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Fターム[4G031GA07]の内容

酸化物セラミックスの組成 (18,827) | 製法 (3,951) | 焼結方法 (1,683)

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【課題】ITOと同等以上の導電性を有する透明な酸化チタン系薄膜を工業的に製造するのに適したターゲット材を提供すること。
【解決手段】酸化チタン粉末にホウ素単体粉末またはホウ化チタン粉末を混合して焼結し、ホウ素のドープされた酸化チタン透明薄膜形成に際して使用する直流スパッタ用ターゲット材を製造するターゲット材製造方法である。本発明によれば、ITO代替の透明電極等を製造できる工業用途向けのターゲット材を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】鉛を含有せず、かつリーク電流を抑制できる液体噴射ヘッドの製造方法及びこれを用いた液体噴射装置、並びに圧電素子の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜55を形成する工程と、絶縁体膜55上に反応性スパッタリング法により酸化チタンからなる密着層56を形成する工程と、密着層56上に第1電極60を形成する工程と、第1電極60上にチタン、ビスマス、バリウム、カリウム及びナトリウムを含む複合酸化物からなる圧電体層70を形成する工程と、圧電体層70上に第2電極80を形成する工程と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】1.0×10―1A/cm以上のリーク電流を抑制できる液体噴射ヘッドの製造方法及びこれを用いた液体噴射装置、並びに圧電素子の製造方法を提供する。
【解決手段】液体噴射ヘッドの製造方法は、第1電極60と第2電極80とに挟持された圧電体層70を備え、圧力発生室12に圧力変化を生じさせる圧電素子300とを有する液体噴射ヘッドの製造方法であって、蒸着法により白金又はイリジウムの少なくとも1種を含む拡散抑制層62を形成する工程を含む第1電極60を形成する第1電極形成工程と、第1電極60上に、チタン、ビスマス、バリウム、カリウム及びナトリウムを含む複合酸化物からなる圧電体層70を形成する圧電体層形成工程と圧電体層70上に、第2電極80を形成する第2電極形成工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】環境負荷を低減し、リーク電流の発生を抑制した液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射装置、圧電素子の製造方法を提供する。
【解決手段】第1電極60を形成する工程と、第1電極60上方に、焼成によりビスマス、鉄、マンガン、カリウム、及びチタンを含む複合酸化物を形成する有機金属化合物と、ポリビニルピロリドンと、を含む塗布液71を塗布する工程と、塗布液71を焼成し、ペロブスカイト型構造の複合酸化物からなる圧電体層72を形成する工程と、圧電体層72の上方に第2電極を形成する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 その形状を保ち得る、グリーン成形体およびそれを用いるチタン酸アルミニウム焼成体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のグリーン成形体は、アルミニウム源粉末およびチタニウム源粉末を含む無機化合物源粉末と、有機バインダと、を含み、有機バインダは、有機バインダの2重量%水溶液の20℃での粘度が5000mPa・s以上となるものである。本発明にかかるチタン酸アルミニウム焼成体の製造方法は、アルミニウム源粉末およびチタニウム源粉末を含む無機化合物源粉末と、有機バインダと、を含む原料混合物を成形してグリーン成形体を得、得られたグリーン成形体を150〜900℃に加熱して有機バインダを除去し、有機バインダが除去されたグリーン成形体を1300℃以上で焼成する工程を備え、有機バインダは、有機バインダの2重量%水溶液の20℃での粘度が5000mPa・s以上となる。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム合金等の溶融金属に対する耐食性に優れる溶融金属接触材及びコーティング膜を提供する。
【解決手段】本発明の溶融金属接触材は、溶融金属に接触する物に用いられるものであって、RETi(但し、REは希土類元素を示す。)で表されるチタン酸希土類(例えば、チタン酸イットリウム等)を含む。また、本発明のコーティング膜は、溶融金属に接触する部分にコーティングされるものであって、RETi(但し、REは希土類元素を示す。)で表されるチタン酸希土類(例えば、チタン酸イットリウム等)を含む。 (もっと読む)


【課題】 より大きな気孔率の多孔質チタン酸アルミニウムを製造しうる方法を提供する。
【解決手段】 本発明の製造方法は、Al源粉末、Mg源粉末、Ti源粉末およびSi源粉末並びに細孔形成剤を含む混合物を成形して成形体を得、得られた成形体を予備焼成した後、焼成することにより多孔質チタン酸アルミニウムマグネシウムを製造する方法であり、Al源粉末、Mg源粉末、Ti源粉末およびSi源粉末の合計100質量部に対する細孔形成剤含有量が5質量部〜30質量部であり、Si源粉末は融点が600℃〜1300℃であり、混合物中のAl、Mg、TiおよびSiの元素組成比を組成式(1):
Al2(1−x)MgTi(1+x)+aAl+bSiO・・・(1)
で示したときに、xは0.05≦x≦0.15を、aは0≦a≦0.1を、bは0.05≦b≦0.15をそれぞれ満足し、予備焼成後の成形体を1300℃〜1560℃で焼成することを特徴とする。 (もっと読む)



【課題】 本発明は、耐食性に優れ、強度の低下を抑制したセラミック製刃物、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 主成分であるジルコニア(ZrO)の結晶からなる結晶相と、Y元素およびSi元素を含む非晶質相を有するジルコニア質焼結体からなり、前記非晶質相中にはイットリア(Y)の結晶からなる結晶相を有していること。 (もっと読む)


【課題】p型の導電膜及びp型の透明導電膜としての酸化物膜の高性能化を図る。
【解決手段】
本発明の1つの酸化物膜は、チタン(Ti)とアンチモン(Sb)とからなる酸化物の膜(不可避不純物を含み得る)である。また、この酸化物膜は、前述のチタン(Ti)に対する前述のアンチモン(Sb)の原子数比が、そのチタン(Ti)の原子数を1とした場合にそのアンチモン(Sb)の原子数が0.08以上0.18以下である。さらに、この酸化物膜は、微結晶の集合体、微結晶を含むアモルファス状、又はアモルファス状であるとともにp型の導電性を有する。 (もっと読む)


【課題】薄膜キャパシタ等に用いた場合に、高いチューナビリティ及び高い誘電率を発現させ得る誘電体薄膜を形成する方法及び該誘電体薄膜を提供する。
【解決手段】誘電体薄膜形成用組成物を耐熱性基板に塗布し乾燥する工程を繰返し行って所望の厚さの組成物の未焼成膜を得た後、基板上に形成した未焼成膜を焼成することにより誘電体薄膜を形成する方法において、形成する誘電体薄膜がペロブスカイト型酸化物を主成分とする薄膜であるとき、基板上に形成した未焼成膜の焼成が、60〜6000℃/分の急速昇温加熱による第一次焼成と、0.5〜30℃/分の低速昇温加熱による第二次焼成とをこの順番に少なくとも含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】製造工程でバインダ等について水溶液を利用でき、低温焼成により作製しても圧電特性を高く維持できるBNT−BT系圧電セラミックスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】x(Bi0.5Na0.5)TiO−(1−x)BaTiO−y(wt%)MnOで表されるペロブスカイト型化合物を主成分とし、主成分に対して、ビスマス/亜鉛の元素比率を0.05以上9以下とする各元素の酸化物からなる焼結助剤が0.1重量%以上4.5重量%以下添加されて焼結し、yを、x(Bi0.5Na0.5)TiO−(1−x)BaTiOに対するMnOの外割重量%としたとき、xおよびyが、0.80≦x<0.94、かつ0.01≦y≦4.5の条件を満たす。これにより、製造工程で水溶液を利用でき、低温焼成により作製しても圧電特性を高く維持できる。 (もっと読む)


【課題】
ジルコニア焼結体では、透光性と機械的強度の両特性に優れるものを得ることが困難であった。
【解決手段】
平均結晶粒径が1μm以下、相対密度が92%以上であり、結晶相が立方晶のみからなるジルコニア焼結体(一次焼結体)を1250℃以上1600℃以下、50MPa以上でHIP処理することにより、試料厚さ1mmにおける測定波長600nmの可視光に対する直線透過率が50%以上の透光性と平均曲げ強度が300MPa以上の高強度のジルコニア焼結体が得られる。前記の一次焼結体はイットリアを7mol%以上30mol%以下含有するジルコニア粉末成型体を1100℃以上1300℃以下で5時間以上保持、又は500℃/時以上の高速昇温することによって得られる。 (もっと読む)


【課題】より強度の高い、透明基板などの透光性構造体を形成する材料としての透光性スピネルセラミックス、および当該透光性スピネルセラミックスを用いた透光性スピネルセラミックス構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】透光性スピネルセラミックス構造体を形成するための透光性スピネルセラミックス20は、スピネル粒子と、α型アルミナ粒子22とを備えており、スピネル粒子中に、TiO、Pからなる群から選択される少なくとも1種をさらに含む。透光性スピネルセラミックス20におけるα型アルミナ粒子は、スピネル粒子とα型アルミナ粒子22との質量の和の3mol%以上50mol%以下であることが好ましい。 (もっと読む)


本発明は、圧電セラミック組成物、該組成物の製造方法及び該組成物を含む電気的構成部品に関する。圧電セラミック組成物は、ペロブスカイトを含有する少なくとも2つのマトリックス成分を含むマトリックス材料を含む。第1のマトリックス成分は(Bi0.50.5)EO、BaEO及びこれらの混合物からに選択されており、もう一つのマトリックス成分はBi(Me0.50.5)Oであり、ここで、Aはアルカリ金属から選択されており、Eはチタン及びジルコニウムから無関係に選択されており、Meは二価の金属から選択されている。 (もっと読む)


【課題】原料混合物の成形体を焼成することによりチタン酸アルミニウム系焼成体を得る方法において、焼成時、バインダが焼失した後においても良好な機械的強度を保つことができ、もって、焼成中におけるひび割れ等の欠陥の発生が抑制され、所望の形状を有するチタン酸アルミニウム系焼成体を歩留まりよく製造することができる方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム源粉末、チタニウム源粉末およびマグネシウム源粉末を含む原料混合物の成形体を焼成する工程を備え、該マグネシウム源粉末のBET比表面積が2.0m2/g以上30.0m2/g以下であるチタン酸アルミニウム系焼成体の製造方法である。原料混合物は、ケイ素源粉末をさらに含んでいてもよい。 (もっと読む)


【課題】熱電変換材料の素材として好適な熱伝導率の低いチタン酸ストロンチウム焼結体とその製造方法。
【解決手段】焼結体を構成する粒子の平均粒子径が1〜200nm、好ましくは1〜100nmであり、且つ密度が理論密度の90%以上、好ましくは95〜100%であり、熱伝導率が1〜6W/mKであるチタン酸ストロンチウム焼結体。平均一次粒子径が1〜60nmのチタン酸ストロンチウム粉末を、20〜400MPの圧力下、700〜1000℃の焼結温度で0.5分〜24時間の焼結時間という条件下で放電プラズマ焼結法を用いて焼結させる。 (もっと読む)


【課題】常圧で汎用な焼成手法を用いて、成形性のよいBaTi系強誘電性セラミックスを得ること。
【解決手段】 BaTi粉末を、Mnを助剤として添加し1200℃以上で焼成してBaTi系の強誘電性セラミックスを得ることを特徴とするBaTi系強誘電性セラミックス製造方法である。また、1250℃以上で焼成し、ε’≧350(周波数f=1MHz)であるBaTi系の強誘電性セラミックスを得ることができる。必要に応じて、焼成物を粉砕し再度成形して焼成する工程を繰り返し焼結度が80%以上となるようにすることができる。 (もっと読む)


本発明は、(a)式Zr1−xまたはCe1−xM’(ただし、Mはイットリウム、スカンジウム、および、セリウムから選択され、M’はガドリニウム、スカンジウム、サマリウム、および、イットリウムから選択され、xは0〜0.2の範囲にある)で表わされるセラミックの微結晶および微結晶集合体を含有するナノ結晶性粉末を、フラッシュ焼結(flash sintering)装置に挿入するステップと、(b)50MPa〜150MPaの圧力を850℃〜1400℃の温度で5分間〜30分間印加することによって、上記粉末をフラッシュ焼結するステップとを上記の順に含む、金属酸化物系セラミックを製造する方法に関する。なお、上記粉末は、5nm〜50nmの平均微結晶サイズと、0.5μm〜20μmの平均微結晶集合体サイズと、20m/g〜100m/gの比表面積とを有する。 (もっと読む)


【課題】チタン酸アルミニウム系セラミックス体の製造工程において回収される、未焼成の再生原料を用いてチタン酸アルミニウム系セラミックス体を製造する方法であって、再生粘土の調製を容易に行なうことができるとともに、機械的強度および低熱膨張性、耐熱性等の熱特性に優れるチタン酸アルミニウム系セラミックス体を得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】チタン酸アルミニウム系セラミックス体の製造工程において回収される、未焼成の再生原料を用いてチタン酸アルミニウム系セラミックス体を製造する方法であって、該未焼成の再生原料から直径1mm以下の粉砕物を得る工程と、該粉砕物と水とを含む再生粘土を調製する工程と、該再生粘土を成形して成形体を得る工程と、該成形体を焼成する工程とを含むチタン酸アルミニウム系セラミックス体の製造方法を提供する。 (もっと読む)


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