【課題】水蒸気等の酸化剤中における焼成工程での収縮が小さく、シリカ膜の亀裂や半導体基板との剥離が発生しにくい無機ポリシラザン及び無機ポリシラザンを含有するシリカ膜形成用塗布液を提供すること。
【解決手段】¹Ｈ―ＮＭＲスペクトルにおいて、４．７５ｐｐｍ以上で５．４ｐｐｍ未満の範囲のピーク面積をＡとし、４．５ｐｐｍ以上で４．７５ｐｐｍ未満の範囲のピーク面積をＢとし、４．２ｐｐｍ以上で４．５ｐｐｍ未満の範囲のピーク面積をＣとしたとき、Ａ／（Ｂ＋Ｃ）の値が０．９〜１．５であり、（Ａ＋Ｂ）／Ｃの値が４．２〜５０であり、ポリスチレン換算値による質量平均分子量が２０００〜２００００である無機ポリシラザンをシリカ膜形成用塗布液に含有させる。 （もっと読む）

【課題】極めて優れた光沢、耐久性、耐油、耐水性、離型特性、耐熱性、耐蝕性および接着性を示す新規のポリシラザン／ポリシロキサン‐ブロック共重合体を提供する。
【解決手段】ポリシラザンとポリシロキサンを含む反応混合物からポリシラザン／ポリシロキサン‐ブロック共重合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング耐性の高い微細パターンを形成させるための組成物の提供。
【解決手段】シラザン結合を有する繰り返し単位を含んでなる樹脂と、溶剤とを含んでなる微細パターン形成用組成物とそれを用いた微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高屈折率、高透過率を同時に満足するシリカ質膜と、それを製造するためのポリマーの提供。
【解決手段】スルホン化フェニル基を有するシルセスキアザンを構成単位に含むシルセスキアザンポリマー。構成単位として非置換フェニル基を有するシルセスキアザンを含んでもよい。さらに、このポリマーを含む組成物を基材に塗布し、焼成することにより、高屈折率の被膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】埋設性と塗布性とに優れ、すぐれた膜物性を有するシリカ質膜を形成することができるコーティング組成物とそれを用いたシリカ質膜の形成方法の提供。
【解決手段】ペルヒドロポリシラザンと溶媒とを含んでなるコーティング組成物であって、前記ペルヒドロポリシラザンの分子量分布曲線が、分子量８００〜２，５００の範囲と、分子量３，０００〜８，０００の範囲とにそれぞれ極大を有し、重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎの比Ｍｗ／Ｍｎが６〜１２である、コーティング組成物。このコーティング組成物ギャップを有する基板上に塗布し、１０００℃以下で加熱することにより、ギャップ深部まで埋設されたシリカ質膜を形成させることができる。 （もっと読む）

硬化性オリゴマー及び／又はポリマーポリシラザンの調製プロセスは、（ａ）少なくとも１つのジハロシランを少なくとも１つの塩基と反応させることにより少なくとも１つのジハロシラン−塩基付加生成物を形成する工程と、（ｂ）所望により、少なくとも１つのジハロシラン−塩基付加生成物と少なくとも１つの有機ジハロシランを混ぜ合わせる工程と、（ｃ）少なくとも１つのジハロシラン−塩基付加生成物、又は得られた少なくとも１つのジハロシラン−塩基付加生成物と少なくとも１つの有機ジハロシランの混合物のアンモノリシスを行う工程と、を含み、ただし、塩基を、（１）ジハロシラン中のケイ素−ハロゲン結合の化学量論量の２倍以下の制限量でジハロシラン−塩基付加生成物の形成に用い、又は（２）この制限量より多い量でジハロシラン−塩基付加生成物の形成に用い、アンモノリシスに先立ち、得られた反応済み又は未反応の塩基の全量をこの制限量以下に減少させる。 （もっと読む）

本発明は、アクリロニトリル、またはアクリロニトリル及びアクリロニトリルと共重合せしめ得る有機分子の混合物と、少なくとも１種のモノマー態、オリゴマー態及び／またはポリマー態シラザンとを、共に転化せしめることにより得られる共重合体に関し、その場合、該シラザンは少なくとも１個のビニル型二重結合を含んでいる。この共重合体は、繊維形態にすること、及び／または非溶融性に変えることができる。繊維形態の共重合体を用いて、熱分解によりセラミック繊維を製造することができる。 （もっと読む）

ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、式（Ｉ）のポリシラン単位、及び式（ＩＩ）のポリシラザン単位を含有し、式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立してＨ、Ｓｉ、及びＮ原子から選択され、Ｒ^３はＨ、Ｓｉ、又はＣ原子から選択され、ａ≧１であり、ｂ≧１であり、（ａ＋ｂ）≧２である。ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、溶媒を含む組成物に製剤することができる。ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、ＰＭＤ及びＳＴＩ用途において１００ｎｍ以下の幅及び少なくとも６のアスペクト比を有する溝を充填するために用いることができる。ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、１分子当たり２個以上のケイ素原子を有するペルクロロポリシランの第１級アミンでのアミノ化により調製することができる。

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【課題】水蒸気中における焼成工程での収縮が小さく、シリカ被膜の亀裂や半導体基板との剥離が発生しにくい絶縁膜形成用塗布液、それを用いた絶縁膜およびそれに用いる化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、ＳｉＨ_３基に由来する４．３〜４．５ｐｐｍのピーク面積に対する、ＳｉＨ_１基とＳｉＨ_２基とに由来する４．５〜５．３ｐｐｍのピーク面積の比が、４．２〜５０である無機ポリシラザンと、有機溶媒とを有する絶縁膜形成用塗布液である。絶縁膜は、上記絶縁膜形成用塗布液を用いて得る。無機ポリシラザンは、ジハロシラン化合物、トリハロシラン化合物、又はこれらの混合物と塩基とを反応させてアダクツを形成した後、アダクツの溶液または分散液にアンモニアを−５０〜−１℃にて反応させることにより得る。 （もっと読む）

（ａ）少なくとも１つの主表面を有する少なくとも１つの基材を用意する工程と、（ｂ）（１）及び（２）を組み合わせる工程と、（１）少なくとも１つの化学的反応性部位を含む、少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザン、（２）（ｉ）及び（ｉｉ）を含む、少なくとも１つのフルオロケミカル化合物、（ｉ）少なくとも約６個の全フッ素化炭素原子を含む少なくとも１つの有機フッ素又はヘテロ有機フッ素部分、（ｉｉ）少なくとも１つの前記化学的反応性部位を通して前記ポリシラザンと反応することができる少なくとも１つの官能基、（ｃ）前記ポリシラザンと前記フルオロケミカル化合物とを反応させて又は反応を誘導して、少なくとも１つの硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを形成する工程と、（ｄ）前記硬化性有機フッ素変性ポリシラザン又はその前駆体を前記基材の少なくとも１つの主表面の少なくとも一部に塗布する工程と、（ｅ）前記硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを硬化させて表面処理を形成する工程と、を含む、表面処理方法。 （もっと読む）

（ａ）少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンと、（ｂ）少なくとも１つのフルオロケミカル化合物と、を含む、硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを調製するための組成物であって、前記少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンは、少なくとも１つの化学的反応性部位を含み、
（ｂ）前記少なくとも１つのフルオロケミカル化合物は、
（１）少なくとも１つの有機フッ素又はヘテロ有機フッ素部分、及び
（２）少なくとも１つの前記化学的反応性部位を通して前記硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンと反応することができる少なくとも１つの官能基、を含む、組成物。
硬化性有機フッ素変性ポリシラザンは、前記組成物の成分を組み合わせる工程、及び前記成分を反応させるか又は反応を誘導する工程によって調製することができる。 （もっと読む）

本発明は、２官能性、オリゴ観官能性、及び／又はポリ官能性のシナート及び／又はそのプレポリマーと、モのマー性、オリゴマー性、及び／又はポリマー性のシラザンの反応によって製造された、ハイブリッドプレポリマー及び−ポリマーに関する。このポリマーは、デュロマーであり、該デュロマーは、ガラス転移温度が高く、及びそれぞれのシアナート−出発材料から構成されるディユロマーと比較して、破断強さが非常に高い。これらは、プレポリマー化された状態で、溶媒に溶解し、及び従って、例えば含浸樹脂として、プレプレグのために適切である。更に、これらは、成形体に加工される。本発明の材料は、その火災特性が特に卓越している。 （もっと読む）

【課題】基体に形成されたトレンチ内にシリコン酸化物を埋め込むために使用するのに好適な、トレンチへの埋め込み性が高く、硬化収縮率が小さく、かつ良好なクラック耐性を有するシリコン酸化物塗膜を与えるトレンチ埋め込み用組成物を提供すること。
【解決手段】水素化ポリシラザン化合物と、シリカ粒子に由来する構造を有する反応物とを含むことを特徴とするトレンチ埋め込み用組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】高分子量を有しながらも溝の充填力が優れたポリシラザンおよびその合成方法、ポリシラザンを含む半導体素子製造用組成物およびその半導体素子製造用組成物を用いた半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ポリシラザンは、反応溶媒内に反応物として添加されたジクロロシラン、トリクロロシラン、およびアンモニアを触媒存在下で反応させることによって合成することができ、ポリスチレン換算重量平均分子量が２０００〜３００００であり、下記化学式（１）で示される。
【化１】


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【課題】常温硬化性で、プライマーなしで基材表面に強固な被膜を形成し、該被膜は撥水撥油性、離型性等の良好な性能を長期間にわたって保持する表面処理剤として有用なパーフルオロポリエーテル変性ポリシラザンを提供する。
【解決手段】下記の式（１）で表される単位のみからなるパーフルオロポリエーテル変性ポリシラザン。
【化１】


（式中、Ｑは２価の有機基、ｍは１以上の整数、ｘ及びｙはそれぞれ１〜３の整数である。） （もっと読む）

本発明は、ポリシラザンの組成物を有する少なくとも１つの濡れ表面を備えた、液体クロマトグラフィーを実施するためのデバイスおよびこのようなデバイスを作製する方法を特徴とする。
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【課題】 金属配線の抵抗値の経時変化が小さく、金属配線の断線の原因となる膜収縮が小さい低誘電率シリカ系被膜を基材上に形成する。
【解決手段】 （ａ）基材上に特定のポリシラザンと、アルコールおよびアルコール以外の有機溶媒とを含んでなり、アルコールの重量（Ｗ_AL）とポリシラザンの固形分としての重量（Ｗ_PS）との重量比（Ｗ_AL）／（Ｗ_PS）が０．０００１〜０．００５の範囲にあるシリカ系被膜形成用塗布液を塗布する工程、および、（ｃ）次いで飽和水蒸気を供給しながら、過熱水蒸気の存在下、塗布膜を１８０〜４５０℃の温度条件下で加熱処理する工程、からなる。 （もっと読む）

本発明は、構造的特徴Ｓｉ−Ｎ−Ｂを有するボロシリルアミン、及び構造的特徴Ｓｉ−Ｘ−Ｂを有するボロシリル炭化水素［ここでＸは、メチレン基又は炭化水素鎖Ｃ_xＨ_y又は環状の炭化水素単位であることができる］を、それらとジシラザンＲ₃Ｓｉ−ＮＲ−ＳｉＲ₃との反応により塩フリーで重合する新規方法に関する。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率を有し、耐熱性および耐溶剤性などに優れた、光学フィルムなどを形成するのに有用な新規なフルオレン骨格含有ポリマー、およびそのポリマーで形成された成形体を提供する。
【解決手段】９，９−ビス（３−メチルー４−ヒドロキシフェニル）フルオレン−ジクロロジフェニルシラン共重合体に代表される、特定のフルオレン骨格を含有するとともに、主鎖に特定のケイ素骨格を有するポリマー。さらに、該ポリマーから形成された成形体、特にフィルム。 （もっと読む）

【課題】 良好な特性を有するシリカ系絶縁膜やＬｏｗ−ｋ膜などの形成に適するポリシラザンまたはポリシラザン溶液の取り扱い方法を提供する。
【解決手段】 ポリシラザンまたはポリシラザン溶液の取り扱い方法は、外気から遮蔽され、且つアミン、塩基性物質、揮発性有機化合物、酸性物質を除去された空気を主たる空気の供給源とする第１空間内で、少なくともポリシラザンの合成およびポリシラザン溶液の調合を含むポリシラザンまたはポリシラザン溶液を取り扱う工程を含む。 （もっと読む）