンベヤ５から取り外す回収ステーション１２とを設ける。 （もっと読む）

【課題】養殖貝の洗浄作業を船上で効率よく安全確実に行う。
【解決手段】洗浄装置１の本体３の正面側で、入口側６から出口側７に亙り養殖紐７０を通過させるスリット溝９を搬送コンベア２０の搬送面とほぼ同一高さで水平方向に形成し、搬送コンベア２０と保持コンベア３０を構成する無端ベルト２１は、同一形状に形成した多数の連結片をそれぞれ互い違いに組み合わせて全体を網目状に形成してなり、保持コンベア３０の無端ベルトに、一定の張りを持たせる固定テンション調整部６０と、洗浄中に保持コンベア３０がたわむのを防止する可動テンション調整部６５をそれぞれ取付けてなる。 （もっと読む）

【課題】階層状に並んだ複数の洗浄ラインに設けられる、ロールブラシ等の回転洗浄ロールの使用本数を低減可能な基板の洗浄装置の提供。
【解決手段】本発明の洗浄装置１は、載せられた基板Ｗを各々が上流側から下流側へ向けて搬送し、互いに間隔を置いて階層状に並んだ複数の搬送路２と、各搬送路２上を通過する基板Ｗをその上面側とその下面側とから挟むように配置する複数の回転洗浄ロール３を備える。前記回転洗浄ロールは、最上階の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する最上階専用回転洗浄ロールと、最下階の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄する最下階専用回転洗浄ロールと、上下方向で隣り合う搬送路の間に配置し、上階側の搬送路上を通過する基板をその下面側から接触して回転洗浄し、かつ下階側の搬送路上を通過する基板をその上面側から接触して回転洗浄する兼用回転洗浄ロールとからなる。 （もっと読む）

【課題】微細バブルの洗浄に有効なより多くの性質を利用しつつ効果的な洗浄を可能にする洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】処理液をかけて被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、マイクロナノバブルやナノバブル等の比較的小さいサイズのバブルを含む第１処理液を前記被洗浄物にかける第１ステップ（Ｓ３）と、該第１ステップの後に、前記第１処理液に含まれるバブルより大きいサイズのマイクロバブル等のバブルを含む第２処理液を前記第１処理液が付着した状態の前記被洗浄物にかける第２ステップ（Ｓ４）とを有し、第１処理液での洗浄の後に、該第１処理液に含まれるバブルより大きいサイズのバブルを含む第２処理液での洗浄がなされるので、比較的小さいバブルの好ましい性質を利用した第１処理液による洗浄の後に、比較的大きいバブルの好ましい性質を利用した第２処理液による洗浄を行うことができるようになる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、食品衛生法上の製造基準と求められる生産ラインのスピードを確保した上で、使用する薬液、オゾン水、温水、無菌水等の処理液の量を抑えた容器の殺菌方法及びそのシステムを提供することにある。
【解決手段】本発明の容器の殺菌、洗浄方法は、容器の殺菌・洗浄方法において、殺菌・洗浄時間で決定される殺菌工程および／または洗浄工程を２つ以上に分割し、分割した殺菌または洗浄工程に供給された処理液を使用後に貯留すると共にポンプアップすることにより、他の分割した同じ殺菌または洗浄工程に直列供給するようにした。 （もっと読む）