【課題】工具などを用いて意図的に外そうとしない限りは、トランスポンダを埋め込んだ着脱体が外れにくく、予期しないトラブルの発生しにくい半導体ウェーハ搬送容器を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハ搬送容器１０を、半導体ウェーハ２０を収容するための容器本体１１と、半導体ウェーハ２０に関する情報を読み書きするためのトランスポンダ１２ａを埋め込んだ着脱体１２とで構成し、柱状に形成された着脱体１２を長手方向にスライドさせて嵌め込むためのスライド溝１１ａを容器本体１１の壁面に沿って設け、スライド溝１１ａに嵌め込まれた着脱体１２の前端部を覆うための天井部１１ｂを容器本体１１の壁面に設け、スライド溝１１ａに嵌め込まれた着脱体１２の前端部を後端部の側に押しにくくした。 （もっと読む）

【課題】ウェーハと一体で操作される保持具を使用する際、簡単な操作にて保持具を保持することができる保持装置を提供する。
【解決手段】保持装置であるチャック１上面にウェーハ４を載せた平板状保持具３を設置した場合、平板状保持具３の端部近傍に設けられた吸引用配管５の吸入口５ａに当接する部分にベローズ６を備え、該ベローズ６はチャック１の上面の端部近傍に設けられた穴１ａの底面にその底面６ａが設置されており、穴１ａの底面からはさらに真空ポンプ（不図示）に連結される配管７ａが設けられ、チャック１の上面の中央には、多孔質アルミナ製の円盤１ｂが、通常のアルミナ製のチャック本体１ｃにはめこまれ、円盤１ｂの底部はチャック１の内部に設けられた中空部１ｄに露出し、中空部１ｄの底部からは円盤１ｂを介して平板状保持具３を真空吸着するための配管７ｂが真空ポンプに連結されている。 （もっと読む）

【課題】基板の再酸化によるコンタクト抵抗の増大を抑制でき、更にパーティクルの数量を低減可能にする基板収容容器と、該基板収容容器を用いて再酸化によるコンタクト抵抗の増大を抑制でき、更にパーティクルの数量を低減可能な基板処理方法とを提供する。
【解決手段】ＦＯＵＰ１０は、複数のウェハＳの各々の処理面Ｓａを平行にして各ウェハＳを収容するシェル１１と、シェル１１の前方に設けられた開口を開閉する蓋体１２と、シェル１１の後方に搭載されてシェル１１の内部を目標圧力に減圧するパージ機構１３とを有する。ＦＯＵＰ１０のパージ機構１３は、複数のウェハＳの各々の面方向に沿って、不活性ガスを導入し、シェル１１の内部にある気体を排気する。 （もっと読む）

【課題】搬送や保管の際に、広大なスペースを必要とせず、まて、輸送パッケージが縮小化され、コスト低減が計れ、さらに、基板にゴミや異物が付着し難く、且つ、基板の大型化ないし超大型に対応できる基板収納用トレイおよび基板の搬送保管方法を提供することである。
【解決手段】平面形状が矩形フレームからなる周枠の枠内に基板を載置する基板用トレイであって、一方の対向するフレームはフレームの中央位置でフレームの左右が上方に折り曲げ可能な折り曲げ部と、他方の対向するフレームは対向するフレームを接続し、基板を載置する複数のワイヤーまたはワイヤーロープと、を具備していることを特徴とする基板収納用トレイである。 （もっと読む）

【課題】大型のガラス基板を一度に大量に処理できる縦型の高圧アニール水蒸気処理装置を提供する。
【解決手段】圧力容器２２が横臥状態に配置された円筒形状の中間胴部２２Ａと該中間胴部の一方の端部に配置された蓋部材２２Ｂと該中間胴部の他方の端部に配置された密閉部材２２Ｃとを有し、反応容器２４が一端部が閉じられ他端部が開放された容器本体２４Ａと該容器胴部の開放他端部を閉鎖する閉鎖部材２４Ｂとを有し、反応容器の容器本体２４Ａが圧力容器の中間胴部２２Ａの胴部保持手段６０及び反応容器位置決め構造体により浮上支持され、反応容器の閉鎖部材２４Ｂが圧力容器の密閉部材２２Ｃの係止手段、把持手段及び連結手段により浮上支持され、反応容器２４内にカセットユニット保持台４０が設けてあり、反応容器２４と圧力容器２２との間に反応容器支承手段が設けてある高圧アニール水蒸気処理装置。 （もっと読む）

【課題】 基板収納容器に基板を保管中にイオンや塩化メチレンのような発生ガスによって基板が汚染される恐れがない基板収納容器とその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板収納容器の表面に、ドーパントを含む酸化重合剤溶液とモノマー溶液とを用いてドーパント存在下にモノマーを重合させた電子共役系ポリマー層が形成されており、前記基板収納容器の表面固有抵抗値が１×１０³〜９×１０⁸Ωの範囲であることを特徴とする。
また、前記基板収納容器を密封し、２３℃×２４時間放置したときに、基板収納容器の内部に発生する塩化メチレン量が、前記基板収納容器を放置した環境から発生する塩化メチレン量と同じかそれよりも少ないものであることが好ましい。
さらに、基板収納容器の全光線透過率を４０〜８０％であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ポッドオープナによるポッドの開放時の弊害の発生を防止する。
【解決手段】ポッド１０とボートとの間でウエハ９を授受するウエハ授受ポートにはポッド１０のドア１０ａを着脱してウエハ出し入れ口１０ｂを開閉するポッドオープナが設備されており、ポッドオープナのベース２１にはベース２１のウエハ出し入れ口２２を被覆するチャンバ６０が設置され、チャンバ６０にはクロージャ収容室６１に窒素ガス６２を流通させる給気管６３、排気管６４が接続されている。ポッドの開放時に窒素ガス６２をチャンバ６０のクロージャ収容室６１に充填し、クロージャ収容室６１、ポッド１０のウエハ収納室１０ｃの空気や水分を窒素ガス６２によってパージする。ポッド内の大気のウエハ移載空間への放出を防止できるため、移載空間の汚染や酸素濃度の上昇、ウエハの酸化やパーティクル付着を防止できる。 （もっと読む）

【課題】部品点数が増加せず、かつウェーハに傷をつけることなく簡易に収納できるウェーハ収納容器およびウェーハの品質を高く保持したまま容易にウェーハをハンドリングすることが可能なウェーハのハンドリング方法を提供すること。
【解決手段】ウェーハ４４の外周縁より外側にある外周部１４と、外周部１４からウェーハ４４の径方向内側に延出する載置部１２とを備えるウェーハ収納容器１０であって、載置部１２は、ウェーハ４４の径方向内側に向かって延出すると共に、その上面にはウェーハ４４の外周縁とのみ接触できるように径方向内方に向かって斜め下方に傾斜する第１の傾斜面２８を有し、外周部１４の周方向に沿った複数の箇所からは、径方向内方に向かって切り欠かれた切欠部２０が形成されており、ウェーハ収納容器１０を複数重ねた際に、下方のウェーハ収納容器１０に対してその上に重ねられたウェーハ収納容器１０が位置決めされるものとする。 （もっと読む）

【課題】接着剤による汚染の心配がなく、かつ、リサイクル等の経費発生が少ないシリコンウエハ等の薄板材料の補強材を提供する。
【解決手段】電気絶縁層１１３の内部に電極部１１２を埋設させた薄板状の静電保持部を備える補強材本体１１０と、補強対象物１０１をアースに導通可能とする第１の接続端子と、電極部１１２をアース又は高電圧に導通可能とする第２の接続端子とを備えることにより補強材本体１１０と切り離し可能に構成される電圧制御部１２０を備えている。電圧制御部１２０は、補強対象物１０１に対してアースから補強対象物１０１に供給された電荷と逆極性の電荷を供給させることにより静電保持部に吸着力を発揮させて補強対象物１０１を吸着して補強材本体１１０を補強材として機能させる吸着工程と、補強対象物１０１及び電極部１１２に蓄積された電荷を放出させて静電吸着能力を消滅させる吸着開放工程とを備えている。 （もっと読む）

【課題】外気をウエハーカセット内に導き、カセット内の真空を消去し、気圧を平衡させて開けやすくする入気バルブを具えたウエハーカセットの提供。
【解決手段】入気バルブを具えたウエハーカセットは、カセット及び入気バルブを含む。入気バルブはカセットの外フレーム上に設置し、案内柱、密封蓋、密封ワッシャー及び弾性部品を含む。入気バルブは弾性部品によって弾性予定力が提供されることにより、案内柱を押して密封蓋を外フレームの通孔上に対応させて密封し、更に密封ワッシャーが密封蓋と外フレームの間を押して気密を形成する。カセット内の真空のウエハーカセットを開けたい時には外力で案内柱を押し、密封蓋と外フレームの間に隙間を作り、その時に外気が隙間から通孔を通り、カセットの内部空間に進入するため、カセットが開けやすい。 （もっと読む）

【課題】フレームの重量増大を招くことなく剛性を高めることができ、積層時の位置ずれや崩れを防止したり、専用の輸送容器等を省略したり、さらにはハンドリング作業の便宜を図ることのできる基板保持具を提供する。
【解決手段】フレーム２にその中空を覆う弾性の保持層３を貼着し、この保持層３上に大口径の半導体ウェーハＷを着脱自在に保持させ、フレーム２の表裏厚さ方向に、剛性を向上させる凹凸部４を形成する。また、フレーム２の凹凸部４を、フレーム２の外周縁部を断面略山形に屈曲することにより形成する。凹凸部４が断面略山形に屈曲してフレーム２の剛性を高めるので、フレーム２の大口径化が要求されても、フレーム２の反りや撓みが大きくなるのを防止できる。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置とウエハキャリアとの間に設けられ、前記ウエハキャリアから前記半導体製造装置内へウエハを移送するためのウエハ移送システム中の、塵埃に起因した清浄度の評価効率を低コストで向上させる。
【解決手段】ウエハキャリアの一端を開放して、前記ウエハキャリアを前記ウエハ移送システムと連通させ、次いで、前記ウエハ移送システム内の塵埃を前記ウエハキャリアを介して吸引し、前記塵埃の濃度を計測する。そして、計測された前記塵埃の濃度から前記ウエハ移送システム中の清浄度を評価する。 （もっと読む）

【課題】金属ファスナを用いずにパネルを側壁へ固定できる、シール可能なウェハーエンクロージャのためのドアを提供する。
【解決手段】ウェハー用のシール可能なエンクロージャ５６は、ラッチ機構６０を備えたドア３６を有し、ドアはカム部材８０を備えたエンクロージャを有しており、カム部材はポスト１１０の上で回転可能で、一対のラッチ用アーム８２と係合する。ラッチ用アームの移動は、ラッチ用アームのカムフォロワ部分をカム部材に対して軸方向に、また半径方向に移動させるように形成されたカム部材のカム部分によって行われる。ラッチ用アームはエンクロージャの支点の上で旋回する。ラッチ機構はパネルを介してアクセス可能であり、このパネルは、ドアエンクロージャの内部端壁５５の上に設けられた溝１９８と協働するパネル１８０に一体化された戻り止めによって取り付けられる。 （もっと読む）

【課題】例え基板が大型の場合でも、十分な剛性を確保できる基板保持具を提供する。
【解決手段】可撓性を有する屈曲可能な基材１と、この基材１に配列形成されて液晶ガラス基板１０に対向する複数のバー３と、各バー３の液晶ガラス基板１０に対向する対向面４に積層形成される粘着層５とを備え、液晶ガラス基板１０に各バー３の粘着層５を着脱自在に粘着する。複数のバー３が液晶ガラス基板１０に粘着層５を介し一体化して構造体を構成するとともに、各バー３が断面略矩形の板体としてＸ方向に伸長され、これらにより十分な剛性を得ることができるので、液晶ガラス基板１０が大型の場合でも、基材１自体の剛性を高めたり、重くする必要がない。 （もっと読む）

【課題】基板の中心を回転テーブルの回転中心に精度よく位置決めする。
【解決手段】基板トレイ４０に形成された円形開口４１ａ〜４１ｃに、回転テーブル３２に設けられた固定ロックピン５０Ａ,５０Ｃ、及び移動ロックピン５０Ｂが挿入した状態で、基板トレイ４０を回転テーブル３２に載置し、その後、回転テーブル３２の移動ロックピン５０Ｂを、半径方向に沿って、回転テーブル３２の中心から離れる方向へ移動することで、基板トレイ４０の円形開口４１ａ〜４１ｃが内接する円Ｃ１の中心を、回転テーブル３２の回転中心に位置決めする。これにより、基板Ｗの中心を、回転中心に精度よく位置決めすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置のテストのためのテストハンドターで半導体装置の移送速度を増加させることができるバッファトレイのピッチ調節方法を提供する。
【解決手段】半導体装置を収納するための多数対の単位バッファトレイを含むバッファトレイのピッチ調節方法において、単位バッファトレイ対間の第１ピッチは第１駆動部１１０によって調節され、単位バッファトレイの対内で第１単位バッファトレイと第２単位バッファトレイとの間の第２ピッチは第２駆動部１４０によって調節されることができる。半導体装置は、テストハンドラーのテストトレイとカストマートレイとの間でピッチが調節されたバッファトレイを経由して移送される。 （もっと読む）

【課題】スペーサとガラス板とを順次積み重ねる過程等におけるそれらの積層体の傾斜や倒れを回避すると共に、その過程等における作業の円滑化や迅速化を図り、且つ、簡易な手法で強固な板状物梱包体を製作できるようにする。
【解決手段】上下方向に積層された複数枚の板状物Ｇのそれぞれの相互間にスペーサ１を介在させた状態で梱包してなる板状物梱包体１１であって、底板１２の上方に、スペーサ１及び板状物Ｇを有する積層体１５を載置すると共に、スペーサ１の外周縁部の一部または全部を板状物Ｇの外周縁部から外方に食み出させ、その食み出し部の外周縁部に板状物Ｇの配設領域と干渉しないように複数の切欠き部１０を形成し、且つ、底板１２に立設固定された複数本の係合部材１３をスペーサ１の複数の切欠き部１０にそれぞれ係合させる。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、又は複雑な装置を必要とせず、粘着保持した薄板状物を変形させることなく剥離することのできる保持治具及び薄板状物の剥離方法を提供する。
【解決手段】保持治具１は薄板状物５を粘着保持することのできる粘着部１４を頂面に有する突出部材１２と、非粘着部３２を表面に有する板状部材３０とを備え、板状部材３０は、突出部材１２に対して相対的に前後進可能に配置される。この保持治具１に粘着保持された薄板状物５を剥離させるには、板状部材３０を、突出部材１２に対して相対的にその軸線方向に前進させて、薄板状物５を突出部材１２の粘着部１４から引き離す。 （もっと読む）

【課題】本発明は、水晶素子、セラミック素子、半導体素子等の電子部品に対して、たとえば、蒸着またはスパッタ等の処理を行う際にこれらを搬送する搬送装置および搬送装置の作製方法に関するものである。
【解決手段】本発明に使用する３層部材は、エッチング不可能な部材の両側からエッチング可能な部材によって挟まれている。また、前記３層部材には、一方の側に多数の被搬送部材を収納する収納部が形成されている。前記３層部材の上に載置される上部板は、前記収納部の開口とほぼ同じ大きさのテーパー状開口部を備えている。前記被搬送部材を収納する収納部は、垂直な側壁からなり、搬送中に被搬送部材がガタツクことがない。また、テーパー状開口部を備えた上部板は、前記被搬送部材を前記収納部に収納する際にガイドとなり、収納が容易になる。 （もっと読む）

【課題】塗布現像処理システムにおいてウェハの処理効率を向上する。
【解決手段】塗布現像処理システムの搬入出ブロックに、カセット待機ブロック６が接続される。カセット待機ブロック６には、カセット搬入出部１１０と、カセット待機部１１１と、カセット受け渡し部１１２と、ウェハ処理部１１３が設けられる。また、カセット待機ブロック６には、カセット搬入出部１１０、カセット待機部１１１及びカセット受け渡し部１１２間でカセットＣを搬送するカセット搬送装置１２０と、カセット待機部１１１のカセットＣとウェハ処理部１１３との間でウェハＷを搬送するウェハ搬送装置１２１が設けられる。各カセット待機部１１１には、カセットＣのドアオープナー１１５が設けられる。 （もっと読む）