【課題】窪部位を有する金型の成形面あるいは大きい部品の全面を均一に表面改質することが難しい。
【解決手段】チャンバ１の中を真空に近い状態にする。アノード電極５Ｂの中にアルゴンガスを供給する。電子の速度を窪部位のエッジの形状を喪失させない速度まで低下させるために必要十分な圧力のアルゴンガスをアノード電極５Ｂと被照射体６との間に介在させる。電子の加速空間Ｓとプラズマ空間Ｐと電子の減速空間Ｇが存在し得る範囲内でカソード電極５Ａと被照射体６との間の距離を可能な限り短くする。アノード電極５Ｂに電圧を供給してプラズマ空間Ｐにプラズマを発生させる。カソード電極５Ａと被照射体６との間に電圧を供給して電子ビームを発生させて被照射体６の選択された被照射面に電子ビームを照射する。 （もっと読む）

【課題】従来に比べて短時間で効率的に残留応力の改善と疲労強度の向上を行うことのできるレーザピーニング方法を提供する。
【解決手段】被施工対象物の表面に液体を通してパルス状のレーザビームを、走査方向（ｘ方向）に移動させながら一定の走査間隔毎に照射し、一定の走査長さを走査した後、走査方向（ｘ方向）と直交するピッチ方向（ｙ方向）に一定のピッチ移動させ、走査方向（ｘ方向）に移動させながら一定の走査間隔毎に前記レーザビームを照射する工程を繰り返して、被施工対象物の表面に圧縮残留応力を付与するレーザピーニング方法であって、被施工対象物の部位にかかる負荷の方向及び大きさに応じて、走査方向（ｘ方向）とピッチ方向（ｙ方向）及びこれらの方向における夫々の単位面積当たりの照射密度を変更することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた摺動特性と耐摩耗性の両立を図ることのできる摺動部材を提供する。
【解決手段】摺動面が、第１材料からなり複数の凹部が規則的に配列された基部１と、上記凹部を充填する第２材料からなる充填部２とを有し、前記第１材料は、金属材料、セラミックス材料、および炭素系材料よりなる群から選択される１種からなり、前記第２材料は、金属材料、セラミックス材料、および炭素系材料よりなる群から選択される１種以上からなり、前記第１材料と前記第２材料は、摩擦係数と硬度のうちの１以上が異なり、更には、前記基部１の表面と前記充填部２の表面が単一面を形成していることを特徴とする摺動部材。 （もっと読む）

【課題】環境負荷を低減し、かつ従来のプラズマストリッパーに比べて格段に高速、短時間で被皮処理ワイヤの表面処理を可能にした同軸マグネトロンプラズマストリッパーを提供する。
【解決手段】内部に動作ガスが導入される筒状の外側陽極電極１２と、外側陽極電極１２内に同軸的に配置された線状の中心陽極電極１３を備える。さらに、外側陽極電極１２内に中心陽極電極１３を囲うように配置されて軸方向に移送される陰極となる複数の被処理ワイヤ１４と、外側陽極電極１２内に軸心方向の磁界Ｂを発生させる磁界発生手段１５とを備える。被処理ワイヤ１４の周りで発生するマグネトロンプラズマ１０で被処理ワイヤ１４の表面処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】取付スペースが小さくて済み、かつ開閉動作時間も短いエッチング装置おけるシャッタ機構を提供する。
【解決手段】パレット２２に複数のパーツを搭載し、パレット２２の下方のイオンビーム発射装置から発射されたイオンビームIをパレット２２の入射口２３からパーツの底部に照射することによりエッチングを行うエッチング装置において、入射口２３に配置されたシャッタ羽根１４と、シャッタ羽根１４が連結された回転アクチェータ１２とを備え、回転アクチェータ１２の回転によりシャッタ羽根１４を、入射口２３を開放する垂直位置と入射口２３を閉鎖する水平位置とに回転駆動するようにした。 （もっと読む）

【課題】摺動部品表面への被加工材の凝着物が発生し難い摺動部品を提供する。
【解決手段】表面構造として、周期１０〜１００nm、深さ５〜５０nmの第１周期構造と、周期１００〜１０００nm、深さ２０〜５００nmの第２周期構造と、周期１０００〜１００００nm、深さ１００〜３０００nmの第３周期構造のうち、少なくとも２種類の周期構造を有し、当該少なくとも２種類の周期構造のうち一方の周期構造上に他方の周期構造が形成されている表面構造を有する摺動部品である。 （もっと読む）

本発明による鋼板通板装置は、進行する鋼板の厚さ変化に対応しながら鋼板を通板させる上下部シールロールと、前記鋼板の幅変化に対応しながら前記シールロールと協働してチャンバ壁を通過する鋼板を包囲状態でシールするように提供される鋼板シールユニットと、を含む。
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【課題】被加工物の表面を高い平滑度で加工できる表面加工方法及び表面加工装置を提供する。
【解決手段】被加工物３２が収容された真空槽１２中に、キャリアガスを用いずに気体状の炭素クラスターイオン源３１を導入後、高周波電圧を印加してプラズマ化して炭素クラスターイオン３３を生成させ、被加工物３２に負電圧を印加して表面に炭素クラスターイオン３３を照射することによりイオン加工する第３工程とを有することを特徴とする表面加工方法。 （もっと読む）

【課題】極めて安価で確実な脱亜鉛を可能とする脱亜鉛装置および脱亜鉛方法を提供する。
【解決手段】 スクラップ鋼板４１を投入するための投入口を有し、脱亜鉛装置２の外側の容器となる誘導加熱容器５０と、誘導加熱容器５０の外周に巻回され、高周波電源装置に接続された誘導加熱コイル６０，６１と、誘導加熱容器５０の中心に立設された中空状の棒体である合金鋼製の中空パイプ７０とを備え、容器内は炭素含有材料４２の投入等によって還元雰囲気とされ、中空パイプ７０には亜鉛蒸気等を外部へ排出するためのスリット７１，７２，７３が形成されている。 （もっと読む）

【課題】プレッシャプレート６ａの接着面とライニング７ａとの接合強度を向上させられる接着方法を実現する。
【解決手段】前記プレッシャプレート６ａを洗浄した後、このプレッシャプレート６ａのうちで前記ライニング７ａを接着すべき面である接着面に、スパッタエッチングにより微細な多数の円錐状突起を形成する。その後、この接着面に、リン酸塩処理を施してから接着剤を塗布した後、この接着面に前記ライニング７ａを、加熱、加圧成形しつつ接着固定する。前記各円錐状突起により、大きなアンカ効果を得られるので、前記接合強度の向上を図れる。 （もっと読む）

【課題】汚染物に対する仕上げ処理等を必要とすることなく、さらには高精度かつ高効率で材料表面に凹部（くぼみ）を形成することが可能な、多孔形成方法を提供する。
【解決手段】母材の少なくとも表面部分にこの母材よりも平衡蒸気圧が高い物質が分散された被加工材１１に対して、その表面に電子ビーム１３を照射して前記物質を蒸発させ、前記被加工材の表面に凹部１４を形成する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に係わる耐久性の向上と、噴孔へのデポジット付着抑制の保証とが両立する撥水層を形成する撥水層の形成方法および撥水層を備えた燃料噴射弁を提供。
【解決手段】金属基材２３１の表面２３２に形成する撥水層２３の形成方法において、前記金属素地にプラズマイオン９２を照射することにより金属素地の表面２３２に凹凸を形成する方法であって、上記金属の原子９３とプラズマイオン９２により合金９４を形成し、金属素地のうち、合金９４によりエッチングされない部位と、合金化されていない金属素地部分がエッチングされる部位とで、凹凸を形成し、前記凹凸を形成することで撥水層２３を形成する。 （もっと読む）

【課題】ガスクラスターイオンビーム加工において、被加工物における目的の品質を確実に得る。
【解決手段】ガスクラスターイオンビーム９を被加工物１１に照射して加工を行うガスクラスターイオンビーム加工装置Ｍにおいて、相対走査速度と照射ドーズ量との関係ｆ１、被加工物１１の回転軸からの距離と照射ドーズ量との関係ｆ２、表面粗さや形状精度等の品質に影響するパラメータと照射ドーズ量との関係ｆ３，ｆ４，ｆ５，ｆ６を予め測定して記憶しておき、被加工物１１に要求される品質と、関係ｆ１から関係ｆ６とに基づいて被加工物１１に対するガスクラスターイオンビーム９の相対走査速度を決定し、この相対走査速度によるガスクラスターイオンビーム９の照射によって被加工物１１の加工を行うことで、被加工物１１に目的の品質を実現する。 （もっと読む）

【課題】被加工物の表面を粗面化することなく、ガスクラスターイオンビームの照射による所望の照射痕を得る。
【解決手段】ソース部１およびフィラメント６で生成されたガスクラスターイオンビーム８を加速電極７で加速して被加工物９に照射するガスクラスターイオンビーム加工装置Ｍにおいて、加速電極７の出射口と被加工物９との間に荷電粒子レンズ１１を配置し、この荷電粒子レンズ１１に設けられ、ガスクラスターイオンビーム８が通過する開口部の形状、および荷電粒子レンズ１１と被加工物９との距離の少なくとも一方を制御することで、荷電粒子レンズ１１の開口部を通過したガスクラスターイオンビーム８を選択的に被加工物９に照射して、被加工物９を粗面化することなく、所望の形状の照射痕を形成する。 （もっと読む）

【課題】難エッチング材を含む部材であっても、簡便に、かつ、良好な形状にパターニングすることができるドライエッチングによるパターニング方法及びインクジェットヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】被エッチング部材のドライエッチングを施す面に感光性樹脂のマスク２４ａを形成した後、撥水処理２８を施す。撥水処理後、感光性樹脂のマスクをポストベークする。次いで、感光性樹脂のマスクを介してドライエッチングを施すことにより被エッチング部材をパターニングする。被エッチング部材としては、磁性体材料、強誘電体材料、及び貴金属の少なくとも一種を含む膜を有するものを好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フォトレジストの膜厚を略均一にすることで、良好なパターン形状を円筒状の外表面に形成することができる円筒外表面の加工方法およびパターンシートの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ワーク３の円筒状の外表面３ａに凹凸パターンを形成する円筒外表面の加工方法であって、液槽２内の塗布液１中にワーク３を浸漬させる浸漬工程と、ワーク３を中心軸ＣＡ回りに回転させながら引き上げる取出工程と、ワーク３の外表面３ａに塗布された塗布液１を乾燥させてフォトレジスト層５を形成する乾燥工程と、フォトレジスト層５に光を照射することで凹部パターンを形成する光照射工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被加工物に対するガスクラスターイオンビームの照射位置を相対的に変化させながら加工する際における被加工物の加工精度を向上させる。
【解決手段】ノズル５から噴出するガス流から、タングステンフィラメント７、引出し電極８、加速電極９を用いてガスクラスターイオンビーム１０形成し、アパーチャ２２を介して姿勢制御装置１３に保持された被加工物２１に照射して微細加工を行うガスクラスターイオンビーム加工装置１００において、加工中に、ガスクラスターイオンビーム１０が出射される加速電極９から被加工物２１の加工点に至る距離Ｌ（ガスクラスターイオンビーム１０の飛程）を一定の距離Ｌ０に制御して、ガスクラスターイオンビーム１０の飛程のばらつきに起因する加工量のばらつきを抑止し、被加工物２１の高精度の加工を実現する。 （もっと読む）

【課題】精度よく微細な加工を行うことができる被加工体の加工方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る被加工体の加工方法は、ガラス状カーボンからなる被加工体１０上にＨＳＱ膜２０を形成する工程と、ＨＳＱ膜２０を電子線描画し、その後ＨＳＱ膜２０を現像することにより、被加工体１０上に位置していてパターンを有するマスク膜２２を形成する工程と、マスク膜２２をマスクとして被加工体１０をドライエッチングすることにより、被加工体１０を加工する工程とを具備する。ＨＳＱは酸素プラズマにエッチングされ難い為、被加工体１０を加工する工程は、酸素を含むプラズマを用いてドライエッチングする工程であってもよい。 （もっと読む）

【課題】微細孔底面下の犠牲層を除去できる低コストの技術を提供する。
【解決手段】反応室６にバッファータンク３５を接続し、固体ＸｅＦ₂が配置されたガス供給装置３１を加熱して発生させたエッチングガスでバッファータンク３５を充填し、反応室６とバッファータンク３５を接続し、エッチングガスを導入し、処理対象物に紫外線を照射しながらエッチングガスと接触させる。プラズマを発生させずにエッチングするので、微細孔底面下の犠牲層をエッチングすることができる。 （もっと読む）

【課題】軸受の内面に、へリングボーン溝、スパイラル溝等の動圧発生溝を簡単に形成できるようにする。
【解決手段】マスク１は、円筒状の形状であり、外周面にヘリングボーン溝パターンが形成され、鍔部の下面にスパイラル溝パターンが形成されている。マスク１を動圧軸受２に挿入し、さらに、マスク１の内部に光ファイバ４を挿入する。そして、外部の光源の光を光ファイバ４によりマスク１に照射して、ヘリングボーン溝パターンを動圧軸受２の内周面に転写する。同時に、鍔部の上側から光を照射してスパイラル溝パターンを動圧軸受２の上側面に転写する。現像を行った後、エッチングにより軸受２の内周面にヘリングボーン溝２１を形成し、上側面にスパイラル溝２２を形成する。 （もっと読む）