【課題】引火性がなく、エマルジョンとして安定であり、ゴム等の腐食を抑制できるエマルジョン組成物を提供する。
【解決手段】下記の成分（Ａ１）〜（Ｄ１）を含有するエマルジョン組成物。
（Ａ１）イソパラフィン：５０〜９０重量％
（Ｂ１）水：８〜２８重量％
（Ｃ１）ＨＬＢ値が３〜８．５未満である非イオン型界面活性剤：１〜１０重量％
（Ｄ１）ＨＬＢ値が８．５〜１４である非イオン型界面活性剤：１〜２０重量％ （もっと読む）

【課題】本発明は、高温熱水や界面活性剤を用いることなく、中温の６０℃において、化粧品添加物と食品添加物および天然酵素の混成溶液を応用することにより、金属の錆やＦＲＰ、プラスチック等の表面に付着した金属錆のキレート化速度と錆び取り速度を速くする錆び取り剤組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、リンゴ酸、クエン酸ソーダ、柿タンニン、カリミョウバン、キレスト、ラビゾールおよびミネラルイオン含有天然酵素液からなる混成溶液を特徴とする錆び取り剤組成物を得ることができた。 （もっと読む）

【課題】油が付着した被洗浄物に対して、洗浄効果の優れた溶剤組成物を提供することである。
【解決手段】（ａ）１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン１００重量部に対して、（ｂ）１種以上の、一般式（１）：Ｒ^１−Ｏ−Ｒ^２（１）（式中、Ｒ^１は、少なくとも１つのフッ素原子で置換された炭素原子数３〜６のアルキル基であり、Ｒ^２は、炭素原子数１〜４のアルキル基、又は少なくとも１つのフッ素原子で置換された炭素原子数３〜６のアルキル基である）で示される、ハイドロフルオロエーテル化合物を４０〜４５０重量部含むことを特徴とする、油が付着した被洗浄物を洗浄するための溶剤組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄性及び消泡性が高いために長寿命の洗浄剤となり得る鋼板用洗浄剤組成物と、これを用いた冷間圧延鋼板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（ａ）、非イオン性界面活性剤（ｂ）、脂肪酸アミド（ｃ）、炭素数８〜２４の分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を有し、オキシアルキレン基が付加されていないアルコール（ｄ）、及び、水を含有する鋼板用洗浄剤組成物であって、前記非イオン性界面活性剤（ｂ）の含有量と、前記アルコール（ｄ）の含有量の比｛（ｂ）／（ｄ）｝が、０．１０〜０．９０である、鋼板用洗浄剤組成物とする。 （もっと読む）

【課題】硫酸又は硫酸主体の酸を用いる鋼材の酸洗において、短時間での脱スケールを可能にし、管理幅を広く、酸洗液寿命の長い酸洗剤及びこれを用いた脱スケール方法を提供する。
【解決手段】脱スケール促進剤としてチオ尿素と、チオ尿素ならびにチオ尿素誘導体以外の有機硫黄化合物及び／又はノニオン系界面活性剤を含有する硫酸又は硫酸主体の酸からなる鋼材の脱スケール酸洗剤。 （もっと読む）

【課題】防錆性と硬水安定性の双方を満足する水性洗浄剤を提供する。
【解決手段】水性洗浄剤は、実質的にポリアルキレングリコールを含有せず、下記Ａ、ＢおよびＣのうち少なくともいずれか１種のカルボン酸の塩を配合してなることを特徴とする。
Ａ：総炭素数９または１０の、分岐アルキル基を有する脂肪族一塩基カルボン酸
Ｂ：セバシン酸
Ｃ：総炭素数１１から１３までの芳香族一塩基カルボン酸 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素芳香族環状化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された、半導体用基板用の洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】金属表面を酸洗する際、腐食抑制効果が強く、しかも抑制剤濃度が変化しても腐食抑制率の変化が小さい金属の酸洗浄用腐食抑制剤、および洗浄方法を提供する。
【解決手段】第一アミノ基及び／又は第二アミノ基を有するポリアルキレンポリアミン（Ａ）のＣ_３−Ｃ_１５アシル化誘導体（α）を含み、該アシル化誘導体（α）の含有量が、酸液１Ｌに対して０．１〜５００００ｍｇである金属の酸洗浄用腐食抑制剤。および該洗浄液組成物を金属表面に吹付けあるいは金属表面を該洗浄液組成物で浸漬することにより洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 研磨剤由来の砥粒の除去性、絶縁膜上の金属残渣と有機残渣の除去性に優れ、かつ銅配線の耐腐食性に優れる銅配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 銅または銅合金配線を形成する半導体製造工程中の化学的機械的研磨の後に続く工程において使用される洗浄剤であって、アミン（Ａ）、グアニジンの塩またはグアニジン誘導体の塩（Ｂ）、および水を必須成分とし、使用時のｐＨが８．０〜１３．０であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】セリア、シリカ微粒子を容易に洗浄除去できる洗浄剤及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】一般式(I)及び(II)
【化１】


（式中、R^１は炭素数６〜１６のアルキル基であり、R^２、R^３は同一又は異なって炭素数１〜４のアルキル基もしくは、炭素数1〜４のヒドロキシアルキル基である。R^４は炭素数１〜６のアルキル基、R^５はエチレン基またはプロピレン基、nは１〜３の整数である。）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の化合物、有機酸および水を含む洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】金属素地の腐食を抑制するとともに、酸洗後の金属材表面の品質を低下させることなく、金属材表面に付着している酸化物皮膜およびスケールの除去速度を速い状態で維持する金属材用酸洗浄液、およびこれを用いる金属材の酸洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属材用酸洗浄液は、塩酸（ＨＣｌ）水溶液に、（Ａ）平均分子量が１５０〜１５００の低分子ポリアミンと、（Ｂ）低分子カルボン酸（またはその塩）を含み、更に（Ｃ）アセチレンアルコール、（Ｄ）ヘキサメチレンテトラミン、（Ｅ）ポリエチレングリコールを含むことが出来る。 （もっと読む）

【課題】 ガラス面、光沢のある金属面や塗装面、プラスチック面の拭掃は勿論、処理液によって処理された面が光沢を失わないで汚れを防ぎ、長期間その効果が持続する表面処理液の製造方法を提供する。
【解決手段】 高速回転機能を有する撹拌機の回転槽内に、エタノ−ル６０％、精製水３９，７％、弗素０，７％ の割合で投入した後、２００００回転乃至２５０００回転の速度で１０数分回転させる表面処理液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属ケイ酸塩洗浄剤を用いてスケールの発生を抑えながら金属を洗浄する方法を提供する。
【解決手段】アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液からなる洗浄剤に対してカルシウム塩およびスケール分散剤を含む水溶液からなる添加剤を添加して洗浄液を調製し、この洗浄液を７０℃以上に加熱して金属を浸漬する。洗浄剤に対する添加剤の添加量は、洗浄液におけるスケール分散剤の濃度が下記の式（ａ）で規定される濃度以上でありかつ下記の式（ｂ）で規定される濃度以下になるよう、また、カルシウム塩濃度が炭酸カルシウム換算で少なくとも２０ｍｇ／ｋｇになるよう調整する。
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【課題】アルカリ洗浄剤を用い、スケールの発生を抑えながら銅系金属等の各種の金属を腐食させずに高温で洗浄できるようにする。
【解決手段】浸漬された金属を７０℃以上の高温で洗浄可能な洗浄剤は、アルカリ金属ケイ酸塩、カルシウム塩およびスケール分散剤を含む水溶液からなる。この水溶液は、カルシウム塩の濃度が２０ｍｇ／ｋｇ以上に設定されており、また、スケール分散剤の濃度が下記の式（ａ）で規定される濃度以上でありかつ下記の式（ｂ）で規定される濃度以下になるよう設定されている。
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【課題】アルカリ金属珪酸塩とアルミノ珪酸塩とを含有する粉末洗浄剤組成物において、アルカリ金属珪酸塩とアルミノ珪酸塩が合一して形成される水不溶分の発生を低減できる粉末洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】平均粒径が１〜１０００μｍのアルカリ金属珪酸塩（ａ１）の表面に、表面処理剤（ａ２）が存在して複合化されているアルカリ金属珪酸塩粒子（Ａ）と、平均粒径が０．１〜５０μｍのアルミノ珪酸塩（Ｂ）とを含有する粉末洗浄剤組成物であって、（ａ２）が、融点４５℃〜９０℃、分子量２００〜７００、透湿率０〜２％、２０℃の水１００ｇに対する溶解度０．５ｇ以下の非イオン性有機化合物及び／又は陽イオン性有機化合物である、粉末洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄性及び消泡性が高い鋼板用洗浄剤組成物と、これを用いた冷間圧延鋼板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（ａ）、アルキル基又はアルケニル基を有する非イオン性界面活性剤（ｂ）、アルコールエーテル（ｃ）、炭素数８〜２４の分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を有し、オキシアルキレン基が付加されていないアルコール（ｄ）、及び、水を含有する鋼板用洗浄剤組成物であって、前記非イオン性界面活性剤（ｂ）及び前記アルコールエーテル（ｃ）の合計含有量と、前記アルコール（ｄ）の含有量の比［｛（ｂ）＋（ｃ）｝／（ｄ）］が、３〜２５である、鋼板用洗浄剤組成物とする。 （もっと読む）

【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、及び前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】５７〜９５重量％の（成分ａ）水、１〜４０重量％の（成分ｂ）第２級水酸基及び／又は第３級水酸基を有するヒドロキシ化合物、（成分ｃ）有機酸、並びに、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、を含有し、ｐＨが５〜１０であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物により、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣を洗浄する工程を含む、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】腐食抑制剤システム、特にアルカリ条件（特に食品および製薬の産業における）下におけるアルミニウムまたは着色金属およびその合金の表面用洗浄・腐食抑制組成物を提供する。
【解決手段】表面用洗浄・腐食抑制組成物は、一般式


［式中、Ｚは−Ｏ−Ｍまたは


のいずれかである。］で示される少なくとも一種のアルキレンオキシ−アルキルホスフェートジエステルまたはトリエステルを含有する。 （もっと読む）

【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アニオン性ポリマー0.01〜20質量％、（Ｂ）キレート剤：0.01〜30質量％、（Ｃ）水：40〜99.9質量％を含む水溶性洗浄剤組成物であって、前記アニオン性ポリマー（Ａ）は、（Ａ−１）炭素数２〜８のエチレン系不飽和モノマーの少なくとも１種と、（Ａ−２）スルホ基（ＳＯ_３Ｈ）を含むエチレン系不飽和モノマー及びカルボキシル基（ＣＯＯＨ）を含むエチレン系不飽和モノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種のアニオン性不飽和モノマーとの共重合体である、水溶性洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ポストアッシュ及び／又はポストエッチフォトレジストに限定されないが、これらのような残渣を基材から除去するための水系組成物、及びそれを含む方法を提供すること。
【解決手段】ある態様における、残渣を除去するための組成物は、（ａ）水、（ｂ）ヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミン塩化合物及びこれらの混合物から選択される少なくとも１種のもの、並びに（ｃ）水溶性有機酸を含まないという条件付の腐食防止剤を含み、添加された有機溶剤を実質的に含まない。 （もっと読む）