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Fターム[4F100AB11]の内容

積層体 (596,679) | 金属材料 (25,749) | 金属 (21,577) | Si (499)

Fターム[4F100AB11]に分類される特許

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本発明によれば、交互ライン状パターン表面上に、機能性化合物の層を有する異方性材料であって、交互ライン状パターン表面において、一方のラインが含フッ素化合物からなり、他方のラインが非フッ素化合物からなる異方性材料が得られる。特定の構造を有するフッ素化合物を表面処理剤として用いて作製したパターン表面をテンプレートとして用いると、機能性化合物溶液を塗布するプロセスにより、nm〜μmスケールオーダーの機能性化合物の構造体が作製できる。少なくとも一つの領域が特定の構造を有するフッ素化合物で表面処理されたパターン表面をテンプレートとして用いることにより、機能性化合物の特性を向上させることができる。
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【課題】 本発明の目的は1.2m以上の塗布幅でハードコート層を設けても、優れた帯電防止機能、膜物性、平面性を有し、干渉ムラやヘイズ上昇のないクリアハードコートフィルム及びその製造方法、並びにそれを用いた反射防止性に優れた反射防止フィルムを提供することにある。
【解決手段】 透明プラスチック基材上に塗布幅1.2m以上で少なくとも2層以上のクリアハードコート層を設け、その少なくともいずれかの層に活性エネルギー線硬化樹脂を含むクリアハードコートフィルムの製造方法であって、少なくとも基材側の層の塗布液と表面側の層の塗布液とを2層以上同時重層塗布し、次いで乾燥・硬化させることを特徴とするクリアハードコートフィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】実行するのがより簡単であるにも関わらず、粗さが低く、且つ、従来技術の材料の圧電定数よりも高い圧電定数を有する圧電性材料を得る方法を提供する。
【解決手段】1つまたはそれ以上の圧電性の酸化セラミックに基づいて材料を作成する工程であり、以下の連続するステップを構成する。
a)酸化物セラミックの前駆体として、酸化セラミックの粉末とゾルゲル溶液、つまり、圧電性である酸化物セラミック及び/もしくは圧電性の酸化セラミックの前駆体であるゾルゲル溶液を含む分散の層を基板へ液体による方法で蒸着する。
b)ステップa)を1回またはそれ以上繰り返すステップで、それによって少なくとも2つの層から成る多層構造のフィルムを得る。
c)相当するセラミックに変換する為に前記の層を熱処理する。
d)ステップa)と同一もしくは異なるゾルゲル溶液で多層構造を浸漬被覆することにより、ステップc)で得られた多層構造のフィルムを浸透するステップ。
e)ステップd)を1回もしくはそれ以上反復するステップ。
f)前記多層構造を熱処理し、多層構造のフィルムを浸透しているゾルゲル溶液を変換して相当するセラミックに変換するステップであること。 (もっと読む)


【課題】 高い熱伝導率を有し、電気回路保護用の放熱板、熱交換器やヒートポンプ等の熱的機械において、従来使用されている銅やアルミニウム等の代替材料として有用な高熱伝導材を提供する。
【解決手段】 テープ状、シート状、フィルム状、マット状の結晶性カーボン材(黒鉛、炭素繊維、カーボンナノチューブ等)と金属(Cu、Al、Ag、Mg、W、Mo、Si、Zn等)とを積層し、複合化させて得られる複合体であって、積層(厚さ)方向の熱伝導率が200W/(m・K)以下であり、前記積層方向の熱伝導率がそれと直交する(平面)方向の熱伝導率に対して0.7以下の比率である。 (もっと読む)


【課題】光散乱EUVLマスクおよびこれを形成する方法を提供すること
【解決手段】光散乱EUVLマスクおよびこれを形成する方法は、超低膨張基板(100)の上に結晶シリコン層(110)を堆積すること(300)、この結晶シリコン層の上にハードマスクを堆積すること(310)、ハードマスクをパターン形成すること(340)、結晶シリコン層をエッチングすること(350)、ハードマスクを除去すること(360)、および結晶シリコン層の上にMo/Si層を堆積すること(360)を含み、結晶シリコン層のエッチングされた領域は、エッチングされた領域に平坦でない表面を含む。本方法は、さらに、ハードマスクの上にフォトレジスト・マスクを堆積すること(320)、フォトレジスト・マスクでパターンを作ること(330)、およびこのパターンをハードマスクに転写すること(340)を含む。Mo/Si層(160)は、結晶シリコン層(110)の斜面と共形的な平坦でない表面を備え、Mo/Si層の斜面は、粗面、ぎざぎざの表面、斜面、または曲面として形作ることができ、この平坦でない表面は、露光光学系による集光を避けかつ半導体ウェハへの印刷を妨げるように入射極端紫外放射波を偏向させる。 (もっと読む)


(a)硬化した離脱層によって互いに接着されたフィルム層および金属層を含む転写フィルムを準備するステップ;(b)基板を準備するステップ;(c)電子線硬化性転写用接着剤を基板の一部に塗布するステップ;(d)転写用接着剤が金属層と基板との間に配置され中間製品を形成させるように、転写フィルムを基板に固定するステップ;(e)中間製品を電子線硬化装置に通して転写用接着剤を硬化させるステップ;(f)転写フィルムを取り外すステップを含む、基板を金属化することにより製造された積層構造物。金属化された製品において、硬化した離脱被膜は金属のみと結合している。硬化した離脱層は、引張試験における破断時硬化伸びが約20%未満であるのが好ましい。正確な金属化されたエッジが製造され、例えば、エッジの変動が約±0.010インチまたはそれよりも優れている。本方法は、全体的または選択的な金属転写を利用することができる。
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【課題】 本発明は、有機材料で形成された基材上に真空製膜法で形成された蒸着層を形成された場合でも、高度な密着性を有する積層体を提供することを主目的とする。
【解決手段】 本発明は、有機材料で形成された基材と、上記基材の片面または両面に真空製膜法で形成された中間層と、上記中間層上に無機酸化物を真空製膜法で製膜した蒸着層とを有し、上記中間層が有機成分と無機成分とを有する蒸着膜であることを特徴とする積層体を提供することにより上記目的を達成するものである。 (もっと読む)


本発明は、その表面の少なくとも一部が疎水性にされた基材であり、疎水性にするために、本質的に無機質のケイ素含有下層と該下層上にグラフトされた疎水性物質の外層とを含む疎水性表面構造を有する基材に関する。本発明は、下層の表面が疎水性物質との接触前に活性化状態にある間に、外側の疎水性物質層が下層に適用されることを特徴としている。本発明はまた、自動車、航空機、建物、家庭用電化製品及び眼科レンズ産業での使用に特に好適なこのような基材を含む防雨性ガラスに関する。 (もっと読む)


本発明は、アルカリシリケートを含むコーティングゾルを支持体に塗布することにより、次いで、このように得られた層の、2段階熱処理方法に従う熱的圧縮により得られ得る変形可能なガラス質のコーティングを含有する金属性支持体に関する。熱処理は、第一段階で、(A)酸素含有雰囲気において、または(B)減圧(≦15mbarの残圧を有する)において、次いで、第二段階で、第一層が十分に圧縮されガラス質層が形成されるまで、酸素欠乏雰囲気において行われる。 (もっと読む)


本発明は、1個以上のシリル基を有するフッ素化化合物と、(i)Si、Ti、Zr、B、Al、Ge、V、PbおよびSnから選択された元素Mの1つ以上の非フッ素化化合物および(ii)Si−H基を有する有機化合物からなる群から選択された補助化合物とを含む処理組成物による再帰反射シートの処理方法に関する。本発明はまた、(i)1個以上のシリル基を含むフッ素化化合物と(ii)Si−H基を有する有機化合物からなる群から選択された補助化合物とを含む組成物に関する。 (もっと読む)


金属とプラスチックフィルムの密着強度及び安定性の大幅な向上を図る。
基体プラスチックフィルム層3の上に熱可塑性プラスチックフィルム層2を積層して積層プラスチックフィルムとし、この積層プラスチックフィルムの温度を制御しながら、金属層1を気相法により該熱可塑性プラスチックフィルム層2上へ成膜した。 (もっと読む)


例えばガラスまたは石英製の透明な機械的支持体(10)と、単結晶半導体材料の膜または薄層(14)と、当該薄層または半導体膜と当該支持体との間に位置する反射防止中間層(12)とを有する複合基板。当該反射防止中間層の組成は、屈折率が変化するように、当該支持体(10)と当該半導体膜(14)との間において変化する。 (もっと読む)


本発明は、Al−Cuコア層および少なくとも一つのクラッド層を含んでなり、該コア層が、実質的に下記の組成、すなわち(重量%で)Cu1.2〜4.0、Mn0.06〜1.5、Mg0.06〜1.5、Si0.5まで、Zn≦0.4、Zr≦0.25、Fe≦0.5、Ti≦0.25、Cr≦0.25、V≦0.25を含んでなり、残りが実質的にアルミニウムおよび不純物であり、該クラッド層が、Al−Si系溶加合金を含んでなり、該コア層の少なくとも片側に配置されている、高強度アルミニウム合金ろう付けシートに関する。本発明はさらに、該ろう付けシートを含んでなるろう付け組立構造、および該ろう付けシートのろう付け用途、例えば熱交換機、への使用に関する。
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【課題】プリント配線板の製造時に、絶縁基板との間の接着力が大きく、また接着の安定性も確保することができ、放熱特性や大電流通電が要求されるプリント配線板の製造に用いて好適な厚銅シートを提供する。
【解決手段】純CuまたはCu合金から成る圧延シートと、圧延シートの片面または両面に形成され、粒径2μm未満の金属粒子(1)および粒径2μm以上の金属粒子(2)が混在した状態で付着して成る粒子付着面とを備えている厚銅シート。 (もっと読む)


本発明はガラスからできているタイプの透明基板に関する。本発明の基板は、ケイ素またはアルミニウムまたはこの2つの混合物の[窒化物、炭窒化物、酸窒化物または酸炭窒化物]をベースとする少なくとも1つの層Cを上に配設した被覆層と共に含む被膜を含んでなる。本発明は、この被覆層が酸化物ベースの機械的保護層であり、この酸化物が場合によっては化学量論以下または化学量論以上の酸素含量を有し、および/または場合によっては窒化物であることを特徴とする。本発明を使用して、多層または合わせグレージングを製造することができる。 (もっと読む)


【課題】 ノズルプレート等の基材表面と金属アルコキシドの撥液膜との密着性が高く、さらに密度の高い金属アルコキシドの撥液膜を有する部材を提供する。また、前記部材からなる液体噴出装置の構成部材、さらに前記部材からなる液体噴出ヘッドおよび液体噴出装置を提供する。
【解決手段】 ノズルプレート18等の基材の表面に、シリコーン材料のプラズマ重合膜22等の下地膜と、前記下地膜表面に金属アルコキシドが重合した分子膜24等の撥液膜とを有することを特徴とする。好ましくは前記金属アルコキシドがフッ素を含む長鎖高分子基24bを有する。前記下地膜は、基材に応じ、シリコーン材料のプラズマ重合膜22以外に、SiO2、ZnO、NiO、SnO、Al23、ZrO2、酸化銅、酸化銀、酸化クロム、または、酸化鉄を含む構成とすることができる。 (もっと読む)


【課題】サイズ及び配置がナノメートルスケールで制御された無機化合物微粒子からなる薄膜を提供すること。
【解決手段】特定の配向を持ったミクロドメイン構造を有するブロック共重合体と複数の無機化合物の前駆体からなる薄膜を形成し、上記前駆体を各々特定のミクロドメインに偏在させた後、各々の微粒子を順次形成させ上記共重合体を分解除去することによって、2種類以上の無機微粒子がそのサイズ及び相対的な配置を制御しながら複合化した薄膜が得られる。 (もっと読む)


【課題】グラファイトシート表面にポリウレタンあるいはポリウレタン誘導体プライマー層を設けることによりシリコーン組成物と強固に接着する接着構造体とその製造方法を提供する。
【解決手段】グラファイトシート表面にポリウレタンあるいはポリウレタン誘導体プライマー層を設けることによりシリコーン組成物と強固に接着させる。例えば、グラファイトシートにポリエステルポリウレタン樹脂を溶剤で希釈して塗布し、乾燥した後、加熱硬化させ、このグラファイトシートにシリコーンゴムコンパウンドを圧延によって塗工し、加熱加硫する。 (もっと読む)


【課題】 毒性に問題のあるクロメート処理皮膜及びクロム系防錆顔料を含まない、塗膜密着性に優れるノンクロム系プレコート鋼板を提供する。
【解決手段】 金属板の少なくとも片面に下記(1)〜(2)の皮膜層、すなわち、(1)固形分として水性樹脂100重量部、タンニンまたはタンニン酸0.2〜50重量部を含有する皮膜層、(2)上記(1)にさらに微粒シリカ10〜500重量部を固形分として含有する皮膜層、のうちの1層を下地処理層として設け、さらにその上に上層皮膜として、着色された皮膜層を設ける。また、下地処理層と上層皮膜との間に、防錆顔料を含む皮膜層を下層皮膜として設けてもよい。 (もっと読む)


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