【課題】膜形成の条件が限定されない成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１は、シート３に膜を形成するroll to roll方式の成膜装置であり、成膜室２内にシート３を搬送する搬送路２７が設定され、この搬送路２７の側の上方に位置した成膜室２の上部２４に、４０個のフランジ孔２６が形成されている。フランジ孔２６には、搬送路２７を搬送されるシート３に膜を形成するターゲット部５が装脱可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】真空内を機構が簡単で基板の蒸着面を上面にして搬送ができ、前記上面搬送においても高精彩に蒸着可能な有機ＥＬデバイス製造装または同製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】
真空内を基板の蒸着面を上面にして搬送し、少なくとも前記基板が移動する場合には前記基板の搬送面が摺動しないように保持し、前記真空チャンバ内で前記基板を受渡し、その後前記基板を垂直または略垂直にたてて蒸着する。
また、上面搬送されてきた複数の基板を一つの真空蒸着チャンバ内で同一の蒸着源で交互に蒸着する。 （もっと読む）

【課題】成膜基板の冷却効率を向上させることが可能な冷却機構を提供する。
【解決手段】冷却機構２は、下面冷却板２１、昇降機構２２および上面冷却板２５を備えている。冷却機構２は、基板１１を支持するトレイ３２に下面冷却板２１を接触させることで、トレイ３２を介して基板１１を冷却する。これにより、基板１１は、トレイ３２と熱伝導部材とを介して下面冷却板２１に熱を伝えることにより冷却される。 （もっと読む）

【課題】基板移載時におけるトレイへの基板移載機構の精度が低い場合においても、トレイに対して基板を常に安定して保持させることができるようにし、基板搬送時のトレイからの基板のずれ、破損、脱落の発生を抑制すること。
【解決手段】本発明の一実施形態では、第一のトレイ106に基板102が搭載された際に与圧機構が基板102に圧力を与えて第一のトレイ106が基板102を保持した状態とし、この第一のトレイ106を第二のトレイ107に装着し、第二のトレイ107を斜めの姿勢にして搬送機構がプロセスチャンバー109に搬送する。プロセスチャンバー109では、減圧下でガスが導入され、基板102上に薄膜を堆積させる。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、熱負荷によるガラス基板の割れなどを誘発することなく、１枚のガラス基板から複数枚のパネルを省エネルギーのもとに調製することを可能にする、基板への蒸着被膜の形成方法および当該方法を実施するための搬送トレイを提供すること。
【解決手段】 搬送トレイを、四角形状の枠体と、枠体の対向する枠辺と枠辺の間に、その両端を枠体の各枠辺と弾性部材を介して連結することでテンションを付加して架設した薄体状部材とから構成し、複数本の薄体状部材を、基板が搬送トレイに載置されている状態を形成するための保持部材として機能させるとともに、基板における２つ以上の蒸着被膜形成領域を画定するためのマスク部材として機能させる。 （もっと読む）

【課題】搬送により発生するパーティクルが基板へ付着するのを広範囲にわたり低減させ、メンテナンス時、低減させたパーティクルの処理を容易にできる基板処理装置を提供することにある。
【解決手段】処理基板をトレイに搭載した状態で、排気可能な処理室の間を、トレイごと搬送しながら処理基板に処理室内で所定の処理を施す基板処理装置であって、トレイの搬送路の下方に、該トレイの搬送路の方向に沿って同じ磁極で向き合う磁性体を配置し、かつ、その上を非磁性材料からなる部材で覆われているパーティクル吸着体が備えられていることを特徴とする。 （もっと読む）

少なくとも１つのデバイス（１）の少なくとも１つの表面（１１）上にパリレンコーティング（２）を施す方法を提供する。ここでは、パリレンモノマーを有する第１のガス（４）を供給し、前記パリレンモノマーを有する第１のガス（４）を第１のノズル（３）によって、少なくとも１つの表面（１１）に供給することによって、前記デバイス（１）の少なくとも１つの表面（１１）上にパリレンモノマーを析出する。ここで前記デバイス（１）は大気圧を有する環境内に配置されている。さらに、パリレンコーティングを施す装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 基板表面にある凹凸のために基板とロールの間に入れたガスは基板端部から漏れ出し、高い伝熱能力を得ることは困難である。
【解決手段】 真空中で長尺基板１８を搬送する機構を有する真空装置であって、チャンバー１と、チャンバー１内を排気する真空ポンプ２と、チャンバー１内で長尺基板１８を搬送する複数の搬送ロールと、チャンバー１内で搬送ロールの少なくとも一つが開口部に設置され開口部に配置された搬送ロール２４に近接する仕切り部材２８を有するケース２３と、ケース２３内にガスを導入するガス導入手段と、ケース２３内で長尺基板１８を搬送しながら、長尺基板１８を冷却する冷却ロール２５と、を有し、ケース２３内での長尺基板搬送長に対する、長尺基板１８と冷却ロール２５との接触長との比が、ケース２３外での長尺基板搬送長に対する、長尺基板１８と搬送ロールとの接触長との比より大きいことを特徴とする構成とする。 （もっと読む）

本発明は、真空チャンバー内で基板を加熱して、次に即座に基板をコーティングする方法に関し、当該方法は、（１）基板の下面を基板ホルダー上に配置する工程、（２）基板を、基板ホルダーに対して所定距離に亘って持ち上げる工程、（３）加熱装置、例えば、放射熱装置を用いて、その上面によって持ち上げ基板を加熱する工程、（４）例えば、コーティングゾーンの中およびそれを通過して移動することによって加熱基板をコーティングする工程、（５）基板をチャック上まで下ろして、基板を冷却する工程、および（６）必要に応じて、冷却基板を更にコーティングする工程を含む。本発明に係る方法は、実施される方法手順を更に可能にし、様々な規定温度を各々の工程の間に基板上に設定でき、および必要に応じて、その後に即座に１以上のコーティングを前記基板温度で行うことができる。例えば、コーティング（抑えた）した後に即座に所定時間に亘って基板を更に高温で保持できる場合も含まれる。
（もっと読む）

【課題】有機材料の熱的劣化を軽減し、長時間にわたって安定した品質の薄膜形成が可能な真空蒸発源を提供する。
【解決手段】有機材料１３を収容すると共に有機材料１３を蒸発させる蒸発室１４を有し、蒸発させた有機材料１３を噴出する真空蒸発源１１において、蒸発室１４の加熱領域を深さ方向に複数に分割し、分割した加熱領域毎にヒータ２１〜２３を各々配置し、有機材料１３の表面がある加熱領域を、当該加熱領域のヒータにより有機材料１３の気化温度で加熱し、有機材料１３の表面がある加熱領域より上の加熱領域を、当該加熱領域のヒータにより有機材料１３の再付着温度より高い温度で加熱し、有機材料１３の表面がある加熱領域より下の加熱領域を、当該加熱領域のヒータにより気化温度より低い温度で加熱する。 （もっと読む）

【課題】多くの製造工程を経ることなく低コストで製造可能であって、薄層で高レベルの防湿性能を発揮でき、かつ、吸湿量の制御が容易である防湿性積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも２層の蒸着フィルム１を有し、その層間に少なくとも１層の吸湿層２が挟持されてなる防湿性積層体１０である。吸湿層２が、含水率が１％以下のバインダ樹脂と、水分吸着性物質とからなる。蒸着フィルム１が、基材の一方の面に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜と、ガスバリア性組成物による第１のガスバリア性塗布膜と、物理気相成長法または化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜と、ガスバリア性組成物による第２のガスバリア性塗布膜と、が順次形成されてなる。 （もっと読む）

【課題】大型基板に対応可能な蒸着マスク、蒸着装置、蒸着方法を提供する。
【解決手段】
蒸着マスク１０上で開口部１１をその中心間距離が基板５０のピクセル５１ａ₁、５１ａ₂の中心間距離の２倍になるように形成する。この蒸着マスク１０を基板５０上に配置し、各ピクセル５１ａ₁、５１ａ₂、５１ａ_xの上方に開口部１１と遮蔽部１９が交互に配置されるように位置合わせした状態で、開口部１１と対面するピクセル５１ａ₁を成膜し、次いで蒸着マスク１０をピクセル５１ａ₁、５１ａ₂の中心間距離だけ移動させ、移動前に遮蔽部１９と対面していた未成膜のピクセル５１ａ₂、５１ａ_xの上方に開口部１１を位置させ、その状態で未成膜のピクセル５１ａ₂、５１ａ_xに薄膜を成膜する。開口部１１の間隔が従来より広いため、開口部１１形成の際に蒸着マスク１０が破損する虞を従来より低減でき、大型の蒸着マスク１０の製作が容易になる。 （もっと読む）

【課題】構成層の剥離や透明導電膜の劣化を防止することにより、長期にわたり優れた性能を発揮することが期待できる透明導電膜付ガスバリアフィルムを提供。
【解決手段】環状ポリオレフィン系材料からなる基材１０の両主面に対し、それぞれガスバリア層２０Ａ、２０Ｂ、保護層３０Ａ、３０Ｂを順次積層してフィルム積層体２を構成する。保護層３０Ａ、３０Ｂはシロキサン系熱硬化性樹脂で構成する。ＡＰＣ層４０の両面にＩＴＯ膜５０Ａ、５０Ｂを積層して透明導電膜積層体３を構成する。このフィルム積層体２と透明導電膜積層体３とを積層して、透明導電膜付ガスバリアフィルム１を構成する。 （もっと読む）

本発明は、基板（２０）を熱加工するための熱処理内側チャンバ（３）であって、壁（１０）を備え、該壁（１０）は、熱処理内側チャンバ（３）の内室（２４）を包囲し、熱加工の間に基板（２０）を支承するための支承装置（８）を備え、熱処理内側チャンバ（３）の内室（２４）にエネルギを導入するためのエネルギ源（１１）を備え、壁（１０）の内側面の少なくとも一部は、エネルギ源（１１）により導入される出力を反射するように形成されるものにおいて、壁（１０）の内側面の少なくとも一部は、少なくとも赤外線高反射性の材料から成ることを特徴とする。さらに本発明は、基板（２０）を熱加工するための熱処理内側チャンバ（３）であって、壁（１０）を備え、該壁（１０）は、熱処理内側チャンバ（３）の内室（２４）を包囲し、熱加工の間に基板（２０）を支承するための支承装置（８）を備え、熱処理内側チャンバ（３）の内室（２４）にエネルギを導入するためのエネルギ源（１１）を備えるものにおいて、壁（１０）の少なくとも一部を冷却するための冷却装置（１４）を設ける。
（もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率が向上した薄膜蒸着装置、それを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法及び有機発光ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】蒸着物質を放射する蒸着源１１０と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向するように配され、一側には、共通蒸着領域が形成され、他側には、第１方向に沿って互いに長さが異なる複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリット・シート１５０と、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間に、第１方向に沿って配され、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間の空間を、複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板を具備する遮断板アセンブリ１３０と、を含み、薄膜蒸着装置１００と基板６００は、いずれかが一側が他側に対して相対移動する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表示デバイス又は太陽電池の電極部材として９３％以上の可視光反射率を有し、さらに耐久性を向上させることが可能な反射体を提供することを課題とする。
【解決手段】基材上に形成される反射体であり、該反射体は、基材側から見て基材に近い側から、金属酸化物層、Ａｇに対して小さい原子半径を有する元素がドープされたＡｇからなる反射層、を有するものであり、該反射体のＣｕＫα線を用いたＸ線回折測定により、Ａｇに由来する回折ピークから算出される結晶子サイズが２〜２３ｎｍであることを特徴とする反謝体。 （もっと読む）

【課題】基板を支持して搬送される基板支持機構を備える真空処理装置において、異常を有する基板支持機構を検出することができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】直列に連結された真空処理室内で連続的に基板６３を搬送する基板搬送機構は、基板６３を保持した状態で移送される基板支持機構５０を撮影するＣＣＤカメラ１０３を有しており、ＣＣＤカメラ１０３によって撮影された映像から基板支持機構５０が基板６３を支持する位置を測定し、基板支持位置が異常な基板支持機構５０を検出する。 （もっと読む）

【課題】金属膜を埋め込む工程を有する電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】複数のマグネットが多角形格子の格子点の位置にかつ隣接するマグネットが異極性となるように配置された磁石ユニットによりターゲット表面に磁場を形成させながら、ＰＣＭスパッタリング法により、凹部が形成された被処理体に窒化チタンを含むバリア層を成膜する第１の工程と、前記バリア層上に直接低融点金属層を、前記低融点金属層が流動可能な温度条件下で充填する第２の工程と、を有することを特徴とする電子部品の製造方法。 （もっと読む）

−プロセス空間雰囲気圧のプロセス空間雰囲気を用意することと、−プロセス空間雰囲気圧とは異なる外部雰囲気圧の外部雰囲気を用意することと、−外部雰囲気がプロセス空間雰囲気に開口連通する通路であって、外部雰囲気とプロセス空間雰囲気との間での基板の交換が可能である通路を設けることと、−この通路の少なくとも一部を通って延在する交換用流体の流れを生じさせるように、少なくとも１つの交換用流体注入点において交換用流体を通路に注入することと、を含む方法であって、この流れの方向は、−外部雰囲気圧がプロセス空間雰囲気圧より大きい場合は、外部に向かい、−外部雰囲気圧がプロセス空間雰囲気圧より小さい場合は、プロセス空間に向かう、方法。 （もっと読む）

【課題】高温高湿の環境下に長期間曝された際や、レトルト処理後であっても、ガスバリア性の低下が少なく層間剥離が起こらない、優れたガスバリア性及び層間密着性を有するガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも一方の表面に、（Ａ）第１無機薄膜層、（Ｃ）ガスバリア性樹脂組成物層及び（Ｄ）第２無機薄膜層が、他の層を介して又は介さずにこの順に積層されており、（Ｃ）ガスバリア性樹脂組成物層が、エチレン−ビニルアルコール系共重合体からなるガスバリア性樹脂（ａ）と無機層状化合物（ｂ）とカップリング剤及び架橋剤から選ばれる少なくとも１種の添加剤(ｃ)とを含んでなるガスバリア性樹脂組成物から形成され、無機層状化合物（ｂ）の含有量が、ガスバリア性樹脂（ａ）、無機層状化合物（ｂ）及び前記添加剤(ｃ)の合計１００質量％中０．１質量％〜２０質量％である。 （もっと読む）