説明

Fターム[4K024CB03]の内容

電気メッキ方法、物品 (25,708) | メッキ装置、操作 (2,405) | 被処理物の移送、形状修正 (170)

Fターム[4K024CB03]に分類される特許

61 - 80 / 170


【課題】生産効率が高く、通電跡が存在せずめっき厚みが均一となる高品質のめっき処理が可能なめっき装置を提供する。
【解決手段】直線状に並べて配置され、めっき液槽78及び洗浄液槽80、95を含む処理槽群11に、平面視して矩形かつ金属製の角板材12を通過させて、角板材12にめっきを行うめっき装置10であって、処理槽群11の手前側まで角板材12を搬送する入側コンベア13と、入側コンベア13で搬送された角板材12の両側をそれぞれ複数の垂下されたロッド14、14aで挟持し、少なくともその一つのロッド14から通電可能となって、処理槽群11の各処理槽に順次角板材12を浸漬又は非浸漬状態で通過させる挟持搬送手段15と、挟持搬送手段15によって搬送されて、処理槽群11を通過した角板材12を受け取る出側コンベア16と、これらを保持する架台17とを有する。 (もっと読む)


【課題】耐熱性が高く、耐薬品性に優れ、繰り返し使用可能なめっき工程用フィルムを提供する。
【解決手段】樹脂組成物からなるめっき工程用テープにおいて、該樹脂組成物を、該樹脂組成物全体を100質量%として、30質量%以上70質量%以下のポリアリールケトン樹脂、および、30質量%以上70質量%以下の非晶性熱可塑性樹脂を含有するものとする。 (もっと読む)


【課題】金属条ホールに変形を生じさせることなく金属条への部分めっきを可能とする部分めっき装置及び部分めっき方法を提供する。
【解決手段】長尺金属条11を円筒状ドラム110の外周部に沿って巻回し、円筒状ドラムに設けられためっき穴を介してめっき液を供給することにより長尺金属条の一部をめっきする部分めっき装置において、円環状ベルトホール12aが長手方向所定間隔で形成されかつ一部が駆動機構に連結された円環状ベルト12が円筒状ドラムの外周部に前記長尺金属条と並んだ状態で巻回され、当該巻回状態で円筒状ドラムの外周部に設けられた複数の突起部113が円環状ベルトホールに挿入されている。 (もっと読む)


【課題】基体上に良好な物理−機械的特性を有する均一で光沢性の高い金属層を提供する。
【解決手段】以下の式を有する添加剤消費抑制有機化合物をめっき液に添加する:


式中、R、R1、R2およびR3は独立して、水素;ハロゲン;(C1−C20)直鎖、分枝、または環状アルキル;(C2−C20)直鎖、分枝、または環状アルケニル;(C2−C20)直鎖、または分枝アルキニル;−CN;SCN;−C=NS;−SH;−NO2;SO2H;−SO3M;−PO3M;(C1−C20)アルキル−O(C2−C3O)xR6,(C1−C12)アルキルフェニル−O(C2−C3O)xR6,−フェニル−O(C2−C3O)xR6,式中xは1から500の整数であり、R6は水素、(C1−C4)アルキルまたはフェニルである。 (もっと読む)


【課題】従来のめっき装置における給電方法では解決することができない電解による数十μ〜数百μの金属粉の発生を防止するめっき装置における給電方法及びその給電装置の提供にある。
【解決手段】めっき装置の処理槽に沿って配置された給電レール20と、被処理物を取り付け該被処理物を処理槽に没入・引上げ及び搬送する搬送ハンガー12と、給電レール20から被処理物に給電するための給電部材18と、搬送ハンガー12に被処理物が取り付けられている場合には給電部材18を給電位置へ切り替えて被処理物に給電し、被処理物が取り付けられていない場合には給電部材18を非給電位置へ切り替えて被処理物に給電しないようにするスイッチ機構30と備えた。 (もっと読む)


【課題】連続方式のめっき層形成工程において、トラブル等によって搬送手段が停止した場合であっても、所定の合金組成の範囲内でめっき層を形成する。
【解決手段】リードフレーム11に搭載された半導体素子を封止する封止体1から導出されるリード部にめっき装置30を用いて錫系鉛フリー半田層をめっき形成する工程を備える半導体装置の製造方法で、めっき装置30は、複数の半導体チップが搭載されたリードフレーム11を保持しつつ、めっき処理部を所定の速度で、所定の方向に移動させる無端ベルト(リードフレーム搬送手段)36と、リードフレーム11の搬送中に、めっき処理部内に配置されためっき電極間(陽極41と無端ベルト36の間)に第1電流量を通電させる電源42とを備え、電源42は、無端ベルト36が停止している間は第1電流量よりも低い第2電流量をめっき電極間(陽極41と無端ベルト36の間)に通電させる。 (もっと読む)


【課題】メッキ液中において、昇降式のピンチロールを設置しても、メッキタンクから液が漏れない構造にすることにより、スパーク疵の発生を抑えことができる装置を提供する。
【解決手段】金属帯板の送り方向に長いメッキトレイ2内に上電極、下電極が配置され、帯板がサポートロール3に支持されながら送られるようにした電気メッキ装置において、前記トレイ2の両側壁で、前記サポートロール3の軸が貫通する孔の直上に長孔が設けられる。該長孔を貫通し、前記サポートロール3の上側で帯板を挟む状態で設けられたピンチロール4と、該ピンチロール軸の両端に設けられた軸受けハウジングが動力源により、昇降されるようにした昇降手段と、前記ピンチロール3の軸で前記メッキトレイ2の内側に位置する個所に、回転自在に嵌められた上チョック6と、該上チョック6と前記トレイ2の内壁との間で、前記長孔を覆うように取り付けられた可変形性筒体とを含む。 (もっと読む)


【課題】 薄板状製品の両面側をガイドする液中投入ガイドにおいて、ガイド部間の間隔をガイドに適した狭い間隔に構成した場合においても、この狭いガイド部間に製品をスムーズに通過させセットできるようにする。
【解決手段】 レール2の上昇位置でハンガー治具3を処理槽1の製品投入位置Sへ移送し、該移送位置でレールを下降し、ハンガー治具で吊持された薄板状製品Wを処理槽の処理液中に投入する表面処理装置において、製品投入位置Sにレールと共に昇降動する製品ガイド10を設置し、この製品ガイドの製品ガイド部11を、製品投入位置へと移送されるハンガー治具に吊持された製品Wの搬送方向側の側端部の上部側が該ガイド部の上部側を通過しガイドされた後に、該製品Wの搬送方向側の側端部の下部側が該ガイド部の下部側を通過しガイドされるように構成した。 (もっと読む)


【課題】めっき処理した半導体基板をめっき液除去および洗浄する際の異物付着を抑えることができる半導体装置の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】ウェーハW(半導体基板)をめっき処理槽1内のめっき液13に浸漬して金属膜を形成する工程と、金属膜が形成されたウェーハWをめっき液13の上方のめっき処理槽1内で純水の噴射および回転を付与してウェーハ表面のめっき液を除去する工程とを含んだ半導体装置の製造方法において、ウェーハ表面のめっき液を除去する工程でさらにウェーハWを振動させる。ウェーハWを振動させることでめっき液を振り落とすので、回転のみで液切りする場合に比べて外方へ飛散するめっき液量を抑え、槽の側壁へのめっき液やそれから生じる異物(結晶)の付着、その異物のウェーハWへの再付着を抑えることができる。 (もっと読む)


【解決手段】基板保持搬送組立体を開示する。基板保持搬送組立体は、ベースプレートと、離間配向性を有してベースプレートに接続された一対のクランプとを含み、一対のクランプの離間配向性は、少なくとも二つの独立点による基板の支持を可能にする。基板保持搬送組立体は、更に、実質的に一対のクランプ間の位置においてベースプレートに接続された電極組立体を含む。電極組立体は、基板が存在し且つ一対のクランプにより保持される時、基板に電気接点を与えるように形成される。 (もっと読む)


【課題】家電製品やパーソナルコンピュータ等の電子機器にて使用される外装金属材用の表面処理鋼板において、優れた耐食性あるいは耐指紋性と、優れた表面の導電性を有する表面処理鋼板を提供する。
【解決手段】連続電気めっき装置のコンダクターロール表面に、円相当径が、直径10μm以上0.5mm以下、かつ深さ5μm以上である窪みを形成し、さらに、窪み部開口の総面積和がコンダクターロール表面積の10%以上、50%以下としたコンダクターロールを用いる事で、連続電気めっき過程において、めっき鋼板表面に形成されるめっき結晶による微細な凹凸構造を、コンダクターロールによって圧潰し、鋼板表面を平滑化する事を防止する。 (もっと読む)


【課題】導電性微細物に効率よく電解めっき膜を形成することができる、電解めっき膜形成微細物の製造方法およびそれに用いる製造装置を提供する。
【解決手段】電解めっき液5に導電性微細物6を分散させた混合液を循環流路に流して循環させるとともに、その循環流路の一部に上記混合液の流れる方向に沿って設けられた、対向する陽極31と陰極32の間に電圧を印加することにより、上記導電性微細物6が上記陰極32に接触した際に、その導電性微細物6に電解めっき膜が形成されるようにした。 (もっと読む)


【課題】導体パターンの損傷を防止でき、かつ、均一な厚みのめっき層を形成することのできる、配線回路基板の製造方法およびめっき装置を提供すること。
【解決手段】金属支持基板2と、ベース絶縁層3と、導体パターン4、めっきリード7およびアライメントマークとを備える長尺基材1を長手方向に沿って搬送しながら、導体パターン4より幅方向外側において直線状に形成される接触リード37と対向配置されるロール電極43を回転させながら、そのロール電極43を接触リード37に接触させて給電して、導体パターン4を電解めっきして、導体パターン4の表面に電解めっき層を形成する。 (もっと読む)


【課題】リードフレームの搬送および部分めっき処理を施す際に、リードフレームとマスクが摺動することによるマスクの磨耗による短命化および、それに伴うリードフレームへのめっき精度の変化、マスクから発生する微細な異物の付着等の問題を解決できるめっき装置を提供する。
【解決手段】電極を兼ねたノズル板3、ノズル板3の上方に位置する上板4、上板4の上面に取付けられて開口パターンが形成されたマスク5を備える金属条材のめっき装置において、上板4の上面にスペーサー7により高さを持たせたリフトプレート6を設け、リードフレーム1の搬送時にリフトプレート6でリードフレーム1を持ち上げ、リードフレーム1とマスク5との間に間隙を設けることで、リードフレーム1とマスク5との摺動によるマスク5の磨耗およびめっき処理面の傷を防止すると共に、高精度な部分めっきを可能となす。 (もっと読む)


【課題】膜厚の均一なめっき層を精度よく形成することができるめっき装置を提供すること。
【解決手段】めっき液に浸漬させたアノード7と、カソードとなる被めっき基板8との間に流れる電流に対して抵抗を付与する抵抗付与手段6が、前記アノード7と前記被めっき基板8との間に設けられていることを特徴とする。すなわち、抵抗付与手段6によって、アノード7と被めっき基板8との間を流れる電流に対して抵抗が付与され、そのため、被めっき基板8に対して膜厚の均一なめっきを施すことができる。 (もっと読む)


【課題】 給電グリップの移動中に給電グリップの通電状態を検査するための垂直搬送式連続めっき装置における給電グリップの検査装置を提供する。
【解決手段】 給電グリップ1の検査をする検査位置のレール2に2個の検査用給電部24a、24bを前後に並べて設けてこの検査用給電部24a、24bの間隔を集電ブラシ21a、21b、21cの間隔と同一とするとともに相互間及びレール2の他の部分との間を絶縁し、先頭の集電ブラシ21aが前方側の検査用給電部24aに接触した位置で給電グリップ1を検知するセンサー29を設け、このセンサー29が検知したとき検査用給電部24a、24bの間に一定の電流を流し、検査用給電部24a、24bの間の電圧を計測してその電圧が設定した値以上になると信号を出力する電圧継電器27を設けた。 (もっと読む)


【課題】パラジウム含有電気メッキ液および多孔性金属支持体上のパラジウムもしくはパラジウム合金皮膜を提供するための方法が提供される。
【解決手段】パラジウム含有電気メッキ液が、約2g/Lないし約200g/Lの硫酸パラジウム中のパラジウム、約10g/Lないし約200g/Lの反応性導電性塩、約10g/Lないし約150g/Lの錯化剤、および、電気メッキ液に約9ないし約12のpHをもたらすのに十分な緩衝剤、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】処理液の漏出を防止すると共に、テープ状基材の表面に傷が付いたり伸び変形が生じたりするのを防止する液漏れ防止構造を提供する。
【解決手段】走行するテープ状基材Tを処理液に浸漬させるための処理槽の内セルに設けられ、ローラシールにより内セルのスリットから処理液が漏出することを防止する液漏れ防止構造であって、基材Tの走行方向を変更するように、基材Tの一面側と他面側とにそれぞれ配置されている一対のテンションローラ41a,41bと、該テンションローラ41a,41bの両端側に設けられ、該テンションローラ41a,41bを回転可能に内セルに支持するローラホルダ44と、内セルの内壁に設けられ、テンションローラ41a,41bの外周面の一部を覆う内周面を有するガイド部材42a,42bと、を備え、テンションローラ41a,41bと、ガイド部材42a,42bと、内セル3の内壁により、処理液の漏出を防止する。 (もっと読む)


【課題】帯状の被通電処理材料の通電部に擦り傷や引っ掻き傷を発生させることなくほぼ均一に通電処理することができる通電処理装置を提供する。
【解決手段】通電処理装置48Aは、感光ウエブ18の導電性金属部に接触しながら給電を行うカソード給電ローラ50Aと、カソード給電ローラ50Aよりも感光ウエブ18の搬送方向下流側に、めっき液61で満たされためっき槽60Aとを備えている。カソード給電ローラ50Aの表面は放電加工されており、表面粗さRyは、5μm以上、30μm未満が好ましく、10〜25μmがより好ましい。感光ウエブ18を挟んでカソード給電ローラ50Aと対向する位置には、感光ウエブ18の導電性金属部をカソード給電ローラ50Aに押圧する弾性ローラ52Aが、カソード給電ローラ50Aに対してほぼ水平方向に配設されている。 (もっと読む)


本発明は、帯状基材(2)を液体で処理する装置であって、少なくとも一つの巻回について巻回システム(11)周りで螺旋経路で帯状基材(2)を案内する巻回システム(11)を具備する搬送システムを有し、第一回転軸線回りで回転可能で帯状基材(2)の少なくとも一回の巻回を第一の偏向角度に亘って第一プーリ手段(12)の周囲の一部周りで案内する第一プーリ手段(12)と、帯状基材(2)の少なくとも一回の巻回を第二の偏向角度に亘って第二プーリ手段(13)の周囲の一部周りで案内する第二プーリ手段(13)とを有し、第二プーリ手段(13)が各巻回ごとに第二回転軸線周りで回転可能な第二プーリ(15)を具備する、装置に関する。この装置は、液体の槽(30)を更に具備し、帯状基材(2)は少なくとも一回の巻回の長さの少なくとも一部に亘って槽内の液体を通って延びる。各第二プーリ(15)の第二回転軸線は第一回転軸線に対して角度αをなす。
(もっと読む)


61 - 80 / 170