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Fターム[4K029KA01]の内容

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【課題】エネルギーおよび設備投資を可能な限り低く抑えつつ高品質な表面電極膜と、反射層が白色材料層で構成される場合に高品質な裏面電極膜を提供する。
【解決手段】透明基板1と、透明基板1に蒸着される透明なドープ酸化亜鉛表面電極膜2と、半導体膜3と、任意に設けられるドープ酸化亜鉛裏面電極膜4と、光の入射側hvと反対側の裏面に設けられた反射層5とを含む薄膜ソーラーモジュールにおいて、ドープ酸化亜鉛表面電極膜2および/またはドープ酸化亜鉛裏面電極膜4のドーパント量を、透明基板1から半導体膜3に向けてと半導体膜3から反射層5に向けてそれぞれ減少させる。 (もっと読む)


【課題】成形機から取り出された被成膜製品の水分吸蔵を抑制して真空引きに消費するエネルギを低減できる省エネルギ化を、成形機の外で実現できるようにして、既設成形機の利用を可能にした真空成膜装置を提供する。
【解決手段】成形機11の傍に隣接して真空成膜装置本体12を設置し、成形機11と真空成膜装置本体12との間に移載装置13を設置する。移載装置13は、被成膜製品Wを保持する被成膜製品保持部25の両側に被成膜製品保温装置26を設け、移載中の被成膜製品Wに温風を吹き付けて成型直後の高温被成膜製品Wを保温および乾燥する。さらに、この移載装置13のX方向ガイドレール21に、成形機11からの脱型時の被成膜製品Wに帯電した静電気を除去する静電気除去装置27を設ける。 (もっと読む)


【課題】CIGSなどの多元素膜を真空蒸着する際に多元素膜の組成を一定に制御する。
【解決手段】光透過性の第1の窓10aと第2の窓10bを有する成膜チャンバー10内における多元素膜の成膜対象の基板14と多元素膜形成用の複数個の蒸着源(13a〜13d)の間の空間に、第1の窓から所定の波長域の連続光を入射する光源16と、第2の窓から開口部と基板の間の空間を通過した連続光を受光して2次元的に分光して、2次元画像信号を得る分光部17と、2次元画像信号を画像処理して原子吸光スペクトルを得て多元素膜を構成する各元素の原子のレートをモニターする信号処理部18を有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】基板に均一性高い加熱処理を行う一方で、高い真空度が得られる真空加熱装置を提供すること。
【解決手段】本発明の真空加熱装置は、気密な処理容器と、この処理容器内に基板を載置するために設けられたアルミニウム合金からなる載置台と、この載置台を支持し、その内部に用力線路部材が大気側から挿入されているステンレス鋼からなる筒状の支持部材と、この支持部材と処理容器との間を気密にするための有機物からなるシール部材と、前記載置台を加熱するための加熱部と、前記処理容器内を真空排気するための真空排気手段と、を備えている。これによって載置台の熱が支持部材を介してシール部材に伝熱し難くなっており、シール部材の昇温が抑えられ、大気側から大気成分がシール部材を通って処理容器内へ侵入することが抑えられる。 (もっと読む)


【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第1方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向して配され、第1方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間に第1方向に沿って配されて、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリと、基板と蒸着源との間に配される遮断部材と、を備え、薄膜蒸着装置は、基板と所定程度離隔するように形成され、基板は、薄膜蒸着装置に対して相対的に移動自在に形成され、遮断部材は、基板の少なくとも一部を遮蔽するように基板と共に移動することを特徴とする薄膜蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法。蒸着源110から放出された蒸着物質115を、蒸着源ノズル部120及びパターニングスリットシート150を通過させて基板400に所望のパターンで蒸着させる。遮断板アセンブリ130とパターニングスリットシート150との温度が十分に低ければ、所望しない方向に放射される蒸着物質115は、いずれも遮断板アセンブリ130面に吸着されて高真空を維持できるため、蒸着物質間の衝突が発生せずに、蒸着物質の直進性を確保することができる。 (もっと読む)


【課題】有機層および無機層を有する積層型のガスバリアフィルムにおいて、ガスバリア性のみならず、生産性にも優れるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】基板Zの表面に大気中で成膜された第1有機層12を有し、その上に、真空中で成膜された第2有機層14を有し、その上に、真空中で成膜された無機層16を有する。 (もっと読む)


【課題】高精細のパターニングを有する大型基板の量産工程に適した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板500に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリ100を含む真空に維持される複数のチャンバにおいて、被蒸着用基板と接し、基板を支持する支持面を具備した本体と、本体に内蔵され、支持面に静電気力を生成させる電極と、電極に電気的に連結され、本体に備わった電池を有する静電チャック600がチャンバを通過するように移動させるキャリアを含む薄膜蒸着装置、及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】基板ホルダへの電圧印加効率の向上を図り、長期に渡って安定的に使用できる電圧印加装置を提供する。
【解決手段】電圧印加装置は、真空処理チャンバーと、真空処理チャンバ内に設けられた基板ホルダー20と基板ホルダに電圧を印加するための給電部材13と、給電部材の先端部に設けられた、ダイヤフラム式給電部22と、真空処理チャンバーの外部に設けられ、かつ給電部材を可動して、ダイヤフラム式給電部を基板ホルダに接触又は非接触させる可動機構18と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程にさらに適し、高精細のパターニングを可能にするためのものであり、被蒸着用基板を静電チャックに固定させるローディング部;真空に維持されるチャンバと、チャンバの内部に配され、基板と所定程度離隔されて静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリを含む蒸着部;静電チャックから、蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部;基板が固定された静電チャックを、ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第1循環部;アンローディング部から、基板と分離された静電チャックを、ローディング部に送り戻す第2循環部;を含み、第1循環部は、蒸着部を通過するとき、チャンバ内部に貫通するように備わった薄膜蒸着装置、及びこれによって製造された有機発光表示装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】高い光触媒特性を有する光触媒酸化チタン薄膜を、低温で高速且つ安価に提供する。
【解決手段】ガラスやプラスチックなどの基体の表面に形成された非晶質金属化合物薄膜からなるシード層と、該シード層上に柱状に成長して形成された結晶質金属化合物薄膜とからなり、この薄膜の作成に当たり、スパッタ法によって活性ガスのプラズマによる前処理又は後処理、更には加熱処理を行なうことなく、低温且つ高速の成膜によって光触媒酸化チタン薄膜を安価に作成する。 (もっと読む)


【課題】ランプヒータの突入電流を抑制する。
【解決手段】ランプヒータユニットは、並列配置され、中央のランプヒータユニットHU2の両側に、ランプヒータユニットHU1、HU3が配置されている。
基板Wがカート310によって加熱室100に搬入されたときに、制御装置400は、まず、ヒータ電源装置410から中央のランプヒータユニット(第1グループ)にのみ給電する。このときの突入電流は、全てのランプヒータユニットに給電する場合に比較して約1/3となる。その他のランプヒータユニットは中央のランプヒータユニットの輻射熱によって加熱され、電気抵抗値が増大する。
制御装置は、ランプヒータユニットの抵抗値が充分増大したときに、両側のランプヒータユニット(第2グループ)に給電する。 (もっと読む)


【課題】基板上に膜厚が均一な薄膜を形成可能な有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】有機ELデバイスの製造装置において、蒸発させた蒸着材料を線上に配置した複数のノズルを介して真空槽の内部に放出させる蒸発源の各ノズルからの有機EL材料の蒸発量を、蒸発量モニタ手段で各ノズルにモニタし、このモニタした各ノズルの有機EL材料の蒸発量の情報を用いて制御手段で蒸発源を制御するようにした。 (もっと読む)


【課題】高精細のパターニングを有する大型基板の量産工程に適した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本体601に内蔵され、本体の互いに異なる位置に備わった複数の電源ホール603a,603bを含む基板500を支持する静電チャック600で、キャリアのチャンバ731通過時に電源ホールへの着脱自在の、電極に電力を提供する移動経路の上流の第1電源フィン604aと他の電源ホールに着脱自在の下流に位置する第2電源フィン604bを含む薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】焼却処理時の環境負荷が小さく、フィルムの薄膜化や軽量化が可能であるとともに、美しい光沢が得られ、しかも製造時の加工工程が少なく、製造コストを削減することが可能であるガスバリア性フィルムの製造方法及びガスバリア性フィルムを提供すること。
【解決手段】表面フィルム上に印刷層を形成する工程と、該印刷層上に金属からなる蒸着層を形成する工程と、該蒸着層上に接着剤層を形成する工程と、該接着剤層上に裏面フィルムを接着する工程とからなり、前記印刷層を形成する工程と、前記蒸着層を形成する工程と、前記接着剤層を形成する工程を連続的な一連の処理工程で行う。 (もっと読む)


【課題】大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】複数個の蒸着アセンブリ100、200、300を含み、蒸着アセンブリそれぞれは、蒸着物質を放射する蒸着源110と、蒸着源の一側に配され、第1方向に沿って複数個の蒸着源ノズル121が形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向するように配され、第1方向に沿って複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリット・シート151と、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間に、第1方向に沿って配され、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板131を具備する遮断板アセンブリとを含み、該薄膜蒸着装置は、基板400と所定距離離隔されるように形成され、薄膜蒸着装置と基板は、いずれか一側が他側に対して、相対的に移動自在に形成される。 (もっと読む)


【課題】配線基板の製造においてスパッタプロセスを採用しつつ、スループットの向上及びランニングコストの低減が可能な配線基板の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜を表面に有する被処理基板102上に、導電体メッキ層を形成する場合、導電体メッキ層の下地となるシード層をスパッタのみによって形成した場合、密着性及びスループットの向上ができない。同一のプラズマ処理室109内に、プラズマ源を備え、被処理基板102の前処理を行なう表面処理部106と、複数の膜によって形成されたシード層を形成する複数のスパッタ成膜部107、108を備えた配線基板プラズマ処理装置とする。 (もっと読む)


【課題】スパッタリング装置に使用されるシールドが原因となる、異常放電や付着膜の剥がれを低減させたスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】排気可能なスパッタリング室と、該スパッタリング室内に設けられた、ターゲット搭載用のそれぞれ回転可能な複数の支持体と、それぞれの該支持体の複数の面に、互いに離間するように設けられた、複数のカソードと、前記スパッタリング室内で位置決めされた基板の被成膜面の位置に応じて、前記複数の支持体毎に回転させることにより、前記カソードのターゲット搭載面に搭載された前記ターゲットの位置決めをして前記基板に成膜を行うスパッタリング装置のシールドが、前記支持体の前記ターゲットをプラズマクリーニングするために、該ターゲットの表面と平行関係にある構成を有している。 (もっと読む)


【課題】タッチパネルに用いた際のペン摺動耐久性に優れると供に、平面性に優れたタッチパネルを製造することが出来る透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材上の少なくとも一方の面に酸化インジウムを主成分とした透明導電膜が積層された透明導電性フィルムであって、透明導電性フィルムの少なくとも一方向の120℃60分における収縮率が0.20〜0.70%であり、120℃60分熱処理後の透明導電膜の酸化インジウムの平均結晶粒径が30〜1000nmで、かつ、透明導電膜の結晶質部に対する非晶質部の比が0.00〜0.50であり、ことを特徴とする透明導電性フィルムでタッチパネルを作製し、熱処理で平面性を向上させる。 (もっと読む)


【課題】成膜速度検出器のメンテナンスの頻度を低減すると共にこの成膜検出器に筒状加熱体からの熱による不具合が発生することを抑制することができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置は、蒸着源1、筒状加熱体2、成膜速度検出器3及び遮蔽体4を備える。前記筒状加熱体2は前記蒸着源1と被蒸着基材5との間の空間を取り囲むように配設されている。前記遮蔽体4は前記筒状加熱体2の被蒸着基材5側の開口を臨む位置を通過するように連続的に移動するように設けられている。前記成膜速度検出器3は、前記遮蔽体4に対して筒状加熱体2側とは反対側の位置に配設されている。前記遮蔽体4には筒状加熱体2側から成膜速度検出器3側へ貫通する複数の孔6が形成されている。 (もっと読む)


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