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Fターム[4K023DA02]の内容

電気メッキ、そのためのメッキ浴 (5,589) | メッキ条件 (1,250) | 水素イオン濃度 (391) | 酸性 (223)

Fターム[4K023DA02]に分類される特許

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好ましくは自立型の形態である、非晶質Fe100−a−bホイル;めっき水溶液の電着又は電鋳によるその製造方法;変圧器、発電機、モーター、パルスアプリケーション、磁気遮蔽の構成要素としてのその使用。aは13〜24の実数であり、bは0〜4の実数であり、MはFe以外の少なくとも1種の遷移元素である。非晶質Fe100−a−bホイルは、次の各特性:X線回折法で立証されるように非晶質であること;20マイクロメートルより大きい平均厚さ;200〜1100MPaである引張強さ;120μΩcmより大きい電気抵抗;1.4Tより大きい高い飽和誘導(Bs)、40A/m未満の保磁場(Hc)、電力周波数(60Hz)及び少なくとも1.35Tのピーク誘導で0.65W/kg未満の損失(W60)、及び低いμH値について、10000より大きい高い相対透磁率(B/μH)のうち少なくとも1つ、を有する。 (もっと読む)


【課題】 微細回路配線を形成する上で重大な問題となっている、銅皮膜表面のザラツキや突起等の問題の無い酸性銅めっき方法を提供する。
【解決手段】 酸性銅めっき方法において、めっき浴中の一価銅濃度を直接的にモニターし、50ppm以下に維持しながらめっきを行う。一価銅濃度を直接モニターするには、発色試薬としてネオクプロイン試薬を添加し、吸光度を測定して定量する。 (もっと読む)


【課題】ロータリーピストンエンジンの燃焼室を構成するローターハウジングにおいて、Crめっき皮膜が形成された長円形状の内周面をシール部材が流体潤滑剤の存在下、長軸側内周面では短軸側内周面よりも小さな荷重で接触して且つ短軸側内周面よりも速い速度で周方向に摺動する摺動部材に関し、内周面の全周にわたって低摩擦化を図る。
【解決手段】ローターハウジング1の内周面3のCrめっき皮膜にクラックを形成し、長軸側内周面3aでは短軸側内周面3bよりも、クラック幅が大きく且つクラック数が多くなるようにする。 (もっと読む)


【課題】クロム層に対してより高い圧縮残留応力を安定して付与することができるクロムめっき装置を提供する。
【解決手段】パルス電源3内部のインダクタンスと、パルス電源3から第5,第6アノード電極Y5,Y6に至る配線のインダクタンスと、パルス電源3から第1,第10カソード電極K1,K10に至る配線のインダクタンスとを合計した往復インダクタンスを、0.5〜6.8μH範囲の所定値に設定するか、パルス波形の立上り・立下り時間の合計を0.04〜0.38ms範囲の所定値に設定し、アノード電極Yに挿入された各ワークWの表層部に250MPa以上の圧縮残留応力を有する、クラックのないクロム層を析出させる。 (もっと読む)


【課題】チップオンフィルム(COF)の折り曲げ実装時に求められる耐屈曲性において、MIT耐折性試験(JIS C 5016)により200回以上の折曲げ性が得られ、折曲げに対する耐久性に優れる半導体実装用の銅被覆ポリイミド基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】ポリイミドフィルム1の少なくとも片面に、スパッタリング法によってニッケル−クロム系合金層2及び銅層3を形成し、さらにその上に電気めっき法、或いは電気めっき法と無電解めっき法を併用する方法で銅皮膜4を形成してなる銅被覆ポリイミド基板において、前記銅皮膜4中の結晶の平均結晶粒径は、160〜700nmであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】析出効率を高く安定に維持することができ、クラックの発生が実用上問題にならないくらいに少なくて、良好なめっき皮膜を形成することのできるめっき方法を提供すること。
【解決手段】陰極側と陽極側の溶液を隔膜で分離し、陰極側に可溶性イリジウム塩を含有するめっき液を用い、陰極側の部材表面をめっきすることを特徴とするめっき方法。 (もっと読む)


【課題】 硫酸銅めっき浴を基本組成としながら、優れた均一電着性を有するめっき浴を得ることのできる手段を提供すること。
【解決手段】 40〜100g/Lの硫酸銅および150〜250g/Lの硫酸を含有する硫酸銅めっき基本組成に、下記式(I)または(II)


【化1】


(式中、RおよびRは、同一または異なって水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を、Rは、水酸基およびハロゲンを有する炭素数2〜4のアルキル基を示し、Xはハロゲン原子を示す)
で表される構造単位を有するポリアミン系化合物を添加してなることを特徴とするプリント基板用硫酸銅めっき液並びにスルーホールを有する銅張プリント基板を、当該硫酸銅めっき液中でめっきすることを特徴とするスルーホールを有するプリント基板のめっき方法。 (もっと読む)


【課題】めっき皮膜上のクラックの発生が少ないイリジウム・コバルト合金めっき液を提供すること。
【解決手段】可溶性イリジウム塩及び可溶性コバルト塩を含有することを特徴とするイリジウム・コバルト合金めっき液。 (もっと読む)


【課題】空気又は他の高濃度の酸素雰囲気中での高温による酸化を阻止できる磁気マイクロデバイスに用いることのできる磁性陽極酸化アルミニウムを提供する。
【解決手段】コバルト、白金、タングステン、リンからなる合金等を磁性材料として有する磁性陽極酸化アルミニウムは、磁性材料のナノワイヤ14のアレイ10がナノ細孔22内に形成された筐体を構成する陽極酸化アルミニウム層12を備える。ナノワイヤ14は、その側壁が酸化されるのを防止するために、陽極酸化アルミニウム層12のナノ細孔22内に埋め込まれている。 (もっと読む)


【課題】 酸性銅めっき処理において、ブラインドビアホールやスルーホールの内部やコーナー部のめっき付き回り性およびめっき面のレベリング性などのめっき外観のいずれにおいても優れた特性を与え、かつ下地不良にも対応できる新規なめっき用レベリング剤を提供する。
【解決手段】 ジアリルジアルキルアンモニウムアルキルサルフェイト単位と、(メタ)アクリルアミド類単位と、二酸化イオウ単位とを含むジアリルジアルキルアンモニウムアルキルサルフェイトと(メタ)アクリルアミド類と二酸化イオウとの共重合体からなるめっき用レベリング剤である。 (もっと読む)


本発明は,表面張力を低下させ,したがってクロム析出プロセスを改良する,クロム電解質用のフッ素界面活性剤を含まない長期間安定な添加剤に関する。 (もっと読む)


【課題】毒性がなくかつ公害発生の心配も皆無な新規なニッケル合金メッキ方法及びこのニッケル合金メッキ方法によって作成されるニッケル合金、並びに表面強化被覆層としてニッケル合金メッキ層を具備するとともに耐刷力に優れた新規なグラビア製版ロール及びその製造方法を提供する。
【解決手段】35〜80重量%のニッケル(Ni)、10〜60重量%のコバルト(Co)及び1〜10重量%のボロン(B)からなる金属元素成分と、還元剤と、錯化剤と、純水とを含むメッキ溶液を用いてメッキ処理を行うようにした。 (もっと読む)


【課題】コネクター表面の金皮膜としての特性を保持し、かつ、金めっき皮膜を所望の箇所に析出しつつ所望でない箇所には析出することを抑制する、硬質金めっき液およびめっき方法を提供する。
【解決手段】硬質金めっき液およびそのめっき方法であって、シアン化金、コバルト塩およびヘキサメチレンテトラミンを含む金めっき液を用いることにより、高い析出選択性を有する金めっき液を提供する。 (もっと読む)


本発明は、亜鉛イオンおよびクロムイオンの共同電解析出によって鋼材上に被着された亜鉛・クロム被膜と、前記被膜上に被着された実質的に合成樹脂からなる有機薄膜被膜とを有する鋼材腐食を防止するための防食層、ならびに亜鉛・クロム防食被膜のラッカ密着性の改善方法に関する。
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本発明は、摩耗または腐食に対する保護のための、および/または、装飾的な目的のための、硬質クロムメッキとしてのクロム層の析出方法、さらに、このタイプのクロム層を析出可能とする電気メッキ浴槽に関する。
また、本発明は、それにより形成される硬質クロム表面層に関する。 (もっと読む)


【解決手段】基体上に形成された錫めっき皮膜であって、該錫めっき皮膜が2層以上の多層で構成され、上記多層のうちの1層が、上記基体に接して設けられた厚さ0.1〜20μmのバリア層であり、かつ他の1層が、基体から離間する側の表面部に設けられた厚さ0.1〜20μmの表面層であり、上記バリア層と基体との界面に形成される金属間化合物の均一性の変動係数CV値が40%以下である錫めっき皮膜。
【効果】本発明の錫めっき皮膜は、錫−鉛合金めっきの代替として有用であり、錫皮膜において問題となるウィスカの発生を効果的に抑制したものである。そして、本発明の錫めっき皮膜は、一般的な錫めっき皮膜の作製工程とほとんど差がない簡便な、効率的な錫電気めっきで形成することができる。 (もっと読む)


【課題】錫−銅合金、錫−銀合金および錫−銅−銀合金から選ばれた錫合金電気めっき皮膜に見られるウイスカ発生を、リフロー処理を利用せずに抑制する。
【解決手段】使用する電気めっき浴にボイド形成剤を含有させることによりめっき皮膜に微小なボイドを導入して、皮膜を軟質化する。錫−銅合金めっき皮膜の場合、ボイドを含有しないめっき皮膜のビッカース硬度を100%として、ビッカース硬度が80〜95%になるようにボイドを導入する。 (もっと読む)


【課題】非シアンの酸性のめっき浴を用いて、パターンめっきにおけるレジストの溶解がなくかつ密着性の良好な銀めっきを施す方法を提供する。
【解決手段】非シアンの酸性の銀めっき浴(A)を用いて銀めっきを行う銀めっき方法において、当該の銀めっき工程に先立って、非シアンの酸性のストライク浴(B)を用いてストライクめっきする工程を含む銀めっき方法。 (もっと読む)


【課題】ニッケル・コバルト・リン電気メッキの組成物、該ニッケル・コバルト・リン電気メッキの組成物を有する電気メッキ溶液及び該電気メッキ溶液を用いる表面処理方法を提供する。
【解決手段】本発明によるニッケル・コバルト・リン電気メッキの組成物はニッケル塩、コバルト塩、リン酸含有化合物、並びに、トリエチレン・テトラアミン、ジエチレン・トリアミン及びヒドラゾベンゼンを含む多座キレート剤を有する。また、前記ニッケル・コバルト・リン電気メッキの組成物を含む電気メッキ溶液とこの電気メッキ溶液を用いる材料表面処理方法も提供される。 (もっと読む)


【課題】光沢化等の他の特性を大きく変化させずに、また、電流効率を大きく低下させずに、高い白色度を有する電気亜鉛めっき鋼板を製造できるようにする。
【解決手段】酸性めっき浴中で鋼板を陰極として電解して電気亜鉛めっき層を形成するに際し、メルカプト基(−SH)を有する有機化合物の1種又は2種以上を合計で0.5〜30mg/l含有する酸性めっき浴中で、電解を5回以上に分割して行うとともに、前記各々の電解の間に、鋼板を前記酸性めっき浴中に0.2秒以上浸漬する工程を有する。 (もっと読む)


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