Fターム[4H049VW04]の内容

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【課題】各種の材料、例えば分子認識の材料として用いられる他、有機EL素子、蛍光材料、有機バッファ層構成材料、非線形光学材料などの各種の光学デバイスなどに応用することが期待される、新規なヘテロヘリセン、及びその製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式Iで表され、且つらせん状の立体構造を有する化合物により、上記課題を解決する。
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ホウ素含有率100ppb未満を有する式R1xySi(OR2z[式中、x+y+z=4であり、かつx、y、zは、1以上であり、R1は、1〜12個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基もしくはアリールアルキル基であり、かつHalは、F、Cl、BrもしくはIであり、R2は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基もしくはt−ペンチル基を意味する]のオルガノアルコキシハイドロジェンシランの製造方法において、第一工程において、ホウ素で汚染された式R1xySiHalz[式中、x+y+z=4であり、かつx、y、zは、1以上であり、かつR1は、1〜12個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基もしくはアリールアルキル基であり、かつHalは、F、Cl、BrもしくはIである]のオルガノハロゲンハイドロジェンシランを、ケイ酸もしくはアルミノケイ酸塩での処理に供し、引き続き第二工程において、オルガノハイドロジェンシランから分離し、次いで精製されたオルガノハロゲンハイドロジェンシランを、アルコールR2−OH[式中、R2は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基もしくはt−ペンチル基を意味する]と反応させる前記方法。 (もっと読む)


本発明の対象は、有機ケイ素化合物含有排水から有機ケイ素化合物を分離する方法であり、本方法では、第一工程で排水を少なくとも10℃に加熱し、第二工程で排水を少なくとも10℃で少なくとも30分保持し、第三工程で、形成された有機ケイ素化合物含有液滴を分離する相分離要素に排水を通す。 (もっと読む)


異なるクロロモノシラン生成プロセスからの廃棄物を単一の再生プロセスにおいて混合し、反応させる。有用なモノシラン種を単一の再生プロセスで得ることができる。 (もっと読む)


本発明は、ハロゲン化アンモニウムおよび/または有機アミンハロゲン化水素酸塩を含有するアミノ官能性オルガノシランの後処理法であって、その際、該ハロゲン化アンモニウムおよび/または有機アミンハロゲン化水素酸塩を含有するアミノ官能性オルガノシランに−場合により少なくとも1つの非極性有機溶媒を混ぜ、−苛性アルカリ水溶液を加え、−反応させ、−引き続き水相を有機相から分離し、−該有機相から、場合により存在する溶媒を除去し、かつ−残留した有機相を回収する方法。 (もっと読む)


本発明は、精製されたハロゲンシラン、とりわけ非常に高純度のクロロシランを製造するために、工業的な純度のハロゲンシラン中の周期表の第三主族の元素の含分、とりわけホウ素及び/又はアルミニウムを含む化合物の含分を低減させるための方法に関する。本発明はさらに、本方法を実施するための装置に関する。 (もっと読む)


【課題】かご状シルセスキオキサンのn=8であるオクタシルセスキオキサンを効率よく製造する。
【解決手段】オルガノトリアルコキシシランをアルカリ性混合溶液中で加水分解、脱水縮合させてシリコーン粒子を製造する方法であって、前記アルカリ性混合溶液は、水溶性有機溶媒を70重量%〜98重量%、水を2重量%〜30重量%の割合で混合した混合溶液に対し、アルカリ性物質を0.05〜5重量%含有させることでかご状シルセスキオキサンのn=8であるオクタシルセスキオキサンを製造する。 (もっと読む)


【課題】CVD前駆体として使用するための、超純粋有機金属化合物の新規な調製方法に対する継続的な要求が存在する。
【解決手段】例えば化学蒸着のようなプロセス用の超純粋アルキル金属化合物を製造するため金属ハロゲン化物をアルキル化剤反応させる合成のためのマイクロチャンネルデバイスを使用することを含む超純粋有機金属化合物の調製方法。 (もっと読む)


【課題】有機ケイ素組成物を精製するための方法を提供する。
【解決手段】有機ケイ素組成物を酸性ガスと接触させ、塩基性不純物との反応により該酸性ガスの塩を含む沈殿物を形成する工程、及び該酸性ガスの塩を除去して精製された有機ケイ素生成物を形成する工程を含む、アルコキシシラン又はカルボキシシラン及び塩基性不純物を含む有機ケイ素組成物を精製するための方法が提供される。 (もっと読む)


本発明の対象は、1013ミリバールで高沸点の成分および沸騰しない成分から選択された成分Aと、20℃および1013ミリバールでガス状の成分および高沸点成分Aよりも少なくとも30゜K低い温度で沸騰する成分から選択される成分Bを有する液体の成分を蒸発させる方法であり、この場合少なくとも1つの成分は、少なくとも部分的にイオンに解離し、その際液体は、交互の導通によって加熱される。
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【課題】選択透過膜を使用することを特徴とする、アルカノールを含む混合物からのアルコキシシランの分離方法の提供。具体的には、トリアルコキシシランを調製する直接合成工程から生じた粗生成混合物からのアルキルジアルコキシシランの回収、特に粗トリメトキシシラン反応生成物からのメチルジメトキシシランの回収を実施するための膜分離方法の提供。別の態様として、SiH結合のアルコール分解及び/又はトリアルコキシシランの不均化を回避若しくは最小化しながら、かかる回収工程を実施する方法の提供。
【解決手段】第1表面とそれに対向する第2表面を有する分離膜を有する分離ユニットに、1つ以上のアルコキシシランとアルカノールの混合物を導入する工程と、前記1つ以上のアルコキシシランとアルカノールの混合物を、前記分離膜の前記第1表面と接触させて、前記混合物中の1つ以上の成分を選択的に第1表面に吸収させ、膜全体の濃度勾配の影響により前記第2表面に浸透させ、それによって、前記混合物を、アルカノールが増加した透過物フラクションとアルカノールが減少した保持フラクションに、又はアルコキシシランが増加した透過物フラクションとアルコキシシランが減少した保持フラクションに分離する工程と、透過物フラクションを回収する工程を含んでなる方法。 (もっと読む)


【課題】より耐久性である充填物の存在でHCl、H2O及びシロキサンを含有する混合物を加工する方法。
【解決手段】フッ素化ビニルポリマーからなる充填物の存在で、HCl、H2O及びシロキサンを含有する混合物を加工する。 (もっと読む)


【課題】非常に低いレベルの金属不純物及び酸素含有不純物を有する、高純度金属含有化合物、特に有機金属化合物を一貫して提供する方法を提供する。
【解決手段】連続抽出を使用する金属含有化合物の精製方法が提供される。この金属含有化合物は高純度で提供され、および金属フィルム、特に電子デバイスで使用される薄い金属フィルムを堆積する際に使用するのに好適である。 (もっと読む)


【課題】 半導体製造における成膜原料として有用な有機金属アミド錯体の精製方法を提供する。
【解決手段】 一般式:M[N(R)(R)]で示される有機金属アミド錯体の製造において、該有機金属アミド錯体中に含有する塩素を精製除去するに際し、該有機金属アミド錯体中に含有する塩素1当量に対し、1〜100当量のリチウムアルキルアミドを添加し、減圧蒸留を行う(但し、Mは、Hf、Zr、Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ga、Ge、Sn、またはSbであり、R及びRはメチル基又はエチル基であり、nはMの価数である。)。 (もっと読む)


【課題】半導体製造における成膜原料として有用なトリメチルシランに含まれる不純物である含塩素化合物を簡便に高収率で除去する精製方法を提供する。
【解決手段】不純物を含むトリメチルシランをpH2からpH4の吸収溶液に接触させることによりトリメチルシラン中の含塩素化合物を吸収除去する。 (もっと読む)


【課題】 反応によって変性した有機スズアルコキシドを高純度で有機スズアルコキシドへ再生(製造)する方法、更に連続して繰り返して製造する方法を提供すること。
【解決手段】 出発物質としてジアルキル酸化スズおよび/またはアルキルジスタンオキサンからなるアルキルスズ化合物の群より選ばれる有機スズ化合物と反応物質としてアルコールとを金属容器中において80℃〜200℃の範囲に加熱して脱水反応させることによって有機スズアルコキシドを製造する。 (もっと読む)


【課題】 半導体製造における成膜原料として有用なトリメチルシランの精製方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも酸化銅(II)および酸化亜鉛を混合固化させた活性炭を用いてトリメチルシラン中のシラン、メチルシラン、ジメチルシランを吸着除去する。 (もっと読む)


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