【課題】表面から数百μm以下の浅く、組織は微細で、かつ組成の均一性が改善された合
金層を得る表面処理方法を提案することにある。
【解決手段】鉄系材料５の例としてFｅ−C鋼からなる鋼板５を用い、その表面に硬度向上材料と表面張力向上材料とからなる層４が形成され、層４の上方に設置された電子ビーム照射装置から電子ビーム３が層４に向かって同層の表面におけるエネルギー密度がエネルギー密度にして1．0×１０^４W／m^２〜1．5×１０^５Ｗ／m^２程度５×１０^４W／m^２である
ように照射される。 （もっと読む）

本発明は、亜鉛が豊富な完全な合金層を有するディスクリート製品に適した方法に関する。かかる製品の腐食保護のための公知の方法は、溶融メッキガルバニーリング、典型的に続いてペイントの工程を含む。この溶融メッキプロセスは、しかしながら高温で実施されるべきであり、従って製品は、過酷な熱応力を受ける。従って新規のＺｎの真空蒸着法を提供する。前記製品を金属Ｚｎ蒸気と接触する工程において、該製品の温度は、Ｚｎ蒸気の露点と同じ又はそれより高い。該プロセスは、均一な厚さを有する被覆をもたらし、ほとんど接触可能表面がない。その表面の粗さは、ペイントの付着に良好に適合する。 （もっと読む）

【課題】対象物の上に均一な膜で表面粗さ（最大高さ）の小さい膜を形成する原料粉末膜被覆方法を提供する。
【解決手段】膜を被覆する対象物４、微小な直径を有するボール３と膜となる原料粉末２を容器１内に充填率８割以上に充填したのち、メカニカルアロイング処理を行うことにより、高エネルギの摩擦による膜被覆を対象物４の表面に均一な膜として形成することができる。 （もっと読む）

ベース材料（１）上の熱バリア被覆系（５）であって、下面で前記ベース材料（１）と直接接触し、且つ上面で第一のセラミック層（３）と直接接触するボンディングコート層（２）を含む被覆系が提案される。該熱バリア被覆系は、さらに、第二のセラミック層（４）を、被覆系の最外の熱ガスに晒される表面上に含む。第一のセラミック層（３）は、イットリア含有率６〜８質量％の範囲（６ｗ／ｏ〜８ｗ／ｏ Ｙ₂Ｏ₂）を有するイットリア安定化ジルコニア（ＺｒＯ₂）である、ＹＴａＯ₄ドープジルコニア、および／またはチタニアドープジルコニアからなる。第二のセラミック層（４、４ａ、４ｂ）の材料は、ＹＴａＯ₄ドープジルコニア、チタニアドープジルコニア、スカンジア安定化ジルコニア、セリア含有ペロブスカイト材料、イットリウムアルミニウムガーネット材料、モナザイト材料、スピネル材料、およびそれらの組み合わせ、混合物、合金、配合物または多層構造の群から選択され、ただし、第一のセラミック層（３）がＹＴａＯ₄ドープジルコニアおよび／またはチタニアドープジルコニアからなる場合、第二のセラミック材料（４、４ａ、４ｂ）はＹＴａＯ₄ドープジルコニアおよび／またはチタンドープジルコニアからは選択されない。さらには、本発明は、かかる熱バリア被覆系の適用方法、並びにかかる被覆系を用いて提供される２つの部品に関する。
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本発明は、材料科学および材料物理の分野に関連し、および例えば磁気冷凍材料として冷凍の目的のために使用されうる、被覆された磁性合金材料に関する。本発明のこの課題は、改善された機械的性質および／または化学的性質を有する被覆された磁性合金材料を記載することにある。この課題は、ＮａＺｎ₁₃型の結晶構造および式ＲａＦｅ_100-a-x-y-zＴ_xＭ_yＬ_zで示される組成を有する磁性合金材料によって解決され、この磁性合金材料の表面は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｄ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｗ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕの群からの少なくとも１つの元素またはその組合せからなる材料で被覆されている。更に、この課題は、磁性合金材料が液相からの方法により被覆される方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】 ターゲット物質の歩留りを向上させ、無駄なく簡単に薄膜を形成するためのターゲット物質含有液体の製造方法、ターゲット物質を含有する薄膜の形成方法、ターゲット物質含有液体を提供する。
【解決手段】 ターゲットを用いたプラズマスパッタリング法を用い、前記ターゲットが配置された処理室と同一の処理室内に配置された液体材料に向けてターゲット物質をスパッタリングすることにより、前記ターゲット物質を前記液体材料中に分散させることを特徴とするターゲット物質含有液体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】スポット溶接性と耐食性に優れた防錆鋼板とその製造方法を提供する。
【解決手段】有機系及び／又は無機系の被覆層を少なくとも片面に有する。そして、スポット溶接を施す部分の前記被覆層の厚みを、スポット溶接を施さない部分の厚みより薄くする。好ましくは、スポット溶接を施す部分の前記被覆層の厚みは2.5μm以下である。このように、スポット溶接部の被覆層の厚みを薄くすることで、溶接部の電気抵抗が十分に低下し、健全な溶接部を形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 水、水溶液又は水分散液の帯電微粒子を衝突させることによりフィルムの表面を改質する方法及び装置を提供する。
【解決手段】 フィルムの表面改質装置は、フィルム10aを搬送するロール２と、水、水溶液又は水分散液４を収容するとともに超音波振動子６を浸漬させた容器４と、フィルム10aと水、水溶液又は水分散液４との間に電位差を設ける手段８とを具備し、もって水、水溶液又は水分散液４の超音波振動により発生した帯電微粒子4aをロール２上のフィルム10aに衝突させることにより強固に付着させる。
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【課題】良好な耐食性を持ち、３０〜１０００ＭＨｚの周波数範囲で良好な電磁波シールド性を示す電磁波シールド性に優れた表面処理金属材及び電子機器用筐体を得る。
【解決手段】有機物、無機物又はその両方からなる厚み０．２μｍ以上８μｍ以下の絶縁性皮膜により、少なくとも片側の表面が被覆された金属材であって、該被覆面に下地の金属が局部的に露出した通電可能部１を有し、さらにその被覆表面上に任意の一点を選んだ時、その点を内部に含む任意の三角形２において、その３つの頂点で３つの前記通電可能部にそれぞれ接する最も周の短い三角形の周長（ＣＴ）の最大値が７００μｍ以下であることを特徴とする電磁波シールド性に優れた表面処理金属材である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来のジルコニウム系化成処理と同様に低環境負荷で、袋構造部を有する各種金属材料などに必要量の化成皮膜を形成することができ、金属材料に耐食性および塗膜密着性を付与することができ、さらに、カチオン電着塗装において高い塗装付き廻り性を得ることができる金属材料を提供することを目的とする。さらには、袋構造部を有する金属材料などに好適に使用できる金属表面処理用処理液、カチオン電着塗装した塗装金属材料、および、それらの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】金属材料の表面の少なくとも一部に、Ｔｅを金属Ｔｅ換算で３〜３００ｍｇ／ｍ^２含む皮膜を有する皮膜付き金属材料。 （もっと読む）

【課題】識別しやすく、脱落しにくいめっき層を有するツール用連結部材を提供する。
【解決手段】筒状の本体（１０）を有し、該本体（１０）は、外縁の表面（１５）を有し、該表面（１５）に少なくとも１つの目印ユニット（２０）が設けられ、該本体（１０）の表面に該目印ユニット（２０）と対応する凹溝（２１）が形成され、該凹溝（２１）の周縁に着色層（２２）が塗布され、該着色層（２２）が所定の色を有し、該本体（１０）の表面に該着色層（２２）に付着しないめっき層（２５）が設けられ、該めっき層（２５）の色と着色層（２２）の色とは、明らかに差別を有することにより、着色層（２２）が脱落しにくい、識別しやすいことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、金属表面上に変形可能な防食層を製造するための方法、およびこの方法の使用に関する。幅広い範囲の用途に向けた金属のカソード防食のための経済的なプロセスを創出するために、本発明は、金属表面上に変形可能な防食層を製造するための方法であって、以下の工程：ａ）５〜９５重量％の顔料、粉末、ペースト（フレーク）またはペレットの形態にある金属マグネシウム、亜鉛、アルミニウムもしくはチタン粒子、またはこれらの金属のうちの少なくとも１つを含有する混合物もしくは合金を、５〜９５重量％の少なくとも１つの金属化合物と混合する工程であって、当該金属粒子と金属化合物との間の反応は表面改質された金属粒子をもたらす工程と；ｂ）得られた表面改質された金属粒子を金属表面に付与する工程と；ｃ）この表面改質された金属粒子から生成された層を、室温〜５００℃の間の温度で硬化する工程と、からなる方法を提案する。本発明の構成の範囲内で、本発明の方法に従って被覆された金属基材は、変形させること、上塗りすること、溶接すること、被覆および着色すること、ならびに熱を反射することができるということが示された。 （もっと読む）

【課題】プラズマによる衝撃波を用いてコーティングを形成する。コーティングの厚みを容易に制御でき、溶射よりも高速な粒子衝突速度による密着力等の優れたコーティングを形成する。
【解決手段】被コーティング部材１の表面に形成され、粉体４と樹脂３が混合されてなる粉体樹脂混合層２の表面にパルスレーザ７を照射してプラズマ８を発生させ、プラズマ８による衝撃波により粉体を被コーティング部材の表面に衝突させて、粉体を材料とするコーティング１１を被コーティング部材の表面上に形成する。粉体４と樹脂３が混合された材料を被コーティング部材の表面に塗布することにより粉体樹脂混合層を形成する。また、粉体樹脂混合層に２種以上の粉体を混在させて行うことにより、２種以上の材料が混在したコーティング１２を形成したり、異種の粉体が２層に分かれた粉体樹脂混合層を形成して行うことにより、２層状のコーティング１３を形成する。 （もっと読む）

【課題】エアロゾル生成室において長期に亘り安定にエアロゾルを生成させ、生成させたエアロゾルを長期に亘り安定に保持することにより、均一で安定した膜状構造物の構造物作製方法、構造物作製装置及び構造物を提供することを目的とする。
【解決手段】微粒子３とガス１とを混合したエアロゾル４を、高速で基体９に吹き付けて前記微粒子材料からなる膜状構造物を作製する構造物作製方法において、前記エアロゾル４は、乾燥剤５によって乾燥することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属イオンおよび／またはアルカリ土類金属の還元性、触媒としての反応性を有し、物質に混合することにより、還元性、耐火性、耐蝕性、絶縁性などの多様な機能を付加することができる組成物の提供。
【解決手段】周期律表４Ａ族の金属アルコキシド、周期律表４Ｂ族(炭素を除く）の金属アルコキシド、周期律表３Ａ族の金属アルコキシド、周期律表３Ｂ族の金属アルコキシド、およびこれらの部分加水分解物から選ばれた少なくとも１種の金属アルコキシド類と、アルカリ金属のアルカリ化合物および／またはアルカリ土類金属のアルカリ化合物を含むアルコール溶液を主成分として、アルコールを除去することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】金属を含む母材表面にＣ（炭素）を直接注入して金属炭化物表面層を形成する方法、並びにその金属炭化物表面層を提供する。
【解決手段】１種類以上の金属４，５を主とする母材表面を溶融し、この母材表面に溶融池Ｘ１を形成する工程と、溶融池Ｘ１において、溶融した母材表面に存在する金属４，５に炭素３１を直接反応させる工程と、炭素３１が反応した溶融池Ｘ１を冷却により硬化させて金属炭化物表面層６１を形成する工程と経ることで、母材４の表面に金属炭化物表面層６の形成する。
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【課題】 クラックのない被膜を得ることを目的とし、その被膜形成のための放電表面処理方法を確立する。
【解決手段】 金属粉末あるいは金属の化合物の粉末、あるいは、セラミックスの粉末を成形した粉末成形体、もしくは、該圧粉体を加熱処理した粉末成形体、或いは金属を電極として加工液中或いは気中において電極とワークをサーボをとりつつ両者が接触しないように間隙を保ちながら、パルス状の放電を発生させ、そのエネルギーにより、ワーク表面に電極材料あるいは電極材料が放電エネルギーにより反応した物質からなる被膜を形成する放電表面処理において、電極投影面の被膜処理面上にワークの母材表面が露出する母材露出部分と、電極から供給された材料による電極材料被膜部分とを混在させたまだらの被膜を形成し、ワーク表面に放電の熱により発生するクラックがない被膜表面を形成する。 （もっと読む）

【課題】遮熱性、耐熱衝撃性、及び酸素バリア性が良好であり、層間の界面剥離が抑制された新規なセラミックス積層体を提供する。
【解決手段】セラミックス積層体２は、相対密度が９５％以下である第１のセラミックス膜１３上に、相対密度が９５％以上であり、かつ、第１のセラミックス膜１３の相対密度より高い相対密度を有する第２のセラミックス膜１５が積層されたものである。第２のセラミックス膜１５は、エアロゾルデポジション法により成膜されたものであることが好ましい。本発明によれば、第２のセラミックス膜１５の少なくとも一部が、第１のセラミックス膜１３の表面上に存在している構造のセラミックス積層体２を提供できる。 （もっと読む）

【課題】遮熱性、耐熱衝撃性、及び酸素バリア性が良好であり、遮熱コーティング構造として好適な新規なセラミックス膜の製造方法を提供する。
【解決手段】成膜基材上にエアロゾル化されたセラミックス原料粉を衝突させて原料粉中の一次粒子を破砕せしめ、原料粉の破砕物を成膜基材上に堆積させる堆積工程を有するセラミックス膜の製造方法において、原料粉中の一次粒子６４Ｐの一部が破砕されることなく凝集体６４として破砕物６３中に残存する条件で、堆積工程を実施する。堆積工程後に、破砕物６３中に残存した凝集体６４を焼結収縮させて、破砕物６４中に気孔を形成する熱処理工程をさらに実施することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 第１微粒子と第２微粒子を用いてエアロゾルデポジション法により被膜を形成するにあたり、被膜における第１微粒子を起源とする物質と第２微粒子を起源とする物質の比率（重量比）を適切に制御した成膜体の製造方法を提供する。
【解決手段】 基体20と、エアロゾルデポジション法により基体の成膜面21に形成された被膜10と、を備える成膜体1の製造方法は、少なくとも第１微粒子D1を第１搬送ガスG1中に分散させた第１エアロゾルAS1と、第２微粒子D2を第２搬送ガスG2中に分散させた第２エアロゾルAS2とを、基体の成膜面に向けて同時に噴射して、被膜を形成する。 （もっと読む）