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Fターム[4F202CD04]の内容

プラスチック等の成形用の型 (108,678) | 型の製造 (4,718) | 型の製造の主要手段 (2,034) | 転写による(←鋳造) (1,017) | 原型から直接、型を得るもの (166)

Fターム[4F202CD04]に分類される特許

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【課題】型取りする際の凹凸壁面に対する離型性が良好であり、凹凸壁面の意匠再現性が優れた凹凸壁面見本板を作製可能な凹凸壁面複製用部材、その凹凸壁面複製用部材を用いた複製板の作製方法、及び複製板、並びにその複製板より得られる凹凸壁面見本板を提供すること。
【解決手段】硬化前のゴム硬度が10〜50度、加熱残分が25〜70質量%以上、かつ、600℃、1時間燃焼させた際の灰分が燃焼前の乾燥質量に対して30〜90質量%である、硬化性形成材からなる、凹凸壁面複製用部材。 (もっと読む)


【課題】所望の形状のマイクロニードルが構成されたマイクロニードルシート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロニードルシート42は、中央部Ac”と、当該中央部Ac”を取り囲む側周部Ad”と、側周部Ad”を取り囲む外縁部Ao”とを含むシート状の基材27と、中央部Ac”より第1の所定長だけ延在する所定数のニードル28と、側周部Ad”より第1の所定長より短い長さだけ延在する1つ以上の突起Pとを備える。 (もっと読む)


【課題】 表面に線状凹凸パターン模様を有する鋳造ロールを安価に簡単に製造することができる鋳型の原版とする、表面に凹凸模様を有する継ぎ目のない筒状体を提供する。
【解決手段】 長手方向又は周方向のいずれか一軸方向にのみ熱収縮性を有する継ぎ目のない樹脂製筒状体の一面に非熱収縮性かつ易変形性の硬質薄膜層を積層一体化して継ぎ目のない積層樹脂製筒状体を製造する積層工程、及び該継ぎ目のない積層樹脂製筒状体を一軸方向に熱収縮させて前記硬質薄膜層形成面を皺状に変形させ、熱収縮方向に直交する線状の凸部と凹部を形成する熱収縮処理工程よりなる表面に線状の凹凸パターンを有する継ぎ目のない筒状体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】中間スタンパを用いるインプリント法において、アライメント精度が向上した中間スタンパの製造方法並びに凹凸パターンの精確な形成方法を提供すること。
【解決手段】光硬化性転写シートを用いて中間スタンパを製造する方法であって、前記光硬化性転写シートの光硬化性転写層を、中間スタンパの基板となる硬質板の表面に、剥離シートのない表面が硬質板の表面と対向するように貼り付ける工程、前記硬質板から前記光硬化性転写シートの剥離シートを除去することにより、前記硬質板の表面に光硬化性転写層を形成する工程、金型の表面を、前記硬質板に形成された光硬化性転写層の表面に押圧し、前記表面が凹凸パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程、及び、次いで前記積層体の光硬化性転写層の紫外線照射及び金型の除去により中間スタンパを得る工程、を含むことを特徴とする中間スタンパの製造方法。 (もっと読む)


【課題】生産性が高いモールドシートの製造方法を提供する。
【解決手段】複数のエンボスパターンが形成された転写面を有する転写シートを準備し、転写シートの転写面上に、シリコーン組成物を含有する未硬化層を形成する。未硬化層が形成された転写シートを巻き取りロール105に巻き取る。未硬化層が巻き取られた巻き取りロール105を熱キュア装置200で熱処理する。このとき、未硬化層が熱硬化してモールドシートが製造される。 (もっと読む)


【課題】原版の再作成頻度を低減できるインプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】台座基板10と、台座基板10の主面10aの上に形成され、被転写物へ形状を転写するための凹凸パターン21を有する樹脂製のパターン転写部20と、を備えるインプリント用テンプレート110である。この台座基板10の主面10aには凹凸部が設けられ、パターン転写部20の主面10a側が凹凸部の凹部に入り込むよう設けられている。基板上に被転写物を設ける工程と、台座基板10に形成された樹脂による凹凸パターンを有するインプリント用テンプレート110を用い、凹凸パターン21を被転写物に接触させる工程と、被転写物を硬化させた後、インプリント用テンプレート110を被転写物から離型し、被転写物に凹凸パターン21の形状を転写する工程と、を備えたパターン形成方法である。 (もっと読む)


【課題】多数のインプリント用型を容易に得ることができる型の製造方法を提供する。
【解決手段】微細な転写パターンMAが形成されたマスター型M0を用い、微細な転写パターンMBが形成されている一次型M1を金属で生成する一次型生成工程S1と、基材3にスピンオンガラス5を設けてスピンオンガラス設置済基材7を生成するスピンオンガラス基材生成工程S3と、スピンオンガラス設置済基材を、一次型で押圧して、スピンオンガラス設置済基材に設けられているスピンオンガラスに、一次型に形成されている微細な転写パターンを転写するスピンオンガラス転写工程S5と、微細な転写パターンが転写されたスピンオンガラス設置済基材を用い、微細な転写パターンMCが形成されている二次型M2を生成する二次型生成工程S7とを有する。 (もっと読む)


【課題】 光源から離れた位置において光出射率を増大させる必要が生じ、ブラスト粒子の吹付け圧力を増大させても、レンズ頂部の形状変化を起こさず、導光体からの出射光の視野角の広がりと輝度低下を抑制し、高品位の面光源装置用導光体成形型を製造する。
【解決方法】 互いに平行に配列された複数の第1の凹溝に相当する形状を型部材を形成する工程と、電鋳法により前記複数の第1の凹溝を転写させて複数の第1の凸構造を有する第1の電鋳型を形成する工程と、第1の電鋳型にブラスト処理を施し、表面に複数の微小な凹シボが形成された凸構造を形成する工程と、電鋳法により複数の第2の凸構造を転写させて、複数の第2の凹溝を有する第2の電鋳型を形成する工程と、第2の電鋳型の複数の第2の凹溝を転写し、導光体を製造する。 (もっと読む)


【課題】表面に小面積の微細凹凸構造を有する金型を用いたモールドの製造方法において、バッチ式での賦型・転写により表面平坦性が高い大面積モールドを製造可能なモールドの製造方法を提供すること。
【解決手段】金型32の微細凹凸部33に光硬化性樹脂を充填した後に、微細凹凸部の領域よりも相似的に縮小した開口部37aを有するマスク37を用い、微細凹凸部32の中心と開口部37aの中心とを概略一致させて、露光・硬化して微細凹凸構造部36を形成する第1転写工程と、前工程で形成した微細凹凸構造部36の端部に微細凹凸部32の境界33aが隣接するように金型32を配置した後に、微細凹凸部33の領域よりも相似的に縮小した開口部42aを有するマスク42を用い、微細凹凸部33の中心と開口部42aの中心とを概略一致させて、露光・硬化して微細凹凸構造部43を形成する第2転写工程と、を具備した。 (もっと読む)


【課題】所望の形状のマイクロニードルが構成されるマイクロニードルシート作製に用いられるスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】シート状の母材2と、突起12aを有する原版10aとを、第1の所定温度で加熱し;前記原版10aの突起12aを前記母材2に所定時間挿入して、当該母材の第1の表面Stから、当該第1の表面Stに対向する第2の表面Sbに向かって、所定長だけ先細りに延在し、先端に開口を有する錐状の貫通凹部3aを形成し;前記原版10aを、前記母材2と共に、前記第1の所定温度より低い第2の所定温度まで冷却し;原版と母材を冷却した後に、前記原版10aを、前記母材2から離型する。 (もっと読む)


【課題】転写法を用いた鋳造製法によりタイヤ成形用金型を製造するに際し、製造工程を省略でき、金型の鋳造欠陥の発生を抑え、さらに得られる金型の寸法精度を高めることが可能なタイヤ成形用金型の製造方法を提供する。
【解決手段】タイヤの踏面形状を有する原型11からゴム型13を転写形成し、このゴム型13にサイプ形成用のブレード15を取り付けることなしに崩壊性鋳型材を注型して崩壊性鋳型14を成形し、成形後の崩壊性鋳型14にブレード15を植え込み、植え込み後の崩壊性鋳型14を用いて鋳造を行って、ブレードを有するタイヤ成形用金型18を製造する。 (もっと読む)


【課題】 打ち抜き加工を用いず、両面テープ貼付工程の不要な接着剤付成形部品及びその製造方法の提供。
【解決手段】 接着剤層の形状を少なくとも一部に有するスペーサーを成形部品に当接してなる構造体を型として用いて、プラスチックフィルムを真空成形又は圧空成形して前記構造体に沿った凹み型を製造する凹み型形成工程と、
前記凹み型形成工程後、前記スペーサーを接着剤組成物に置き換えて、前記成形部品上に接着剤層を形成する接着剤層形成工程と、
を有することを特徴とする接着剤付成形部品の製造方法。 (もっと読む)


【課題】基材との密着性に優れ、転写材樹脂との離型性に優れ、且つ樹脂モールド自体の耐久性に優れた、転写材樹脂への繰り返し転写に耐えうる樹脂モールドを提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂モールドは、表面に微細凹凸構造を有する樹脂モールドであって、樹脂モールド表面部のフッ素元素濃度(Es)が、樹脂モールドを構成する樹脂中の平均フッ素元素濃度(Eb)以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】被加工物の意図しない部位への露光を確実に抑制できるナノインプリント用モールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】乾燥工程にて、基部13の一方の面から突出する凸構造部14を有する基材12の凸構造部14が突出している側の面に、濡れ性変化樹脂材料塗布液を塗布して被覆し、その後、乾燥処理を施して、表面の水接触角が90°以上、かつ、硬度が400以上である樹脂層15を形成し、濡れ性変化工程にて、基部13上に位置する樹脂層15に光を照射して、表面の水接触角が10°以下の樹脂層15aとし、遮光膜形成工程にて、樹脂層15、15a上に遮光膜形成用組成液を塗布して、乾燥、硬化することにより、基部13上に位置する樹脂層15a上に遮光膜17を形成し、凹部形成工程にて、凸構造部14上に位置する樹脂層15とマスターモールド21とを圧着し、その後、離間して、樹脂層15に凹部16を形成する。 (もっと読む)


【課題】樹脂製のナノインプリント用の型であり、容易に離型可能でその表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好な樹脂型を提供する。
【解決手段】樹脂成分(a)を含む材料からなる樹脂型であって、樹脂成分(a)を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥などにより平滑面を有する樹脂層(A)を形成した後、形成した樹脂層(A)の平滑面上に3μLの水を配置して、JISR3257に準拠して測定される静的接触角(X1)が、下記条件(1)を満たす樹脂型。条件(1):転写対象を構成する材料のうちの樹脂成分(b)を、平滑面を有する基材の平滑面上に塗布して、乾燥などにより平滑面を有する樹脂層11を形成した後、形成した樹脂層11の平滑面上に3μLの水13を配置して、JISR3257に準拠して測定される静的接触角(Y1)と静的接触角(X1)との差の絶対値Θが20°〜60°である。 (もっと読む)


【課題】容易に所望の表面形態に形成され、所望の反射防止特性を有する導電性表面、更には光透過可能な低反射導電性表面を有する材料と、その製造方法を提供する。
【解決手段】モールドを用いて形成された、反射防止特性を備えた凹凸パターンを有する表面上に、透明な導電性材料からなる透明導電性薄膜が形成されていることを特徴とする低反射導電性表面を有する材料、およびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】スタンパ製造時における微細パターンの局所的な変形を防止することであって、最終的に得られる成形品における微細パターンを当初の狙い通りに形成すること。
【解決手段】(i)スタンパの微細パターンAの反転形状に相当する微細パターンBが形成されたレジストマスタを用意する工程、および、(ii)レジストマスタを母型とした電鋳を実施することによって、微細パターンAが形成されたスタンパを得る工程
を含んで成り、工程(i)で用意されるレジストマスタの微細パターン形成面においては、微細パターンBを中心とした放射線に沿うように凹部パターンを形成しておき、工程(ii)においては、電鋳に際して生じ得る応力を凹部パターンにより緩和することを特徴とするスタンパの製造方法。 (もっと読む)


【課題】インプリントプロセスにより形成される凹凸パターンを利用し、その凹凸パターンを、アルミニウムやシリコン等の基材材料に電気化学プロセスにより細孔形成を行う際の細孔発生開始位置の制御を行うためのマスクとして使用することで規則的なホールアレー構造を効率良く確実に形成できるようにした手法を提供する。
【解決手段】基材上に設けられたマスクにインプリントプロセスにより凹凸パターンを形成し、形成された凹凸パターンの凹部に対応した基材位置に、電気化学的な手法により細孔形成を行うことを特徴とする、細孔配列が制御された多孔質構造材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】精密転写性と離型性と離型時の強度と紫外光の透過性及びリサイクル性に優れた、UVナノインプリントに好適な、樹脂スタンパを提供する。
【解決手段】芳香族ポリカーボネート樹脂からなる樹脂スタンパであって、特定の芳香族ポリカーボネートおよび2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン成分からなる群より選ばれる少なくとも1種であり、その割合が、全芳香族ヒドロキシ化合物のモル数を基準として20mol%以上で、比粘度が0.2〜0.4、蒸留水との接触角が85〜95°と言う条件を同時に具備する硬化性樹脂組成物用樹脂スタンパ。 (もっと読む)


【課題】反射防止構造体を有するマスター型を用いて、レンズアレイ基材の光学面転写予定面のレジスト層に反射防止構造体を転写し、均一な反射防止構造体を成形可能として高精度なレンズアレイを得る。
【解決手段】光学面に反射防止構造体14を有する複数のレンズを共通の基材に二次元的に配置したレンズアレイの製造方法であって、光学面形成面12が形成されたマスター型10を準備する工程(S1)と、マスター型10の光学面形成面12に反射防止構造体14を形成する工程(S2)と、光学面転写予定面24を有するレンズアレイ基材23を準備する工程(S3)と、レンズアレイ基材23の光学面転写予定面24にマスター型10を用いて反射防止構造体14を転写する工程(S7)とを含む。 (もっと読む)


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