エレクトロルミネセント・ランプ薄膜スイッチは変形自在な基板を含む。基板にはグラフィック・インディシアが刷り込まれている。グラフィック・インディシア層にエレクトロルミネセント・ランプが刷り込まれ、ランプ上に薄膜スイッチが形成されている。
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【課題】信頼性の高い表示装置を低いコストで歩留まり良く製造することができる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】水素、又はＨ_２Ｏを含むガスを用いたスパッタリング法により第１の電極層を形成し、第１の電極層上に電界発光層を形成し、電界発光層上に第２の電極層を形成し表示装置を作製する。また酸化珪素及び酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物からなる第１の電極層と、第１の電極層上に電界発光層と、前記電界発光層上に第２の電極層とを有し、電界発光層は、第１の電極層に接して有機化合物と無機化合物とを含む層を有するように表示装置を作製する。 （もっと読む）

マルチセグメントＥＬディスプレイ（１）と共に使用するコントローラを提供する。制御信号Ｃ１〜ＣＮは、複数のハーフＨ−ブリッジＨおよびＨｃを制御し、ハーフＨ−ブリッジの端子ははそれぞれグランドおよび高電圧ＤＣ電源（９）に接続される。前記ハーフＨ−ブリッジの１つは、コモン出力Ｖコモンを提供し、残りのＨ−ブリッジがディスプレイの各セグメントに対して駆動電圧Ｖ１〜ＶＮを提供する。Ｈブリッジは、発振器（１４）により駆動され、ディスプレイの各セグメントには交流電圧が選択的に印加される。電源（２４）は、ディスプレイの単位面積当たりに対し所定量の電力を提供する。この動作は、セグメントデータ入力部、セグメントカウンタおよびディスプレイの各セグメントに対応する面積データを含むメモリを有する面積積算エンジン（２２）によって制御される。セグメントデータ入力部からの入力に基づいて、メモリから点灯すべきセグメントの面積を得て積算し、点灯すべき総面積を提供する。これが電源（２４）に供給されると、電源（２４）がハーフＨ−ブリッジを介してディスプレイ（１）に適切な量の電力を供給する。 （もっと読む）

【課題】隣接する画素の間に設ける絶縁膜は、バンク、隔壁、障壁、土手などとも呼ばれ、薄膜トランジスタのソース配線や、薄膜トランジスタのドレイン配線や、電源供給線の上方に設けられる。特に、異なる層に設けられたこれらの配線の交差部は、他の箇所に比べて大きな段差が形成される。隣接する画素の間に設ける絶縁膜を塗布法で形成した場合においても、この段差の影響を受けて、部分的に薄くなる箇所が形成され、その箇所の耐圧が低下されるという問題がある。
【解決手段】段差が大きい凸部近傍、特に配線交差部周辺にダミー部材を配置し、その上に形成される絶縁膜の凹凸形状を緩和する。また、上方配線の端部と下方配線の端部とが一致しないように、上方配線と下方配線の位置をずらして配置する。 （もっと読む）

【課題】発光素子の経時劣化に対し、新たな方法により解決することを課題とする。
【解決手段】モニター画素の電極の電位をサンプリングし、発光画素にフィードバックすることにより、発光素子の経時劣化を補正し、且つ書き込み動作期間を複数の期間に分け、書き込み動作期間に複数行選択し、その重み付けされた発光期間により表示階調を表現することができる。すなわち、複数のモニター用発光素子と、複数のモニター用発光素子が有する電極の電位の変化をモニターするモニター線と、複数のモニター用発光素子のいずれかがショートすると、モニター線を介してショートしたモニター用発光素子へ供給される電流を電気的に遮断する手段とを有する発光装置である。 （もっと読む）

【課題】表示素子用の光吸収層での使用に適した組成物および表示素子での使用に適した光吸収層の新しい構成を提供する。
【解決手段】マトリックス材料中に金属ナノ粒子を含んだ光吸収層を備えた表示素子。適したマトリックス材料には有機材料、無機材料、ポリマー材料、およびそれらを組み合わせたものが挙げられる。金属ナノ粒子は種々の規則的または不規則な形状および／または２次元または３次元の構造を有し得る。金属ナノ粒子は約２〜約２０ｎｍの粒径を有し得る。いくつかの実施形態では、ナノ粒子の粒径分布は±７５％以下である。光吸収層は２層以上の個々の光吸収層を含む多層構成を有し得る。光吸収層は表示素子中の周囲光の反射を低減させる。 （もっと読む）

好適には、２００ｎｍ乃至４９０ｎｍの波長範囲を有する一次放射線を出射するために少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス光源（２）と、前記一次放射線の部分吸収及び二次放射線の出射のために前記一次放射線の光線の経路内に備えられている少なくとも１つの光変換要素（３）とを有するエレクトロルミネッセンス装置であり、光変換要素（３）は一次放射線の放射線方向（５）における拡張を有し、該拡張は、光変換要素（３）に一次放射線の平均散乱長より小さい、エレクトロルミネッセンス装置。 （もっと読む）

本発明は、第１の物質からなる犠牲層が部分又は全面に形成された基板を提供する第１の段階と、直接犠牲層を線加工する第１の手段を用いて、前記犠牲層に、第１の物質が存在しないと共に、線幅が最高第１の解像度を持つパターン溝を形成する第２の段階と、第２の手段を用いて、第２の解像度で第２の物質を前記パターン溝に充填する第３の段階とを含む、基板上に第２の物質によりパターンを形成する方法及び前記方法によりプレパターンが形成された基板を提供する。
本発明によるパターン形成方法は、パターン形成用第２の物質を浪費することなく、或いは最小化して、高解像度のパターンが得られるため、生産費用を節減でき、インクジェット方式のように低解像度を持つ第２の手段と、レーザーなどの集束可能なエネルギービームのように高解像度を持つ第１の手段とを組合わせることで、高解像度のパターンを高い工程効率で生産できる。
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少なくとも１つのエレクトロルミネセント光源２と、エレクトロルミネセント光源２を駆動する少なくとも１つの電子部材３であって、前記エレクトロルミネセント装置２から離間されるべきであるような仕方で配されている電子部材３とを有するエレクトロルミネセント装置７であって、エレクトロルミネセント光源２と電子部材３との間の電気的接続が、導電性領域８２及び少なくとも１つの電気的絶縁表面８１を有する可撓性薄膜８によって成されているエレクトロルミネセント装置７である。
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【課題】青色ないし黄橙色の発光を示し、かつ典型的なＵＶ ＬＥＤと青色ＬＥＤの発光領域で特に励起可能な蛍光物質を提供する。
【解決手段】組成ＡＥ２ＳｉＯ４：Ｄの大体における組成を有する種類のオルトケイ酸塩からの青色ないし黄橙色の発光を示す蛍光物質であって、該蛍光物質が成分としてＡＥ＝Ｓｒ，Ｂａ，Ｃａ又はＭｇを単独又はその組合せで有し、賦活化ドーピングＤがＥｕからなり、そこに含まれる少ない割合ｘのＡＥＯがＲＥＮ（その際、ＲＥ＝希土類）によって置き換えられており、こうして化学量論比ＡＥ_{２−ｘ−ａ}ＲＥ_ｘＥｕ_ａＳｉＯ_４−ｘＮ_ｘを達成している蛍光物質により解決される。 （もっと読む）

【課題】透過光の輝度を損なうことなく、高い情報秘匿性を得ることができ、かつ情報秘匿性の要否に応じた動的な視角の変更が可能な視角制御素子を提供する。
【解決手段】本発明の視角制御素子は、略１８０°にツイスト配向した液晶を含み、電気的に制御可能に構成された液晶層１２と、該液晶層１２を挟んで上下に設けられた一対の偏光層１１，１３とを備え、前記両偏光層１１，１３の光軸１１ｐ、１３ｐが互いに略平行に配置されており、前記偏光層１１，１３と隣接する前記液晶層１２の液晶分子が、当該偏光層の光軸１１ｐ，１３ｐと略平行に配向されている。 （もっと読む）

一般式（Ａ）および／または一般式（Ｂ）で示される有機シリコーン化合物を含んで成る表面改質剤：
F-(CF₂)_q-(OC₃F₆)_m-(OC₂F₄)_n-(OCF₂)_o(CH₂)_pXX”Si(X')_3-a(R¹)_a (A) およびF-(CF₂)_q-(OC₃F₆)_m-(OC₂F₄)_n-(OCF₂)_o(CH₂)_pXX”(X')_2-a(R¹)_aSiO(F-(CF₂)_q-(OC₃F₆)_m-(OC₂F₄)_n-(OCF₂)_o(CH₂)_pXX”(X')_1-a(R¹)_aSiO)_zF-(CF₂)_q-(OC₃F₆)_m-(OC₂F₄)_n-(OCF₂)_o(CH₂)_pXX”(X')_2-a(R¹)_aSi (B)［式中、ｑは、１〜３の整数であり；ｍ、ｎ、およびｏは、それぞれ、０〜２００の整数であり；ｐは、０、１または２であり；Ｘは、酸素または二価の有機基であり；Ｘ”は、二価の有機シリコーンスペーサー基であり；Ｘ’は、加水分解性基であり；ならびにａが０または１である場合に、ｚは、０〜１０の整数である。］。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有し、曲げ等の物理的変化に対して耐性を有する半導体装置および当該半導体装置の作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】可撓性を有する基板上に設けられた、半導体膜、半導体膜上にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極およびゲート電極を覆って設けられた層間絶縁膜とを有する複数のトランジスタと、複数のトランジスタの間に設けられた屈折部分とを有し、屈折部分は、層間絶縁膜に設けられた開口部に層間絶縁膜より弾性率が低い物質が充填されて設けられている。また、本発明では、開口部に充填する物質として他にも、層間絶縁膜よりガラス転移点が低い物質や塑性を有する物質を設けることができる。 （もっと読む）

【課題】マトリクス材料を形成し得る含浸用液状物を、繊維集合体に含浸させ、次いで該含浸用液状物を硬化させることにより繊維強化複合材料を製造するに当たり、繊維強化複合材料の繊維含有率を十分に少なく、また、所望の任意の繊維含有率に調整する。
【解決手段】含水繊維集合体に含まれる水を、水と含浸用液状物との双方に相溶性を有する液体と置換して繊維強化複合材料製造用前駆体を得る。この繊維強化複合材料製造用前駆体に含まれる液体を含浸用液状物と置換した後、含浸用液状物を硬化させる。 （もっと読む）

【課題】電気的特性が良好で、かつ高信頼性のＴＦＴを作製する。
【解決手段】基板上に、ＳｉＨ_４とＮ_２Ｏを用いて絶縁膜を形成し、絶縁膜上に半導体膜を形成し、半導体膜上に、ＳｉＨ_４とＮ_２Ｏを用いてゲート絶縁膜を形成し、ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成することにより、電気的特性が良好で、かつ高信頼性のＴＦＴを作製することを可能にする。また、このようなＴＦＴを用いた半導体装置の信頼性を向上させることができる。 （もっと読む）

本発明は、互いに向かい合っている第１及び第２の壁体（２、３）であって、且つ光源（６、７）を有する内側空間（１０）を画定している第１及び第２の壁体（２、３）；光源のための第１及び第２の電極（４）であって、この第１及び第２の電極に対して垂直な少なくとも１つの成分を有する電界線を形成し、且つ前記第１の電極（４）が、高周波電磁信号を供給され又は供給されることができる、第１及び第２の電極（４、５）を有する、フラットな又は実質的にフラットな発光構造体に関する。ここで本発明は、第１の電極のための外側の覆いとして、誘電体（１４）によって第１の電極から分離されている導電体（４１）を有する電気的安全システムを有し、この導電体が、電位Ｖ及び／又は周波数ｆの電源に接続されており又は接続することができ、これらが、外部漏れ電流のピーク値が、ｆがゼロの場合には２ｍＡ又はそれ未満、ｆがゼロではない場合には０．７ｍＡ又はそれ未満であるようにして調節されていることを特徴とする。 （もっと読む）

光源は第１の導波路を有する。第１の導波路は第１の屈折率を有する発光材料及び発光材料を覆って配された少なくとも１つの層を有する。この少なくとも１つの層は第２の屈折率を有し、第１の屈折率は第２の屈折率より高い。光源は、第１の導波路に結合された、第２の導波路も有する。発光デバイスは光取出し構造も有する。
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発光デバイスは、半導体ナノクリスタル及び無機物質を含む電荷輸送層を含む。該電荷輸送層は、正孔又は電子輸送層とすることができる。該無機物質は、無機半導体とすることができる。 （もっと読む）

エレクトロルミネセンスデバイスおよび１つ以上の光学スペーサーを含むエレクトロルミネセンスデバイスの製造方法が開示される。一実施形態において、この方法は基材上にエレクトロルミネセンス素子を形成する工程を含む。この方法は、光学スペーサーを選択的に熱転写する工程をさらに含む。
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本発明の様々な実施形態は、第１基板層を含めて複数の層を備えるアドレス指定可能放出ディスプレイを提供し、各連続する層は、先行する層の上にわたって層を印刷またはコーティングすることによって形成される。例示的な基板には、紙、プラスチック、ゴム、布、ガラス、セラミック、あるいはあらゆる絶縁体または半導体が含まれる。例示的な実施形態では、ディスプレイは、基板に添付され、かつ第１の複数の導体を形成する第１導電層；様々な誘電体層；放出層；第２の複数の導体を形成する第２透過性導電層；第２の複数の導体に含まれ、かつ相対的により低いインピーダンスを有する第３導電層；ならびに随意選択の色層およびマスキング層を含む。画素は、第１の複数の導体と第２の複数の導体との間の対応するディスプレイ領域によって画定される。様々な実施形態がアドレス指定可能であり、１〜３ｍｍの厚さを有するほぼ平坦なフォーム・ファクタを有し、また、モバイル電話ディスプレイのサイズから広告板のサイズまで事実上限定なくスケーラブルである。
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