【課題】基材にさらされる面を有するスパッタターゲットと、当該ターゲットの面に対して移動する磁界を与えるマグネトロンとを有する、基材上に層を堆積させるためのスパッタリング装置を用いたスパッタリング法を提供する。
【解決手段】本発明においては、場の移動速度は、基材上の堆積の均一性が向上するように制御される。とりわけ、本方法は、均一性対速度を監視する工程；好ましい均一性を与える速度を選択する工程；及び選択された速度に場を制御する工程を含む。選択された速度はターゲットの寿命にわたって変化させることができ、ターゲットが薄くなるにつれて速度を高くすることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】低い温度でシリコン薄膜を形成しつつ、不純物の濃度を低く抑えることのできるシリコン薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン薄膜の製造方法は、基板１をチャンバ１０内に配置するステップと、イオンビーム蒸着を２５０℃以下の温度条件で行うことによって前記基板１上にシリコン薄膜を形成するステップと、を含むことを特徴とする。前記イオンビーム蒸着が行われるチャンバ１０の基本気圧を１０^−１２Ｔｏｒｒ以上１０^−７Ｔｏｒｒ以下に調節するのがよい。 （もっと読む）

【課題】 従来の粉末製造方法では実現できない、多量にかつ効率よく金属粉末の酸素含有量を低減できる低酸素金属粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】 炭化水素系有機化合物を加熱溶融して被覆した原料金属粉末を、不活性ガスを主体とする熱プラズマ炎中に通過させることにより前記原料金属粉末の酸素含有量を低減する低酸素金属粉末の製造方法である。また、さらに真空中もしくは水素雰囲気で加熱処理することにより原料金属粉末の酸素含有量を低減する低酸素金属粉末の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】熱処理（ＨＴ）可能で、熱処理後も耐傷性を有する被膜を提供する。
【解決手段】被膜品は、熱処理（ＨＴ）前に水素化されたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）及び窒化ジルコニウムをそれぞれ含む層を有する。熱処理（ＨＴ）の間、水素化されたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）は、燃料として働き、酸素とともに燃焼し、二酸化炭素及び／又は水を生成する。前記高温は、この燃焼の間広がり、窒化ジルコニウムを含む層を熱処理温度を上回る温度に熱し、窒化ジルコニウムを含む層を耐傷性と耐久性を有する酸化ジルコニウムを含む新たな熱処理（ＨＴ）後の層に層変態させる。窒化ジルコニウムを含む層及び／又は酸化ジルコニウムを含む層は、フッ素（Ｆ）及び／又は炭素（Ｃ）でドープされていてもよい。 （もっと読む）

【課題】 陰極形成による有機層へのダメージを防止するとともに陰極から有機層への電子注入効率を改善し、素子の発光特性を大幅に改善する。
【解決手段】 有機層と陰極の間に配置された緩衝層が、電子供与性を有するドーパント材が含有された透明導電性有機物で形成されている有機ＥＬ素子を提供する。 （もっと読む）

本発明は、物理気相成長法のターゲットを形成するために熱間等方圧加工工程を用いる方法を含む。特定の観点において、物理気相成長法のターゲットは、イリジウム、コバルト、ルテニウム、タングステン、モリブデン、チタン、アルミニウム及びタンタルの内の１つ又はそれ以上の材料を含むことができ、及び／又は、アルミナイド、シリサイド、カーバイド及びカルコゲニドの内の１つ又はそれ以上の材料を有する。また、本発明は、イリジウム、コバルト、ルテニウム、タングステン、モリブデン、チタン、アルミニウム及びタンタルの内の１つ又はそれ以上の材料を有する三次元ターゲットを含む。 （もっと読む）

【課題】従来試みられることのなかった新規な方法で担体に触媒材料を担持してなる水素貯蔵及び発生用触媒構造体、並びに該触媒構造体を用いた水素の貯蔵及び発生方法を提供する。
【解決手段】担体表面に反応性スパッタリング法により触媒材料をコーティングしてなる水素貯蔵及び発生用触媒構造体、並びに、該触媒構造体と、芳香族炭化水素とを用いることを特徴とする水素の貯蔵方法、及び上記触媒構造体と、芳香族炭化水素の水素化誘導体とを用いることを特徴とする水素の発生方法である。 （もっと読む）

露光波長の短波長化に適した低反射フォトマスクブランクを提供する。透光性基板２上に、金属を主成分とする一層又は多層の遮光膜３を有するフォトマスクブランクであって、前記遮光膜３上に、シリコンと、酸素及び／又は窒素を少なくとも含む反射防止膜６を有することを特徴とするフォトマスクブランク１。
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【課題】
光触媒性能を有する酸化チタン膜を基板を加熱せずに高速成膜できる技術を提供する。
【解決手段】
第１、第２のチタンターゲット１２₁、１２₂に逆位相の交流電圧を印加し、チタンの発光光(５００ｎｍ)の強度が１５％以上２０％以下の範囲になるように酸素ガスの流量を制御すると、加熱しなくても光触媒性能を有する酸化チタン膜を高速成膜することができる。交流電圧の周波数は１０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚ、 （もっと読む）

本発明は、回転可能な基板用ペデスタルを有する物理的気相堆積（ＰＶＤ）チャンバに関する。本発明の実施形態は、高度に均一な薄膜の堆積を容易にする。更なる実施形態において、一以上のスパッタリングターゲットがペデスタル上方に移動可能に配置される。ペデスタルに対するターゲットの配向は、横方向、垂直方向、又は角度的に調整可能である。一実施形態において、ターゲットは、約０°から約４５°の間で、ペデスタルの回転軸に対して調整されてもよい。
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本発明は、ＡｌＮ域の膜厚が厚く、域内において均一であり、母材との密着性が高い、ＡｌＮ域を表面に有するアルミニウム材料、及びその製造方法を提供する。本発明は、ＣｕＡｌ２を有するアルミニウム材料を準備する工程、及び該アルミニウム材料をプラズマ窒化する工程を有し、これによりアルミニウム材料の表面に窒化アルミニウム（ＡｌＮ）域を生成する、ＡｌＮ域を表面に有するアルミニウム材料の製造方法を提供する。
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【課題】 成膜速度を向上させた対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る対向ターゲット式スパッタ方法は、対向する一対のターゲット１，２を真空容器６内に配置し、前記一対のターゲットに電力を印加して放電させ、前記ターゲットから発生する発光が所定の発光量になるように反応性ガスの流量を制御しながらスパッタリングにより反応性膜を成膜するものである。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性および耐焼き付き性に優れる硬質皮膜とその形成方法を提供する。
【解決手段】 (1) （Ｘ_C , Ｍ_1-C ）（Ｂ_a Ｃ_b Ｎ_1-a-b ）からなる硬質皮膜であって、ＭはＷ、Ｖの１種以上、Ｘは4A、5A族、6A族の元素およびAl、Si、Fe、Co、Niの１種以上であり、式(1) 〜(4) 〔式(1):0.05≦ａ≦0.7 、式(2):０≦ｂ≦0.5 、式(3):０＜１−ａ−ｂ、式(4):０≦ｃ≦0.3 〕を満たすことを特徴とする硬質皮膜。但し、ａはＢの原子比、ｂはＣの原子比、ｃはＸの原子比である。(2) （Ｘ_C , Ｍ_1-C ）（Ｂ_a Ｃ_b Ｎ_1-a-b ）からなる皮膜とＢ_1-d-e Ｃ_d Ｎ_e からなる皮膜とを２層以上積層してなる硬質皮膜であって、ＭはＷ、Ｖ、Moの１種以上、Ｘは前記(1) の場合と同様であり、式(5) 〜(8) 及び式(9) 〜(10)〔式(5):０≦ａ≦0.7 、式(6) 〜(8):式(2) 〜(4) と同様、式(9) ：０≦ｄ≦0.25、式(10): （１−ｄ−ｅ）／ｅ≦1.5 〕を満たすことを特徴とする硬質皮膜等。 （もっと読む）

【課題】酸化数が精密に制御された金属ドープＣｕ_２Ｏ膜を高速にて成膜する方法及びこの成膜方法によって得られたＣｕ_２Ｏ膜を光吸収層として用いた太陽電池を提供する。
【解決手段】カバー２６内部に透明基板１を導入し、アルゴン中に酸素を含有させた混合ガスをカバー２６内に導入する。ターゲット電極２０Ａ，２０Ｂに一定の周期で交互にパルスパケット状の電圧を印加して、グロー放電を形成させる。これにより、ターゲット２１ａ，２１ｂから粒子がスパッタされ、基板１上にＣｕ_２Ｏ膜よりなるｐ層３が形成する。コリメータ３０ａ，３０ｂを介して得られたプラズマの発光スペクトルが電気信号となりＰＥＭ３１ａ，３１ｂに取り込まれる。このＰＥＭ３１ａ，３１ｂを用いてプラズマ中の銅の発光強度が常に一定になるように酸素ガスの導入流量を制御する。ターゲット２１ａ，２１ｂの一方は銅であり、他方はドープ金属である。 （もっと読む）

【課題】 潤滑性非晶質炭素系被膜がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製ブローチを提供する。
【解決手段】オージェ分光分析装置で測定して、Ｗ：５〜２０原子％、Ｔｉ：５〜２０原子％、窒素：０．５〜１８原子％、を含有し、残りが炭素と不可避不純物からなる組成を有すると共に、透過型電子顕微鏡による観察で、炭素系非晶質体の素地に、結晶質炭窒化チタン系化合物の微粒が分散分布した組織を示し、かつ１〜３μｍの平均層厚を有する潤滑性非晶質炭素系被膜を蒸着形成してなる表面被覆超硬合金製ブローチ。 （もっと読む）

【課題】潤滑性非晶質炭素系被膜がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製ブローチを提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金で構成されたブローチ本体の表面に、（ａ）下部層として、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＡｌ_Ｘ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．６５）を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物からなると共に、１〜３μｍの平均層厚を有する硬質被覆層、（ｂ）上部層として、オージェ分光分析装置で測定して、Ｗ：５〜２０原子％、Ｔｉ：０．５〜４原子％、窒素：１０〜３０原子％、を含有し、残りが炭素と不可避不純物からなる組成を有すると共に、透過型電子顕微鏡による観察で、炭素系非晶質体の素地に、結晶質炭窒化チタン系化合物の微粒が分散分布した組織を示し、かつ１〜３μｍの平均層厚を有する潤滑性非晶質炭素系被膜を蒸着形成してなる表面被覆超硬合金製ブローチ。 （もっと読む）

【課題】高速切削加工でダイヤモンド状炭素系被膜がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ基超硬合金基体の表面に、収束磁場形成のプラズマ化学蒸着装置にて、（ａ）Ｔｉターゲットをスパッタして、磁場中成膜されたＴｉＮ層およびＴｉＣＮ層のうちのいずれか、または両方の積層からなり、かつ０．５〜３μｍの平均層厚を有する密着接合層を介して、（ｂ）酸化シリコン焼結体ターゲットをスパッタして磁場中成膜された、ダイヤモンド状炭素（ＤＬＣ）からなる素地に、透過型電子顕微鏡による観察で最大径が１０ｎｍ（ナノメーター）以下の酸化シリコン微粒が、Ｘ線光電子分光装置（ＥＳＣＡ）による測定で１〜１０原子％の割合で分散分布した組織を有し、かつ０．６〜１５μｍの平均層厚を有するダイヤモンド状炭素系被膜を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】ヒロック、エッチング残渣、ＩＴＯ等との電気化学反応の発生を防止した低抵抗な配線膜を再現性よく成膜することができ、かつスパッタ時におけるダスト発生を抑制したスパッタターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｙ、Ｓｃ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、ＤｙおよびＥｒから選ばれる少なくとも1種の第１の元素を0.001〜30原子％の範囲で含み、残部が実質的にＡｌからなるスパッタターゲットを作製するにあたって、第１の元素を配合したＡｌを溶解した後、急冷凝固法により第１の元素とＡｌの金属間化合物が均一分散されたインゴットを作製する。このインゴットを加工してスパッタターゲットを作製する。 （もっと読む）

【課題】 実際に必要とするだけの電力量を利用可能にするという問題に対処することにある。
【解決手段】 本発明は、同じ消費電力または異なる消費電力を有する幾つかの電気エネルギ消費体の構成に関する。一般に、必ずしも全ての消費体に同時に電気エネルギを供給する必要がないため（例えばメンテナンス作業のためある消費体は作動していないことがある）、相互接続可能な幾つかのモジュールからなるモジュラエネルギ供給システムが設けられ、これにより各消費体には、必要とする電力を小型ユニットから供給することが可能になる。
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本発明は、バリヤー層を形成するための方法を含む。材料はECAEターゲットからアブレートされ、基体表面上にわたって1%未満またはそれと同等の1シグマの厚みバラツキを有する層を形成する。本発明は、トンネル接合を形成する方法を含む。薄フィルムは、第１の磁性層と第２の磁性層との間に形成される。その薄フィルム、第１の磁性層および／または第２の磁性層は、ECAEターゲットから材料をアブレートすることにより形成され、非ECAEターゲットを使用して形成された対応する層と比較して改善された層厚み均一性を呈する。本発明は、物理蒸着ターゲットおよびそのターゲットを使用して形成された薄フィルムを含む。そのターゲットは、アルミニウムとGa、ZrおよびInから選択された少なくとも１つの合金化元素との合金を含有する。得られたフィルムは、その薄フィルム上にわたって1.5%未満の1シグマの厚みバラツキを有する。
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