冷却潤滑剤と、たとえば２８ＭＰａの比較的小さい圧力とによって作業が行われる、あらかじめ溶射された工作物（１）にあるオーバースプレー（１３）を除去する方法および装置が提案される。
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パルス・ウォータージェットを用いてシリンダ・ボアの表面を前処理するための装置及び方法が、信号発生器を用いて周波数ｆを有する信号を発生させる段階、出口穴直径ｄ及び長さＬを有するノズルの出口穴を介してパルス・ウォータージェットを生成するように信号を印加する段階を含む。このパルス・ウォータージェットは、所定の表面粗さ範囲内に合わせて表面を前処理する。表面粗さは、スタンドオフ距離（ＳＤ）、ノズルのトラバース速度Ｖ_ＴＲ、水圧Ｐ、水流量Ｑ、穴の長さ対直径（Ｌ／ｄ）比率、並びに信号の周波数ｆ及び振幅Ａを含む、作動パラメータを選択することによって決定される。
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【課題】効果的効率的なコンプレッサ洗浄システムを提供する。
【解決手段】コンプレッサ洗浄システムは、一端部はポンプの出口に、他端部は対応するノズルセットに結合された、流体供給ラインのステージを含む。制御弁を、ポンプとノズルセットの間で、流体供給ラインに接続し、ポンプとノズルセットの間において流体を選択的に供給する。ノズルセットの各ノズルを、ステージがコンプレッサの一部を洗浄することができるように、コンプレッサの入口に配置する。ノズルセットを、コンプレッサ入口のベルマウス組立体の周りに又は入口コーンの周りに配置し、それぞれのノズルのノズル噴霧先端部は、コンプレッサの入口空気流路内に延びる。コンプレッサの洗浄の決定と、構成された順次連続するパターンにおいて、流体をステージのうちの１以上に送ることができる。テンプレート及び設置ガイドを利用して、ノズルを配置する。 （もっと読む）

本発明は、表面洗浄ヘッド（１０；９０）であって、ドーム状の下方に開口したハウジング（１２）を備え、このハウジング（１２）内に、少なくとも１つのスプレーアーム（４２，４４）が回転軸（５４）を中心に回転するために搭載されており、スプレーアーム（４２，４４）が、回転軸（５４）から距離をおいてノズル（５０，５２）を担持し、ノズル（５０，５２）が、液流で洗浄されるべき表面に作用するために、加圧を受けた洗浄液の作用を受け、前記スプレーアーム（４２，４４）と共に回転軸（５４）を中心に回転することに適合されており、更に、前記ハウジング（１２）の開口した下面に向けて少なくとも１つのスプレーアーム（４２，４４）を覆い、液流を通過させるためのリング状流体通路（８２）を規定する保護円盤（６４）を備え、流体通路が保持棒（８０）により貫通されており、少なくとも１つのスプレーアーム（４２，４４）が、保護円盤（６４）に対して回転可能である、表面洗浄ヘッドに関する。表面洗浄ヘッドが発生する騒音が少なくなるように表面洗浄ヘッドを更に改良するため、保持棒（８０）が、周方向に不均一に分布するように配置されることが提案される。
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【課題】 高圧蒸気を微小領域に吹き付け、当該微小領域を拡大させることで被洗浄対象物の洗浄を行う洗浄装置を提供する。
【解決手段】 特定部に開口する槽形状の洗浄槽の開口部をエアカーテンにて閉鎖することとし、洗浄槽内に置かれた被洗浄物に対して高圧蒸気を吹き付けるノズルを、該エアカーテンを超えた洗浄槽内に配置することとする。 （もっと読む）

【課題】エアタンクのエアを、洗浄水の圧力を制御する圧力制御弁および車両走行時に操作する操作系のブースタの作動に共用する高圧洗浄車において、バルブの切り換え忘れによる動作不良を防止する。
【解決手段】洗浄水の圧力をエア圧力に応じて制御する圧力制御弁１４と、ブースタ９および圧力制御弁１４に作動用の圧縮エアを供給するためのエアタンク１９と、エアタンク１９のエアを、第２レギュレータ４２を介さずに第１レギュレータ４１に供給するか、第２レギュレータ４２を介して第１レギュレータ４１に供給するか切り換える第１バルブ４４を備えたエア配管６１と、第１バルブ４４とエアタンク１９との間に設けられ、動力取出装置のスイッチに連動して作動して、動力取出装置を作動させる場合には連通状態とし、作動させない場合には閉塞状態とする第２バルブ４５を備える。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルムの表面に付着した数μｍという非常に微細な埃、フィルム片、汚れまでも連続的に除去することができるフィルムの洗浄ノズル装置を提供する。
【解決手段】走行するフィルム１２の表裏面の少なくとも一方の面を洗浄する洗浄ノズル装置５１であって、フィルム１２に対して平行に形成された上流側平面部５３ａ及び下流側平面部５３ｂを有する部材５３と、部材５３の上流側平面部５３ａと下流側平面部５３ｂの間に設けられ、フィルム１２の表裏面の一方の面に流体を吹き付ける流体吐出口５２と、上流側平面部５３ａ及び下流側平面部５３ｂとフィルム１２との隙間Ｄであって流体がフィルム１２の一方の面上に沿って流れるフィルム洗浄部５４と、部材５３に設けられ、フィルム洗浄部５４に超音波を照射する超音波照射手段６０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】フィルムの表面に付着した数μｍという非常に微細な埃、フィルム片、汚れまでも連続的に除去することができ、フィルムの洗浄ノズル装置からフィルムが通り抜けた際に洗浄水がフィルムに付着している量を減少させることができるフィルムの洗浄ノズル装置を提供する。
【解決手段】フィルム１２の表裏面の一方の面に洗浄液を吹き付ける洗浄液吐出口５２と、洗浄液吐出口５２の上流側及び下流側において、洗浄液がフィルムの一方の面上を流れるようにフィルムに対して平行に形成された、上流側平面部５３Ａと下流側平面部５３Ｂと、からなるフィルムの洗浄ノズル装置５１に対して、上流側平面部５３Ａと下流側平面部５３Ｂは、フィルム１２表面と等距離となるように配置し、下流側平面部５３Ｂは上流側平面部５３Ａよりも長く形成する。 （もっと読む）

【課題】
遠隔回転噴霧ノズルを有する噴霧器に関連して、噴霧ノズルの方向の望ましくない変化に対応し、ユーザがさらに所定の複数の角度位置の各々にノズルを選択的に設定しうる機器の必要性が存在する
【解決手段】
流体噴霧器は、第１および第２のコンジット開放端の間にコンジット軸に沿って延びるコンジット側壁を備える剛性流体コンジットを含む。コンジット側壁は、第１および第２の開放端の間で延びる流体通路を形成する。流体排出孔を備える噴霧ノズルは、このノズルがコンジット軸に直角に延びるノズル旋回軸を中心として旋回するとともに、第１のコンジット端に導入される流体が流体排出孔から排出されるように、第２のコンジット端に接続される。ノズルアクチュエータがコンジット軸に垂直な空間的広がりの構成要素を有するアクチュエータ回転軸を中心として双方向に回転するコンジットに取り付けられる。ノズルアクチュエータおよびノズルは、アクチュエータの回転によってノズルがコンジット軸に対して旋回するように機械的に連結される。噴霧角度セレクタが、ノズルアクチュエータと連動して回転し角度選択面を含む。流体コンジットに対して固定された基部を備えるセレクタストップが、角度選択面に協調的に係合して複数のノズル角度位置を規定し、各ノズル角度位置から旋回運動に対抗する抵抗を発生する。 （もっと読む）

【課題】噴射する液滴の粒径を一層均一に微小化することにより、基板上に形成された微細素子へのダメージを防止し、微小異物の洗浄が可能となる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】被洗浄基板８０が載置される基板載置部７０と、微小液滴を生成、加速する気体を供給する気体供給部５０と、微小気泡を発生して微小気泡含有液を生成する微小気泡含有液生成部６０と、微小液滴を噴射する２流体ノズル１とを有する。 （もっと読む）

【課題】 流体量や流体圧の増加を必要とせずに、短時間で効率的に被洗浄物の全面を洗浄可能なスピンナ洗浄装置を提供することである。
【解決手段】 被洗浄物を保持する保持面を有し回転可能なスピンナテーブルと、該スピンナテーブルに保持された被洗浄物に洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段とを備えたスピンナ洗浄装置であって、前記洗浄流体供給手段は、洗浄流体供給源に接続されたアームと、前記アームの先端に配設されて洗浄流体を前記保持面に向かって噴射する洗浄流体噴射ノズルと、前記スピンナテーブルに保持されて所定速度で回転される被洗浄物に対して、該アームの先端が該スピンナテーブルの回転中心を通るように該アームを揺動させる揺動手段とを含み、該洗浄流体噴射ノズルは、該アームの先端にロータリージョイントを介して配設され、該保持面と平行な面において該ロータリージョイントを中心に回転可能であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】噴射された液体が充分に正確な幕状となるようにするノズル装置を提供すること。
【解決手段】液体Ｗが供給される供給パイプ１の下部の長さ方向に液体Ｗが幕状に噴射されるスリット形のノズル口５が設けられている。供給パイプ１とノズル口５との間に、スリット形の補助ノズル口３が設けられている。ノズル口５と補助ノズル口３との間に、補助ノズル口３から噴射された液体Ｗを集合させる液体集合部４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板のフォトリソグラフィー処理前に、基板の周縁部に付着した付着物を適切に除去する。
【解決手段】洗浄装置１は、ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック２０を有している。洗浄装置１には、内部に常温より高い温度の純水を貯留する浸漬容器３０が設けられている。浸漬容器３０のウェハＷ側の側面には、ウェハＷの周縁部Ｂを挿入するための側面開口部３３が形成されている。浸漬容器３０は、高温の純水でウェハＷの周縁部Ｂを浸すことができる。洗浄装置１には、ウェハＷの周縁部Ｂに常温より高い温度の洗浄液を所定の圧力で吹き付ける第１の洗浄液ノズル５０と第２の洗浄液ノズル５１が設けられている。これらノズル５０、５１から供給される洗浄液は、洗浄液供給部７０で純水と不活性ガスが混合された洗浄液である。 （もっと読む）

【課題】洗浄液の流水及び振動により洗浄部位を良好に洗浄することができると共に内部空間内の洗浄液を速やかに貯液タンクに戻して洗浄液の漏れを抑制することができる。
【解決手段】開口部Ｋが閉口して循環用ポンプ６の吸引圧により内部空間Ｒが負圧状態になったとき貯液タンク３内の洗浄液Ｗを給液管４を経て内部空間に供給すると共に内部空間内の洗浄液を排液管５を経て貯液タンク内に戻し、開口部が開口して内部空間の圧力が常圧に近い負圧又は常圧状態になったとき給液管から内部空間への洗浄液の供給を停止すると共に内部空間内の洗浄液を排液管を経て貯液タンク内に戻す液給排機構７を設けてなる。 （もっと読む）

【課題】薬液処理後の基板を水洗処理する場合に、純水の使用量を節減し、排液量を少なくし、処理時間を短縮することができる装置を提供する。
【解決手段】基板搬送方向における長さが基板Ｗの寸法より短くされた置換水洗室１０、置換水洗室内において基板を一方向へ連続して搬送する搬送ローラ、置換水洗室内の入口付近に配設された入口ノズル１６、入口ノズルより基板搬送方向における前方側に配設された高圧ノズル１８、および、置換水洗室内の出口側に配設されたエアーノズル２２を備えて置換水洗部２を構成した。置換水洗室１０内へ基板Ｗが搬入される前に入口ノズル１６および高圧ノズル１８からの洗浄水の吐出を開始し、置換水洗室内から基板が搬出された後に入口ノズルおよび高圧ノズルからの洗浄水の吐出を停止するように制御する。 （もっと読む）

本発明は、液体冷却式電気モータ（３８）と、ポンプ（４４）とを含むモータポンプユニット（１２）を包囲するハウジング（１４、１６）を備えた高圧洗浄装置（１０）であって、ポンプ（４４）が吸引口（４６）及び圧力出口（５０）を有し、電気モータ（３８）を冷却する目的で電気モータ（３８）に液体が供給可能であり、液体はポンプ（４４）により引き続き圧力を受ける、高圧洗浄装置に関する。高圧洗浄装置（１０）を、発生させる騒音が少なくなるやり方で更に展開するために、本発明によれば、電気モータ（３８）がファンレス非同期モータとして構成され、モータポンプユニット（１２）が振動減衰バッファ要素（８４、８６、１１０、１１２、１１４、１１６）を介して装着されることが提案される。
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【課題】プラスチックフィルムの表面に付着した数μｍという非常に微細な埃、フィルム片、汚れまでも連続的に除去することができるフィルムの洗浄装置を提供する。
【解決手段】１又は２枚の平部材５３と、この平部材５３に形成され、平部材５３に平行に走行するフィルム１２の表裏面の少なくとも一方の面側に対して洗浄液を吹き付ける洗浄液吐出口５２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された不要な薄膜その他の不要物を基板に損傷を与えることなく、効率的に除去することのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板５０を保持する基板保持部３０と、研磨剤とミストを混合した混合ミストを噴出する噴射部１５と、噴射部１５と前記基板５０とを相対的に移動させる位置制御部２３とを備えており、基板５０の処理対象部に研磨剤を含む混合ミストを噴射（ミスト液を霧状にして研磨剤と一緒に噴射）して、基板５０に形成された不要な薄膜その他の不要物を除去する。 （もっと読む）

電極は経路に沿って端部を縦にして搬送される。電極は、底部外周端で支持されて、概ね垂直に保持される。複数の洗浄ノズルが経路に隣接してその対向する両側に配置される。ノズルからの洗浄スプレイは電極の両側面に当てられる。ノズルは、直線状に配置されてノズルアレイを形成し、電極の底部より先に上部に洗浄スプレイが当たるように角度が付けられる。リンスまたは前洗浄用の分離した部分を洗浄チャンバ内に備えてもよい。使用済みの水を回収して再利用してもよい。
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【課題】基板を品質よく処理することができる基板処理装置、ガス溶解液供給方法、および、基板処理方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル２１と、二酸化炭素が溶解された炭酸ガス溶解水を二流体ノズルに供給する溶解液供給管２２と、炭酸ガス溶解水の溶存ガスと同じ二酸化炭素をキャリアガスとして二流体ノズル２１に供給するキャリアガス供給管２３と、を備えている。二流体ノズル２１は、炭酸ガス溶解水の液滴をキャリアガス（二酸化炭素）とともに基板Ｗに噴射する。噴射された炭酸ガス溶解水は溶解濃度が比較的に高い状態で基板Ｗに着液する。よって、基板を品質よく処理することができる。 （もっと読む）