【課題】 めっきの各処理工程における液面レベルを簡単に調整することができるマスクレスめっき装置を提供する。
【解決手段】 各工程に、槽が仕切り板１ｄにより仕切られ、仕切り板１ｄから処理液がオーバーフローするように処理液を収容する液槽１ａとオーバーフローした処理液が流入し底部の流出口から流出する流出槽１ｂと仕切り板１ｄの壁面に設けられ処理液の液面を調節するための長孔を有する液面レベル調整板４と長孔を貫通して仕切り板の壁面に螺合するボルト６とを有し、長孔の位置を上下にずらして液面レベル調整板４の高さを調節してボルト６で液面レベル調整板４を仕切り板１ｄに固定するようにしためっき槽１、流出槽１ｂから流出した処理液を収容するめっき予備槽２、めっき予備槽２からめっき槽１へ処理液を送給し、循環させるポンプを備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】電解めっき層の膜厚を均一にできる電解めっき方法と、電解めっきラインを提供する
【解決手段】保持具に被めっき物を保持させる工程と、被めっき物をめっき液に浸漬する工程を行う。また、保持具を介して被めっき物に負電圧を印加し、めっき液内に配置された正電極に正電圧を印加するとともに、保持具を被めっき物とともに所定方向に回転しながら被めっき物の表面に電解めっき層を形成する工程を行う。回転しながら電解めっき処理を施すことにより、均一な膜厚でめっき層を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】鋼帯を切断せず、かつ当該設備で使用する液（たとえば酸洗液等）をレールに滴下させずにリンガーロールを交換する方法および装置を提供する。
【解決手段】チョック２ａに突起部９ａを有する劣化リンガーロール６ａが配設された架台３の上方にレール４を設置し、レール上を走行する第１台車５ａに第１把持具８ａを固定し、第１把持具で突起部を把持して第１台車を走行させ、劣化リンガーロールを架台の側面から取り出した後、第１台車を損耗リンガーロールとともに所定の作業場所へ移送し、次いで新リンガーロールの突起部を第２把持具によって把持した第２台車を保管場所からレール上へ移送し、第２台車を走行させて新リンガーロールを架台の側面から挿入して所定の位置に配設した後、第２把持具を開放する。 （もっと読む）

【課題】 厚みの均一性がよく異常突起や凹み欠陥の少ないめっき被膜付きフィルムを得ること。
【解決手段】導電面を有するフィルムを搬送しながら、フィルム導電面５を液膜を介して陰極ロール１に接触させ、その前段または／および後段に配置されためっき浴６にてフィルム導電面５にめっき被膜を形成するめっき被膜付きフィルムの製造方法であって、陰極ロール１面に陰極ロール１とフィルム導電面５との隙間の間隔を規定する突起部材を複数設け、フィルム導電面５と陰極ロール１の間の隙間に導電性液体を供給するようにした被膜付きフィルムの製造方法とその装置。 （もっと読む）

【課題】めっき位置精度を向上させ、かつ、キャリア穴が支持体ドラムの突起部から外れるといったトラブルの発生を防止し、高品質の部分めっきを可能とするスポットめっき装置を提供する。
【解決手段】スポットめっき装置において、支持体ドラム１０は、金属又はセラミックにて作製した、複数の突起部１３ａと複数のめっき孔１３ｂとを外周部に有した円筒状のドラム本体１３と、ドラム本体１３を装置本体に設けた回転支持軸に回転自在に装着するための軸受け部１２と、を有する。また、支持体ドラム１０を駆動ロール１８にて当接駆動する。 （もっと読む）

【解決手段】 マイクロビアやスルーホールをめっきする方法であって、少なくともコンディショニング工程と電気めっき工程を有し、前記コンディショニング工程では、基材を浸漬すべき、少なくとも１種の光沢剤成分、および塩化物および／または臭化物を含有する溶液が用いられ、前記電気めっき工程での電解液は、少なくとも１種のキャリアーおよび／またはレベラーを含有する。
【効果】 （１）ブラインドマイクロビアの充填、（２）スルーホールの充填、（３）スルーホールめっきに関する驚異的な改善が認められた。 （もっと読む）

【課題】長尺幅広で電気抵抗の高い被めっき素材へ、めっき膜厚の不均一やめっき表面粗度ムラ発生なく電解めっき可能な、電解めっき装置及び電解めっき方法を提供すること。および、この製造装置及び製造方法を利用して、細線状パターンの導電性金属部を有し、高い電磁波遮蔽性と高い透明性とを同時に有する光透過性電磁波遮蔽材料を提供すること。
【解決手段】長尺幅広の感光ウエブ１８が連なって、第１の槽３４内の電解質溶液３４Ａ及び第２の槽３６内のめっき浴液３６Ａへ搬送・入液した状態で、感光ウエブ１８の金属銀部へ、第１の槽３４内で陰電極板４６Ａにより電解質溶液３４Ａを介して通電しつつ、第２の槽３６内で第１陽電極板４６Ｂによりめっき浴液３６Ａを介して通電し、電解めっき電流を流し、電解めっきを施す。この装置を用いて光透過性導電性である電磁波遮蔽材料を得る。 （もっと読む）

【課題】広幅、厚板の金属条であっても、１回の通板で、金属条の両面を無理なく部分めっきすることが可能で、疵、折れの発生を防止した、コンパクトで安価な、部分めっきラインを提供する。
【解決手段】回転ドラム１０１を備えた第１めっき装置１０ａと第２めっき装置１０ｂを備え、第１めっき装置１０ａの導出案内ロール３ａから導出された第１面が部分めっきされた金属条１ａを、水平方向に隣接して配置した第２めっき装置１０ｂの導入案内ロール２ｂへと搬送案内するために、第１めっき装置１０ａの導出案内ロール３ａから導出された金属条１ａを、案内ロール４によりそのパスラインを転向して搬送案内する。 （もっと読む）

【課題】長尺の基材フィルムに搬送張力をかけることなく連続めっきを行うことができるフィルムへの連続めっき装置を提供する。
【解決手段】幅方向の両端近傍に長手方向に延びるよう帯状の支持部材１１が接合された長尺の基材フィルム１０の上記支持部材１１に搬送張力を加えることにより基材フィルム１０を搬送する巻取り装置７と、上記基材フィルム１０をめっき液に通過させることにより基材フィルム１０にめっきを行うめっき槽１とを備えたことから、支持部材１１に対して搬送張力を加えて基材フィルム１０の搬送を行うため、基材フィルム１０には搬送張力がほとんどかからなくなるため、基材フィルム１０が伸びていない状態でめっき層が形成されることから、従来のように基材フィルム１０に残留応力が残って、ＦＰＣがカールしたり皺が生じたり、寸法精度が悪くなる等の問題が起こらなくなる。 （もっと読む）

【課題】電気メッキラインで用いられるコンダクタロールの偏摩耗をより一層低減する。
【解決手段】コンダクタロール３の外周面に接触している金属帯１を当該コンダクタロール３の軸線方向に揺動する際、例えば金属帯１の中央の軌跡が、周期が長い低周波振動と周期が短く且つ振幅が周期的に変化する高周波振動との重畳振動波形を描くように、例えばステアリングロール４の傾きをシリンダ５で調整して金属帯１の通板状態を制御する。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面での液流の流速のばらつきをなくするとともに、被処理物の表面での液流を所望の流速に制御することができる浸漬処理装置を提供する。
【解決手段】めっき液で満たされ、被めっき材１０が浸漬されるめっき槽２２と、被めっき材１０の側方に配設され、被めっき材１０に対向する陽イオン交換膜４２を有し、電解液で満たされた陽極室４０と、陽極室４０内にめっき液から分離されるように設けられ、陽イオン交換膜４２を介して被めっき材１０に対向する不溶性陽極４８と、被めっき材１０と陽極室４０との間に、めっき槽２２の下方から上方に向かって流れるめっき液の流れを形成する吹き出しユニット５２とを有する。 （もっと読む）

【課題】複数のめっき槽によりロットごとに同時にワークをめっき処理するめっき槽において、電極の利用率が均等化され、生産効率の向上が可能となるめっき装置のワーク搬入順序設定装置とワーク搬入順序設定方法を提供する。
【解決手段】複数のめっき槽に対する同一のロットに属するワークの搬入順序を、標準の順序と同一の順序を維持したままで、最初にワークを搬入するめっき槽を選択可能とする。同じロットのうち、最初にワークを搬入するめっき槽を、前回のロットでワークを最初に搬入しためっき槽とは別のめっき槽に設定する。他の方法として積算電流値が少ないめっき槽を先頭槽に設定する方法がある。 （もっと読む）

第１および第２の陽極を浴内に入れた電気めっき溶液の浴を有する電気めっきシステムを提供することによって、ディスクドライブサスペンション構成要素の両側における露出した導体領域を同時に電気めっきするための方法。サスペンション構成要素は、電気めっき溶液の浴中で第１および第２の陽極間に位置決めされる。第１の電気めっき電流が、第１の陽極と構成要素の第１の表面における露出した導体領域との間に生成される。第２の電気めっき電流が、第２の陽極と第２の表面における露出した導体領域との間に生成される。それによって、導電性材料の層が、構成要素の両側における露出した導体領域にめっきされる。時間および大きさなどの、第１および第２のめっき電流のパラメータを制御することによって、導体の対向する側面に、同じかまたは異なる厚みに導電性材料の層をめっきすることができる。
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【課題】外部端子のメッキ層でのウイスカの生成を効果的に抑制でき、またコスト低減などの経済性及び量産性がある半導体チップのパッケージ装置及びその方法を提供する。
【解決手段】半導体チップパッケージ１１０の外部端子に導電性メッキ層を形成するためのメッキユニット１３０と、メッキ層を溶融させるためのものであり、メッキユニットと一列に配置されたリフローユニット１６０と、を備える半導体チップのパッケージ装置１００。 （もっと読む）

【課題】ワークの電流密度を均一にすること、電流密度を高くすることができ、めっき槽を長くして１槽とすることができ、ワークに搬送のための大きな張力をかけることのない長尺シートのめっき装置を提供する。
【解決手段】リールに巻かれたワークである長尺シートを供給するワーク供給装置１とワークをリールに巻き取るワーク巻取り装置２との間に前処理槽３、めっき槽４、後処理槽５等の処理槽を配置して構成し、処理槽の上部に多数のクランパー１５、１５から構成され、ワークの上端を挾持して給電しながら搬送する搬送装置を設け、該搬送装置のワークを挾持するワーク挾持部は処理槽内で下降してワークを挾持するものとし、ワーク巻取り装置２によるワークの搬送速度と搬送装置によるワークの搬送速度とを同期させた。 （もっと読む）

【課題】陽極管理の容易化によるコストダウンと、メッキ液の循環性改善による高速処理化を図る。
【解決手段】外周面に陽極２１を露出させた固定ドラム２０と、固定ドラムの外周に配置され、長手方向に送り移動されるワークＷが巻き付けられる回転ドラムと、回転ドラムの下側に形成され、回転ドラムの周方向に連続し且つ回転ドラムの外周から内周に貫通するように設けられた環状開口３５と、固定ドラムの内部を通り、ワークが巻き付けられる回転路ドラムの前記所定巻付角度範囲の角度位置５２ａに対応する固定ドラム外周上の位置に開口したメッキ液供給通路２２と、回転ドラム外周に巻き付けられたワークと環状開口の周壁と固定ドラムの外周とで囲まれるトンネル状空間５２を流路とし、該流路にメッキ液を供給するメッキ装置およびメッキ方法を発明した。 （もっと読む）

【課題】 異なるリードフレームにめっきを施す際の位置合わせの時間を短縮することができる部分めっき方法を提供する。
【解決手段】 同一のスパージャ３４を用いて異なる被めっき物３１に対して部分めっきを施す際の部分めっき方法において、めっきマスク３８の開口部５０およびノズル板４０のノズル４７の位置を、異なる被めっき物２１を支持手段３２に支持させたときのめっき対象領域に合わせためっきマスク３８およびノズル板４０を予め複数作成しておき、異なる被めっき物３１に対して部分めっきを施す際には、予め作成してあった複数のめっきマスク３８およびノズル板４０の中から、部分めっきを施そうとする被めっき物３１に対応するめっきマスク３８およびノズル板４０を選択し、支持手段３２の位置およびスパージャ３４の位置を変更せずに、スパージャ３４に取り付ける。 （もっと読む）

【課題】メッシュ状の導電層上に均一な膜厚でメッキ層を形成して、電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法及びそのために有利な簡易なメッキ装置を提供する。
【解決手段】メッキ液が満たされるメッキ槽、該メッキ槽内に配置された陽極電極、及び該陽極電極に陽極電圧が印加されると同時に陰極電圧が印加される被メッキ材料を、該陽極電極に対向して配置するための固定手段、さらに陽極電極と被メッキ材料との間に且つこれらと略並行となるように配置された遮蔽板を備え、該被メッキ材料に電気メッキを施すことにより電磁波シールド性光透過窓材を製造するためのメッキ装置であって、前記被メッキ材料が透明基板及び該透明基板上に設けられたメッシュ状の導電層からなり、そして遮蔽板が貫通孔部を有し且つ遮蔽板の貫通孔部を除いた面積が遮蔽板の中央より外側の方が大きいことを特徴とするメッキ装置。 （もっと読む）

【課題】メッシュ状の導電層上に均一な膜厚でメッキ層を形成して、電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法及びそのために有利な簡易なメッキ装置を提供する。
【解決手段】メッキ液が満たされるメッキ槽、該メッキ槽内に配置された陽極電極、及び該陽極電極に陽極電圧が印加されると同時に陰極電圧が印加される被メッキ材料を、該陽極電極に対向して配置するための固定手段を備え、該被メッキ材料に電気メッキを施すことにより電磁波シールド性光透過窓材を製造するためのメッキ装置であって、前記被メッキ材料が透明基板及び該透明基板上に設けられたメッシュ状の導電層からなり、そして前記陽極電極が、中央領域と該中央領域の外側に配置された複数の板状の外側領域とが連結された形状を有し、且つ該中央領域の容積が、外側領域の容積より大きいことを特徴とするメッキ装置。 （もっと読む）

【課題】 プリント基板の製造プロセスを簡略化およびその製造コストの低減を可能とする技術を提供すること。
【解決手段】 プラスチックの基板６１１の上に、めっきシードとしての触媒金属を含有する有機または無機金属化合物を含む溶剤を塗布・乾燥させて金属化合物膜６１２を形成し、その所望領域に電子線などのエネルギ線６１３を照射して触媒金属を析出させる。当該照射領域への局所的なエネルギ線照射によりその照射領域のみで金属触媒析出の化学反応が生じ、触媒金属が局所的に析出してパターニングされた金属触媒膜６１４を得ることができる。また、エネルギ照射された基板６１１は、表面の溶融により触媒金属を極浅領域に取り込んだり、表面のアブレーションにより触媒金属と基板表面の接触面積が実効的に広くなったり、あるいは化学的改質により基板と触媒金属との結合状態が強固なものとなるので、固着程度が高まり金属触媒膜の剥離が生じ難くなる。 （もっと読む）