【課題】反応後のクリーニングステップにおいて、残留触媒またはその承継生成物（successor product）による触媒に起因する欠点により阻害されず、顔料の非常に良好な分散と、バインダーに対する幅広い相溶性とを組み合わせる、コポリマーを提供する。
【解決手段】異なるイオン密度の３つのセグメントを含むコポリマーに関し、各セグメント中のイオン性モノマー分率は１〜１００ｍｏｌ％であり、第２のセグメントおよび第３のセグメントはそれぞれ先行するセグメントのエチレン性不飽和モノマーを含有し、ＮＭＰまたはＲＡＦＴにより単官能性開始剤を用いて製造可能なコポリマーに関する。本発明はさらに、当該コポリマーを製造するプロセスと、分散剤としてのその使用とに関する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、特別な反応試剤を用いることなく簡便なプロセスで経済的に重合体を製造することができると共に、物性を低下させる原子を含有しておらず、かつ、両末端水酸基が１級水酸基のみ或いは１級及び２級水酸基である重合体を調節しながら製造できる、両末端水酸基アクリル酸化合物重合体の製造法を提供すること、更に両末端の水酸基が１級のみ或いは１級及び２級である新規な両末端水酸基アクリル酸化合物重合体を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明の課題は、（１）アクリル酸化合物をＯＨラジカルを開始剤としてラジカル重合反応させることを特徴とする両末端に水酸基を有するアクリル酸化合物重合体の製造法、（２）過酸化水素と第一鉄塩をＯＨラジカル発生剤として用いる前記製造法、（３）反応溶媒にアセトニトリルと水の混合溶媒或いはエタノールと水の混合溶媒を用いる前記いずれかの製造法などにより解決される。 （もっと読む）

【課題】狭い分子量分布を有する水素化ニトリルゴム、その使用およびその製造方法を提供する。
【解決手段】新規の方法により、非常に狭い分子量分布と、それに対応して低い多分散指数値とを特徴とする新規の水素化ニトリルゴム（Ｂ）を製造する。本製造方法は超音波を使った水素化ニトリルゴム（Ａ）の処理を含み、その結果得られる水素化ニトリルゴム（Ｂ）は、水素化ニトリルゴム（Ａ）より低い重量平均分子量（Ｍ_ｗ）を有する。得られた水素化ニトリルゴム（Ｂ）は、押出法または射出成形法での加工による成形品の製造に対して優れた適性を有する。 （もっと読む）

本発明の連続バルク重合方法は、複数の遊星スピンドルにより包囲され、かみ合わされたメインスピンドルを備えた複数の混合部を設けた遊星ローラー押出機を準備する工程と、第１供給部にモノマー及び重合開始剤を導入する工程と、均一組成物を製造する工程と、フリーラジカル重合を開始するために組成物を加熱する工程と、一以上の残りの混合部にモノマー及び重合開始剤を導入し、重合を継続する工程と、重合された組成物を排出する工程と、遊星ローラー押出機から排出された組成物の一部を任意に取り出し、第１混合部に戻す工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒に可溶性であり、高光透過率かつ低屈折率であり、しかも表面処理や接着剤の使用などを必要とはせず、それ自体各種基材に対して良好な接着性を有する含フッ素共重合体を提供する。
【解決手段】CF₂=CFORfCOOR (Rf：炭素数1〜24のフルオロアルキレン基、フルオロアルキルエーテル基、フルオロアルコキシフルオロアルキルエーテル基、R：水素原子、炭素数1〜24のアルキル基、アラルキル基またはアリール基)で表わされる末端カルボン酸基を有する含フッ素ビニルエーテル20重量％以上とこれ以外の含フッ素不飽和単量体の少なくとも一種80重量％以下との共重合体である含フッ素共重合体。末端カルボン酸基を有する含フッ素ビニルエーテルとしては、一般式 CF₂=CF[OCF₂CF(CF₃)]_bO(CF₂)_aO[CF(CF₃)CF₂O]_cCF(CF₃)COOR (a：0〜10、b+c：0〜8)で表わされる含フッ素ビニルエーテルが好んで用いられる。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの高分子ポリカルボン酸の水分散液と、少なくとも１つのアミン化合物であって、前記アミン化合物の分子量が約２００００ｇ／モルを超えない少なくとも１つのアミン化合物と、少なくとも１つの活性化シランとを含有した組成物に関する。本発明に係る組成物は、結合さえ多鉱滓綿の製造用のホルムアルデヒドフリーバインダとして適している。 （もっと読む）

本発明は、溶媒、触媒および助触媒の存在下でオリゴマー化反応器においてエチレンをオリゴマー化して線状アルファ・オレフィンを形成する方法であって、反応生成物から分離される線状アルファ・オレフィンまたはアルファ・オレフィンを含有する反応生成物を、その冷却のために熱交換器に通過させる方法において、熱交換器の壁温を、線状アルファ・オレフィンの流動点よりも高く調節することを特徴とする方法に関する。 （もっと読む）

【課題】高純度の（メタ）アクリル酸系水溶性重合体を工業的に容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸系水溶性単量体を水溶液重合して（メタ）アクリル酸系重合体を製造するに際し、重合後の反応液中の重合体の単量体換算濃度が３８〜７２重量％となるのに必要な（メタ）アクリル酸系水溶性単量体、重合開始剤及び次亜リン酸（塩）を水性媒体中に逐次導入して重合した後、中和する。このとき、上記（メタ）アクリル酸系水溶性単量体に加えて、全単量体に対して３０モル％未満である、不飽和スルホン酸系単量体を除く、（メタ）アクリル酸系水溶性単量体以外の他の単量体を用いる。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、解像力、ラインエッジラフネスが改良され、且つ液浸露光に於いてラインアンドスペースパターンを良好に解像し得るレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するレジスト組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、特定構造のモノマーによる繰り返し単位を有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

（ａ）溶液相中、有機アルミニウム化合物、及び触媒成分として遷移金属化合物を含む触媒系の存在下で、１種以上のα−オレフィンを重合し；
（ｂ）工程（ａ）から得られたポリマー溶液を、次に、ねじポンプによって、ポリマーから未反応のモノマーを除去するための次の工程に圧送する；
工程を含み、ねじポンプの上流の供給点においてポリマー溶液に水を加えることによって、ねじポンプのポンプ能力を一定に維持する、式：ＣＨ_２＝ＣＨＲ（式中、Ｒは、Ｈ又はＣ_１〜Ｃ_１２アルキル基である）の１種以上のα−オレフィンを重合して、反応媒体中に可溶のポリマーを製造するための溶液法。 （もっと読む）

本発明は、混合アルファオレフィンを活性化メタロセン触媒系のフィードとして採用し、潤滑剤成分において、または機能性流体として特に有用な基本的にランダムな液体ポリマーを提供する、改良されたプロセスを開示するものである。 （もっと読む）

本発明は、各例においてエチレン性不飽和モノマーの合計質量に対してａ）０〜４０質量％の、式中Ｒが水素またはメチルであり、Ｒ¹が１〜５個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖アルキル基であり、Ｒ²およびＲ³が独自に水素または化学式−ＣＯＯＲ'の基であり、その式中Ｒ'が１〜５個の炭素原子を有する水素またはアルキル基である化学式（Ｉ）の１つ以上のエチレン性不飽和エステル化合物、ｂ）１０〜９９．９質量％の、式中Ｒが水素またはメチルであり、Ｒ⁴が６〜１５個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖アルキル基であり、Ｒ⁵およびＲ⁶が独自に水素または化学式−ＣＯＯＲ''の基であり、その式中Ｒ''が６〜１５個の炭素原子を有する水素またはアルキル基である化学式（ＩＩ）の１つ以上のエチレン性不飽和エステル化合物、ｃ）０〜８０質量％の、式中Ｒが水素またはメチルであり、Ｒ⁷が１６〜３０個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖アルキル基であり、Ｒ⁸およびＲ⁹が独自に水素または化学式−ＣＯＯＲ'''の基であり、その式中Ｒ'''が１６〜３０個の炭素原子を有する水素またはアルキル基である化学式（ＩＩＩ）の１つ以上のエチレン性不飽和エステル化合物、ｄ）０．１〜３０質量％の、式中Ｒが水素またはメチルであり、Ｘが酸素、硫黄または化学式−ＮＨ−または−ＮＲ^a−のアミノ基であり、その式中Ｒ^aは１〜４０個の炭素原子を有するアルキル基であり、Ｒ¹⁰が２〜１０００個の炭素原子を包含し少なくとも２個のヘテロ原子を有する基であり、Ｒ¹¹およびＲ¹²が独自に水素または化学式−ＣＯＸ'Ｒ^10'であり、その式中Ｘ'は酸素または化学式−ＮＨ−または−ＮＲ^a'−のアミノ基であり、その式中Ｒ^a'は１〜４０個の炭素原子を有するアルキル基であり、Ｒ^10'は１〜１００個の炭素原子を包含する基である化学式（ＩＶ）の１つ以上のエチレン性不飽和極性エステル化合物、ｅ）０〜５０質量％のコモノマーからなるモノマー組成物を重合することによって得ることのできるコポリマーに関する。
（もっと読む）

コーティング組成物は、ビニルまたはアクリルポリマー中に分散された少なくとも１種の材料を含有し、その際、ビニルまたはアクリルポリマーは、（ａ）イオン化可能な官能基または活性の水素官能基または分散された材料との共有結合を形成する官能基を有する、１種またはそれ以上のアンカー基モノマー単位（ａ）、その際、イオン化可能な官能基は、カルボニル炭素が最も近いエチレン性不飽和炭素と少なくとも４個の原子により分離されているカルボン酸基以外であり、かつ該アンカー基モノマー単位（ａ）は、ポリオキシアルキレン基を有するもの以外であり；（ｂ）カルボニル炭素が最も近いエチレン性不飽和炭素と少なくとも４個の原子によって分離されているカルボン酸基、ポリオキシアルキレン基、γ−ヒドロキシカルバメートまたはβ−ヒドロキシカルバメート基およびこれらの組合せ物を有する、１種またはそれ以上の安定化剤モノマー単位（ｂ）約５質量％〜約４５質量％；および（ｃ）約５０質量％までの芳香族モノマー単位、を含有する。 （もっと読む）

（Ａ）式：


で示される，α位がＸ基で置換されている含フッ素単量体、および（Ｂ）活性水素と反応可能な官能基を有する単量体からなるメーソンリー処理用含フッ素重合体は、優れた撥水撥油性および防汚性をメーソンリーに付与する。
（もっと読む）

【課題】優れた濾過特性を有し、レジスト塗布膜上の欠陥の数を大幅に低減できるだけでなく、経時によるレジスト液の変質によるレジスト塗布膜上の欠陥も大幅に低減でき、長期保存安定性を有する半導体塗布膜用溶液を提供する。
【解決手段】粗樹脂（１）を４０〜９０℃で活性炭と接触させ、その後珪藻土類及び／又はシリカゲル類と接触させることにより得られる処理済樹脂（１）を含むことを特徴とする半導体塗布膜用溶液。該半導体塗布膜用溶液が化学増幅型レジスト組成物であり、処理済樹脂（１）とともに、酸発生剤及び溶媒を含む前記記載の半導体塗布膜用溶液。 （もっと読む）

【課題】 塗装作業性や仕上がり性が良好で、付着性、耐水性、さらには耐水付着性に優れた塗膜を形成するのに適する水性塗料組成物を提供する。
【解決手段】 (Ａ）一般式（１）で表されるリン酸基含有重合性不飽和モノマー０．１〜１０重量％、（ｂ）炭素数が６以上の直鎖状又は分岐状の炭化水素基含有重合性不飽和モノマー１〜５０重量％、（ｃ）水酸基含有重合性不飽和モノマー１〜４０重量％、（ｄ）カルボキシル基含有重合性不飽和モノマー０．１〜１５重量％及び（ｅ）その他の重合性不飽和モノマー０〜９７．８重量％を親水性有機溶剤の存在下で重合開始剤により共重合することにより得られる水性アクリル樹脂、並びに（Ｂ）水性ウレタン樹脂を含有し、樹脂（Ａ）と樹脂（Ｂ）の配合割合が、樹脂（Ａ）／樹脂（Ｂ）固形分重量比で、１／９９〜５０／５０の範囲内であることを特徴とする水性塗料組成物。 （もっと読む）

本発明は、複数の不飽和基を含む架橋剤を用いた、溶媒可溶性のポリマーの合成に関するものである。本発明は、２つの目的を果たす。すなわち、剛性及びさらなる変性用の官能基を付与する。この選択重合は、有機並びに水性媒体中で、油溶性／水溶性開始剤の存在下で、熱／光化学的のどちらかで、ビニルモノマーを架橋剤の包接複合体と共重合させることを含む。用いられる架橋剤は、アクリルアミド／メタクリルアミド誘導体である。架橋剤の包接複合体を、第一段階において所望のモノマーと重合させ、そして第二段階において架橋させることができる。上記架橋剤の含有率は、０．０１〜９９．９９％であり、可溶性コポリマーが得られる。 （もっと読む）

（ａ）２以上の官能基を有する１種以上の多官能性アクリレート、（ｂ）１種以上のモノアクリレートモノマー、（ｃ）１種以上のヘテロ原子含有ジアクリレート（ここで、ヘテロ原子はイオウ又はセレンである）及び（ｄ）硬化剤からなる硬化性組成物が発見された。この硬化性組成物は、調光装置及びその他の光学装置に使用するのに適切な高屈折率材料の前駆体として見込みがある。加えて、新規な硬化性組成物は、ディスプレイフィルム、特に輝度向上ディスプレイフィルムを形成する際に有用となり得るコーティングを製造するのに有用である。 （もっと読む）

本発明は、得られる硬化体の特性を改善することができる含フッ素ポリマー組成物を提供する。メチレン基含有含フッ素ポリマー（Ａ）及びヒドロシリル化反応触媒（Ｂ）からなる含フッ素ポリマー組成物であって、上記メチレン基含有含フッ素ポリマー（Ａ）は、メチレン基を有する繰り返し単位を主鎖中に有し、上記ヒドロシリル化反応触媒（Ｂ）の存在下にヒドロシリル化反応をするものであり、鎖の一端が炭素−炭素二重結合又はＳｉ−Ｈ基であり、鎖の他端がＳｉ−Ｈ基又は炭素−炭素二重結合であるものであることを特徴とする含フッ素ポリマー組成物である。 （もっと読む）

本発明は、セメント粉砕助剤の形態で用いられ、有効に粉砕時間を短縮可能にし且つ優れた特性を示すセメントを得ることを可能にする、水性ポリマー組成物に関する。ポリマーＡと公知のセメント粉砕助剤の組み合わせを含むセメント粉砕助剤もまた開示される。 （もっと読む）