【課題】回路構成を複雑化することなくソフトエラー低減化を図ったメモリセル構造を有する半導体記憶装置を得る。
【解決手段】ＮＭＯＳトランジスタＮ１及びＰＭＯＳトランジスタＰ１によるインバータＩ１（出力部が記憶端子Ｎａ）とＮＭＯＳトランジスタＮ２及びＰＭＯＳトランジスタＰ２によるインバータＩ２（出力部が記憶端子Ｎｂ）とが交叉接続され、さらにＮＭＯＳトランジスタＮ３及びＮ４が記憶端子Ｎａ及びＮｂにそれぞれ接続される。記憶端子Ｎａに一方電極が接続されるＮＭＯＳトランジスタＮ１及びＮ３はＰウエル領域ＰＷ０及びＰＷ１に分けて形成されるともに、記憶端子Ｎｂに一方電極が接続されるＮＭＯＳトランジスタＮ２及びＮ４はＰウエル領域ＰＷ１及びＰＷ０に分けて形成される。Ｐウエル領域ＰＷ０及びＰＷ１はＮウエル領域ＮＷを挟んで各々反対側に形成される。 （もっと読む）

【課題】ＣＡＭにおけるメモリセル面積の縮小化を図る。
【解決手段】データ線（Ｄ０，Ｄ１）を第１記憶部（ＭＡ）及び第２記憶部（ＭＢ）とで共有し、また、第１比較データ線（ＣＤ０）に結合された第１トランジスタ（ＭＣ０）と、第１記憶部の記憶ノードに結合された第２トランジスタ（ＭＣＡ）とを直列接続して第１比較回路（１１）を形成し、第２比較データ線（ＣＤ１）に結合された第３トランジスタ（ＭＣ１）と、上記第２記憶部の記憶ノードに結合された第４トランジスタ（ＭＣＢ）とを直列接続して第２比較回路（１２）を形成することは、拡散層や配線層のレイアウトにおける対称性を向上させ、メモリセルをその中心を通る中心線に対して線対称となるレイアウトの容易化を達成する。それにより製造プロセス条件を最適化し易くなり、製造プロセスのばらつきが低減されてメモリセルの微細化が達成される。 （もっと読む）

【課題】ゲート電極とプラグとの接続信頼性を向上することができる技術を提供する。
【解決手段】本発明では、ＭＩＳＦＥＴのゲート電極Ｇ１を金属膜ＭＦ２とポリシリコン膜ＰＦ１の積層膜から構成するＭＩＰＳ電極を前提とする。そして、このＭＩＰＳ電極から構成されるゲート電極Ｇ１のゲート長に比べて、ゲートコンタクトホールＧＣＮＴ１の開口径を大きく形成する第１特徴点と、ゲート電極Ｇ１を構成する金属膜ＭＦ２の側面に凹部ＣＰ１を形成する第２特徴点により、さらなるゲート抵抗（寄生抵抗）の低減と、ゲート電極Ｇ１とゲートプラグＧＰＬＧ１との接続信頼性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】ＳＲＡＭのメモリセルの面積を減少させる。
【解決手段】半導体装置は、基板上のメモリセル領域内に設けられた第１活性領域と、第１活性領域と素子分離により分離され、第１活性領域内よりもメモリセル領域の中心に近い位置に設けられた第２活性領域と、第１活性領域を横断する第１ゲート電極と、第１ゲート電極と離間し、第１活性領域および第２活性領域を横断する第２ゲート電極と、第１活性領域で、第１ゲート電極と第２ゲート電極との間の第１ドレイン部と、第２活性領域で、第２ゲート電極の第１ドレイン部側の第２ドレイン部と、第１ドレイン部と第２ドレイン部とを接続する第１配線と、第１ゲート電極および第２ゲート電極と離間し、端部が第１ゲート電極の第２活性領域側の端部と対向する第３ゲート電極と、第２ドレイン部と第３ゲート電極とを接続する第２配線とを備え、第３ゲート電極の上面と第２配線の上面はほぼ同じ高さに形成されている。 （もっと読む）

【課題】
幅広い電子デバイスのアレイ及びシステムにおける電力消費を低減する一式の新たな構造及び方法が提供される。一部の構造及び方法は、大部分が、既存のバルクＣＭＯＳのプロセスフロー及び製造技術を再利用することで実現され、半導体産業及びより広いエレクトロニクス産業がコスト及びリスクを伴って代替技術へ切り替わることを回避可能にする。一部の構造及び方法は、深空乏化チャネル（ＤＤＣ）設計に関係し、ＣＭＯＳベースのデバイスが従来のバルクＣＭＯＳと比較して低減されたσＶＴを有することと、チャネル領域にドーパントを有するＦＥＴの閾値電圧ＶＴがより正確に設定されることとを可能にする。ＤＤＣ設計はまた、従来のバルクＣＭＯＳトランジスタと比較して強いボディ効果を有することができ、それにより、ＤＤＣトランジスタにおける電力消費の有意義な動的制御が可能になる。様々な効果を達成するようＤＤＣを構成する手法が数多く存在し得る。
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【課題】フィンの下部に適切に不純物が導入された半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置としてのＦｉｎＦＥＴ１は、基体としての半導体基板１０と、半導体基板１０上に形成された複数のフィン２０とを有し、複数のフィン２０は、第１の間隔と第１の間隔よりも間隔が狭い第２の間隔とを繰り返して形成され、第１の間隔を形成する側に面した第１の側面２２１の下部の不純物濃度が、第２の間隔を形成する側に面した第２の側面２２２の下部の不純物濃度よりも高い半導体領域を有する。 （もっと読む）

【課題】ＳＲＡＭメモリセルをＦＤ−ＳＯＩトランジスタで構成し、駆動トランジスタを構成するＳＯＩトランジスタの埋め込み酸化膜の下の層の電位を制御して、低電源電圧状態でのＳＲＡＭ回路の性能を向上させる。
【解決手段】ＦＤ−ＳＯＩトランジスタを用いて構成されたＳＲＡＭメモリセルにおいて、駆動トランジスタのＢＯＸ層下のウエル電位を制御することでＶｔｈを制御して電流を増加させて、メモリセルの安定動作を可能とする。 （もっと読む）

【課題】
電子デバイスにおける電力消費を低減するシステム及び方法が開示される。この構造及び方法は、大部分が、バルクＣＭＯＳのプロセスフロー及び製造技術を再利用することによって実現され得る。この構造及び方法は、深空乏化チャネル（ＤＤＣ）設計に関係し、ＣＭＯＳベースのデバイスが従来のバルクＣＭＯＳと比較して低減されたσＶＴを有することを可能にするとともに、チャネル領域にドーパントを有するＦＥＴの閾値電圧ＶＴがより正確に設定されることを可能にする。ＤＤＣ設計はまた、従来のバルクＣＭＯＳトランジスタと比較して強いボディ効果を有し、それにより、電力制御の有意義な動的制御が可能になる。
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【課題】大規模なＳＲＡＭセルの特性を高精度に測定する半導体装置及びそれを用いた評価方法を提供する。
【解決手段】ｍ行ｎ列のマトリクス状に配列されるＳＲＡＭセルを有する評価セルＣ１１〜Ｃｎｍと、ＳＲＡＭセルのＳＮＭ特性を測定する際にＳＲＡＭのラッチノードへ入力電圧を供給し、或いは出力電圧を検出する第１の主入出力線Ｖ０等と、評価セルを選択するための行選択信号供給用の行選択線Ｘ１〜Ｘｍと、列選択信号供給用の列選択線Ｙ１〜Ｙｎと、入力される行選択信号と列選択信号に応じてＳＲＡＭセルの選択／非選択を表す選択信号を出力する選択回路１０と、を備え、選択信号供給回路に入力される選択制御信号等により行選択信号と列選択信号を生成し、評価セル各々に設けられた第１のトランジスタＴ１〜第６のトランジスタＴ６を切り替え、ＳＲＡＭセルの測定評価を行う。 （もっと読む）

【課題】４個の島状半導体を用いてＳＲＡＭを構成することにより、高集積なＳＧＴを用いたＳＲＡＭからなる半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】第１の島状半導体層の周囲を取り囲む第１のゲート絶縁膜と、第１のゲート絶縁膜の周囲を取り囲む第１のゲート電極と、第１のゲート電極の周囲を取り囲む第２のゲート絶縁膜と、第２のゲート絶縁膜の周囲を取り囲む第１の筒状半導体層と、第１の島状半導体層の上部に配置された第１の第１導電型高濃度半導体層と、第１の島状半導体層の下部に配置された第２の第１導電型高濃度半導体層と、第１の筒状半導体層の上部に配置された第１の第２導電型高濃度半導体層と、第１の筒状半導体層の下部に配置された第２の第２導電型高濃度半導体層と、を有するインバータを用いたＳＲＡＭにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】低電圧動作させた場合においても、メモリセルのサイズを低減させつつ、安定動作を実現するとともに、セルトランジスタのばらつきによる影響を低減する。
【解決手段】第１および第２のＰＭＯＳのソースは第１の電源線、第１のＰＭＯＳのドレインは第１のノード、第２のＰＭＯＳのドレインは第２のノード、第１および第２のＮＭＯＳのソースは第２の電源線、第１のＮＭＯＳのドレインは第１のノード、第１のノードは、第２のＰＭＯＳのゲートと第２のＮＭＯＳのゲート、第２のノードは、第１のＰＭＯＳのゲートと第１のＮＭＯＳのゲート、第１のトランジスタのゲートは、第１の信号線、ソースは第１のノード、ドレインは第２のノード、第２のトランジスタのゲートは、第２のノード、ソースは第３のノード、ドレインは第２の信号線、第３のトランジスタのゲートは、第３の信号線、ソースは第４の信号線、ドレインは第３のノードに接続される。 （もっと読む）

【課題】スタンバイ時の保持データ量の変化に対応すること。
【解決手段】半導体集積回路は、ロジック回路ｌｏｇｉｃと、複数のＳＲＡＭモジュール２、３を具備する。複数のＳＲＡＭモジュールは、ロジック回路と独立に電源制御が可能とされ、複数のＳＲＡＭモジュールの間で独立した電源制御が可能とされる。具体的には、各ＳＲＡＭモジュールの電位制御回路の一方の端子ａｒｖｓｓと他方の端子ｖｓｓｍはセルアレーｃｅｌｌ＿ａｒｒａｙとローカル電源線ｖｓｓｍに接続される。一方のＳＲＡＭモジュール２と他方のＳＲＡＭモジュール３とのローカル電源線ｖｓｓｍは、共有ローカル電源線ｖｓｓｍ２２によって共有されている。一方と他方のＳＲＡＭモジュール２、３の一方と他方の電源スイッチＰＷＳＷ２２、ＰＷＳＷ２３とは、共有ローカル電源線ｖｓｓｍ２２に共通に接続される。 （もっと読む）

【課題】絶縁層上の半導体層に形成されたトランジスターの閾値電圧のバラツキを低減できるようにした半導体装置を提供する。
【解決手段】絶縁層上に半導体層が形成された基板と、前記半導体層に形成されたトランジスターと、を備え、前記トランジスターは、前記半導体層上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、前記ゲート電極の両側下の前記半導体層に形成されたソース又はドレインと、前記ゲート電極直下の前記半導体層において前記トランジスターのゲート幅方向に沿って電流を流すための入力側端子及び出力側端子と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ｐＭＯＳトランジスタのソース電極の電位を一定にしつつ、微細化に起因するエレクトロマイグレーションによる配線の断線を防止する。
【解決手段】まず、ワード線ＷＬを零電位とし、スイッチ素子Ｓ１、Ｓ２がオン、オフの状態で、ビット線ＢＬ、ＮＢＬを正電位ＶＤＤまで昇圧する。スイッチ素子Ｓ１をオフし、スイッチ素子Ｓ２をオンし、スイッチ素子Ｓ２を介して、グラウンド線ＭＣＧＬを、フリップフロップ回路ＦＦの時定数より長い時間をかけて、正電位ＶＤＤに昇圧する。スイッチ素子Ｓ２をオフする。ワード線を正電位ＶＤＤとする。ビット線ＢＬ、ＮＢＬの内のフリップフロップ回路ＦＦにデータ０を書き込む側のビット線、例えば、ビット線ＮＢＬを、フリップフロップ回路ＦＦの時定数より長い時間をかけて、零電位に降圧する。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＮＦＥＴにおいて、寄生抵抗の改善を図ることができる技術を提供する。
【解決手段】本発明におけるＦＩＮＦＥＴでは、サイドウォールＳＷを積層膜から形成している。具体的に、サイドウォールＳＷは、酸化シリコン膜ＯＸ１と、酸化シリコン膜ＯＸ１上に形成された窒化シリコン膜ＳＮ１と、窒化シリコン膜ＳＮ１上に形成された酸化シリコン膜ＯＸ２から構成されている。一方、フィンＦＩＮ１の側壁には、サイドウォールＳＷが形成されていない。このように本発明では、ゲート電極Ｇ１の側壁にサイドウォールＳＷを形成し、かつ、フィンＦＩＮ１の側壁にサイドウォールＳＷを形成しない。 （もっと読む）

【課題】従来の半導体装置は、通常のコンタクトとシェアードコンタクトとを同時に形成することが難しくなり、接合リーク不良やコンタクト抵抗の上昇が発生する等の課題があった。
【解決手段】ロジックＳＲＡＭ部のゲート配線６の側壁に形成するサイドウォール９と、拡散層１１の表面に形成するシリサイド層１３とゲート配線６のシリサイド層１５とを電気的に接続するドープトポリシリコン１８と、ドープトポリシリコン１８と第１層アルミ配線とを電気的に接続するＷプラグ２６と、ロジックＳＲＡＭ部の拡散層１１の表面のシリサイド層と第１層アルミ配線とを電気的に接続するＷプラグ２５とを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の性能を向上させる。
【解決手段】半導体基板１上に複数のロジック用ｐチャネル型ＭＩＳＦＥＴＱｐ１と、複数のロジック用ｎチャネル型ＭＩＳＦＥＴＱｎ１と、複数のメモリ用ｐチャネル型ＭＩＳＦＥＴＱｐ２と、複数のメモリ用ｎチャネル型ＭＩＳＦＥＴＱｎ２とが混載されている。複数のロジック用ｐチャネル型ＭＩＳＦＥＴＱｐ１のうちの少なくとも一部は、シリコンゲルマニウムで構成されたソース・ドレイン領域を有し、複数のロジック用ｎチャネル型ＭＩＳＦＥＴＱｎ１の全ては、それぞれシリコンで構成されたソース・ドレイン領域を有している。複数のメモリ用ｐチャネル型ＭＩＳＦＥＴＱｐ２の全ては、それぞれシリコンで構成されたソース・ドレイン領域を有し、複数のメモリ用ｎチャネル型ＭＩＳＦＥＴＱｎ２の全ては、それぞれシリコンで構成されたソース・ドレイン領域を有している。 （もっと読む）

【課題】半導体装置が備えるｎＭＯＳトランジスタ及びｐＭＯＳトランジスタの形成面積を縮小する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、基板上に環状の突起部を形成する工程と、環状の突起部に第１のｎ型チャネル領域を形成する工程と、環状の突起部に第１のｐ型チャネル領域を形成する工程と、環状の突起部に形成された第１のｎ型チャネル領域及び第１のｐ型チャネル領域を跨ぐ第１のゲート電極を形成することにより、第１のｎＭＯＳトランジスタ及び第１のｐＭＯＳトランジスタを形成する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ある応力がかかっても回路全体としての動作特性が変化しない薄膜の半導体素子を実現し、これによって、動作マージンが広く大型化が容易なフレキシブルな半導体装置、電気光学装置、電子機器を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置は、基板１００上に薄膜トランジスタ８を有し、この薄膜トランジスタ８は、基板１００の湾曲に対してチャネル内のキャリアの移動度が相補的に変化する第１のチャネル領域１ｃおよび第２のチャネル領域１ｃを有している。 （もっと読む）

【課題】デュアルポートＳＲＡＭセルの構造とレイアウト設計を提供する。
【解決手段】マルチポートＳＲＡＭセルと、第１ビット線導体と、第１相補ビット線導体と、第２ビット線導体と、第２相補ビット線導体と、ＳＲＡＭセルのアクセスポートに接続された第１ワード線と第２ワード線、及びＶｄｄ電力供給導体と、４つのＶｓｓ電力供給導体とを含み、前記ビット線導体と前記電力供給導体は、第１共通金属化層に平行に設置されるメモリデバイス。 （もっと読む）