【課題】 硬化時に反りが生じ難く、長時間にわたり荷重が加わった際にも経時でエラーが回復することにより好適に信号再生が可能な光ディスクを提供する。
【解決手段】 ３官能以上の多官能の脂肪族ポリオールを使用した多官能ウレタン（メタ）アクリレートを（メタ）アクリレートオリゴマーとして含有する紫外線硬化型組成物により、低弾性かつ低ガラス転移温度の硬化膜を形成でき、荷重が加わった際にも好適にエラーが回復し、更に硬化時の反りが少ない光ディスクを実現できる。 （もっと読む）

コポリマーは、相互接続された細孔を画定し、重合済みのモノマーを含む。該モノマーは、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）よりも高い親水性を有する第１のモノマーと、ＨＥＭＡと同等の親水性又はＨＥＭＡよりも低い親水性を有する第２のモノマーとを含む。ポリマーを形成する方法では、水、界面活性剤、及び多孔性コポリマーを形成するための共重合可能なモノマーの組合せを含む両連続マイクロエマルションを用意する。モノマーの組合せは、第１と第２のモノマーを含む。両連続マイクロエマルションにおけるモノマーを、多孔性コポリマーを形成するために重合する。第１のモノマーは、Ｎ−ビニルピロリドン（ＮＶＰ）又はメタクリル酸（ＭＡＡ）を含むことができる。第２のモノマーは、ＨＥＭＡ又はメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】 光硬化物の除去性に優れた光ナノインプリントリソグラフィ用感光性樹脂組成
物、レジストパターンの形成方法、微細構造体及び光硬化物の除去方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性化合物及び（Ｂ）光重合開始剤を含有する光ナノインプリン
トリソグラフィ用感光性樹脂組成物であって、前記（Ｂ）光重合開始剤が、第一の活性光
線を照射した時に活性種を生じる化合物を含有し、前記（Ａ）光重合性化合物が、２以上
の重合性基と、第一の活性光線よりも波長の短い第二の活性光線を照射したときに切断さ
れる結合を含む特性基と、を分子内に有する化合物を含有する、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 透明性に優れる硬化塗膜であって、指紋や埃などを簡単に除去することができ、傷付きにくく、有機溶剤にも侵されにくい硬化塗膜を形成し得る活性エネルギー線硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】 炭素数６から１１の脂肪酸よりなる脂肪酸エステル構造と、ポリアルキレンオキサイド鎖と、アクリロイル基またはメタクリロイル基とを有する活性エネルギー線硬化性４級アンモニウム塩（Ａ）と、前記活性エネルギー線硬化性４級アンモニウム塩（Ａ）とは異なる活性エネルギー線硬化性化合物（Ｂ）と、を含有する活性エネルギー線硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体装置に用いられる基板の微細加工に適した感光性樹脂組成物の提供にある。
【解決手段】本発明のある態様の感光性樹脂組成物は、(ａ）ベースポリマーと、（ｂ）光重合性アクリル系モノマーと、（ｃ）光重合開始剤と、を含む。以下、感光性樹脂組成物の各成分について詳述する。ベースポリマーは、アクリル酸またはメタクリル酸を変性したエチレン性不飽和基を有する構成ユニットを４０質量％以上含有する。光重合性アクリル系モノマーの含有量は、上述したベースポリマーを基準として、２５〜１００質量％が好ましい。光重合開始剤として、オキシム系光重合開始剤が好適に用いられる。 （もっと読む）

【課題】セメント組成物に対して高い分散性能を発現することができるセメント混和剤であり、また、特定の末端構造のポリアルキレン鎖を有する不飽和ポリアルキレングリコールエーテル系単量体を調製して当該単量体に由来する構造をもつポリカルボン酸系共重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】不飽和ポリアルキレングリコールエーテル系単量体由来の構成単位と不飽和カルボン酸系単量体由来の構成単位とを必須構成単位とするポリカルボン酸系共重合体であって、該不飽和ポリアルキレングリコールエーテル系単量体由来の構成単位は、下記一般式（１）：


（式中、Ｒ^１Ｏは、同一又は異なって、炭素数２〜１８のオキシアルキレン基を表す。ｎは、オキシアルキレン基の平均付加モル数であり、１００〜３００の数である。Ｒ^２は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）で表される単量体由来のものであるセメント混和剤用ポリカルボン酸系共重合体。 （もっと読む）

【課題】熱転写リボンの保護層、例えばバックの組成物であって、溶媒フリーな、そして、リボンの幅及び長さの両方向に沿って完璧に均一なバックを、バッキングフィルムを加熱することもなく作製することのできる組成物を提案すること。
【解決手段】以下の成分：ａ）紫外線架橋性のポリエーテルアクリレートと紫外線架橋性のウレタンポリアクリレートとの混合物であって、３以下の官能基、好ましくは３官能基を含む混合物；、ｂ）少なくとも一つのジアクリレート又はトリアクリレートモノマーの形をした前記混合物ａ）の希釈剤であって、紫外線架橋性であり、好ましくは、該モノマーが２５℃で２００ｍＰａ．ｓ以下の粘度を有している希釈剤；、ｃ）組成物中で１０重量％以下の濃度の液状スリップ剤；を含んでいることを特徴とする、溶媒フリーな熱転写リボン保護層の組成物であって、コートされ、光開始剤ｄ）の存在下で紫外線照射により架橋するか、或いは電子線架橋した後、１μｍ未満の厚さを有する保護層を形成することができる組成物。 （もっと読む）

【課題】印刷配線板、リードフレーム、半導体パッケージ等の製造、金属の精密加工等の分野において、エッチングレジスト、めっきレジスト等のレジスト材料として特に優れた高解像性と高密着性を有し、更にレジスト剥離性にも優れた光重合性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、かつ、重量平均分子量が５千〜５０万であるバインダー用樹脂：２０〜９０質量％、（ｂ）下記一般式（Ｉ）で表されるイミド化合物Aを含む光重合可能な不飽和化合物：３〜７０質量％、及び（ｃ）光重合開始剤：０．１〜２０質量％を含有する感光性樹脂組成物。
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【課題】放射線によって硬化し、高硬度、耐擦傷性、密着性、透明性に優れ、マジック拭取り性、指紋拭取り性が良く、低屈折率で反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有する反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
Ｒ_eＳｉ（ＯＲ₁）₃ （１）
（式中Ｒ_eは、エポキシ基を有する置換基を示す。Ｒ₁はC₁〜C₄のアルキル基を示す。）で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物を、塩基性触媒の存在下に、縮合させて得られるケイ素化合物（Ａ）、平均粒子径が１〜２００ナノメートルのナノポーラス構造を有するコロイダルシリカ（Ｂ）、分子内に感光性基を有するフッ素化合物（Ｃ）、分子内に少なくとも３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光カチオン重合開始剤（Ｅ）、及び光ラジカル重合開始剤（Ｆ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性を有すると共に、クラックを発生させず、形状安定性も優れ、かつ熱に対して安定で黄変が発生せず、密着性にも優れた光学部品用樹脂を製造するための原料組成物および光学部品を提供する。
【解決手段】特定の構造を有する、アダマンチル基を含む（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と低分子量の（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）及び下記一般式（III）で表されるシラン系（メタ）アクリレート化合物（Ｃ）を含有する光学部品用樹脂原料組成物である。
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【課題】 指紋が付着しづらい性能を有する光ディスクの最外層を形成可能な紫外線硬化型組成物及び光ディスクを提供する。
【解決手段】
アルキル基中の全ての水素原子がフッ素原子に置換されたパーフルオロアルキル基を含有するフッ素含有（メタ）アクリレートと、アルキレンオキサイド基を有する（メタ）アクリレート化合物とを共重合した、重量平均分子量が２，０００〜１００，０００のフッ素含有アクリル共重合体を使用することにより、当該フッ素系アクリル共重合体が紫外線硬化型組成物中に好適に相溶して塗膜の表面ないしその近傍に好適に偏在し、優れた耐指紋付着性を実現できる。 （もっと読む）

【課題】熱刺激によって、速い速度で膨潤度が変化する又はゲル表面の水滴接触角が大きく変化する熱応答性高分子ゲルおよび熱応答性高分子ゲルフィルムを提供する。
【解決手段】熱刺激によって、質量が、３００秒以内に最大含水状態から当該最大含水状態の２０％以下まで減少するか、熱刺激の前後での表面の水滴接触角差が、２０°以上である熱応答性高分子ゲル、および当該熱応答性高分子ゲルをフィルム状に形成してなる熱応答性高分子ゲルフィルム。 （もっと読む）

【課題】熱刺激によって透明度が変化する熱応答性高分子ゲルフィルムを提供する。
【解決手段】熱刺激の前後での全光線透過率の差が、５０％以上であることを特徴とする熱応答性高分子ゲルフィルム。熱刺激の温度は、室温以上、１００℃以下であることが好ましい。熱応答性高分子ゲルフィルムは、１０質量％以上の水分を含むことが好ましく、熱応答性高分子ゲルフィルムを構成する材料は、ロタキサン構造を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】簡便に製造し得るインターロック構造を有する高分子架橋体およびその製造方法、特に綺麗なフィルム状の高分子架橋体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】２個以上の環状部分を有するポリマーと、一方の末端にブロック基を有し他方の末端に重合性官能基を有する直鎖状分子及び／又は両末端に重合性官能基を有する直鎖状分子とを混合し、その全部又は一部について包接錯体を形成させ、次いで、上記重合性官能基と、下限臨界溶液温度を有しない水溶性（メタ）アクリル酸系モノマーとを共重合し、インターロック構造を有する高分子架橋体を得る。 （もっと読む）

【課題】簡便に製造し得る刺激応答性高分子架橋体、新規な刺激応答性高分子架橋体、およびそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】２個以上の環状部分を有するポリマー（Ａ）と、一方の末端にブロック基を有し他方の末端に重合性官能基を有する直鎖状分子（Ｂ）とを混合し、少なくとも一部に包接錯体を有する高分子架橋前駆体（Ｃ）を製造し、次いで、直鎖状分子（Ｂ）の重合性官能基を介して、当該直鎖状分子（Ｂ）と刺激応答性化合物（Ｄ）とを共重合し、ロタキサン構造を含む刺激応答性高分子架橋体（Ｅ）を得る。 （もっと読む）

エチレン系不飽和加水分解性シラン、エチレン系不飽和ポリオキシアルキレン、エチレン系不飽和フッ素化ポリエーテル、及び反応開始剤を含む反応混合物から調製されるコポリマーを含むコーティング組成物が開示されている。コーティング組成物は、硬化性ゾルゲル分散体もまた含み得る。コーティング組成物を使用して、ハードコートを調製することができる。 （もっと読む）

【課題】硬化物の水に対する溶解性が良好で、特にインクジェット光造形法による支持体の形成用材料として有用な光硬化性液状樹脂組成物を提供する。
【解決手段】組成物の全量１００質量％に対して、（Ａ）（メタ）アクリロイル基を１つ有する（メタ）アクリルアミド１５〜９９質量％、（Ｂ）連鎖移動剤０．１〜５質量％、（Ｃ）光重合開始剤０．５〜１０質量％、を含有する光硬化性液状樹脂組成物。（Ａ）成分は、例えば、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミドから選択される一種以上である。 （もっと読む）

【課題】 通常の製造設備を用い、副生成物の生成を抑制しつつ、高分子量のアルキレンオキサイド付加物を得ることができる、アルキレンオキサイド付加物の製造方法、および、その誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るアルキレンオキサイド付加物の製造方法は、水酸基含有飽和化合物にアルキレンオキサイドを付加反応させてアルキレンオキサイド付加物を得る方法であって、水酸基含有飽和化合物１モルに対して平均２０モル以下のアルキレンオキサイドを付加させてアルキレンオキサイド低モル付加物を得る初期工程と、前記初期工程で得られたアルキレンオキサイド低モル付加物にアルキレンオキサイドをさらに付加させる付加モル数調整工程とを含み、前記付加モル数調整工程では前記初期工程で得られたアルキレンオキサイド低モル付加物全量中の一部の量を使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】硬度を容易に制御することができ、適度な硬度と基材への優れた付着性を有するコロイド結晶を効率よく且つ確実に製造することが可能なポリマーで固定化されたコロイド結晶の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記条件（Ａ）〜（Ｄ）：
（Ａ）複数のエチレン性二重結合を有する多官能モノマーと、エチレン性二重結合を１つ有する単官能モノマーと、平均粒径が０．０５〜５μｍであり且つ下記式（１）：
［単分散度（単位：％）］＝（［粒径の標準偏差］／［平均粒径］）×１００ （１）
で表される単分散度が１０％以下となるコロイド粒子とを含有すること；
（Ｂ）前記多官能モノマーの含有比率が前記多官能モノマーと単官能モノマーとの総量に対して１〜９５質量％であること；
（Ｃ）前記多官能モノマー及び前記単官能モノマーからなる群から選択される少なくとも１種のモノマーが非イオン性の親水性基を有する親水性モノマーであること；
（Ｄ）前記親水性モノマーの含有比率が前記多官能モノマーと単官能モノマーとの総量に対して８５質量％以上であること；
を満たす混合液中において、前記コロイド粒子を反射スペクトルにおいて反射ピークを有する３次元規則配列状態となるように分散させて、前記３次元規則配列状態のコロイド結晶が形成されたモノマー分散液を得る工程と、
前記モノマー分散液中の前記モノマーを重合させて、ポリマーで固定化されたコロイド結晶を得る工程と、
を含むことを特徴とするポリマーで固定化されたコロイド結晶の製造方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストに配合してもフォトレジストの硬化に悪影響を与えず、硬化したフォトレジストの耐エッチング性が良好で、更に発泡性の少ないフォトレジスト用の分散剤を提供すること。
【解決手段】下記の一般式（１）で表されるフォトレジスト用反応性分散剤。


（式中、Ｒは酸素原子及び／または窒素原子が入ってもよい炭素数８〜２２の炭化水素基を表し、Ｘは炭素数２〜４のアルキレン基を表し、ｍは２〜１００の数を表し、ｎは１または２の数を表し、Ｙは水素原子、アクリル基、メタクリル基のいずれかを表す。ただし、（ＸＯ）_ｍ中のオキシエチレン基の割合は５０質量％以上であり、Ｙはアクリル基またはメタクリル基のいずれかが１つ以上入っていなければならない。） （もっと読む）