【課題】フッ化パラキシレンダイマーを調整するための重要な前駆体として使用される、1,4-ビス（クロロジフルオロメチル）ベンゼンの、簡便で低コストの合成方法の提供。
【解決手段】（A）1,4-ビス（ジフルオロメチル）ベンゼンの反応液を供給する工程；（B）任意でＵＶ照射のための光源を供給する工程；および（Ｃ）1atmを超える圧力下、50-90℃の温度で、塩素ガスを反応液に導入して、1,4-ビス（クロロジフルオロメチル）ベンゼンを得る工程を含む、1,4-ビス（クロロジフルオロメチル）ベンゼンの容易な合成方法。さらに、1,4-ビス（クロロジフルオロメチル）ベンゼンの効率的な製造のためのバッチ法または連続法に使用できる。 （もっと読む）

【課題】毒性金属を含まず、ＳｂＦ₆^-塩に匹敵するカチオン重合性能や架橋反応性能を有し、かつこのものを使用した硬化物は特に耐熱試験後に透明性が低下する問題がない酸発生剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるフッ素化アルキルリン酸オニウム塩であって、当該オニウム塩中のアルカリ金属成分の含有量が１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする酸発生剤。
【化１】


［式（１）中、ＡはＶＩＡ族〜ＶＩＩＡ族（ＣＡＳ表記）の原子価ｎの元素を表し、ｎは１または２である。Ｒ１はＡに結合している有機基であり、Ｒ１の個数はｎ＋１である。Ｒｆは水素原子の８０％以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。ｂはその個数を示し、１〜５の整数である。］ （もっと読む）

【課題】従来から知られている塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物では、得られるレジストパターンのマスクエラーファクターが必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。ｎは、０又は１を表す。Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜１０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。但し、ｎが０である場合、Ｌ^１は単結合ではない。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤、レジスト組成物等の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩及びこの塩を含む酸発生剤とレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の炭素数１〜２０の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｗは、式（Ｗ１）〜式（Ｗ５）から選ばれる式で表される基；Ｚ^１＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】液晶材料等の機能性材料として有用な非対称型フルオロブタジエン化合物のトランス−トランス体を効率的および高選択的に得ることができる容易かつ簡便な製造方法の提供。新規な非対称型フルオロブタジエン化合物、該化合物を含む組成物および該組成物を含む液晶電気光学素子の提供。
【解決手段】Ｒ^１−(Ａ¹−Ｙ^１)_ｌ−(Ａ^２−Ｙ^２)_ｍ−Ａ^３−ＣＦ＝ＣＦ−ＣＦ＝ＣＦ−Ａ^４−(Ｙ^３−Ａ^５)_ｎ−(Ｙ^４−Ａ^６)_ｏ−Ｒ^２（１）で表される非対称型フルオロブタジエン化合物の製造方法。式中、Ｒ^１、Ｒ^２：置換または非置換の炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、またはシアノ基；Ａ¹、Ａ²、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５およびＡ^６：相互に独立して、置換または非置換のトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基または１,４−フェニレン基；Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３およびＹ^４：相互に独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、または置換または非置換の炭素数１〜４の２価の脂肪族炭化水素基；ｌ、ｍ、ｎおよびｏ：相互に独立して０または１；ただし、「Ｒ^１−(Ａ¹−Ｙ^１)_ｌ−(Ａ^２−Ｙ^２)_ｍ−Ａ^３−」と「−Ａ^４−(Ｙ^３−Ａ^５)_ｎ−(Ｙ^４−Ａ^６)_ｏ−Ｒ^２」は同一の構造ではない。 （もっと読む）

【課題】α，β，β−トリフルオロスチレン類の工業的な製造方法を提供する。
【解決手段】α，β，β−トリフルオロスチレン類の製造において、α−アリール−α，β，β，β−テトラフルオロエタン類をアルカリ金属ビス（トリメチルシリル）アミドと反応させる脱フッ化水素工程と、引き続いて行う、目的物のα，β，β−トリフルオロスチレン類と副生物のビス（トリメチルシリル）アミンとを含む混合物をフッ化水素、または、有機塩基とフッ化水素とからなる塩もしくは錯体と反応させる後処理工程を含む、α，β，β−トリフルオロスチレン類の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】除草効果がある置換された3-ヒドロキシ-4-アリール-5-オキソピラゾリン誘導体の調製方法において主要な中間体である置換されたベンゼン誘導体は、公知の方法よりも、高収率で、相当のコスト優位性で、調製され得る。
【解決手段】本発明は、式(I)の中間体化合物（ここでの置換基は本願で定義した通りである）を生産する方法を提供する。該方法は、置換されたアニリンを水性HXと反応させ、その後、共沸蒸留によって水を除去し、そして上昇させた温度で、銅触媒が存在しない中で、有機亜硝酸エステルによりジアゾ化しそして熱分解することを含んで成る。或いは、該方法において、水性HXの代わりに気体性のHXが使用され得る。その結果、共沸蒸留による水の除去工程は省くことができる。式Ｉの中間体化合物は、除草活性3-ヒドロキシ-4-アリール-5-オキシピラゾリン誘導体の調製における中間体として適している。 （もっと読む）

【課題】照射した超音波を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な超音波硬化型組成物の提供。
【解決手段】下記（１）〜（３）を含有する超音波硬化型組成物であって、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが超音波の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して該新たな活性種（Ｉ）による重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、該活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基であることを特徴とする超音波硬化型組成物；（１）ラジカル開始剤（Ａ）、（２）酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）、（３）重合性物質（Ｄ）。 （もっと読む）

【課題】取扱い性に劣る塩素化剤を必要とせず、イミドイルクロリド化合物を合成する新規な製造方法、並びにこれを用い、各種化合物を高収率かつ高純度で得る製造方法を提供する。また、イミドイルクロリド化合物をこれと無水フタル酸化合物との混合物から効率的かつ高純度でイミドイルクロリド化合物を単離する方法を提供する。
【手段】特定のアミド化合物と特定のフタル酸クロリド化合物を反応させ、特定のイミドイルクロリド化合物を生成させるイミドイルクロリド化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】安全性が高く、また、種々の溶媒が使用でき、反応後の生成物の抽出操作が不要な、簡便な含フッ素化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】 インジウム金属の存在下、以下の一般式Ｉで表される１種以上のフッ化アルキルヨージドと炭素−炭素間に二重結合ないし三重結合を有する不飽和化合物とを反応させ、当該炭素−炭素間の不飽和結合を構成する炭素原子にフッ化アルキル基を付加することにより、新たな炭素−炭素間結合を形成する方法。
Ｒｆ−ＣＸ_２−Ｉ （Ｉ）
（式中、Ｒｆはパーフルオロアルキル基を表し、Ｘはフッ素原子または水素原子を表す。） （もっと読む）

【課題】化学還元剤を併用しない金属錯体触媒を用いたオレフィンの還元方法の提供、詳細には、光増感作用を示す固体光触媒である酸化チタンと、触媒部位となる卑金属錯体化合物とを組み合わせた、酸化チタン−卑金属錯体光還元触媒を提供する。
【解決手段】光増感作用を示す固体光触媒である酸化チタンと、触媒部位となる卑金属から構成させる錯体化合物とを組み合わせることにより、紫外線照射によってオレフィンが還元される。 （もっと読む）

【課題】（トリフルオロビニル）ベンゼン類およびその製造方法を提供する。
【解決手段】フェニルホウ素化合物とトリフルオロハロエチレン類とを、フェニルホウ素化合物（１）に対して１〜１００当量の水、二座ホスフィン配位子が配位したパラジウム錯体及びアルカリ金属塩の共存下で反応させ、一般式（３）


（式中、Ｒ^１は、水素原子またはホルミル基を示す。Ｒ^２およびＲ^３は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基、炭素数２〜５のアシル基、（炭素数１〜４のアルコキシ）カルボニル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、トリ（炭素数１〜４のアルキル）シリル基、炭素数２〜５のアシルアミノ基、シアノ基、フェニル基、塩素原子、フッ素原子またはニトロ基を示す。隣接するＲ^２およびＲ^３は結合する炭素原子と一体となって環を形成しても良い。）で表される（トリフルオロビニル）ベンゼン類を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】置換または非置換のトリフルオロメチル化アリールおよびヘテロアリール化合物を製造するための銅触媒による方法を提供する。
【解決手段】本発明は、非置換または置換のハロゲン化アリールまたはハロゲン化ヘテロアリールを、式（Ｉ）または式（ＩＩ）


（式中、Ｒ^１は、水素またはＣ_１〜Ｃ_５アルキル基であり、Ｍは、アルカリ金属またはアンモニウムイオンである）
のトリフルオロアセテートと、活性化剤化合物として無機ハロゲン化物塩またはトリフルオロ酢酸塩、および銅塩と一座、二座または三座の芳香族または脂肪族のアミンまたはピリジンのリガンドとの触媒的組合せの存在下で反応させる工程を含む、トリフルオロメチル化された非置換または置換のアリールまたはヘテロアリール化合物を製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、穏和な条件下で効率的にハロゲン化を効率よく進めるための高活性の触媒を開発し、かつ反応後に容易に回収でき、反応にリサイクルできる触媒を開発することを目的としている。
【解決手段】一般式（１）
Ａ_xＭＯ_(2+0.5x) （１）
（式中、Ａはアルカリ金属を示し、Ｍはクロム、マンガン、コバルト、ニッケルおよび鉄からなる群から選ばれた少なくとも１種の遷移金属元素を示し、ｘは０＜ｘ≦２の数字を示す。）で表される酸化遷移金属複合体（ａ）を含有するハロゲン化触媒。若しくは前記酸化遷移金属複合体（ａ）と酸素（ｂ）から形成されるハロゲン化触媒。 （もっと読む）

【課題】より優れた解像度及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）を有するパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、＊−ＣＯ−Ｏ−Ｌ^ａ−又は＊−ＣＨ_２−Ｏ−Ｌ^ｂ−を表す。＊は−Ｃ（Ｑ^１）（Ｑ^２）−との結合手を表す。Ｌ^ａ及びＬ^ｂは、互いに独立に、２価の炭素数１〜１５の飽和炭化水素基を表し、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｗ^１は、炭素数２〜３６の複素環を表し、該複素環に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換わっていてもよい；Ｚ^１＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】高純度且つ高収率で３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルハロゲノベンゼンを製造できる工業的に有利な製造方法を提供すること。
【解決手段】 式（１）で示される１，３，５−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンとハロゲン化剤とをアンチモン化合物の存在下で反応させることを特徴とする、一般式（２）で示される３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルハロゲノベンゼン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】エポキシ化合物を脱酸素して対応するアルケンを製造するアルケンの製造方法であって、温和な条件下で、優れた収率で目的化合物を製造することができるアルケンの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のアルケンの製造方法は、担体表面に金ナノ粒子及び／又は銀ナノ粒子を固定化して得られる表面金属固定化触媒及び第１級又は第２級アルコールの存在下、エポキシ化合物を脱酸素して対応するアルケンを製造することを特徴とする。 （もっと読む）

一般式（Ｉ）
Ｒ−Ｒ’ （Ｉ）
の有機化合物を調製する方法であって、
一般式（ＩＩ）
Ｒ−Ｘ （ＩＩ）
（式中、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素である）
の対応する化合物を、一般式（ＩＩＩ）
［Ｍ^＋］_ｎ［Ｒ_ｍＭｇＸ_ｋＹ_ｌ］ （ＩＩＩ）
の有機マグネシウム化合物に変換し、
ここで、式（ＩＩＩ）の化合物は、一般式（ＩＶ）


の化合物と反応させる方法において、
（ＩＩＩ）と（ＩＶ）との反応が、
ａ）一般式（ＩＩ）の化合物に基づいて、触媒量の鉄化合物
の存在下で、および場合により、
ｂ）一般式（ＩＩ）の化合物に基づいて、触媒量または化学量論的量の窒素含有添加物、酸素含有添加物および／またはリン含有添加物
の存在下で行われることを特徴とする方法が開示される。
（もっと読む）

【課題】欠陥が少なく、かつ優れた形状及びラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ、Ｆ又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、単結合又は置換基を有していてもよい２価の飽和炭化水素基、該飽和炭化水素基の−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｙ^１は、（ｍ＋１）価の飽和環状炭化水素基、該基の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−又は−ＳＯ_２−で置き換わっていてもよい；Ｘ^１は脂肪族炭化水素基、該基に含まれる少なくとも１つの水素原子はフッ素原子で置換されており、該基に含まれる少なくとも１つの水素原子は水酸基で置換されていてもよい；ｍは、１又は２の整数；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

本発明は、化学反応を行うための金属集積植物の使用に関する。 （もっと読む）