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Fターム[4J036DB05]の内容

エポキシ樹脂 (63,436) | 活性水素化合物(O含有化合物) (3,636) | フェノール類 (1,150)

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【課題】Tg、銅箔接着性、耐熱性、耐湿性、難燃性、銅付き耐熱性、低誘電特性、低誘電正接の全てに優れる熱硬化性樹脂組成物、及びその使用、例えばプリプレグ及び積層板等を提供する。
【解決手段】
(A)(a)1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物と、(b)一般式(1)に示す酸性置換基を有するアミン化合物とを反応させて製造される、分子構造中に酸性置換基とN−置換マレイミド基を有する化合物、(B)アラルキル変性エポキシ樹脂、(C)熱分解温度が300℃以上である金属水和物を成分として含有する、熱硬化性樹脂組成物。


(式中、Rは酸性置換基である水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基を示し、Rは水素原子、又は炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基を示し、x及びyは1〜4の整数である。) (もっと読む)


【課題】熱伝導性に優れ、高温耐熱特性及び取り扱い性が向上されたエポキシ樹脂組成物等を提供すること。
【解決手段】メソゲン骨格を有するエポキシ化合物とビフェニルアラルキル骨格を有する硬化剤とを含有するエポキシ樹脂組成物。ビフェニルアラルキル骨格を有する硬化剤は、軟化点が110℃以下であることが好ましい。また、ビフェニルアラルキル骨格を有する硬化剤は、アモルファス性の硬化剤であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 低熱膨張率で取り扱い性のよい、安価で信頼性の高い回路基板を提供する。
【解決手段】(A)グリシジル基を2つ以上有するエポキシ樹脂化合物、(B)フェノール性水酸基を3つ以上有する硬化剤、(C)2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンゾイミダゾールまたは該化合物塩を含有する絶縁樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】AgやAuのような貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性が良好となり、かつ成形性や耐湿性、高温放置特性等の信頼性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤を含有し、(B)硬化剤が下記一般式(I)で示される化合物を含有する封止用エポキシ樹脂組成物。


(ここで、R、Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基及び炭素数1〜2のアルコキシ基から選ばれ、互いに同一であっても異なってもよい。nは0〜10の整数を示す。) (もっと読む)


【課題】貯蔵安定性に優れる一液型熱硬化性エポキシ樹脂組成物の提供。
【解決手段】エポキシ樹脂(A)と、分子内にメルカプト基を2個以上有するチオール化合物(B)と、下記式(I)で表されるテトラキスフェノール系化合物によってイミダゾール化合物および/またはアミン系化合物が包接されている包接体(C)とを含む一液型熱硬化性エポキシ樹脂組成物。
【化1】


(式中、R1〜R8は、それぞれ水素原子、アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、ハロゲン原子またはアルコキシ基を示す。) (もっと読む)


【課題】硬化物表面のシリカの脱離性が良好で、優れた密着性示すように、粗化処理で硬化物表面の粗さを容易に小さくできる樹脂組成物、及び該樹脂組成物を加熱硬化してなる硬化物の提供。
【解決手段】ビフェニル骨格含有フェノール系硬化剤、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノール系硬化剤、トリアジン骨格含有フェノール樹脂及びリモネン骨格含有フェノール樹脂からなる群から選択される一種以上の硬化剤と、ビスフェノール型エポキシ樹脂と、硬化促進剤と、シリカとが配合された樹脂組成物であって、前記ビスフェノール型エポキシ樹脂が、ビスフェノール又はその誘導体一分子にエポキシ基が二つ導入された化合物を、分子数の割合で79〜84%含有することを特徴とする樹脂組成物;かかる樹脂組成物を加熱硬化してなることを特徴とする硬化物。 (もっと読む)


【課題】熱伝導性に優れるエポキシプレポリマー等を提供すること。
【解決手段】メソゲン骨格を有するエポキシ化合物と、下記式で表される3核体ビスフェノールとを反応させることにより得られる、エポキシプレポリマー。
【化1】


(式中、R,R,R,R,R,R,R,R,R,R10,R11,R12は、それぞれ水素原子又はアルキル基であり、各々が同一であっても異なっていてもよいが、少なくとも1つはアルキル基である。) (もっと読む)


【課題】感光性シロキサンポリイミド樹脂組成物をプリント配線板上に成膜し、パターニングし、硬化させて得た薄い保護層から、不純物である環状ジメチルシロキサンオリゴマーがブリードアウトすることを十分に抑制できるようにする。
【解決手段】感光性シロキサンポリイミド樹脂組成物は、テトラカルボン酸二無水物とシロキサンジアミンとジフェニルシリレン単位を有するシロキサン非含有ジアミンとをイミド化して得られるシロキサンポリイミド樹脂100質量部と、液状エポキシ樹脂、ベンゾオキサジン類及びレゾール類からなる群より選択される少なくとも一種の架橋剤1〜20質量部と、光酸発生剤5〜30質量部とを含有する。 (もっと読む)


【課題】硬化物の誘電率及び誘電正接が低く耐熱性及難燃性に優れるエポキシ樹脂組成物、硬化物を提供する。
【解決手段】ビスフェノール型エポキシ樹脂(a1)と、1,1−ビス(2,7−ジグリシジルオキシ−1−ナフチル)アルカン等の多官能ナフタレン系エポキシ樹脂(a2)を併用するエポキシ樹脂(A)及び硬化剤(B)を必須成分とするエポキシ樹脂組成物であって、かつ、前記硬化(B)として、下記一般式1


(式中、Xは水素原子、アルキルカルボニル基、又は、アリールカルボニル基を表し、Rは、水素原子、又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、Rは水素原子又はメチル基を表し、nは繰り返し単位の平均で0〜10である。但し、Xのうち少なくとも1つはアルキルカルボニル基又はアリールカルボニル基である。)で表される活性エステル樹脂(b)を用いる。 (もっと読む)


【課題】 低反り性や平滑性が要求される半導体装置、特に基板の片側に樹脂層が形成されたエリア実装型半導体装置等に用いた場合、成形後や半田処理時の反りが小さく、耐半田性に優れ、かつ生産性にも優れたエポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 融点が30℃以上、150℃以下である結晶性エポキシ樹脂(A)、多官能エポキシ樹脂(B)、多官能フェノール樹脂(C)、球状無機充填材(D)、鱗片状無機充填材(E)、硬化促進剤(F)を含有するエポキシ樹脂組成物であって、該樹脂組成物の175℃でのスパイラスフローが50cm以上であり、該樹脂組成物の175℃における測定開始後30秒のキュラストトルク値が10N・m以上であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】誘電率、誘電正接が低く、優れた耐熱性および密着性を有する回路基板用樹脂組成物、及び、これを用いたプリプレグと積層板の提供。
【解決手段】分子内に2つ以上のマレイミド基を含有する化合物(A)と、分子内に1つ以上のスチリル基と1つ以上のフェノール性水酸基を含有する化合物(B)と、分子内に1つ以上のエポキシ基を含有するエポキシ樹脂(C)を含有する回路基板用樹脂組成物及び該樹脂組成物を基材に含浸させてなるプリプレグ。 (もっと読む)


【課題】成形性に優れ、無機充填材と複合化させた場合の熱伝導率が高く、かつ低熱膨張性で耐熱性および耐湿性に優れた成形物を与えるエポキシ樹脂組成物を提供し、更にそれを用いた硬化成形物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂と硬化剤、またはこれらと無機充填材を主成分とするエポキシ樹脂組成物において、硬化剤成分として、平均粒子系が10μm以下である粉末状の4,4’−ジヒドロキシビフェニルを30wt%以上配合したエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】各種の用途に用いられる、外観、収率および経済性を高水準で両立するリン含有エポキシ樹脂およびリン含有エポキシ樹脂組成物、およびその硬化物の提供。
【解決手段】ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用い、特定の条件で測定されるクロマトグラム上の式(1)で表される成分のピーク面積(A)と式(1)より高分子側のピーク面積(B)およびピーク面積(A)とピーク面積(B)の合計面積(C)において、ピーク面積(B)を合計面積(C)で除した値が8面積%以下である式(1)で示される化合物と式(2)で示される化合物とを反応して得られる式(3)で示されるリン含有フェノール化合物及び該リン含有フェノール化合物を必須成分とするエポキシ樹脂組成物及び硬化物。 (もっと読む)


【課題】難燃性に優れ、かつ硬化性に優れ、高いガラス転移温度(Tg)を有する硬化剤およびその製法、並びにその用途を提供すること。
【解決手段】 下記式(1)のフェノール系重合体。
【化1】


(Rは、H、アルキル基又はアリール基、n+mは2〜6、Rは、下記の基)
【化2】


フェノール系重合体の製造方法は、式(2)のフェノール類と、式(3)のビフェニル化合物と、式(4)の芳香族アルデヒド類を、縮合反応させた後、未反応のフェノール類を除去する製造方法。 (もっと読む)


【課題】柔軟性、耐熱衝撃性に優れる硬化物を与えるダイボンド剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)式(1)の繰り返し単位を含む重合体を100質量部(B)成分(A)のRと反応性の基を有する硬化剤を、該反応性の基の当量のRの当量に対する比が0.8〜1.2となる量(C)重合開始剤を0.1〜10重量部、及び(D)硬化促進剤を0.1〜10重量部含む、ダイボンド剤組成物。


[Rは水素原子またはエポキシ基、(メタ)クリロイル基を含む有機基を表す。] (もっと読む)


【課題】本発明は、狭ピッチの基板に対応でき、且つ、高絶縁性、良好な電気的特性(低誘電率、低誘電損失)等各種物性を満足するソルダーレジストを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、ソルダーレジスト組成物中に重量平均分子量が1,000以上のポリベンゾオキサジン樹脂を含有し、かつ前記ポリベンゾオキサジン樹脂100重量部に対して、エポキシ樹脂を3〜100重量部含むことを特徴とする熱硬化性ソルダーレジスト用組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】加圧熱水で処理した植物の抽出成分とエポキシ化合物とを含有する植物由来組成物を用いて効率良く硬化反応を進行させることができ、高い耐熱性を有する植物由来樹脂成形品を提供する。
【解決手段】少なくとも1つのフェノール性水酸基を有するフェノール性成分を含む、160〜400℃、0.8〜30MPaの加圧熱水で処理した植物の抽出成分と、エポキシ化合物とを含有する植物由来組成物を110〜150℃で加熱して半硬化物とし、当該半硬化物を130〜170℃で成形したものであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】200℃以下程度の比較的低温で硬化可能な低温硬化性組成物の提供。
【解決手段】下記式(1)に示すトリアザ環化合物、例えばビスフェノールA、レゾルシノール等のフェノール化合物、及びグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、多官能エポキシ樹脂、高分子型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂を含有する低温硬化性組成物。


・・・(1)前記式(1)中、Rは炭素数10以下の有機基である。 (もっと読む)


【課題】エポキシ樹脂組成物にした際に溶解性が良好であり、かつ、エポキシ樹脂硬化物に高い耐熱性を付与できるカリックスアレーン誘導体、及びそれを用いたエポキシ樹脂用硬化剤を提供する。
【解決手段】式(I−1)で示されるカリックスアレーン誘導体。
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【課題】エポキシ樹脂、その硬化剤および高熱伝導性充填剤を含有してなる高熱伝導性エポキシ樹脂系組成物であって、充填剤を多量に配合しながら比較的低粘度を保ち、比較的低温で短時間に硬化し、かつ一成分型組成物としての貯蔵安定性にもすぐれたものを提供する。
【解決手段】室温で液状であるエポキシ樹脂、潜在性硬化剤、高熱伝導性充填剤および非イオン性界面活性剤を含有する高熱伝導性エポキシ樹脂系組成物。好ましくは、潜在性硬化剤が室温で液状であるエポキシ樹脂と、その少なくとも一部を混合させてマスターバッチ化して用いられる。 (もっと読む)


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