【課題】隣接する配線間の寄生容量を低減することの可能な表示パネル、表示装置および電子機器を提供する。
【解決手段】表示パネルは、行方向に延在する複数の第１配線と、列方向に延在する複数の第２配線と、各第１配線と各第２配線との交差点に対応して１つずつ配置された複数の画素とを備えている。複数の第１配線のうち２つの配線、または複数の第２配線のうち２つの配線は、ともに、互いに隣接する２つの画素に挟まれた共通の領域に配置されている。さらに、これら２つの配線の厚さ方向のレイアウトが、少なくとも一部において互いに異なっている。 （もっと読む）

【課題】高精細な複数種の薄膜パターンの形成を効率よく行い得るようにする。
【解決手段】フィルム２に有機ＥＬ層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂと同形状の開口パターン４を設けたマスク１をフィルム２がＴＦＴ基板１９側となるようにして該ＴＦＴ基板１９上に位置決めし載置し、ＴＦＴ基板１９のＲ対応アノード電極２１Ｒ上にマスク１の開口パターン４を介して成膜し、Ｒ有機ＥＬ層１７Ｒを形成した後、マスク１を複数種の有機ＥＬ層１７Ｒ〜１７Ｂの配列ピッチと同寸法だけアノード電極２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂの並び方向に移動し、ＴＦＴ基板１９のＧ対応アノード電極２１Ｇ上にマスク１の開口パターン４を介して成膜し、Ｇ有機ＥＬ層１７Ｇを形成する。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとの隙間を高精度に制御することのできる有機ＥＬデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】真空処理室内に設けられたシャドウマスクと、基板を載置する基板ホルダーと、基板とシャドウマスクとの間を、接近させ又は離間させる基板密着手段と、基板ホルダーの四隅に設けられた距離計測機構とを備え、距離計測機構は、基板ホルダーを貫通するように設けられた距離計測用空間と、基板ホルダーの表面上に設けられた透明ガラス板と、距離計測用空間に配置された距離計測部とを備え、距離計測部は、光を発射し反射光を受光して距離を計測する距離計と、距離計を真空処理室内の雰囲気から隔離する距離計筐体と、距離計筐体の一部に設けられた透明ガラス窓とを備え、距離計が、透明ガラス窓を介して透明ガラス板とシャドウマスクとの間の距離を計測するよう、有機ＥＬデバイス製造装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板２上に一定形状の薄膜パターン４を成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、箔状の磁性部材５に薄膜パターン形成領域９に対応して該薄膜パターン４と同形状の貫通する開口パターン６を形成し、磁性部材５が磁力により第１の磁気チャック３の平坦な吸着面３ａに吸着されて保持されたマスク１の開口パターン６を、第２の磁気チャック８上に載置された基板２の薄膜パターン形成領域９に位置合わせするステップと、第２の磁気チャック８の磁力により磁性部材５を吸着してマスク１を第１の磁気チャック３から基板２上に移すステップと、マスク１の開口パターン６を介して基板２上の薄膜パターン形成領域９に成膜し、薄膜パターン４を形成するステップと、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】 画素回路にデータ電圧を書き込んだ後、トランジスタのオフリーク電流により書き込まれた電圧が変化してしまう。
【解決手段】 画素回路が、信号入力端の電圧に応じた電流を生成する電流生成回路と、ゲートが走査線に接続され、第１電流端子がデータ線に接続されたトランジスタと、トランジスタの第２電流端子と前記信号入力端の間に接続された第１の容量と、トランジスタの第２電流端子と固定電位の間に接続された第２の容量とを含み、第１と第２の容量のトランジスタの第２電流端子に接続された端子に、データ電圧と基準電圧をこの順に書き込んで信号入力端にデータ電圧を伝達し、次のデータ電圧を書き込むまでの間に、前記端子に再度基準電圧を書き込んで信号入力端のデータ電圧をリフレッシュする表示装置。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板９上に一定形状の薄膜パターンを成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、可視光を透過し一面に磁性体膜１を被着したフィルム２に薄膜パターン形成領域１１に対応して薄膜パターン１２と同形状の貫通する開口パターン３を形成し、磁性体膜１側を第１の磁気チャック６の平坦面に吸着して保持されたマスク４の開口パターン３を、第２の磁気チャック１０上に載置された基板９の薄膜パターン形成領域１１に位置合わせするステップと、第２の磁気チャックにより磁性体膜１を吸着してマスク４を第１の磁気チャック６から基板９上に移すステップと、マスク４の開口パターン３を介して基板９上の薄膜パターン形成領域１１に成膜し、薄膜パターン１２を形成するステップと、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】高精度のデータ信号を必要せず、電気光学素子の輝度を精度良く制御する。
【解決手段】複数の走査線１２と複数のデータ線１４との交差に対応して設けられた画素回路１１０と、一端がデータ線１４に接続された保持容量４４と、データ線１４の各々の電位をそれぞれ保持する保持容量５０と、データ線１４と初期電位を給電する給電線６１との間でオンまたはオフするトランジスター４５と、保持容量４４の他端と所定電位を給電する給電線６２との間でオンまたはオフするトランジスター４６と、を有し、トランジスター４５、４６は、互いに導電型が異なり、画素回路１１０は、走査線１２に供給される走査信号に応じてデータ線１４の電位を保持するための回路と、当該保持電位に応じた輝度となる電気光学素子とを含む。トランジスター４５、４６がオンからオフに転じた後に、保持容量４４の他端に階調に応じた電位のデータ信号が供給される。 （もっと読む）

【課題】画面が高精細になり、また画面が大画面化した場合でも、各画素の充電期間を充分に確保できるとともに、開口率の低下を抑えることが可能な電気光学装置を提供する。
【解決手段】複数のデータ線と、複数の走査線と、データ線と走査線とが交わる領域に設けられ、発光素子を含む複数の画素領域と、を備え、発光素子を発光させるための画素回路を１つだけ備える画素領域が１行おきに設けられ、１つの画素回路を備える画素領域の間の行に、発光素子を発光させるための画素回路を２つ備える画素領域が１行おきに設けられ、２つの画素回路を備える画素領域は、一方の画素回路で発光素子を発光させている期間に他方の画素回路で該発光素子を発光させるための書き込み処理を実行することを特徴とする、電気光学装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】ＯＬＥＤ１３０における特性がばらつきに起因する表示ムラを抑える。
【解決手段】画素回路１１０は、ゲート・ソース間の電圧に応じた電流を供給するトランジスター１２１と、トランジスター１２１のゲート・ソース間の電圧を保持する保持容量１４３と、供給された電流に応じた輝度で発光するＯＬＥＤ１３０と、トランジスター１２１とＯＬＥＤ１３０との間に電気的に介挿されたトランジスター１２６と、走査線１２に供給された走査信号に応じて、データ線１４に供給されたデータ信号に応じた電位をトランジスター１２１のゲートノードｇに供給するトランジスター１２２とを含む。ＯＬＥＤ１３０を発光させるとき、トランジスター１２６のゲートを、走査信号の論理レベルにおけるＨレベルとＬレベルとの中間電位とする。 （もっと読む）

【課題】細かい精度のデータ信号を必要としない一方で、発光素子に供給する電流を精度良く制御する。
【解決手段】各列のデータ線１４に対応して保持容量４４、５０が設けられる。画素回路１１０は、ゲート・ソース間の電圧に応じた電流を供給するトランジスター１２１と、トランジスター１２１により供給された電流に応じてＯＬＥＤ１３０と、データ線１４とゲートノードｇとの間でオンまたはオフするトランジスター１２２と、トランジスター１２１をダイオード接続するトランジスター１２３と、を含む。初期化期間において、データ線１４に初期電位Ｖiniを供給し、補償期間において、トランジスター１２３をオンさせてゲートノードｇを（Ｖel−｜Ｖth｜）とし、書込期間において、トランスミッションゲート３４をオンさせて、階調レベルに応じた電位のデータ信号を保持容量４４のノードｈに他端に供給する。 （もっと読む）

【課題】塗布法による薄膜の形成に適し、有機エレクトロニクス用材料として好適な架橋型重合体を提供する。
【解決手段】下記式（Ａ）で表わされる重合体。但し、Ｐは下記式（Ｐ）で表わされる化合物に由来する基であり、Ｙ_１及びＹ_２は、それぞれ独立に、架橋性基である。
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【課題】背景からの透過像がボケない透明ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】行列状に配置された第１金属配線１１１および第２金属配線１１２と、表示像を表示するための表示素子１２０と、隣り合う第１金属配線１１１および第２金属配線１１２の間の領域に対応する複数の光透過部１３０とを有するディスプレイパネル１０１と、ディスプレイパネル１０１の表側および裏側のいずれか一方に設けられた第１光学素子１４１と、ディスプレイパネル１０１の表側および裏側のいずれか他方に設けられた第２光学素子１４２と、を備え、第１光学素子１４１および第２光学素子１４２は、ディスプレイパネル１０１の表側および裏側のいずれか一方から入射した平行光が、光透過部１３０において焦点を結び、ディスプレイパネル１０１の表側および裏側のいずれか他方からから平行光として出射するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の製造コストを低減することを課題の一とする。半導体装置の開口率
を向上することを課題の一とする。半導体装置の表示部を高精細化することを課題の一と
する。高速駆動が可能な半導体装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】同一基板上に駆動回路部と表示部とを有し、当該駆動回路部は、ソース電極
及びドレイン電極が金属によって構成され、且つチャネル層が酸化物半導体によって構成
された駆動回路用ＴＦＴと、金属によって構成された駆動回路用配線とを有すればよい。
また、当該表示部はソース電極及びドレイン電極が酸化物導電体によって構成され、且つ
半導体層が酸化物半導体によって構成された画素用ＴＦＴと、酸化物導電体によって構成
された表示部用配線とを有すればよい。 （もっと読む）

【課題】高効率、長寿命かつ高精細の有機ＥＬ表示装置を低コストで製造できる有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも低分子有機ＥＬ材料を含む有機化合物層１２、１３ａ、１９、１４を形成する工程と、有機化合物層の上に中間層２１、２２を形成する工程と、中間層上にレジスト層２３を形成する工程と、レジスト層２３にパターン状の遮光部を有するフォトマスクを介して紫外光を照射し、紫外光が照射された領域のレジスト層を部分的に除去する工程と、レジスト層が除去された領域の有機化合物層を除去する工程と、を有しており、レジスト層２３はポジ型レジストで構成される層であり、中間層は、有機化合物層を溶解しない溶媒に対して選択的に溶解可能な、鎖状構造を有する高分子有機材料からなる層２１を含む。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成及び不純物により薄膜パターンがダメージを受けるのを抑制可能にする。
【解決手段】基板面に接触して設置され、該基板上に一定形状の複数種の薄膜パターンを形成するためのマスク１であって、可視光を透過する樹脂製のフィルム２と、前記基板上に予め定められた前記複数種の薄膜パターンの形成領域のうち、一の薄膜パターンの形成領域に対応して該一の薄膜パターンよりも形状の大きい貫通する開口部５を形成した板体で構成され、前記フィルム２を保持する保持部材３と、備え、前記フィルム２は、前記基板上の前記一の薄膜パターンの形成領域に対応して前記保持部材３の前記開口部５内に前記一の薄膜パターンと同形状の開口パターン４を備え、他の薄膜パターンの形成領域に対応して前記基板との接触面側に前記他の薄膜パターンと同形状の凹部６を備えている。 （もっと読む）

【課題】表示不良が抑制され、かつ高精細の有機ＥＬ装置の作製を可能にするための有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上に有機物化合物層を形成する工程と、前記有機化合物層の上に中間層とレジスト層とを順次形成する工程と、フォトリソグラフィ法を用いて前記レジスト層の一部を除去する工程と、前記レジスト層が除去された領域の前記中間層及び前記有機化合物層をドライエッチングにて選択的に除去する工程と、を有しており、前記中間層が、少なくとも遮光層を含み、前記遮光層が、波長１９０ｎｍ以上３６０ｎｍ以下の光を遮光することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】発光層から出力された光の一部が画素間に設けられる壁部材に入射することによって生じる取出し光の損失を低減し、かつ明るさの視野角依存性が改善された表示装置を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板１０上にマトリクス状に設けられる複数の画素２０と、から構成され、画素２０が、発光色が異なる複数種類の副画素（２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ）からなり、前記副画素が、第一電極２３と、発光層２５を含む有機化合物層と、第二電極２７と、を有し、基板１０上、かつ所定の副画素間に壁部材２１が設けられ、画素２０が設けられている領域（表示領域）が、壁部材２１によって副画素ごと又は１個あるいは複数個の画素ごとに区画される表示装置において、可視光領域における壁部材２１の透光性が、第二電極２７と同程度あるいは第二電極２７よりも高いことを特徴とする、表示装置１。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタを具備する画素において、開口率の向上
を図ることのできる発光表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】薄膜トランジスタ、及び発光素子を有する複数の画素を有し、画素は、走査
線として機能する第１の配線に電気的に接続されており、薄膜トランジスタは、第１の配
線上にゲート絶縁膜を介して設けられた酸化物半導体層を有し、酸化物半導体層は、第１
の配線が設けられた領域をはみ出て設けられており、発光素子と、酸化物半導体層とが重
畳して設けられる。 （もっと読む）

【課題】電界発光素子を構成する各層間あるいは電界発光素子と封止層との間における層間剥離を抑制することを可能にする電界発光表示装置を提供する。
【解決手段】基板１１と、基板１１上に設けられる複数の画素１０と、から構成され、画素１０が、第一電極１２と、発光層を含む有機化合物層１３と、第二電極１４と、無機層１５と、からなり、第一電極１２が、各画素１０において個別に形成されている電界発光表示装置１において、基板上１１であって、かつ隣接する二つの第一電極１２間に挟まれた平面領域において、凸状構造物２０が設けられていることを特徴とする、電界発光表示装置１。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】平板に薄膜パターンよりも形状寸法の大きい開口部を形成した保持部材を基板上に予め定められた薄膜パターン形成領域が開口部内に位置するように位置合わせした状態で、該保持部材と基板との間に可視光を透過する樹脂製のフィルムを挟持し、基板上の薄膜パターン形成領域に対応したフィルム部分にレーザ光を照射し、当該部分のフィルムに薄膜パターンと形状寸法の同じ開口パターンを設けてマスクを形成し、基板上の薄膜パターン形成領域にマスクの開口パターンを介して成膜した後、マスクを剥離して基板上に一定形状の薄膜パターンを形成する。 （もっと読む）