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Fターム[4K029BB02]の内容

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Fターム[4K029BB02]に分類される特許

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【課題】クラックや剥離の生じにくい透明導電フィルム及びその製造方法並びにタッチパネルを提供すること。
【解決手段】透明な樹脂からなる基材フィルム11と、基材フィルム11の表面に形成された、アルミナよりも屈折率の高い第1金属酸化物層12と、第1金属酸化物層12の表面に直接形成された、アルミナからなるアルミナ層13と、アルミナ層13の表面に直接形成された、アルミナよりも屈折率の低い第2金属酸化物層14と、第1金属酸化物層12とアルミナ層13と第2金属酸化物層14とを基材フィルム11との間に介在させるように形成された透明導電層15とからなる透明導電フィルム1。 (もっと読む)


【課題】長寿命化させたせん断用金型及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係るせん断用金型1は、一対の基材の間に配置される板材2を当該基材によりせん断するせん断用金型1であって、前記基材の表面のうち、少なくとも、曲面の領域と、前記板材2の表面に対向するとともに前記曲面から前記基材の面に沿って300μmまでの領域とに、アークイオンプレーティング法により形成された硬質皮膜を備え、前記硬質皮膜は、Alと、TiおよびCrのうちの1種以上と、を含有するとともに、膜厚が1μm以上、5μm以下であり、さらに、前記曲面の領域と、前記曲面から前記基材の面に沿って300μmまでの領域と、に形成された前記硬質皮膜の表面において、長さ10mmの線分上に存在する直径20μm以上の金属粒子の個数が2個以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】金属配線膜のドライエッチングレートの低下やエッチング残渣を発生させることがなく、また該金属配線膜のヒロック耐性や電気抵抗率が抑制され、更に該金属配線膜と直接接続する透明導電膜や酸化物半導体層とのコンタクト抵抗率が抑制された薄膜トランジスタ基板、及び該薄膜トランジスタ基板を備えた表示デバイスを提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ基板であって、金属配線膜は、ドライエッチング法によるパターニングで形成された、Ni:0.05〜1.0原子%、Ge:0.3〜1.2原子%、Laおよび/またはNd:0.1〜0.6原子%を含有するAl合金膜とTi膜とからなる積層膜あって、該Ti膜が、該酸化物半導体層と直接接続していると共に、該Al合金膜が、該透明導電膜と直接接続している。 (もっと読む)


【課題】光電変換層がセレンを含有するものである場合、そのセレンの使用量を低減するとともに、成膜チャンバ内におけるセレンの付着を抑制した成膜装置、およびこの成膜装置により成膜された光電変換層を有する太陽電池を提供する。
【解決手段】成膜チャンバ11内に基材を搬送する搬送手段と、成膜チャンバ内を所定の真空度にする真空排気手段40と、搬送される基材に光電変換層を形成する真空成膜手段と、成膜チャンバ内に設けられた成膜室14,16,18とを有する。成膜室は温度180℃以上に温度調節された加熱壁36と温度80℃以下に温度調節された冷却壁38とにより構成され、この成膜室に真空成膜手段が設けられている。成膜室に基材が搬送されて真空成膜手段により基材に光電変換層が形成される。 (もっと読む)


【課題】結晶性に優れたIII族窒化物の受光層を形成することのできる半導体積層構造、及びこれを用いた紫外線センサーを提供する。
【解決手段】所定の基材3上において、III族窒化物下地層4と、少なくともGaを含むIII族窒化物層5とを順次に積層し、その上にInおよびAl、あるいは一方を含むIII族窒化物からなるAlyInxGa1-x-yN受光層6を設けた半導体積層構造1、及びこれを用いて表面にショットキー電極7s、およびオーミック電極7oを形成させて紫外線センサー2を作製する。 (もっと読む)


【課題】表面に写る反射像が不鮮明に見える現象が抑制され、良好な外観を有する合わせガラスを得ることができる赤外線反射フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】透明樹脂フィルム2上に赤外線反射膜3を構成する複数の構成膜のうち最初に成膜される1つの構成膜3(1)を0.50Pa以上の圧力下で真空成膜する工程と、前記最初の構成膜が成膜された透明樹脂フィルムを1.0×10−3Pa以下の高真空下で30秒以上保持する工程と、前記高真空下での保持が行われた透明樹脂フィルム2に前記複数の構成膜の残りの構成膜3(2)〜3(N)を真空成膜して赤外線反射フィルム1とする工程とを有する赤外線反射フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】強誘電体キャパシタにおける強誘電体層の結晶配向度を向上する半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本実施形態の半導体装置の製造方法は、下部電極層41上にバッファ層44を形成する工程と、バッファ層44に対して、100体積%の濃度よりも低い酸素濃度の雰囲気下で且つ第1の温度で第1の熱処理を行った後、第1の温度よりも高い第2の温度で第2の熱処理を行う工程と、バッファ層44上に誘電体層42を形成する工程と、誘電体層42上に上部電極層43を形成する工程と、誘電体層42を熱処理して結晶化する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】形成した薄膜のひび割れ耐性、可撓性に優れ、低抵抗で高光透過性の積層型透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】透明プラスチックフィルムの上に、第1のITO膜(A)、金属膜(M)、第2のITO膜(A)をこの順で積層した積層膜ユニットを有する積層型透明導電性フィルムであって、該透明プラスチックフィルムの厚さが、100μm以上、150μm以下であり、該第1のITO膜(A)の膜厚をhA1とし、該第2のITO膜(A)の膜厚をhA2としたとき、hA1>hA2の関係を満たし、かつ該積層膜ユニットの総膜厚が、100nm以下であることを特徴とする積層型透明導電性フィルム。 (もっと読む)


【課題】離型性の低下が抑制されたクロム系硬質被膜をPVD法で製造する。
【解決手段】真空チャンバ10a内の被成膜物21,22にバイアス電圧を印加しつつクロム蒸発源13a,14aと陽極13b,14bとの間にアーク放電を発生させることにより被成膜物21,22の表面にクロム層を形成する。真空チャンバ10a内に窒素を供給しつつクロム蒸発源13a,14aと陽極13b,14bとの間にアーク放電を発生させることによりクロム層の上に窒化クロム層を形成する。真空チャンバ10a内に窒素及び炭素を供給しつつクロム蒸発源13a,14aと陽極13b,14bとの間にアーク放電を発生させることにより窒化クロム層の上に炭窒化クロム層を形成する。真空チャンバ10a内に炭素を供給しつつクロム蒸発源13a,14aと陽極13b,14bとの間にアーク放電を発生させることにより炭窒化クロム層の上に非晶質の炭化クロム層を形成する。 (もっと読む)


【課題】生産性を落とすことなくガラス基板を効果的に冷却することで蒸着処理時の有機層の変質・劣化を防止し、これにより高品質の有機層を形成する。
【解決手段】ガラス基板7の一方の面7aの側に一又は複数の層を形成するに際し、層は有機層4を有すると共に、層における少なくとも一種の層が蒸着処理により形成され、蒸着処理時、ガラス基板7の他方の面7bにガラス基板7を冷却するための冷却板15の一方の面15aを直に面接触させることとし、かつ、この面接触により、各々の合わせ面7b,15aが剥離可能な程度に密着した状態となるようにした。 (もっと読む)


【目的】純金属の有する色彩を造形物の色彩として有効に活かすと共に、純金属の酸化を防ぎ、純金によるイオン効果や抗菌作用を得ることができる造形物に関し、そのような造形物を効率良く製造することができる製造方法に関する。
【解決手段】成型等により得られた透明な材料による透明造形物の片面に、一層又は複数層の純金属薄膜層を有し、一層又は複数層の最外殻の薄膜層は純金の薄膜層とすることにより、純金属の有する色彩を造形物の色彩として有効に活かすと共に、純金属の酸化を防ぎ、純金によるイオン効果や抗菌作用を得ることができる造形物を提供することができるのである。 (もっと読む)


【課題】チャンバ内のプラズマ状態が変化することを抑制して、テープ状の配向金属基板上に、長時間、安定した特性のセラミックス層を形成することができ、より長尺の酸化物超電導薄膜線材を製造することが可能な技術を提供する。
【解決手段】第1の巻出しリールから巻出されて第1の巻取りリールに送られるテープ状の配向金属基板をスパッタ装置内に搬送すると共に、第2の巻出しリールから巻出されて第2の巻取りリールに送られるアノード用金属テープをスパッタ装置内に搬送し、スパッタ装置内で、配向金属基板にセラミックス層を形成する酸化物超電導薄膜線材のセラミックス層形成方法。 (もっと読む)


【課題】安定して高い耐摩耗性を有するTiAlN膜、および、それを表面に設けたTiAlN膜形成体を提供する。
【解決手段】TiAlN膜形成体1は、表面粗さが0.005〜0.010μmRaである金属製基材2の表面にTiAlN膜3を形成してなり、上記TiAlN膜3は、(1)少なくとも、押し込み硬さが30GPa以上または押し込み弾性率が500GPa以上であり、かつ、(2)該TiAlN膜3の表面粗さが0.050μmRa以下である。また、必要に応じて、金属製基材2とTiAlN膜3との間に、TiAl合金を含む所定の中間層を設けてなる。 (もっと読む)


【課題】耐傷性、耐腐食性に優れ、かつ高級感のある硬質装飾部材を提供することにある。
【解決手段】本発明の硬質装飾部材は基材上に密着効果の高い密着層と、反応ガス含有量が傾斜的に増加した傾斜密着層と、複数の異なる種類の薄膜硬化層が積層された薄膜複合構造を有する耐磨耗層と、反応ガス含有量が傾斜的に減少した色上げ傾斜層からなることを特徴とする。基材と膜間および積層される膜同士間の密着性が著しく向上することで耐傷性が向上すると共に、密着性が高いことから耐磨耗層を厚く形成でき、さらに耐磨耗層を薄膜複合構造にすることで膜硬度が上昇し耐傷性が著しく向上する。また耐磨耗層を薄膜複合構造にする事で光の散乱増加を抑止し、さらに色上げ傾斜層を形成することにより、輝度が高く高級感のある硬質装飾部材を提供できる。 (もっと読む)


【課題】スパッタリング法によってMgF薄膜を形成するにあたり、経時変化による屈折率の変化を抑えることのできる成膜方法を提供する。
【解決手段】酸素及び窒素の少なくとも一方を含むガスを導入しながら、表面の温度を650°C〜1100°Cの間に保持したMgF131をイオンでスパッタリングすることにより、MgFの少なくとも一部を分子状態で跳び出させ、分子状態のMgFで基板102上へ膜を形成する第1成膜工程と、基板上に酸化物を成膜する第2成膜工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】電磁波(フォトン)と表面プラズモンおよび表面マグノンとの間でのエネルギ交換を効率よく、かつ高い頻度で行うことができ、表面プラズモン共振や表面マグノン共振によって吸収、蓄積されるフォトンのエネルギを多くすることができるナノドットを有する構造体を提供する。
【解決手段】支持体10と、支持体10の上に形成された、複数の導電性セラミクスの単結晶22が集合してなる導電性セラミクス層20とを有し、導電性セラミクス層20の表面には、導電性セラミクスの単結晶22の一部からなり、高さ方向に直交する断面の面積が底部から頂部に向かってしだいに減少する形状を有するナノドット24が複数形成された、ナノドットを有する構造体1。 (もっと読む)


【課題】Ag膜の凝集が抑えられ、車両灯具用反射板に要求される種々の諸特性、すなわち、高い反射率を有することは勿論のこと、耐光性、耐熱サイクル性、耐湿性、耐硫化性について優れた耐久性を兼ね備えた、新規な積層反射膜を備えた車両灯具用反射板を提供する。
【解決手段】車両灯具用反射板は、基体上に、基体側から、Ag合金の第1層と、Si酸化物の第2層と、透明樹脂の第3層とが順次積層されており、前記第1層は、Biを0.02〜0.2原子%、Geを0.02〜0.5原子%、Auを0.1〜3.0原子%含有し、残部はAgおよび不可避不純物であるAg合金膜で構成され、前記第3層は、シリコーン変性アクリル樹脂で構成されている。 (もっと読む)


【課題】回路パターンを良好なファインピッチで形成することができるプリント配線板用回路基板の形成方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板用回路基板の形成方法は、白金、パラジウム、及び、金のいずれか1種以上を含み、白金の付着量が1050μg/dm2以下、パラジウムの付着量が600μg/dm2以下、金の付着量が1000μg/dm2以下である被覆層を表面に備えた銅箔又は銅層と、樹脂基板との積層体を準備する工程と、積層体の被覆層表面にレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンを形成した積層体の被覆層表面を、CuCl2を1.5〜4.1mol/L、及び、HClを1.3〜5.0mol/L含むエッチング液を用いてエッチングする工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】摩擦調整剤を含有した潤滑油が共存した摺動環境において従来技術よりも良好な低摩擦性と高い耐摩耗性とを兼ね備えた摺動部品を提供する。
【解決手段】モリブデン化合物を含有する潤滑油が共存する環境下で使用される摺動部品1であり、該摺動部品を構成する基材3の最表面に表面硬度が1800以上のビッカース硬度の硬質保護層20が形成された摺動部品であって、前記硬質保護層は、炭素、窒素および金属元素を主成分とし、かつ窒素を含有する炭素非晶質体と前記金属元素の化合物結晶体との複合体により構成され、前記化合物結晶体は金属炭化物、金属窒化物および金属炭窒化物のうちの少なくとも1つである。 (もっと読む)


【課題】Auの付着量を低減しつつ、Auを含む層をステンレス上に強固かつ均一に形成させることができ、さらに導電性、耐食性及び耐摩耗性を向上させた表面処理ステンレス鋼材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ステンレス鋼基材2の表面にAuとCrとを含む表面層6が形成され、表面層とステンレス鋼基材との間に、Crを20原子%以上含み、Oを20原子%以上50原子%未満含む中間層2aが1nm以上存在し、Auの付着量が4000ng/cm以上70000ng/cm未満であり、表面層と中間層の合計厚みに対し、Crを20原子%以上含む厚み部分が30%以上を占める表面処理ステンレス鋼材料である。 (もっと読む)


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