スルホンアミド誘導体
【課題】ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための医薬として有用な化合物等を提供すること。
【解決手段】式（II）（ｎが０である場合には、Ａは置換基を有するＣ３〜Ｃ６のシクロアルキル基などを、Ｂは単結合などを、Ｙは水素原子などをそれぞれ示し、ｎが１である場合には、Ａは置換基を有するＣ３〜Ｃ６のシクロアルキル基などを、Ｂは置換基を有していてもよいメチレン基を、Ｗ、Ｘ及びＹは水素原子などをそれぞれ示す）で表される化合物又はその塩は、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための医薬として有用である。
【化１】
【解決手段】式（II）（ｎが０である場合には、Ａは置換基を有するＣ３〜Ｃ６のシクロアルキル基などを、Ｂは単結合などを、Ｙは水素原子などをそれぞれ示し、ｎが１である場合には、Ａは置換基を有するＣ３〜Ｃ６のシクロアルキル基などを、Ｂは置換基を有していてもよいメチレン基を、Ｗ、Ｘ及びＹは水素原子などをそれぞれ示す）で表される化合物又はその塩は、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための医薬として有用である。
【化１】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための医薬及び該医薬の有効成分として有用な新規化合物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在癌患者の治療において抗癌剤の投与が行われているが、その延命率の低さも然る事ながら、抗癌剤を投与された癌患者は発熱、吐き気、脱毛、悪寒、倦怠感、免疫機能低下、消化管障害、肝障害、腎障害等の重篤な副作用に耐えなくてはならず、このことが癌患者のＱＯＬ（Quality of life）を著しく損なう原因となっている。また、抗癌剤の使用による生ずる癌細胞の抗癌剤に対する感受性の低下が、抗癌剤投与の長期化、投与量の増加を招き、その結果抗癌剤の副作用が原因と思われる死亡例も少なからず見られ、抗癌剤の投与は患者の利益のみならず、社会的、経済的利益を著しく損なうものとなっている。これは、無秩序に分裂、増殖する癌細胞に対し選択的に細胞毒性を発揮するとして使われている抗癌剤が、実際には正常細胞、特に腸や骨髄の細胞に対しても細胞毒として作用してしまうのが原因である。
【０００３】
近年になって低分子有機化合物であるカフェイン、ＵＣＮ−０１（７−ヒドロキシスタウロスポリン）に放射線耐性のある癌細胞の放射線感受性を増強する作用についての報告がなされている（非特許文献１及び２）。放射線照射による癌治療もＤＮＡの人為的な損傷を機序とするものであり、ブレオマイシン等のＤＮＡの損傷を機序とする抗癌剤と基本的に同等であると考えることができるので、既存のDNA損傷を機序とする抗癌剤においても癌細胞への選択毒性を高める薬剤の開発は可能であると考えられる。
【０００４】
事実、カフェインにおいてはアドリアマイシン、シスプラチン、シクロフォスファミド、マイトマイシンC等のＤＮＡ障害を作用機序とする抗癌剤の作用を増強することも報告されている（非特許文献３）。もっとも、作用の強さはいまだ十分とは言えず、毒性との乖離も不十分である。また、ＵＣＮ−０１についても数種類のＤＮＡ損傷を作用機序とする抗癌剤の作用を増強することが報告されている（非特許文献４）。
【０００５】
抗癌剤の作用増強の作用機序については、カフェイン及びＵＣＮ−０１が細胞周期の制御にかかわるプロテインキナーゼを阻害することから（非特許文献５；非特許文献６）、細胞周期のある部分（例えばＧ１期，Ｇ２期等）の破壊によるものと推定されているが（非特許文献７；非特許文献８）、未だ確定的な証拠は得られていない。加えて、カフェインおよびスタウルスポリン誘導体であるＵＮＣ−０１は複数の種類のプロテインキナーゼに対して阻害作用を持つことから（非特許文献９；非特許文献１０）、細胞周期の破壊以外の作用機序である可能性も否定できず、明確な作用機序は依然として特定されていない。また、これらが細胞内シグナル伝達に関係しているプロテインキナーゼに対しても阻害作用を持つ可能性が高く、このことが重篤な副作用を発現させる可能性があると考えられる。
【０００６】
以上のように、現状ではＤＮＡ損傷を作用機序とした癌治療の持つ様々な問題を解決する有効な手段はない。既存のＤＮＡ損傷を作用機序とする抗癌剤や放射線照射治療の作用を増強し、癌細胞への選択性をより高める新たな薬剤又は治療法を開発し、副作用を軽減させることは、癌患者のＱＯＬ、利益のみならず社会的、経済的利益に重要な貢献するものとなる。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】J. Biol. Chem., 275, 5600-5605(2000)
【非特許文献２】J. Biol. Chem., 276, 17693-17698(2001)
【非特許文献３】Jpn. J. Cancer. Res., 80, 83‐88(1989)
【非特許文献４】Invest. New Drugs, 18, 95-107(2000)
【非特許文献５】J. Biol. Chem,. 275, 10342-10348(2000)
【非特許文献６】Cancer Res., 61, 1065-1072(2001)
【非特許文献７】Cancer Res., 60, 2108-2112(2000)
【非特許文献８】Cancer Res., 59, 4375-4382(1999)
【非特許文献９】Biochem. Biophys. Res. Commun., 219, 778-783(1996)
【非特許文献１０】Acta. Pharmacol. Sin., 21 35-40(2000)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の課題は、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための医薬を提供することにある。より具体的には、それ自体では抗癌活性（細胞毒性）は弱いが、ＤＮＡ損傷を作用機序とする抗癌剤または放射線照射のようなＤＮＡに人為的に損傷を与える治療法との併用により、より低い抗癌剤の用量または照射放射線量で癌を選択的に障害または死滅させ、正常細胞への影響を大幅に軽減できる医薬を提供することが本発明の課題である。また、上記の癌治療の効果を増強し、抗癌剤の投与量及び／又は放射線照射量を低減することによって、癌治療に伴う副作用を軽減する医薬を提供することも本発明の課題である。さらに、本発明の別な課題は、上記の医薬の有効成分として有用な新規化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記課題を解決するためにプロテインキナーゼ阻害剤に着目し、その候補化合物を見出す手段としてコンピューター利用の分子設計技術を用い、所望の薬理活性を持つ化合物の探索を実施した。すなわち、本発明者らは、ＰＤＢ（Protein Data Bank）に構造が登録されている数種類のプロテインキナーゼのＡＴＰ結合領域についてリガンドのタンパク質立体構造に基づく化合物３次元データベース自動検索プログラムを用い、市販化合物データベースの化合物の中からヴァーチャル・スクリーニングによりプロテインキナーゼ阻害剤となり得る化合物を選定した。続いて、それらの化合物を骨格別に分類し、その代表的な化合物について癌細胞および正常細胞に対するブレオマイシンとの併用効果、化合物単独での癌細胞および正常細胞への細胞毒性試験を行い、それらの中で活性が強く所望の薬理活性を持つ化合物を選出し、さらにその誘導体合成を行うことにより本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明は、下記の一般式（Ｉ）：
【化１】
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアリール置換アルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール置換アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル置換アルキル基、又は置換基を有していてもよい環状炭化水素基（該環状炭化水素基は飽和、部分飽和、若しくは芳香族のいずれであってもよい）を示すが、ＺはＲと結合して環構造を形成してもよく(形成される環は置換基を有していてもよい)、Ｚは水素原子又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を示す）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を有効成分として含み、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための医薬を提供するものである。
【００１１】
この発明の好ましい態様により、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療が抗癌剤の投与及び／又は放射線照射により行われる上記医薬；抗癌剤がブレオマイシン、アドリアマイシン、シスプラチン、シクロフォスファミド、マイトマイシンＣ、及びそれらの誘導体からなる群から選ばれる上記医薬；プロテインキナーゼ及び／又はその類似酵素の特異的阻害剤である上記医薬が提供される。
【００１２】
別の観点からは、上記一般式（Ｉ）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を有効成分として含み、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の副作用を軽減するための医薬が本発明により提供される。
【００１３】
さらに別の観点からは、上記医薬の製造のための上記一般式（Ｉ）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩の使用；ヒトを含む哺乳類動物においてＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための方法であって、癌患者にＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療を行う工程、及び上記癌治療の効果を増強するために十分な量の上記一般式（Ｉ）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を投与する工程を含む方法；ヒトを含む哺乳類動物においてＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の副作用を軽減する方法であって、癌患者にＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療を行う工程、及び上記癌治療の副作用を軽減するために十分な量の上記一般式（Ｉ）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を投与する工程を含む方法が提供される。
【００１４】
また、本発明により、下記の一般式（II）：
【化２】
（式中、Ａは置換基を有していてもよいＣ３〜Ｃ６のシクロアルキル基、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ１０のアリール基、又は窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含有する４〜１０員単環又は二環の不飽和、部分飽和又は完全飽和の複素環基（該複素環基は置換基を有していてもよい）を示し；Ｂは単結合又は置換基を有していてもよいメチレン基を示し；Ｗ及びＸはそれぞれ独立して水素原子又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表すか、或いはＷはＡの有する置換基と一緒になってＣ１〜Ｃ４のアルキレン基（該アルキレン基は置換基を有していてもよい）を表す。Ｙは水素原子又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を示すか、あるいはＹはＡの有する置換基と一緒になってＣ１〜Ｃ４のアルキレン基（該アルキレン基は置換基を有していてもよい）を示し；ｎは０又は１を示す）で表される化合物又はその塩が提供される。
【００１５】
さらに、本発明により、上記一般式（II）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を有効成分として含む医薬が提供される。この医薬は、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための医薬として用いることができる。この発明の好ましい態様により、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療が抗癌剤の投与及び／又は放射線照射により行われる上記医薬；抗癌剤がブレオマイシン、アドリアマイシン、シスプラチン、シクロフォスファミド、マイトマイシンＣ、及びそれらの誘導体からなる群から選ばれる上記医薬；プロテインキナーゼ及び／又はその類似酵素の特異的阻害剤である上記医薬が提供される。
【００１６】
別の観点からは、上記一般式（II）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を有効成分として含み、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の副作用を軽減するための医薬が本発明により提供される。
【００１７】
さらに別の観点からは、上記医薬の製造のための上記一般式（II）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩の使用；ヒトを含む哺乳類動物においてＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための方法であって、癌患者にＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療を行う工程、及び上記癌治療の効果を増強するために十分な量の上記一般式（II）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を投与する工程を含む方法；ヒトを含む哺乳類動物においてＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の副作用を軽減する方法であって、癌患者にＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療を行う工程、及び上記癌治療の副作用を軽減するために十分な量の上記一般式（II）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を投与する工程を含む方法が提供される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の医薬は、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強し、かつ抗癌剤の投与量及び／又は放射線照射量を低減することによって、癌治療に伴う副作用を軽減することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本明細書において用いられる用語の意味は以下のとおりである。
アルキル基は、特に言及しない場合には、直鎖状、分枝鎖状、環状、及びそれらの組み合わせのいずれでもよい。より具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロブチル基、シクロプロピルメチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、３,３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、又は４−メチルペンチル基などを挙げることができる。アルキル部分を含む他の置換基のアルキル部分についても同様である。アルキレン基は直鎖状又は分枝鎖状のいずれであってもよい。
【００２０】
特にシクロアルキル基という場合には、例えば４〜８員、好ましくは５〜７員のシクロアルキル基が好ましい。シクロアルキル基は単環性又は多環性のいずれであってもよいが、単環性のシクロアルキル基が好ましい。シクロアルキル部分を含む他の置換基（例えばシクロアルキル置換アルキル基など）のシクロアルキル部分についても同様である。シクロアルキル置換アルキル基において、シクロアルキル基に結合するアルキル部分は、好ましくは直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよく、例えばＣ１〜Ｃ４アルキル基などを好適に用いることができる。好ましくはメチル基又はエチル基であり、特に好ましくはメチル基である。
【００２１】
アリール基としては、単環性又は多環性のいずれのアリール基を用いてもよい。例えば、フェニル基、ナフチル基、又はアンスリル基などを好適に用いることができ、フェニル基又はナフチル基を用いることがより好ましい。アリール部分を含む他の置換基（例えばアリール置換アルキル基など）のアリール部分についても同様である。
【００２２】
ヘテロアリール置換アルキル基を構成するヘテロアリール基に環構成原子として含まれるヘテロ原子の種類は特に限定されないが、例えば、酸素原子、窒素原子、及びイオウ原子からなる群から選ばれる１又は２以上のヘテロ原子であることが好ましい。ヘテロアリール基を構成する芳香族複素環は単環性又は多環性のいずれであってもよい。
【００２３】
アリール置換アルキル基、ヘテロアリール置換アルキル基、又はを構成するアルキル部分は、好ましくは直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよく、例えばＣ１〜Ｃ４アルキル基などを好適に用いることができる。好ましくはメチル基又はエチル基であり、特に好ましくはメチル基である。
【００２４】
環状炭化水素基は単環性又は多環性のいずれであってもよい。また、環状炭化水素基は飽和、部分飽和、又は芳香族のいずれであってもよく、例えば、アリール基又はシクロアルキル基、あるいは部分飽和アリール基（例えば1,2,3,4-テトラヒドロ-1-ナフチル基など）のいずれであってよい。ＺがＲと結合して形成する環構造は単環性又は多環性のいずれであってもよいが、好ましくは多環性の環構造であり、さらに好ましくは２環性の環構造である。
【００２５】
窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含有する４〜１０員の単環又は二環の不飽和、部分飽和、又は完全飽和の複素環基の種類は特に限定されないが、例えば、チエニル基、フリル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾフラニル基、イソベンゾチオフェニル基、イソベンゾフラニル基、インドリル基、イソインドリル基、インドリジニル基、１H−インダゾリル基、プリニル基、ベンゾチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、１，２，３−チアジアゾリル基、１，２，４−チアジアゾリル基、１，３，４−チアジアゾリル基、１，３，４−オキサジアゾリル基、１，２，３−トリアゾリル基、１，２，４−トリアゾリル基、テトラゾリル基、クロメニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、キノリジニル基、キノリル基、イソキノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、１，２，４−トリアジニル基、クロマニル基、イソクロマニル基、アゼチジニル基、２−オキソアゼチジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリノ基、モルホリニル基、チオモリホリノ基、チオモルホリニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、１，２，３，４−テトラヒドロキノリル基、キヌクリジニル基、メチレンジオキシフェニル基などを挙げることができる。
【００２６】
本明細書において、ある官能基について「置換基を有していてもよい」という場合には、官能基に存在する置換基の種類、個数、及び置換位置は特に限定されない。このような置換基としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子のいずれでもよい）、水酸基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルキニル基、Ｃ６〜Ｃ１０のアリール基、Ｃ７〜Ｃ１２のアラルキル基、Ｃ１〜Ｃ６のヒドロキシアルキル基、トリフルオロメトキシ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ６〜Ｃ１０のアリールオキシ基、Ｃ７〜Ｃ１２のアラルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６のヒドロキシアルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルカノイル基、Ｃ６〜Ｃ１０のアロイル基、カルボキシル基、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、チオール基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルチオ基、Ｃ６〜Ｃ１０のアリールチオ基、Ｃ７〜Ｃ１２のアラルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６のヒドロキシアルキルチオ基、スルホン酸基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルスルホニル基、Ｃ６〜Ｃ１０のアリールスルホニル基、スルファモイル基、ホルミル基、ヒドロキシイミノ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシイミノ基、フェノキシイミノ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ホルミルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルカノイルアミノ基、Ｃ６〜Ｃ１０のアロイルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルスルホニルアミノ基、Ｃ６〜Ｃ１０のアリールスルホニルアミノ基、アミジノ基、グアニジノ基、シリル基、スタニル基、複素環基などを挙げることができる。これらの置換基はさらに上記の置換基により置換されていてもよい。そのような例として、例えば、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、カルボキシ置換アルキル基、アルキル置換アミノ基などを例示することができる。また、上記の置換基のうち２つ以上の置換基がそれらが結合している原子（炭素原子、窒素原子、ホウ素原子など）と一緒になって環を形成してもよい。このような環には、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる１以上のヘテロ原子が環構成原子として含有されていてもよく、環上には１以上の置換基が存在していてもよい。環は単環又は縮合環のいずれでもよく、不飽和、部分飽和又は完全飽和のいずれであってもよい。
【００２７】
一般式（Ｉ）において、Ｒが示すアリール置換アルキル基としては、ベンジル基、１−フェネチル基、２−フェネチル基、２−フェニルプロパン−２−イル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、１−（１−ナフチル）エチル基などが好ましい。該アリール置換アルキル基がアリール環上に置換基を有する場合、置換基の種類、置換位置、及び個数は特に限定されないが、置換基として、例えばハロゲン原子（塩素原子又はフッ素原子など）、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４のハロゲン化アルキル基（トリフルオロメチル基など）、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、置換フェニル基（トルイル基など）、メチレンジオキシ基、アラルキル基（例えばベンジル基など）、アラルキルオキシ基（ベンジルオキシ基など）、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、置換アミノ基（ジメチルアミノ基など）、スルホンアミド基、置換スルホンアミド基、カルボキシル基、アルキルスルホニル基、又はスルファモイル基などを挙げることができる。もっとも、アリール環上の置換基は上記のものに限定されることはない。アリール環上にはこれらの置換基が１〜３個程度存在していてもよく、２個以上の置換基が存在する場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。
【００２８】
Ｒが示すヘテロアリール置換アルキル基を構成するヘテロアリール環としては、例えば、ピリジル基、フリル基、チエニル基、ベンズイミダゾリル基、キノリル基などを挙げることができるが、これらに限定されることはない。Ｒが示すシクロアルキル置換アルキル基を構成するシクロアルキル基としては、例えば、シクロヘキシル基などを挙げることができる。Ｒが示す環状炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、インダニル基、１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフチル基、シクロヘキシル基などを例示することができる。ＺがＲと結合して環構造を形成する場合の例としては、１，３−ジヒドロ−２−イソインドリル基、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリニル基などを例示できる。Ｒがベンジル基である場合が特に好ましい。Ｚは水素原子であることが好ましい。
【００２９】
一般式（Ｉ）で表される化合物は塩を形成することができる。塩の種類は特に限定されないが、酸性基が存在する場合には、例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等の金属塩、又はアンモニウム塩、メチルアンモニウム塩、ジメチルアンモニウム塩、トリメチルアンモニウム塩、ジシクロヘキシルアンモニウム塩等のアンモニウム塩を挙げることができ、塩基性基が存在する場合には、例えば、塩酸塩、臭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等の鉱酸塩、あるいはメタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、パラトルエンスルホン酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酒石酸塩、フマール酸塩、マレイン酸塩、リンゴ酸塩、シュウ酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、安息香酸塩、マンデル酸塩、ケイ皮酸塩、乳酸塩等の有機酸塩を挙げることができる。グリシンなどのアミノ酸と塩を形成する場合もある。本発明の医薬の有効成分としては、薬学的に許容される塩が好適である。
【００３０】
一般式（Ｉ）で表される化合物又はその塩は、水和物又は溶媒和物として存在する場合もある。さらに一般式（Ｉ）で表される化合物は１以上の不斉炭素を有する場合があり、光学活性体やジアステレオマーなどの立体異性体として存在する場合がある。本発明の医薬の有効成分としては、純粋な形態の立体異性体、光学対掌体又はジアステレオマーの任意の混合物、ラセミ体などを用いてもよい。また、一般式（Ｉ）で表される化合物がオレフィン性の二重結合を有する場合には、その配置はＺ配置又はＥ配置のいずれでもよく、本発明の医薬の有効成分としてはいずれかの配置の幾何異性体又はそれらの混合物を用いてもよい。
【００３１】
本発明の医薬の有効成分として好適な化合物群として一般式（II）で表される化合物を挙げることができる。一般式（II）で表される化合物は塩を形成する場合もあるが、その例としては一般式（Ｉ）の化合物について例示した塩を挙げることができる。また、一般式（II）で表される化合物又はその塩は、水和物又は溶媒和物として存在する場合もある。これらの物質はいずれも本発明の範囲に包含される。さらに一般式（II）で表される化合物は１以上の不斉炭素を有する場合があり、光学活性体やジアステレオマーなどの立体異性体として存在する場合がある。純粋な形態の立体異性体、光学対掌体又はジアステレオマーの任意の混合物、ラセミ体などはいずれも本発明の範囲に包含される。さらに、一般式（II）で表される化合物がオレフィン性の二重結合を有する場合には、その配置はＺ配置又はＥ配置のいずれでもよく、いずれかの配置の幾何異性体又はそれらの混合物は本発明の範囲に包含される。
【００３２】
一般式（II）で表される化合物においてｎは１であることが好ましいが、ｎが０である場合にはＢが単結合であり、かつＡがアリール基であることが好ましい。一般式（II）で表される化合物において、−(Ｃ(Ｗ)(Ｘ))ｎ−Ｂ−Ａで表される部分の具体例は上記一般式（Ｉ）におけるＲについて説明したものと同様である。
【００３３】
一般式（II）に包含される化合物の例を以下に示すが、本発明の化合物は下記の化合物に限定されることはない。
【表１】
【表２】
【表３】
【表４】
【表５】
【表６】
【表７】
【表８】
【００３４】
本発明の一般式（II）で表される化合物は、例えば、反応工程式１に示す方法によって製造することができる。
＜反応工程式１＞
【化３】
【００３５】
５−（アセチルアミノ）−１−ナフタレンスルホニルクロリド（１）は、米国特許第５３７８７１５号及び日本国特許第２５２８４５１号により既に製造法が開示されている。アミン（２）（Ａ、Ｂ、Ｗ、Ｘ及びＹは一般式（II）における定義と同義である）はその多くが遊離又は酸付加塩として広く市販されており、これを入手して直接使用することが可能である。また、アミン（２）（Ａ、Ｂ、Ｗ、Ｘ及びＹは一般式（II）における定義と同義である）は、当業者に容易に理解される製造法（例えば、対応するニトロ体の還元、シアノ体の還元、カルバモイル体の還元など）によっても製造可能であり、本発明の化合物の製造に使用可能であることは言うまでもない。
【００３６】
まず、５−（アセチルアミノ）−１−ナフタレンスルホニルクロリド（１）とアミン（２）（Ａ、Ｂ、Ｗ、Ｘ及びＹは一般式（II）における定義と同義である）を反応させることにより、式（３）の化合物（Ａ、Ｂ、Ｗ、Ｘ及びＹは一般式（II）における定義と同義である）を製造することができる。この反応は、塩基及び／又は触媒の存在又は非存在下、無溶媒又は溶媒中、−３０℃から使用される溶媒の加熱還流温度の反応温度で行われる。
【００３７】
塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、あるいはピリジン、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。触媒としては、例えば、４−ジメチルアミノピリジン、テトラブチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。溶媒としては反応を阻害しない限りいかなるものでもよく、例えば、酢酸エチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ベンゼン、トルエン、モノクロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、アセトン、２−ブタノン、水等を挙げることができ、これらの溶媒を単独、混合あるいは２相系の溶媒として用いることができる。
【００３８】
次に、得られた式（３）の化合物（Ａ、Ｂ、Ｗ、Ｘ及びＹは一般式（II）における定義と同義である）のアセチル基を加水分解することにより、一般式（II）で表される化合物を製造することができる。この反応は、酸あるいは塩基の存在下、無溶媒又は溶媒中０℃から溶媒の加熱還流温度の反応温度で行われる。
【００３９】
酸としては、例えば、塩酸、硫酸等の鉱酸、テトラフルオロホウ酸トリエチルオキソニウム等のルイス酸が挙げられる。塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、金属ナトリウム等の無機塩基、あるいはヒドラジン等の有機塩基が挙げられる。溶媒としては反応を阻害しない限りいかなるものでもよく、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、水、酢酸等を挙げることができ、これらの溶媒を単独、あるいは混合溶媒として用いることができる。
【００４０】
一般式（II）で表される化合物の塩の製造法としては、前記式（３）の化合物（Ａ、Ｂ、Ｗ、Ｘ及びＹは一般式（II）における定義と同義である）のアセチル基を加水分解することにより直接塩を製造する方法、当該加水分解反応により一旦、一般式（II）で表される化合物の遊離体を製造した後、この遊離体を塩に変換する製造法などが挙げられ、いずれもが当業者に容易に理解される方法である。
【００４１】
本明細書の実施例には、一般式（II）に包含される代表的化合物の製造方法が具体的に説明されている。従って、当業者は、上記の一般的な製造方法の説明及び実施例の具体的製造方法の説明を参照しつつ、適宜の反応原料、反応試薬、反応条件を選択し、必要に応じてこれらの方法に適宜の修飾ないし改変を加えることによって、一般式（II）に包含される化合物をいずれも製造可能である。
【００４２】
本発明の医薬は、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療、例えばＤＮＡ損傷を惹起する抗癌剤による癌化学療法や癌放射線療法の効果増強のために用いることができる。ＤＮＡ損傷を惹起する制癌剤の代表例としては、例えば、ブレオマイシン、アドリアマイシン、シスプラチン、シクロフォスファミド、マイトマイシンＣなどを挙げることができるが、これらの誘導体のほか、ＤＮＡ損傷を作用機序として含む制癌剤はいずれも本発明の医薬の適用対象となる。本発明の医薬は、ＤＮＡ損傷を惹起する抗癌剤による癌化学療法又は癌放射線療法のいずれかを単独で行う場合のほか、これらの療法を組み合わせて行う癌治療において使用してもよい。
【００４３】
いかなる特定の理論に拘泥するわけではないが、本発明の医薬は、ＤＮＡ損傷時に活性化されるプロテインキナーゼ又はその類似酵素に阻害剤として結合して該酵素の機能を停止させ、癌細胞を死滅させることができる。この結果、癌治療の効果を増強することができ、癌治療に用いる抗癌剤の量や放射線照射量を低減することができるので、癌治療に伴う副作用を軽減することが可能になる。
【００４４】
本発明の医薬の有効成分としては、上記一般式（Ｉ）又は一般式（II）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩の水和物又は溶媒和物を用いてもよい。また、不斉炭素を含む化合物については純粋な形態の光学活性体又は光学活性体の任意の混合物、あるいはラセミ体のいずれを用いてもよい。本発明の医薬の有効成分としては、上記化合物及び生理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる１種又は２種以上を用いることができる。
【００４５】
本発明の医薬としては上記物質それ自体を投与してもよいが、好ましくは、当業者に周知の方法によって製造可能な経口用あるいは非経口用の医薬組成物として投与することができる。経口投与に適する医薬用組成物としては、例えば、錠剤、カプセル剤、散剤、細粒剤、顆粒剤、液剤、及びシロップ剤等を挙げることができ、非経口投与に適する医薬組成物としては、例えば、注射剤、坐剤、吸入剤、点眼剤、点鼻剤、軟膏剤、経皮吸収剤、経粘膜吸収剤、クリーム剤、及び貼付剤等を挙げることができる。
【００４６】
上記の医薬組成物は、薬理学的、製剤学的に許容しうる添加物を加えて製造することができる。薬理学的、製剤学的に許容しうる添加物の例としては、例えば、賦形剤、崩壊剤ないし崩壊補助剤、結合剤、滑沢剤、コーティング剤、色素、希釈剤、基剤、溶解剤ないし溶解補助剤、等張化剤、pH調節剤、安定化剤、噴射剤、及び粘着剤等を挙げることができる。上記の医薬組成物には、ＤＮＡ損傷を作用機序とする制癌剤を１種又は２種以上配合してもよい。
【００４７】
本発明の医薬の投与量は特に限定されず、有効成分の種類や癌治療の種類などに応じて適宜選択することができ、さらに患者の体重や年齢、疾患の種類や症状、投与経路など通常考慮すべき種々の要因に応じて、適宜増減することができる。一般的には、経口投与の場合には成人一日あたり 0.01〜1,000 mg程度の範囲で用いることができる。
【実施例】
【００４８】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は下記の実施例に限定されることはない。
【００４９】
例１：５−アミノ−Ｎ−［（１−ナフタレニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（１−ナフタレニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
１−ナフチルメチルアミン（１７４ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に溶解し、氷冷攪拌下、５−（アセチルアミノ）−１−ナフタレンスルホニルクロリド（２８４ｍｇ，１ｍｍｏｌ）を添加、次いでトリエチルアミン（０．１７ｍＬ，１．２ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１時間攪拌した。反応混合物を希塩酸にあけ酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣を酢酸エチル／ジイソプロピルエーテル混合溶媒で結晶化して標題化合物の淡褐色結晶（３２５ｍｇ，８０．４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２１（３Ｈ，ｓ），４．４５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．７３−７．４１（３Ｈ，ｍ），７．４４−７．４９（１Ｈ，ｍ），７．６５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．８７−７．９１（２Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５４−８．５７（２Ｈ，ｍ），１０．０９（１Ｈ，ｓ）．
【００５０】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（１−ナフタレニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
Ｎ−［５−［［［（１−ナフタレニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミド（２２５ｍｇ，０．５６ｍｍｏｌ）を１−プロパノール（３ｍｌ）、濃塩酸（１ｍｌ）、水（１ｍｌ）の混合液に懸濁し、１時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却し析出した結晶を濾過、１−プロパノール／ジイソプロピルエーテル混合溶媒で加熱還流下懸濁洗浄して標題化合物の白色結晶（２０１ｍｇ，９０．８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．３３−４．４４（２Ｈ，ｍ），７．０９−７．２１（１Ｈ，ｍ），７．３３−７．４１（３Ｈ，ｍ），７．４５−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．５４−７．６１（１Ｈ，ｍ），７．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．８Ｈｚ），７．８７−７．９３（２Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４２−８．５１（１Ｈ，ｍ）．
【００５１】
例１と同様の方法により、例２〜例６６の化合物を製造した。以下、その収率と物性値を記す。ただし、反応条件の異なる例については併せて製造方法の詳細も記す。
【００５２】
例２：５−アミノ−Ｎ−［（２−ナフタレニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−ナフタレニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．５Ｈｚ），７．４５（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝９．３，３．３Ｈｚ），７．６１（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．７３（４Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【００５３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−ナフタレニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：９２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．８Ｈｚ），７．４５（３Ｈ，ｍ），７．６６（３Ｈ，ｍ），７．７２（１Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｍ），８．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ）８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００５４】
例３：５−アミノ−Ｎ−［（２−クロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−クロロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７４．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１３（２Ｈ，ｓ），７．１３−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．２８−７．３７（２Ｈ，ｍ），７．６１−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６０（１Ｈ，ｓ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００５５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−クロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７９．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１４−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．２８−７．３１（１Ｈ，ｍ），７．３４−７．３７（２Ｈ，ｍ），７．５６−７．６５（２Ｈ，ｍ），８．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００５６】
例４：５−アミノ−Ｎ−［（３−クロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号４）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３−クロロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７１．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．０７−７．１２（１Ｈ，ｍ），７．１８−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．６０−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００５７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３−クロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８２．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．０６−７．１１（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２１（３Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５６−７．６７（２Ｈ，ｍ），８．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【００５８】
例５：５−アミノ−Ｎ−［（４−クロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−クロロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７２．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６１−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【００５９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−クロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩
収率：７７．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【００６０】
例６：５−アミノ−Ｎ−［（２，４−ジクロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号６）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２，４−ジクロロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７６．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１０（２Ｈ，ｓ），７．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．６０−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６６（１Ｈ，ｓ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００６１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２，４−ジクロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７０．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．２５−７．２９（２Ｈ，ｍ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．６２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００６２】
例７：５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジクロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号７）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，４−ジクロロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７１．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．１Ｈｚ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５６−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【００６３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジクロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８７．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５７−７．６５（２Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【００６４】
例８：５−アミノ−Ｎ−［（３，５−ジクロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号８）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，５−ジクロロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，１．５Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【００６５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，５−ジクロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：９０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，１．５Ｈｚ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６１（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５，２．１Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【００６６】
例９：５−アミノ−Ｎ−［（２−フルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号９）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−フルオロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．００（２Ｈ，ｍ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【００６７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−フルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．００（１Ｈ，ｍ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．８Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．６Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．５８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００６８】
例１０：５−アミノ−Ｎ−［（３−フルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１０）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３−フルオロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７７．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．９４−６．９９（３Ｈ，ｍ），７．１７−７．２５（１Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．２Ｈｚ），７．６６−７．７１（１Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００６９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３−フルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８６．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．１４（２Ｈ，ｓ），６．７３−６．８４（３Ｈ，ｍ），７．０３−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（３Ｈ，ｍ），８．１８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．８２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ）．
【００７０】
例１１：５−アミノ−Ｎ−［（４−フルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１１）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−フルオロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７８．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．９６−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２１（２Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００７１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−フルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：９０．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．１０（２Ｈ，ｓ）６．７３−６．８０（２Ｈ，ｍ），６．９９−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．７１−７．７９（３Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）．
【００７２】
例１２：５−アミノ−Ｎ−［（２，６−ジフルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１２）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２，６−ジフルオロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．７９−６．８７（２Ｈ，ｍ），７．２１（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝８．４，６．６Ｈｚ），７．５８−７．６５（２Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ−８．７Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），１０．０４（１Ｈ，ｓ）．
【００７３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２，６−ジフルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７９．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．２３（２Ｈ，ｓ），６．５０−６．５８（２Ｈ，ｍ），７．０２（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝８．４，６．６Ｈｚ），７．６６（３Ｈ，ｍ），８．１４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．７５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝７．８，２．１，１．２Ｈｚ）．
【００７４】
例１３：５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジフルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，４−ジフルオロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｍ），７．１８（２Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．８Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，８．１Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００７５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジフルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：５９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｍ），７．１８（２Ｈ，ｍ），７．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００７６】
例１４：５−アミノ−Ｎ−［（３，５−ジフルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１４）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，５−ジフルオロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．８０−６．８６（２Ｈ，ｍ），６．９６（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝９．３，２．４Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６６−７．７２（１Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００７７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，５−ジフルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７６．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．８８（２Ｈ，ｓ），６．５９−６．６５（３Ｈ，ｍ），７．７３−７．８２（３Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【００７８】
例１５：５−アミノ−Ｎ−［（２−メチルフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−メチルフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１０（３Ｈ，ｓ），２．２０（３Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｓ），７．０５（３Ｈ，ｍ），７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３７（１Ｈ，ｂｒｓ），８．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００７９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−メチルフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．０９（３Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），７．０５（３Ｈ，ｍ），７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８，１．５Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝７．５，７．２，１．８Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３５（３Ｈ，ｍ）．
【００８０】
例１６：５−アミノ−Ｎ−［（３−メチルフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１６）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３−メチルフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８２．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１０（３Ｈ，ｓ），２．２０（３Ｈ，ｓ），４．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．８６（１Ｈ，ｓ），６．９０−６．９５（２Ｈ，ｍ），７．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５９−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４８−８．５３（２Ｈ，ｍ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００８１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３−メチルフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８５．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１１（３Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．８６（１Ｈ，ｓ），６．９２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．５６−７．６４（２Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００８２】
例１７：５−アミノ−Ｎ−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１７）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−メチルフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：４５．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），２．２１（３Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．９７−７．０５（３Ｈ，ｍ），７．６１−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００８３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７４．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２２（３Ｈ，ｓ），３．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．９８−７．０４（３Ｈ，ｍ），７．３０−７．３６（１Ｈ，ｍ），７．５５−７．６５（２Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１０．９Ｈｚ），８．２８−８．３１（１Ｈ，ｍ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００８４】
例１８：５−アミノ−Ｎ−［［４−（１，１−ジメチルエチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１８）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［４−（１，１−ジメチルエチル）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７８．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．２５（９Ｈ，ｓ），２．３６（３Ｈ，ｂｒｓ），４．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），４．８２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５１−７．６５（３Ｈ，ｍ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
【００８５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［４−（１，１−ジメチルエチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８１．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２２（９Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），８．３１−８．３６（２Ｈ，ｍ）．
【００８６】
例１９：５−アミノ−Ｎ−［［２−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１９）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［２−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：４７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，７．２Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，６．９Ｈｚ），７．６２（３Ｈ，ｍ），７．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００８７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［２−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，７．５Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，８．１Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，６．９Ｈｚ），７．６２（４Ｈ，ｍ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．７７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００８８】
例２０：５−アミノ−Ｎ−［［３−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２０）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［３−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７１．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．３７−７．４９（４Ｈ，ｍ），７．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６５−７．７１（１Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００８９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［３−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７４．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．２３（２Ｈ，ｓ），７．２１−７．３６（４Ｈ，ｍ），７．６９−７．８０（３Ｈ，ｍ），８．１６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．８２（１Ｈｄｔ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ）．
【００９０】
例２１：５−アミノ−Ｎ−［［４−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２１）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［４−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：６３．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６１−７．７２（２Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００９１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［４−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７９．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．２０（２Ｈ，ｓ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７０−７．８０（３Ｈ，ｍ），８．２１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝９．０，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．８２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【００９２】
例２２：５−アミノ−Ｎ−［［［１，１’−ビフェニル］−４−イル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２２）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［［１，１’−ビフェニル］−４−イル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３２−７．３７（１Ｈ，ｍ），７．４１−７．４９（４Ｈ，ｍ），７．５７−７．６６（３Ｈ，ｍ），７．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５３−８．５９（２Ｈ，ｍ），１０．０４（１Ｈ，ｓ）．
【００９３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［［１，１’−ビフェニル］−４−イル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８２．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３２−７．５２（６Ｈ，ｍ），７．５９−７．６８（４Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００９４】
例２３：５−アミノ−Ｎ−［［［４’−メチル−１，１’−ビフェニル］−２−イル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［［４’−メチル−１，１’−ビフェニル］−２−イル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：６７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），２．２６（３Ｈ，ｓ），３．９０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），７．０１（４Ｈ，ｍ），７．０９（１Ｈ，ｍ），７．２２（２Ｈ，ｍ），７．３７（１Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００９５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［［４’−メチル−１，１’−ビフェニル］−２−イル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２９（３Ｈ，ｓ），３．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．０６（５Ｈ，ｍ），７．１８−７．２７（２Ｈ，ｍ），７．３７（２Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．５Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．５Ｈｚ），７．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ）．
【００９６】
例２４：５−アミノ−Ｎ−［（２−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２４）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−メトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：４２．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．５０（３Ｈ，ｓ），４．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．７４−６．７９（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．５８−７．６８（２Ｈ，ｍ），７．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．２６−８．３２（２Ｈ，ｍ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【００９７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６０．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．５２（３Ｈ，ｓ），３．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．７４−６．７９（２Ｈ，ｍ），７．１１−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．２７−７．３０（１Ｈ，ｍ），７．５２−７．６１（２Ｈ，ｍ），８．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．２１−８．２７（２Ｈ，ｍ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
【００９８】
例２５：５−アミノ−Ｎ−［（３−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３−メトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．３４（３Ｈ，ｓ），４．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．６４−６．７３（３Ｈ，ｍ），７．０９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６０−７．７７（３Ｈ，ｍ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５２−８．５７（２Ｈ，ｍ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００９９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８１．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：３．５５（３Ｈ，ｓ），４．１０（２Ｈ，ｓ），６．５５−６．６１（３Ｈ，ｍ），６．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６４−７．７９（３Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．８４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【０１００】
例２６：５−アミノ−Ｎ−［（４−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２６）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−メトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：４９．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．６８（３Ｈ，ｓ），３．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．７２−６．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１０１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７６．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．６９（３Ｈ，ｓ），３．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ）．
【０１０２】
例２７：５−アミノ−Ｎ−［（３，４−メチレンジオキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２７）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，４−メチレンジオキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８１．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ，ｓ）,５．９１（２Ｈ，ｓ）,６．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．２Ｈｚ），６．６６（１Ｈ，ｓ），６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１０３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，４−メチレンジオキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６７．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），５．９２（２Ｈ，ｓ），６．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．５Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５５−７．６４（２Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【０１０４】
例２８：５−アミノ−Ｎ−［（２，３−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２８）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２，３−ジメトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．５６（３Ｈ，ｓ），３．７４（３Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｓ），６．７９−６．８４（１Ｈ，ｍ），６．８７−６．９４（２Ｈ，ｍ），７．６３−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｓ），８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１０５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２，３−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７０．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．５６（３Ｈ，ｓ），３．７４（３Ｈ，ｓ），４．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．７９−６．９０（３Ｈ，ｍ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３３−８．３６（２Ｈ，ｍ）．
【０１０６】
例２９：５−アミノ−Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２９）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２，４−ジメトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．４２（３Ｈ，ｓ），３．６８（３Ｈ，ｓ），３．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，２．４Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０４（１Ｈ，ｓ）．
【０１０７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６（８０℃），δ）：３．５１（３Ｈ，ｓ），３．５９（３Ｈ，ｓ），３．７３（２Ｈ，ｓ），６．０６（１Ｈ，ｍ），６．５１（２Ｈ，ｍ），７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｂｒｓ），７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１０８】
例３０：５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３０）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，４−ジメトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７８．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．３９（３Ｈ，ｓ），３．６５（３Ｈ，ｓ），３．９８（２Ｈ，ｓ），６．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，２．１Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５９−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｂｒｓ），８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１０９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：５４．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．４３（３Ｈ，ｓ），３．６６（３Ｈ，ｓ），３．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．１Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５７−７．６５（２Ｈ，ｍ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１１０】
例３１：５−アミノ−Ｎ−［（３，５−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３１）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，５−ジメトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７３．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．５０（６Ｈ，ｓ），４．００−４．０１（２Ｈ，ｍ），６．２３（１Ｈ，ｓ），６．２３（２Ｈ，ｓ），７．６０−７．７７（３Ｈ，ｍ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【０１１１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，５−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７３．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：３．５３（６Ｈ，ｓ），４．０９（２Ｈ，ｓ），６．１１−６．１６（３Ｈ，ｍ），７．０１−７．８０（３Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．８５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【０１１２】
例３２：５−アミノ−Ｎ−［（２，４，６−トリメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３２）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２，４，６−トリメトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：５６．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．４３（６Ｈ，ｓ），３．６６（３Ｈ，ｓ），３．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），５．９１（２Ｈ，ｓ），７．５３−７．６４（３Ｈ，ｍ），７．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１０．０１（１Ｈ，ｓ）．
【０１１３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２，４，６−トリメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７３．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．７９（６Ｈ，ｓ），３．８５（３Ｈ，ｓ），３．８５（２Ｈ，ｓ），６．３０（２Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．４５（２Ｈ，ｂｒｓ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．５Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１１４】
例３３：５−アミノ−Ｎ−［（３，４，５−トリメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，４，５−トリメトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：６８．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），３．４４（６Ｈ，ｓ），３．５０（３Ｈ，ｓ），４．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．２７（２Ｈ，ｓ），７．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．５Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５１−８．５５（２Ｈ，ｍ），１０．０４（１Ｈ，ｓ）．
【０１１５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，４，５−トリメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６２．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．４５（６Ｈ，ｓ），３．５２（３Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．３１（２Ｈ，ｓ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．５６−７．６３（２Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１１６】
例３４：５−アミノ−Ｎ−［（２−エトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド（化合物番号３４）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−エトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．２０（３Ｈ，ｓ），３．８２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．７６（２Ｈ，ｍ），７．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．２Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【０１１７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−エトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミドの製造
例１（２）と同様の方法で製造した（ただし、塩酸塩化せず遊離体として単離した）。
収率：６８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．８６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），５．９５（２Ｈ，ｓ），６．７７（１Ｈ，ｍ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．１，７．５，１．８Ｈｚ），７．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．５Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，８．１Ｈｚ），７．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１．２Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１１８】
例３５：５−アミノ−Ｎ−［［３−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［３−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７３．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．８７（２Ｈ，ｓ），６．７２−６．７９（３Ｈ，ｍ），７．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．３１−７．３９（５Ｈ，ｍ），７．６０−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．５２−８．５６（２Ｈ，ｍ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【０１１９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［３−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
例１（２）と同様の方法で反応時間を２０分間として製造した。
収率：６８．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．８６（２Ｈ，ｓ），６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．７６−６．７８（２Ｈ，ｍ），７．０９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．３１−７．４０（５Ｈ，ｍ），７．５１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【０１２０】
例３６：５−アミノ−Ｎ−［［４−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３６）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［４−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７２．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），３．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），５．０３（２Ｈ，ｓ），６．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３１−７．４３（５Ｈ，ｍ），７．６０−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【０１２１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［４−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６６．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），５．０４（２Ｈ，ｓ），６．８３（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．０６（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２９−７．４４（５Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．８Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．２Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．３３−８．３９（２Ｈ，ｍ）．
【０１２２】
例３７：５−アミノ−Ｎ−［（６−メトキシ−２−ナフタレニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３７）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（６−メトキシ−２−ナフタレニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．８５（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｓ），７．６３（３Ｈ，ｍ），７．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８，７Ｈｚ），８．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１２３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（６−メトキシ−２−ナフタレニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．８５（３Ｈ，ｓ），４．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｍ），７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５９（３Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１２４】
例３８：５−アミノ−Ｎ−［（３−ヒドロキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３８）の製造
Ｎ−［５−［［［［３−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミド（例３５（１）の化合物）を用い、例１（２）と同様の方法で反応時間を８．５時間として製造した。
収率：８３．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．５６−６．６１（２Ｈ，ｍ），６．６７−６．６９（１Ｈ，ｍ），７．００（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１２５】
例３９：５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジヒドロキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３９）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，４−ジヒドロキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：４３．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．８Ｈｚ），６．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６３−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３−８．３８（２Ｈ，ｍ），８．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．７４（１Ｈ，ｓ），８．８２（１Ｈ，ｓ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【０１２６】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジヒドロキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：２８．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：３．９５（２Ｈ，ｓ），６．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，２．１Ｈｚ），６．４０−６．４３（２Ｈ，ｍ），７．６６−７．７６（３Ｈ，ｍ），８．１８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，０．９Ｈｚ）．
【０１２７】
例４０：５−アミノ−Ｎ−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号４０）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：６６．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．５１−６．５９（３Ｈ，ｍ），７．６０−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７７（１Ｈ，ｂｒｓ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１２８】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：２７．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．４６（３Ｈ，ｓ），３．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．５１−６．５９（３Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．４９−７．６１（２Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８，３１−８．３５（２Ｈ，ｍ）．
【０１２９】
例４１：５−アミノ−Ｎ−［（３−ニトロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号４１）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３−ニトロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１８（３Ｈ，ｓ），４．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．３７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６８−７．７１（１Ｈ，ｍ），７．９１−７．９７（２Ｈ，ｍ），８．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【０１３０】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３−ニトロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７６．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．２９（２Ｈ，ｓ），７．２７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３９−７．４２（１Ｈ，ｍ），７．６６−７．７９（４Ｈ，ｍ），７．８７（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．１，２．４，１．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【０１３１】
例４２：５−アミノ−Ｎ−［（４−ニトロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号４２）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−ニトロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７３．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．４４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．６１−７．７８（３Ｈ，ｍ），８．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【０１３２】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−ニトロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８４．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４１−７．４５（２Ｈ，ｍ），７．５５−７．６３（２Ｈ，ｍ），８．０１−８．０６（２Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．７２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【０１３３】
例４３：５−アミノ−Ｎ−［（２−アミノフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩（化合物番号４３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−アミノフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７２．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．８４（２Ｈ，ｓ），４．８９（２Ｈ，ｓ），６．４４（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ）６．５７−６．６０（１Ｈ，ｍ），６．９１−６．９７（２Ｈ，ｍ），７．６４−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１３４】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−アミノフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩の製造
収率：８２．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．２４（２Ｈ，ｓ），７．２７−７．３１（２Ｈ，ｍ），７．３４−７．４３（２Ｈ，ｍ），７．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．２Ｈｚ），７．７７−７．８４（２Ｈ，ｍ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
【０１３５】
例４４：５−アミノ−Ｎ−［（３−アミノフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩（化合物番号４４）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３−アミノフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：４８．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．８５（２Ｈ，ｓ），４．９７（２Ｈ，ｓ），６．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．３８−６．４４（２Ｈ，ｍ），６．８５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６３−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３８−８．４２（１Ｈ，ｍ），８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【０１３６】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３−アミノフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩の製造
収率：８６．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．１５（２Ｈ，ｓ），７．２０−７．２６（２Ｈ，ｍ），７．３１−７．３９（２Ｈ，ｍ），７．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．７７−７．８３（２Ｈ，ｍ），８．２６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１３７】
例４５：５−アミノ−Ｎ−［（４−アミノフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩（化合物番号４５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−アミノフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：６７．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．９８（２Ｈ，ｓ），６．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６２−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．２９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１３８】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−アミノフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩の製造
収率：％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．５９−７．６５（２Ｈ，ｍ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３１−８．３７（２Ｈ，ｍ），８．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１３９】
例４６：５−アミノ−Ｎ−［［［３−（メチルスルホニル）アミノ］フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号４６）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［［３−（メチルスルホニル）アミノ］フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
Ｎ−［５−［［［（３−アミノフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミド（例４４（１）の化合物：１２０ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン（０．０５５ｍｌ，０．３９ｍｍｏｌ）、メタンスルホニルクロリド（０．０３０ｍｌ，０．３９ｍｍｏｌ）を添加、次いで室温で２日間攪拌した。反応混合物を希塩酸にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／３→酢酸エチル）で精製して標題化合物の淡褐色ガム状物（９８．４ｍｇ，６８．７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：２．２９（３Ｈ，ｓ），２．８３（３Ｈ，ｓ），４．０４（２Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．９５−６．９７（２Ｈ，ｍ），７．０１−７．０６（１Ｈ，ｍ），７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．６３−７．６９（２Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５７−８．６４（１Ｈ，ｍ）．
【０１４０】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［［３−（メチルスルホニル）アミノ］フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８１．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：２．８７（３Ｈ，ｓ），４．１０（２Ｈ，ｓ），６．７９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），６．９３−６．９６（２Ｈ，ｍ），７．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），７．７５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【０１４１】
例４７：５−アミノ−Ｎ−［［４−（ジメチルアミノ）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩（化合物番号４７）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［４−（ジメチルアミノ）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），２．８１（６Ｈ，ｓ），３．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．５５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，６．９Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１４２】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［４−（ジメチルアミノ）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩の製造
収率：５６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．０１（６Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１４３】
例４８：４−［［［（５−アミノ−１−ナフタレニル）スルホニル］アミノ］メチル］安息香酸塩酸塩（化合物番号４８）の製造
（１）４−［［［（５−アセトアミド−１−ナフタレニル）スルホニル］アミノ］メチル］安息香酸の製造
４−（アミノメチル）安息香酸（７２６ｍｇ，４．８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．６７ｍｌ，４．８ｍｍｏｌ）を２規定水酸化ナトリウム水溶液（２．４ｍｌ，４．８ｍｍｏｌ）、ジオキサン（４．８ｍｌ）および水（１２ｍｌ）に溶解し、氷冷攪拌下、Ｎ−［５−（クロロスルホニル）−１−ナフタレニル］アセトアミド（１．１３５ｇ，４ｍｍｏｌ）をジオキサン（４ｍｌ）、メタノール（１２ｍｌ）に懸濁した液を添加、次いで室温で３０分間攪拌した。反応混合物を希塩酸にあけ、析出した固体を水洗、真空乾燥して標題化合物の淡褐色結晶（１．３６１ｇ，８５．４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．３０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６２−７．７２（２Ｈ，ｍ），７．７６−７．８０（３Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１４４】
（２）４−［［［（５−アミノ−１−ナフタレニル）スルホニル］アミノ］メチル］安息香酸塩酸塩の製造
収率：６４．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．２１（２Ｈ，ｓ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６７−７．７８）５Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝８．７，６．０，１．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝７．２，６．０，１．２Ｈｚ），８．８１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【０１４５】
例４９：５−アミノ−Ｎ−［［４−（メチルスルホニル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号４９）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［４−（メチルスルホニル）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：９１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．１４（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．４３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，８．１Ｈｚ），７．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，８．１Ｈｚ），７．７３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，８．４Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．１１（１Ｈ，ｓ）．
【０１４６】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［４−（メチルスルホニル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．１６（３Ｈ，ｓ），４．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．４１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６１（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．７３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【０１４７】
例５０：５−アミノ−Ｎ−［［４−（スルファモイル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号５０）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［４−（スルファモイル）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：３３．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．２９（２Ｈ，ｓ），７．３６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６３−７．７９（５Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，０．９Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１４８】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［４−（スルファモイル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：５３．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．３３−７．３５（５Ｈ，ｍ），７．５７−７．６７（４Ｈ，ｍ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【０１４９】
例５１：５−アミノ−Ｎ−（２−フラニルメチル）−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号５１）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（２−フラニルメチル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８７．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），６．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．０，１．８Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，０．９Ｈｚ），７．６０−７．６８（２Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ−７．５，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１５０】
（２）５−アミノ−Ｎ−（２−フラニルメチル）−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
Ｎ−［５−［［（２−フラニルメチル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミド（２０２ｍｇ，０．５９ｍｍｏｌ）を水酸化ナトリウム（１４８ｍｇ，３．７ｍｍｏｌ）の１−プロパノール（４ｍｌ）溶液に懸濁し、５時間加熱還流した。反応混合物を濃縮後、飽和食塩水を加え酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル）で精製して褐色油状物を得た。これを１−プロパノール（１ｍｌ）に溶解し、２規定塩酸（０．４ｍｌ）を添加、次いで室温で２０分間攪拌した。析出した結晶を濾取、１−プロパノール、次いでジイソプロピルエーテルで洗浄、真空乾燥して標題化合物の灰白色結晶（１３５ｍｇ，６７．８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ），６．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，１．５Ｈｚ），７．３４−７．３５（１Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５７−７．６８（２Ｈ，ｍ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ）．
【０１５１】
例５２：５−アミノ−Ｎ−［（５−メチル−２−フラニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号５２）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（５−メチル−２−フラニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８７．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．９０（３Ｈ，ｓ），２．１９（３Ｈ，ｓ），４．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），５．７１−５．７２（１Ｈ，ｍ），５．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．５８−７．６８（２Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１５２】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（５−メチル−２−フラニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
例５１（２）と同様の方法で製造した。
収率：７０．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ-）：１．８１（３Ｈ，ｍ），４．１０（２Ｈ，ｓ），５．５１−５．５２（１Ｈ，ｍ），５．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．６７−７．７９（３Ｈ，ｍ），８．１８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．７８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．１，１．２Ｈｚ）．
【０１５３】
例５３：５−アミノ−Ｎ−（２−ピリジニルメチル）−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩（化合物番号５３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（２−ピリジニルメチル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：９５．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１３−７．１７（１Ｈ，ｍ），７．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５７−７．７１（３Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．３０−８．３４（２Ｈ，ｍ），８．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１５４】
（２）５−アミノ−Ｎ−（２−ピリジニルメチル）−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩の製造
収率：８２．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．４１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６１−７．６９（４Ｈ，ｍ），８．１５−８．２１（２Ｈ，ｍ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．０，１．５Ｈｚ），９．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１５５】
例５４：５−アミノ−Ｎ−［（１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩（化合物番号５４）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：５８．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１２−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．４５−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ），１２．４１（１Ｈ，ｂｒ）．
【０１５６】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩の製造
収率：７３．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．８５（２Ｈ，ｓ），７．５８−７．６４（２Ｈ，ｍ），７．６８−７．８３（５Ｈ，ｍ），８．３０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ）， ８．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．７６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝９．０，１．２Ｈｚ）．
【０１５７】
例５５：５−アミノ−Ｎ−（１−フェニルエチル）−１−ナフタレンスルホンアミド（化合物番号５５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（１−フェニルエチル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：６７．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．１９（３Ｈ，ｓ），４．３２（１Ｈ，ｍ），７．０３−７．１０（５Ｈ，ｍ），７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．２Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．８Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，５．１Ｈｚ），１０．０１（１Ｈ，ｓ）．
【０１５８】
（２）５−アミノ−Ｎ−（１−フェニルエチル）−１−ナフタレンスルホンアミドの製造
例１（２）と同様の方法で製造した（ただし、塩酸塩化せず遊離体として単離した）。
収率：２７．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．２９（１Ｈ，ｍ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０７−７．１６（５Ｈ，ｍ），７．３６（２Ｈ，ｍ），７．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．２７−８．３１（２Ｈ，ｍ）．
【０１５９】
例５６：５−アミノ−Ｎ−［１−（１−ナフタレニル）エチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号５６）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［１−（１−ナフタレニル）エチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７１．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），５．１９（１Ｈ，ｍ），７．１７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３８−７．４６（４Ｈ，ｍ），７．６２−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．８１−７．８４（１Ｈ，ｍ），７．９４−８．００（２Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），９．９９（１Ｈ，ｓ）．
【０１６０】
（２）５−アミノ−Ｎ−［１−（１−ナフタレニル）エチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８０．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．１８（１Ｈ，ｍ），７．１７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３６−７．４６（５Ｈ，ｍ），７．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８１−７．８４（１Ｈ，ｍ），７．９３−７．９６（１Ｈ，ｍ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）．
【０１６１】
例５７：５−アミノ−Ｎ−（２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−１−イル）−１−ナフタレンスルホンアミド（化合物番号５７）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−１−イル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：９１．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．４９−１．６２（１Ｈ，ｍ），１．８８−１．９７（１Ｈ，ｍ），２．２１（３Ｈ，ｓ），２．５３−２．６４（１Ｈ，ｍ），２．７１−２．２９（１Ｈ，ｍ），４．６５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０３−７．０８（１Ｈ，ｍ），７．１２−７．１６（２Ｈ，ｍ），７．６６−７．７２（２Ｈ，ｍ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，０．９Ｈｚ），８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０９（１Ｈ，ｓ）．
【０１６２】
（２）５−アミノ−Ｎ−（２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−１−イル）−１−ナフタレンスルホンアミドの製造
例５１（２）と同様の方法で製造した（ただし、塩酸塩化せず遊離体として単離した）。
収率：６３．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．５０−１．６３（１Ｈ，ｍ），１．８７−１．９７（１Ｈ，ｍ），２．５９（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），２．７４（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１５．９，８．７．３．０Ｈｚ），４．５９（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．９９（２Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．０２−７．０７（１Ｈ，ｍ），７．１１−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．８Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．５Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１６３】
例５８：５−アミノ−Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレニル）−１−ナフタレンスルホンアミド（化合物番号５８）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレニル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：９３．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．４２−１．５０（３Ｈ，ｍ），１．６６−１．７６（１Ｈ，ｍ），２．２１（３Ｈ，ｓ），２．５４−２．６６（２Ｈ，ｍ），４．２６−４．３３（１Ｈ，ｍ），６．９０−７．０２（３Ｈ，ｍ），７．０６−７．１１（１Ｈ，ｍ），７．６３−７．７２（２Ｈ，ｍ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０９（１Ｈ，ｓ）．
【０１６４】
（２）５−アミノ−Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレニル）−１−ナフタレンスルホンアミドの製造
例５１（２）と同様の方法で製造した（ただし、塩酸塩化せず遊離体として単離した）。
収率：８４．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．４４（３Ｈ，ｂｒｓ），１．６５−１．７６（１Ｈ，ｍ），２．５４−２．６５（２Ｈ，ｍ），４．２３（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），５．９８（２Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９２−７．１０（４Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．８Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
【０１６５】
例５９：５−アミノ−Ｎ−（２−フェニルプロピル）−１−ナフタレンスルホンアミド（化合物番号５９）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（２−フェニルプロピル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．４３（６Ｈ，ｓ），２．２０（３Ｈ，ｓ），７．０４（３Ｈ，ｍ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｓ），８．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０２（１Ｈ，ｓ）．
【０１６６】
（２）５−アミノ−Ｎ−（２−フェニルプロピル）−１−ナフタレンスルホンアミドの製造
例５１（２）と同様の方法で製造した（ただし、塩酸塩化せず遊離体として単離した）。
収率：７９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．３９（６Ｈ，ｓ），５．９２（２Ｈ，ｂｒｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０８（３Ｈ，ｍ），７．２５（２Ｈ，ｍ），７．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，８．１Ｈｚ），７．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｓ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１６７】
例６０：５−アミノ−Ｎ−メチル−Ｎ−（フェニルメチル）−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号６０）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［Ｎ−メチル−Ｎ−（フェニルメチル）］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２１（３Ｈ，ｓ），２．７０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ），４．４０（２Ｈ，ｓ），７．３２（５Ｈ，ｍ），７．７３（３Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，０．９Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１０．１１（１Ｈ，ｓ）．
【０１６８】
（２）５−アミノ−Ｎ−メチル−Ｎ−（フェニルメチル）−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．６８（３Ｈ，ｓ），４．３８（２Ｈ，ｓ），７．３１（５Ｈ，ｍ），７．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．８Ｈｚ），７．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１６９】
例６１：２−［（５−アミノ−１−ナフタレニル）スルホニル］−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−イソインドール塩酸塩（化合物番号６１）の製造
（１）Ｎ−［５−［（２，３−ジヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２−イル）スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８８．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），４．６９（４Ｈ，ｓ），７．２５−７．３１（４Ｈ，ｍ），７．６８−７．７８（３Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１０．０９（１Ｈ，ｓ）．
【０１７０】
（２）２−［（５−アミノ−１−ナフタレニル）スルホニル］−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−イソインドール塩酸塩の製造
収率：８６．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．７３（４Ｈ，ｓ），７．２１−７．２７（４Ｈ，ｍ），７．７２−７．８３（２Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），９．０２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，０．９Ｈｚ）．
【０１７１】
例６２：２−［（５−アミノ−１−ナフタレニル）スルホニル］−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン塩酸塩（化合物番号６２）の製造
（１）Ｎ−［５−［（１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−２−イル）スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７０．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），２．８２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），３．５４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），４．４１（２Ｈ，ｓ），７．０９（４Ｈ，ｍ），７．６６−７．７６（３Ｈ，ｍ），８．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１７２】
（２）２−［（５−アミノ−１−ナフタレニル）スルホニル］−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン塩酸塩の製造
収率：６９．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．８１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），３．５３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．３９（２Ｈ，ｓ），７．０８−７．１４（４Ｈ，ｍ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２３−８．３０（２Ｈ，ｍ），８．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１７３】
例６３：５−アミノ−Ｎ−シクロヘキシルメチル−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号６３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（シクロヘキシルメチル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：９５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：０．７２（２Ｈ，ｍ），１．０１（３Ｈ，ｍ），１．２４（１Ｈ，ｍ），１．５３（５Ｈ，ｍ），２．１９（３Ｈ，ｓ），２．６１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．６６（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．７，７．２，１．５Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．９３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１７４】
（２）５−アミノ−Ｎ−シクロヘキシルメチル−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：９１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：０．７２（２Ｈ，ｍ），１．０２（３Ｈ，ｍ），１．２５（１Ｈ，ｍ），１．５３（５Ｈ，ｍ），２．６０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，８．１Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）．
【０１７５】
例６４：５−アミノ−Ｎ−フェニル−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号６４）の製造
（１）Ｎ−［５−［（フェニルアミノ）スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：５８．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１７（３Ｈ，ｓ），６．８９−６．９５（１Ｈ，ｍ），６．９９−７．０３（２Ｈ，ｍ），７．１１−７．１４（２Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６７−７．７２（１Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０３（１Ｈ，ｓ），１０．６７（１Ｈ，ｓ）．
【０１７６】
（２）５−アミノ−Ｎ−フェニル−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：３５．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：６．９１−６．９９（３Ｈ，ｍ），７．０５−７．１１（２Ｈ，ｍ），７．６９−７．８０（３Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．９０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【０１７７】
例６５：５−アミノ−Ｎ−（２−フェニルエチル）−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号６５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（２−フェニルエチル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８３．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），２．６１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．９８−３．０５（２Ｈ，ｍ），７．０３−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．２１（３Ｈ，ｍ），７．６３−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【０１７８】
（２）５−アミノ−Ｎ−（２−フェニルエチル）−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：９２．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：２．６１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．１４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９１−６．９４（２Ｈ，ｍ），７．０１−７．１０（３Ｈ，ｍ），７．６４−７．６８（１Ｈ，ｍ），７．７１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１７９】
試験例
上記で合成した化合物を用い、単独投与でのJurkat細胞増殖に対する作用、あるいはブレオマイシンとの併用投与による細胞増殖抑制効果を検討した。材料と方法は以下のとおりである。大日本製薬から入手したJurkat細胞を96穴の培養プレート上に1穴あたり約10,000個播種し、37℃、5％CO2インキュベーター内で、10％ウシ胎仔血清(Irvine Scientific)を加えたRPMI1640(ICN)培地中で培養した。このとき、それぞれの化合物を単独で加えるか、あるいはさらにそれらにブレオマイシン(Wako)を5μg/mlまたは10μg/mlとなるように加えた。培養36時間後、MTS法により生存細胞数の測定を行なった。
具体的には、CellTiter96TM AQueous One Solution (Promega)を1穴あたり20μl加え、さらに1時間培養を続け、490nmでの吸光度をマイクロプレートリーダーで測定した。溶媒として用いたDMSOを最終濃度が0.25％となるように加えたものを対照とし、このときの細胞数を生存率100％とし、それぞれの化合物について、単独あるいは併用投与での細胞生存率を求めた。5μg/mlまたは10μg/mlのブレオマイシンのみの処理では、Jurkat細胞の生存率はおよそ5-10％の減少を示した。これに対し、本発明の化合物を共存させた場合には、5μg/mlまたは10μg/mlのブレオマイシン存在下でのJurkat細胞の生存率は顕著に低下していた。結果を下記の表に示す。表中、++は顕著な増強作用、＋は中程度の増強作用が認められたことを示す。
【表９】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための医薬及び該医薬の有効成分として有用な新規化合物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在癌患者の治療において抗癌剤の投与が行われているが、その延命率の低さも然る事ながら、抗癌剤を投与された癌患者は発熱、吐き気、脱毛、悪寒、倦怠感、免疫機能低下、消化管障害、肝障害、腎障害等の重篤な副作用に耐えなくてはならず、このことが癌患者のＱＯＬ（Quality of life）を著しく損なう原因となっている。また、抗癌剤の使用による生ずる癌細胞の抗癌剤に対する感受性の低下が、抗癌剤投与の長期化、投与量の増加を招き、その結果抗癌剤の副作用が原因と思われる死亡例も少なからず見られ、抗癌剤の投与は患者の利益のみならず、社会的、経済的利益を著しく損なうものとなっている。これは、無秩序に分裂、増殖する癌細胞に対し選択的に細胞毒性を発揮するとして使われている抗癌剤が、実際には正常細胞、特に腸や骨髄の細胞に対しても細胞毒として作用してしまうのが原因である。
【０００３】
近年になって低分子有機化合物であるカフェイン、ＵＣＮ−０１（７−ヒドロキシスタウロスポリン）に放射線耐性のある癌細胞の放射線感受性を増強する作用についての報告がなされている（非特許文献１及び２）。放射線照射による癌治療もＤＮＡの人為的な損傷を機序とするものであり、ブレオマイシン等のＤＮＡの損傷を機序とする抗癌剤と基本的に同等であると考えることができるので、既存のDNA損傷を機序とする抗癌剤においても癌細胞への選択毒性を高める薬剤の開発は可能であると考えられる。
【０００４】
事実、カフェインにおいてはアドリアマイシン、シスプラチン、シクロフォスファミド、マイトマイシンC等のＤＮＡ障害を作用機序とする抗癌剤の作用を増強することも報告されている（非特許文献３）。もっとも、作用の強さはいまだ十分とは言えず、毒性との乖離も不十分である。また、ＵＣＮ−０１についても数種類のＤＮＡ損傷を作用機序とする抗癌剤の作用を増強することが報告されている（非特許文献４）。
【０００５】
抗癌剤の作用増強の作用機序については、カフェイン及びＵＣＮ−０１が細胞周期の制御にかかわるプロテインキナーゼを阻害することから（非特許文献５；非特許文献６）、細胞周期のある部分（例えばＧ１期，Ｇ２期等）の破壊によるものと推定されているが（非特許文献７；非特許文献８）、未だ確定的な証拠は得られていない。加えて、カフェインおよびスタウルスポリン誘導体であるＵＮＣ−０１は複数の種類のプロテインキナーゼに対して阻害作用を持つことから（非特許文献９；非特許文献１０）、細胞周期の破壊以外の作用機序である可能性も否定できず、明確な作用機序は依然として特定されていない。また、これらが細胞内シグナル伝達に関係しているプロテインキナーゼに対しても阻害作用を持つ可能性が高く、このことが重篤な副作用を発現させる可能性があると考えられる。
【０００６】
以上のように、現状ではＤＮＡ損傷を作用機序とした癌治療の持つ様々な問題を解決する有効な手段はない。既存のＤＮＡ損傷を作用機序とする抗癌剤や放射線照射治療の作用を増強し、癌細胞への選択性をより高める新たな薬剤又は治療法を開発し、副作用を軽減させることは、癌患者のＱＯＬ、利益のみならず社会的、経済的利益に重要な貢献するものとなる。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】J. Biol. Chem., 275, 5600-5605(2000)
【非特許文献２】J. Biol. Chem., 276, 17693-17698(2001)
【非特許文献３】Jpn. J. Cancer. Res., 80, 83‐88(1989)
【非特許文献４】Invest. New Drugs, 18, 95-107(2000)
【非特許文献５】J. Biol. Chem,. 275, 10342-10348(2000)
【非特許文献６】Cancer Res., 61, 1065-1072(2001)
【非特許文献７】Cancer Res., 60, 2108-2112(2000)
【非特許文献８】Cancer Res., 59, 4375-4382(1999)
【非特許文献９】Biochem. Biophys. Res. Commun., 219, 778-783(1996)
【非特許文献１０】Acta. Pharmacol. Sin., 21 35-40(2000)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の課題は、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための医薬を提供することにある。より具体的には、それ自体では抗癌活性（細胞毒性）は弱いが、ＤＮＡ損傷を作用機序とする抗癌剤または放射線照射のようなＤＮＡに人為的に損傷を与える治療法との併用により、より低い抗癌剤の用量または照射放射線量で癌を選択的に障害または死滅させ、正常細胞への影響を大幅に軽減できる医薬を提供することが本発明の課題である。また、上記の癌治療の効果を増強し、抗癌剤の投与量及び／又は放射線照射量を低減することによって、癌治療に伴う副作用を軽減する医薬を提供することも本発明の課題である。さらに、本発明の別な課題は、上記の医薬の有効成分として有用な新規化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記課題を解決するためにプロテインキナーゼ阻害剤に着目し、その候補化合物を見出す手段としてコンピューター利用の分子設計技術を用い、所望の薬理活性を持つ化合物の探索を実施した。すなわち、本発明者らは、ＰＤＢ（Protein Data Bank）に構造が登録されている数種類のプロテインキナーゼのＡＴＰ結合領域についてリガンドのタンパク質立体構造に基づく化合物３次元データベース自動検索プログラムを用い、市販化合物データベースの化合物の中からヴァーチャル・スクリーニングによりプロテインキナーゼ阻害剤となり得る化合物を選定した。続いて、それらの化合物を骨格別に分類し、その代表的な化合物について癌細胞および正常細胞に対するブレオマイシンとの併用効果、化合物単独での癌細胞および正常細胞への細胞毒性試験を行い、それらの中で活性が強く所望の薬理活性を持つ化合物を選出し、さらにその誘導体合成を行うことにより本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明は、下記の一般式（Ｉ）：
【化１】
（式中、Ｒは置換基を有していてもよいアリール置換アルキル基、置換基を有していてもよいヘテロアリール置換アルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル置換アルキル基、又は置換基を有していてもよい環状炭化水素基（該環状炭化水素基は飽和、部分飽和、若しくは芳香族のいずれであってもよい）を示すが、ＺはＲと結合して環構造を形成してもよく(形成される環は置換基を有していてもよい)、Ｚは水素原子又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を示す）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を有効成分として含み、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための医薬を提供するものである。
【００１１】
この発明の好ましい態様により、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療が抗癌剤の投与及び／又は放射線照射により行われる上記医薬；抗癌剤がブレオマイシン、アドリアマイシン、シスプラチン、シクロフォスファミド、マイトマイシンＣ、及びそれらの誘導体からなる群から選ばれる上記医薬；プロテインキナーゼ及び／又はその類似酵素の特異的阻害剤である上記医薬が提供される。
【００１２】
別の観点からは、上記一般式（Ｉ）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を有効成分として含み、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の副作用を軽減するための医薬が本発明により提供される。
【００１３】
さらに別の観点からは、上記医薬の製造のための上記一般式（Ｉ）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩の使用；ヒトを含む哺乳類動物においてＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための方法であって、癌患者にＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療を行う工程、及び上記癌治療の効果を増強するために十分な量の上記一般式（Ｉ）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を投与する工程を含む方法；ヒトを含む哺乳類動物においてＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の副作用を軽減する方法であって、癌患者にＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療を行う工程、及び上記癌治療の副作用を軽減するために十分な量の上記一般式（Ｉ）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を投与する工程を含む方法が提供される。
【００１４】
また、本発明により、下記の一般式（II）：
【化２】
（式中、Ａは置換基を有していてもよいＣ３〜Ｃ６のシクロアルキル基、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ１０のアリール基、又は窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含有する４〜１０員単環又は二環の不飽和、部分飽和又は完全飽和の複素環基（該複素環基は置換基を有していてもよい）を示し；Ｂは単結合又は置換基を有していてもよいメチレン基を示し；Ｗ及びＸはそれぞれ独立して水素原子又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表すか、或いはＷはＡの有する置換基と一緒になってＣ１〜Ｃ４のアルキレン基（該アルキレン基は置換基を有していてもよい）を表す。Ｙは水素原子又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を示すか、あるいはＹはＡの有する置換基と一緒になってＣ１〜Ｃ４のアルキレン基（該アルキレン基は置換基を有していてもよい）を示し；ｎは０又は１を示す）で表される化合物又はその塩が提供される。
【００１５】
さらに、本発明により、上記一般式（II）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を有効成分として含む医薬が提供される。この医薬は、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための医薬として用いることができる。この発明の好ましい態様により、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療が抗癌剤の投与及び／又は放射線照射により行われる上記医薬；抗癌剤がブレオマイシン、アドリアマイシン、シスプラチン、シクロフォスファミド、マイトマイシンＣ、及びそれらの誘導体からなる群から選ばれる上記医薬；プロテインキナーゼ及び／又はその類似酵素の特異的阻害剤である上記医薬が提供される。
【００１６】
別の観点からは、上記一般式（II）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を有効成分として含み、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の副作用を軽減するための医薬が本発明により提供される。
【００１７】
さらに別の観点からは、上記医薬の製造のための上記一般式（II）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩の使用；ヒトを含む哺乳類動物においてＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強するための方法であって、癌患者にＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療を行う工程、及び上記癌治療の効果を増強するために十分な量の上記一般式（II）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を投与する工程を含む方法；ヒトを含む哺乳類動物においてＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の副作用を軽減する方法であって、癌患者にＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療を行う工程、及び上記癌治療の副作用を軽減するために十分な量の上記一般式（II）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩を投与する工程を含む方法が提供される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の医薬は、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療の効果を増強し、かつ抗癌剤の投与量及び／又は放射線照射量を低減することによって、癌治療に伴う副作用を軽減することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本明細書において用いられる用語の意味は以下のとおりである。
アルキル基は、特に言及しない場合には、直鎖状、分枝鎖状、環状、及びそれらの組み合わせのいずれでもよい。より具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロブチル基、シクロプロピルメチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、３,３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、又は４−メチルペンチル基などを挙げることができる。アルキル部分を含む他の置換基のアルキル部分についても同様である。アルキレン基は直鎖状又は分枝鎖状のいずれであってもよい。
【００２０】
特にシクロアルキル基という場合には、例えば４〜８員、好ましくは５〜７員のシクロアルキル基が好ましい。シクロアルキル基は単環性又は多環性のいずれであってもよいが、単環性のシクロアルキル基が好ましい。シクロアルキル部分を含む他の置換基（例えばシクロアルキル置換アルキル基など）のシクロアルキル部分についても同様である。シクロアルキル置換アルキル基において、シクロアルキル基に結合するアルキル部分は、好ましくは直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよく、例えばＣ１〜Ｃ４アルキル基などを好適に用いることができる。好ましくはメチル基又はエチル基であり、特に好ましくはメチル基である。
【００２１】
アリール基としては、単環性又は多環性のいずれのアリール基を用いてもよい。例えば、フェニル基、ナフチル基、又はアンスリル基などを好適に用いることができ、フェニル基又はナフチル基を用いることがより好ましい。アリール部分を含む他の置換基（例えばアリール置換アルキル基など）のアリール部分についても同様である。
【００２２】
ヘテロアリール置換アルキル基を構成するヘテロアリール基に環構成原子として含まれるヘテロ原子の種類は特に限定されないが、例えば、酸素原子、窒素原子、及びイオウ原子からなる群から選ばれる１又は２以上のヘテロ原子であることが好ましい。ヘテロアリール基を構成する芳香族複素環は単環性又は多環性のいずれであってもよい。
【００２３】
アリール置換アルキル基、ヘテロアリール置換アルキル基、又はを構成するアルキル部分は、好ましくは直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよく、例えばＣ１〜Ｃ４アルキル基などを好適に用いることができる。好ましくはメチル基又はエチル基であり、特に好ましくはメチル基である。
【００２４】
環状炭化水素基は単環性又は多環性のいずれであってもよい。また、環状炭化水素基は飽和、部分飽和、又は芳香族のいずれであってもよく、例えば、アリール基又はシクロアルキル基、あるいは部分飽和アリール基（例えば1,2,3,4-テトラヒドロ-1-ナフチル基など）のいずれであってよい。ＺがＲと結合して形成する環構造は単環性又は多環性のいずれであってもよいが、好ましくは多環性の環構造であり、さらに好ましくは２環性の環構造である。
【００２５】
窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含有する４〜１０員の単環又は二環の不飽和、部分飽和、又は完全飽和の複素環基の種類は特に限定されないが、例えば、チエニル基、フリル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾフラニル基、イソベンゾチオフェニル基、イソベンゾフラニル基、インドリル基、イソインドリル基、インドリジニル基、１H−インダゾリル基、プリニル基、ベンゾチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、１，２，３−チアジアゾリル基、１，２，４−チアジアゾリル基、１，３，４−チアジアゾリル基、１，３，４−オキサジアゾリル基、１，２，３−トリアゾリル基、１，２，４−トリアゾリル基、テトラゾリル基、クロメニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、キノリジニル基、キノリル基、イソキノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、１，２，４−トリアジニル基、クロマニル基、イソクロマニル基、アゼチジニル基、２−オキソアゼチジニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリノ基、モルホリニル基、チオモリホリノ基、チオモルホリニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、１，２，３，４−テトラヒドロキノリル基、キヌクリジニル基、メチレンジオキシフェニル基などを挙げることができる。
【００２６】
本明細書において、ある官能基について「置換基を有していてもよい」という場合には、官能基に存在する置換基の種類、個数、及び置換位置は特に限定されない。このような置換基としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子のいずれでもよい）、水酸基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルキニル基、Ｃ６〜Ｃ１０のアリール基、Ｃ７〜Ｃ１２のアラルキル基、Ｃ１〜Ｃ６のヒドロキシアルキル基、トリフルオロメトキシ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ６〜Ｃ１０のアリールオキシ基、Ｃ７〜Ｃ１２のアラルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６のヒドロキシアルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルカノイル基、Ｃ６〜Ｃ１０のアロイル基、カルボキシル基、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、チオール基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルチオ基、Ｃ６〜Ｃ１０のアリールチオ基、Ｃ７〜Ｃ１２のアラルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６のヒドロキシアルキルチオ基、スルホン酸基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルスルホニル基、Ｃ６〜Ｃ１０のアリールスルホニル基、スルファモイル基、ホルミル基、ヒドロキシイミノ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシイミノ基、フェノキシイミノ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ホルミルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルカノイルアミノ基、Ｃ６〜Ｃ１０のアロイルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルスルホニルアミノ基、Ｃ６〜Ｃ１０のアリールスルホニルアミノ基、アミジノ基、グアニジノ基、シリル基、スタニル基、複素環基などを挙げることができる。これらの置換基はさらに上記の置換基により置換されていてもよい。そのような例として、例えば、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、カルボキシ置換アルキル基、アルキル置換アミノ基などを例示することができる。また、上記の置換基のうち２つ以上の置換基がそれらが結合している原子（炭素原子、窒素原子、ホウ素原子など）と一緒になって環を形成してもよい。このような環には、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる１以上のヘテロ原子が環構成原子として含有されていてもよく、環上には１以上の置換基が存在していてもよい。環は単環又は縮合環のいずれでもよく、不飽和、部分飽和又は完全飽和のいずれであってもよい。
【００２７】
一般式（Ｉ）において、Ｒが示すアリール置換アルキル基としては、ベンジル基、１−フェネチル基、２−フェネチル基、２−フェニルプロパン−２−イル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、１−（１−ナフチル）エチル基などが好ましい。該アリール置換アルキル基がアリール環上に置換基を有する場合、置換基の種類、置換位置、及び個数は特に限定されないが、置換基として、例えばハロゲン原子（塩素原子又はフッ素原子など）、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４のハロゲン化アルキル基（トリフルオロメチル基など）、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基、置換フェニル基（トルイル基など）、メチレンジオキシ基、アラルキル基（例えばベンジル基など）、アラルキルオキシ基（ベンジルオキシ基など）、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、置換アミノ基（ジメチルアミノ基など）、スルホンアミド基、置換スルホンアミド基、カルボキシル基、アルキルスルホニル基、又はスルファモイル基などを挙げることができる。もっとも、アリール環上の置換基は上記のものに限定されることはない。アリール環上にはこれらの置換基が１〜３個程度存在していてもよく、２個以上の置換基が存在する場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。
【００２８】
Ｒが示すヘテロアリール置換アルキル基を構成するヘテロアリール環としては、例えば、ピリジル基、フリル基、チエニル基、ベンズイミダゾリル基、キノリル基などを挙げることができるが、これらに限定されることはない。Ｒが示すシクロアルキル置換アルキル基を構成するシクロアルキル基としては、例えば、シクロヘキシル基などを挙げることができる。Ｒが示す環状炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、インダニル基、１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフチル基、シクロヘキシル基などを例示することができる。ＺがＲと結合して環構造を形成する場合の例としては、１，３−ジヒドロ−２−イソインドリル基、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリニル基などを例示できる。Ｒがベンジル基である場合が特に好ましい。Ｚは水素原子であることが好ましい。
【００２９】
一般式（Ｉ）で表される化合物は塩を形成することができる。塩の種類は特に限定されないが、酸性基が存在する場合には、例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等の金属塩、又はアンモニウム塩、メチルアンモニウム塩、ジメチルアンモニウム塩、トリメチルアンモニウム塩、ジシクロヘキシルアンモニウム塩等のアンモニウム塩を挙げることができ、塩基性基が存在する場合には、例えば、塩酸塩、臭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等の鉱酸塩、あるいはメタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、パラトルエンスルホン酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酒石酸塩、フマール酸塩、マレイン酸塩、リンゴ酸塩、シュウ酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、安息香酸塩、マンデル酸塩、ケイ皮酸塩、乳酸塩等の有機酸塩を挙げることができる。グリシンなどのアミノ酸と塩を形成する場合もある。本発明の医薬の有効成分としては、薬学的に許容される塩が好適である。
【００３０】
一般式（Ｉ）で表される化合物又はその塩は、水和物又は溶媒和物として存在する場合もある。さらに一般式（Ｉ）で表される化合物は１以上の不斉炭素を有する場合があり、光学活性体やジアステレオマーなどの立体異性体として存在する場合がある。本発明の医薬の有効成分としては、純粋な形態の立体異性体、光学対掌体又はジアステレオマーの任意の混合物、ラセミ体などを用いてもよい。また、一般式（Ｉ）で表される化合物がオレフィン性の二重結合を有する場合には、その配置はＺ配置又はＥ配置のいずれでもよく、本発明の医薬の有効成分としてはいずれかの配置の幾何異性体又はそれらの混合物を用いてもよい。
【００３１】
本発明の医薬の有効成分として好適な化合物群として一般式（II）で表される化合物を挙げることができる。一般式（II）で表される化合物は塩を形成する場合もあるが、その例としては一般式（Ｉ）の化合物について例示した塩を挙げることができる。また、一般式（II）で表される化合物又はその塩は、水和物又は溶媒和物として存在する場合もある。これらの物質はいずれも本発明の範囲に包含される。さらに一般式（II）で表される化合物は１以上の不斉炭素を有する場合があり、光学活性体やジアステレオマーなどの立体異性体として存在する場合がある。純粋な形態の立体異性体、光学対掌体又はジアステレオマーの任意の混合物、ラセミ体などはいずれも本発明の範囲に包含される。さらに、一般式（II）で表される化合物がオレフィン性の二重結合を有する場合には、その配置はＺ配置又はＥ配置のいずれでもよく、いずれかの配置の幾何異性体又はそれらの混合物は本発明の範囲に包含される。
【００３２】
一般式（II）で表される化合物においてｎは１であることが好ましいが、ｎが０である場合にはＢが単結合であり、かつＡがアリール基であることが好ましい。一般式（II）で表される化合物において、−(Ｃ(Ｗ)(Ｘ))ｎ−Ｂ−Ａで表される部分の具体例は上記一般式（Ｉ）におけるＲについて説明したものと同様である。
【００３３】
一般式（II）に包含される化合物の例を以下に示すが、本発明の化合物は下記の化合物に限定されることはない。
【表１】
【表２】
【表３】
【表４】
【表５】
【表６】
【表７】
【表８】
【００３４】
本発明の一般式（II）で表される化合物は、例えば、反応工程式１に示す方法によって製造することができる。
＜反応工程式１＞
【化３】
【００３５】
５−（アセチルアミノ）−１−ナフタレンスルホニルクロリド（１）は、米国特許第５３７８７１５号及び日本国特許第２５２８４５１号により既に製造法が開示されている。アミン（２）（Ａ、Ｂ、Ｗ、Ｘ及びＹは一般式（II）における定義と同義である）はその多くが遊離又は酸付加塩として広く市販されており、これを入手して直接使用することが可能である。また、アミン（２）（Ａ、Ｂ、Ｗ、Ｘ及びＹは一般式（II）における定義と同義である）は、当業者に容易に理解される製造法（例えば、対応するニトロ体の還元、シアノ体の還元、カルバモイル体の還元など）によっても製造可能であり、本発明の化合物の製造に使用可能であることは言うまでもない。
【００３６】
まず、５−（アセチルアミノ）−１−ナフタレンスルホニルクロリド（１）とアミン（２）（Ａ、Ｂ、Ｗ、Ｘ及びＹは一般式（II）における定義と同義である）を反応させることにより、式（３）の化合物（Ａ、Ｂ、Ｗ、Ｘ及びＹは一般式（II）における定義と同義である）を製造することができる。この反応は、塩基及び／又は触媒の存在又は非存在下、無溶媒又は溶媒中、−３０℃から使用される溶媒の加熱還流温度の反応温度で行われる。
【００３７】
塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、あるいはピリジン、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。触媒としては、例えば、４−ジメチルアミノピリジン、テトラブチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。溶媒としては反応を阻害しない限りいかなるものでもよく、例えば、酢酸エチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ベンゼン、トルエン、モノクロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、アセトン、２−ブタノン、水等を挙げることができ、これらの溶媒を単独、混合あるいは２相系の溶媒として用いることができる。
【００３８】
次に、得られた式（３）の化合物（Ａ、Ｂ、Ｗ、Ｘ及びＹは一般式（II）における定義と同義である）のアセチル基を加水分解することにより、一般式（II）で表される化合物を製造することができる。この反応は、酸あるいは塩基の存在下、無溶媒又は溶媒中０℃から溶媒の加熱還流温度の反応温度で行われる。
【００３９】
酸としては、例えば、塩酸、硫酸等の鉱酸、テトラフルオロホウ酸トリエチルオキソニウム等のルイス酸が挙げられる。塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、金属ナトリウム等の無機塩基、あるいはヒドラジン等の有機塩基が挙げられる。溶媒としては反応を阻害しない限りいかなるものでもよく、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、水、酢酸等を挙げることができ、これらの溶媒を単独、あるいは混合溶媒として用いることができる。
【００４０】
一般式（II）で表される化合物の塩の製造法としては、前記式（３）の化合物（Ａ、Ｂ、Ｗ、Ｘ及びＹは一般式（II）における定義と同義である）のアセチル基を加水分解することにより直接塩を製造する方法、当該加水分解反応により一旦、一般式（II）で表される化合物の遊離体を製造した後、この遊離体を塩に変換する製造法などが挙げられ、いずれもが当業者に容易に理解される方法である。
【００４１】
本明細書の実施例には、一般式（II）に包含される代表的化合物の製造方法が具体的に説明されている。従って、当業者は、上記の一般的な製造方法の説明及び実施例の具体的製造方法の説明を参照しつつ、適宜の反応原料、反応試薬、反応条件を選択し、必要に応じてこれらの方法に適宜の修飾ないし改変を加えることによって、一般式（II）に包含される化合物をいずれも製造可能である。
【００４２】
本発明の医薬は、ＤＮＡ損傷を作用機序とする癌治療、例えばＤＮＡ損傷を惹起する抗癌剤による癌化学療法や癌放射線療法の効果増強のために用いることができる。ＤＮＡ損傷を惹起する制癌剤の代表例としては、例えば、ブレオマイシン、アドリアマイシン、シスプラチン、シクロフォスファミド、マイトマイシンＣなどを挙げることができるが、これらの誘導体のほか、ＤＮＡ損傷を作用機序として含む制癌剤はいずれも本発明の医薬の適用対象となる。本発明の医薬は、ＤＮＡ損傷を惹起する抗癌剤による癌化学療法又は癌放射線療法のいずれかを単独で行う場合のほか、これらの療法を組み合わせて行う癌治療において使用してもよい。
【００４３】
いかなる特定の理論に拘泥するわけではないが、本発明の医薬は、ＤＮＡ損傷時に活性化されるプロテインキナーゼ又はその類似酵素に阻害剤として結合して該酵素の機能を停止させ、癌細胞を死滅させることができる。この結果、癌治療の効果を増強することができ、癌治療に用いる抗癌剤の量や放射線照射量を低減することができるので、癌治療に伴う副作用を軽減することが可能になる。
【００４４】
本発明の医薬の有効成分としては、上記一般式（Ｉ）又は一般式（II）で表される化合物又は生理学的に許容されるその塩の水和物又は溶媒和物を用いてもよい。また、不斉炭素を含む化合物については純粋な形態の光学活性体又は光学活性体の任意の混合物、あるいはラセミ体のいずれを用いてもよい。本発明の医薬の有効成分としては、上記化合物及び生理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる１種又は２種以上を用いることができる。
【００４５】
本発明の医薬としては上記物質それ自体を投与してもよいが、好ましくは、当業者に周知の方法によって製造可能な経口用あるいは非経口用の医薬組成物として投与することができる。経口投与に適する医薬用組成物としては、例えば、錠剤、カプセル剤、散剤、細粒剤、顆粒剤、液剤、及びシロップ剤等を挙げることができ、非経口投与に適する医薬組成物としては、例えば、注射剤、坐剤、吸入剤、点眼剤、点鼻剤、軟膏剤、経皮吸収剤、経粘膜吸収剤、クリーム剤、及び貼付剤等を挙げることができる。
【００４６】
上記の医薬組成物は、薬理学的、製剤学的に許容しうる添加物を加えて製造することができる。薬理学的、製剤学的に許容しうる添加物の例としては、例えば、賦形剤、崩壊剤ないし崩壊補助剤、結合剤、滑沢剤、コーティング剤、色素、希釈剤、基剤、溶解剤ないし溶解補助剤、等張化剤、pH調節剤、安定化剤、噴射剤、及び粘着剤等を挙げることができる。上記の医薬組成物には、ＤＮＡ損傷を作用機序とする制癌剤を１種又は２種以上配合してもよい。
【００４７】
本発明の医薬の投与量は特に限定されず、有効成分の種類や癌治療の種類などに応じて適宜選択することができ、さらに患者の体重や年齢、疾患の種類や症状、投与経路など通常考慮すべき種々の要因に応じて、適宜増減することができる。一般的には、経口投与の場合には成人一日あたり 0.01〜1,000 mg程度の範囲で用いることができる。
【実施例】
【００４８】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は下記の実施例に限定されることはない。
【００４９】
例１：５−アミノ−Ｎ−［（１−ナフタレニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（１−ナフタレニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
１−ナフチルメチルアミン（１７４ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に溶解し、氷冷攪拌下、５−（アセチルアミノ）−１−ナフタレンスルホニルクロリド（２８４ｍｇ，１ｍｍｏｌ）を添加、次いでトリエチルアミン（０．１７ｍＬ，１．２ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１時間攪拌した。反応混合物を希塩酸にあけ酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣を酢酸エチル／ジイソプロピルエーテル混合溶媒で結晶化して標題化合物の淡褐色結晶（３２５ｍｇ，８０．４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２１（３Ｈ，ｓ），４．４５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．７３−７．４１（３Ｈ，ｍ），７．４４−７．４９（１Ｈ，ｍ），７．６５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．８７−７．９１（２Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５４−８．５７（２Ｈ，ｍ），１０．０９（１Ｈ，ｓ）．
【００５０】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（１−ナフタレニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
Ｎ−［５−［［［（１−ナフタレニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミド（２２５ｍｇ，０．５６ｍｍｏｌ）を１−プロパノール（３ｍｌ）、濃塩酸（１ｍｌ）、水（１ｍｌ）の混合液に懸濁し、１時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却し析出した結晶を濾過、１−プロパノール／ジイソプロピルエーテル混合溶媒で加熱還流下懸濁洗浄して標題化合物の白色結晶（２０１ｍｇ，９０．８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．３３−４．４４（２Ｈ，ｍ），７．０９−７．２１（１Ｈ，ｍ），７．３３−７．４１（３Ｈ，ｍ），７．４５−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．５４−７．６１（１Ｈ，ｍ），７．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．８Ｈｚ），７．８７−７．９３（２Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４２−８．５１（１Ｈ，ｍ）．
【００５１】
例１と同様の方法により、例２〜例６６の化合物を製造した。以下、その収率と物性値を記す。ただし、反応条件の異なる例については併せて製造方法の詳細も記す。
【００５２】
例２：５−アミノ−Ｎ−［（２−ナフタレニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−ナフタレニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．５Ｈｚ），７．４５（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝９．３，３．３Ｈｚ），７．６１（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．７３（４Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【００５３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−ナフタレニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：９２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．８Ｈｚ），７．４５（３Ｈ，ｍ），７．６６（３Ｈ，ｍ），７．７２（１Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｍ），８．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ）８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００５４】
例３：５−アミノ−Ｎ−［（２−クロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−クロロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７４．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１３（２Ｈ，ｓ），７．１３−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．２８−７．３７（２Ｈ，ｍ），７．６１−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６０（１Ｈ，ｓ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００５５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−クロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７９．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１４−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．２８−７．３１（１Ｈ，ｍ），７．３４−７．３７（２Ｈ，ｍ），７．５６−７．６５（２Ｈ，ｍ），８．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００５６】
例４：５−アミノ−Ｎ−［（３−クロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号４）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３−クロロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７１．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．０７−７．１２（１Ｈ，ｍ），７．１８−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．６０−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００５７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３−クロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８２．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．０６−７．１１（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２１（３Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５６−７．６７（２Ｈ，ｍ），８．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【００５８】
例５：５−アミノ−Ｎ−［（４−クロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−クロロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７２．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６１−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【００５９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−クロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩
収率：７７．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【００６０】
例６：５−アミノ−Ｎ−［（２，４−ジクロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号６）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２，４−ジクロロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７６．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１０（２Ｈ，ｓ），７．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．６０−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６６（１Ｈ，ｓ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００６１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２，４−ジクロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７０．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．２５−７．２９（２Ｈ，ｍ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．６２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００６２】
例７：５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジクロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号７）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，４−ジクロロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７１．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．１Ｈｚ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５６−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【００６３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジクロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８７．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５７−７．６５（２Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【００６４】
例８：５−アミノ−Ｎ−［（３，５−ジクロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号８）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，５−ジクロロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，１．５Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【００６５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，５−ジクロロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：９０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，１．５Ｈｚ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６１（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５，２．１Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【００６６】
例９：５−アミノ−Ｎ−［（２−フルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号９）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−フルオロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．００（２Ｈ，ｍ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【００６７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−フルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．００（１Ｈ，ｍ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．８Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．６Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．５８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００６８】
例１０：５−アミノ−Ｎ−［（３−フルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１０）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３−フルオロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７７．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．９４−６．９９（３Ｈ，ｍ），７．１７−７．２５（１Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．２Ｈｚ），７．６６−７．７１（１Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００６９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３−フルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８６．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．１４（２Ｈ，ｓ），６．７３−６．８４（３Ｈ，ｍ），７．０３−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（３Ｈ，ｍ），８．１８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．８２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ）．
【００７０】
例１１：５−アミノ−Ｎ−［（４−フルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１１）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−フルオロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７８．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．９６−７．０４（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．２１（２Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００７１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−フルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：９０．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．１０（２Ｈ，ｓ）６．７３−６．８０（２Ｈ，ｍ），６．９９−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．７１−７．７９（３Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）．
【００７２】
例１２：５−アミノ−Ｎ−［（２，６−ジフルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１２）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２，６−ジフルオロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．７９−６．８７（２Ｈ，ｍ），７．２１（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝８．４，６．６Ｈｚ），７．５８−７．６５（２Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ−８．７Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），１０．０４（１Ｈ，ｓ）．
【００７３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２，６−ジフルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７９．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．２３（２Ｈ，ｓ），６．５０−６．５８（２Ｈ，ｍ），７．０２（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝８．４，６．６Ｈｚ），７．６６（３Ｈ，ｍ），８．１４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．７５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝７．８，２．１，１．２Ｈｚ）．
【００７４】
例１３：５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジフルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，４−ジフルオロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｍ），７．１８（２Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．８Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，８．１Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００７５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジフルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：５９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｍ），７．１８（２Ｈ，ｍ），７．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００７６】
例１４：５−アミノ−Ｎ−［（３，５−ジフルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１４）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，５−ジフルオロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．８０−６．８６（２Ｈ，ｍ），６．９６（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝９．３，２．４Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６６−７．７２（１Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００７７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，５−ジフルオロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７６．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．８８（２Ｈ，ｓ），６．５９−６．６５（３Ｈ，ｍ），７．７３−７．８２（３Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【００７８】
例１５：５−アミノ−Ｎ−［（２−メチルフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−メチルフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１０（３Ｈ，ｓ），２．２０（３Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｓ），７．０５（３Ｈ，ｍ），７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３７（１Ｈ，ｂｒｓ），８．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００７９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−メチルフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．０９（３Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），７．０５（３Ｈ，ｍ），７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８，１．５Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝７．５，７．２，１．８Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３５（３Ｈ，ｍ）．
【００８０】
例１６：５−アミノ−Ｎ−［（３−メチルフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１６）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３−メチルフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８２．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１０（３Ｈ，ｓ），２．２０（３Ｈ，ｓ），４．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．８６（１Ｈ，ｓ），６．９０−６．９５（２Ｈ，ｍ），７．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５９−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４８−８．５３（２Ｈ，ｍ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００８１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３−メチルフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８５．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１１（３Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．８６（１Ｈ，ｓ），６．９２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．５６−７．６４（２Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００８２】
例１７：５−アミノ−Ｎ−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１７）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−メチルフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：４５．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），２．２１（３Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．９７−７．０５（３Ｈ，ｍ），７．６１−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００８３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７４．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２２（３Ｈ，ｓ），３．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．９８−７．０４（３Ｈ，ｍ），７．３０−７．３６（１Ｈ，ｍ），７．５５−７．６５（２Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１０．９Ｈｚ），８．２８−８．３１（１Ｈ，ｍ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００８４】
例１８：５−アミノ−Ｎ−［［４−（１，１−ジメチルエチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１８）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［４−（１，１−ジメチルエチル）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７８．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．２５（９Ｈ，ｓ），２．３６（３Ｈ，ｂｒｓ），４．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），４．８２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５１−７．６５（３Ｈ，ｍ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
【００８５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［４−（１，１−ジメチルエチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８１．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２２（９Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），８．３１−８．３６（２Ｈ，ｍ）．
【００８６】
例１９：５−アミノ−Ｎ−［［２−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号１９）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［２−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：４７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，７．２Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，６．９Ｈｚ），７．６２（３Ｈ，ｍ），７．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００８７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［２−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，７．５Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，８．１Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，６．９Ｈｚ），７．６２（４Ｈ，ｍ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．７７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００８８】
例２０：５−アミノ−Ｎ−［［３−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２０）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［３−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７１．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．３７−７．４９（４Ｈ，ｍ），７．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６５−７．７１（１Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００８９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［３−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７４．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．２３（２Ｈ，ｓ），７．２１−７．３６（４Ｈ，ｍ），７．６９−７．８０（３Ｈ，ｍ），８．１６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．８２（１Ｈｄｔ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ）．
【００９０】
例２１：５−アミノ−Ｎ−［［４−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２１）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［４−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：６３．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６１−７．７２（２Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００９１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［４−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７９．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．２０（２Ｈ，ｓ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７０−７．８０（３Ｈ，ｍ），８．２１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝９．０，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．８２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【００９２】
例２２：５−アミノ−Ｎ−［［［１，１’−ビフェニル］−４−イル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２２）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［［１，１’−ビフェニル］−４−イル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３２−７．３７（１Ｈ，ｍ），７．４１−７．４９（４Ｈ，ｍ），７．５７−７．６６（３Ｈ，ｍ），７．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５３−８．５９（２Ｈ，ｍ），１０．０４（１Ｈ，ｓ）．
【００９３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［［１，１’−ビフェニル］−４−イル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８２．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３２−７．５２（６Ｈ，ｍ），７．５９−７．６８（４Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【００９４】
例２３：５−アミノ−Ｎ−［［［４’−メチル−１，１’−ビフェニル］−２−イル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［［４’−メチル−１，１’−ビフェニル］−２−イル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：６７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），２．２６（３Ｈ，ｓ），３．９０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），７．０１（４Ｈ，ｍ），７．０９（１Ｈ，ｍ），７．２２（２Ｈ，ｍ），７．３７（１Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【００９５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［［４’−メチル−１，１’−ビフェニル］−２−イル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２９（３Ｈ，ｓ），３．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．０６（５Ｈ，ｍ），７．１８−７．２７（２Ｈ，ｍ），７．３７（２Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．５Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．５Ｈｚ），７．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ）．
【００９６】
例２４：５−アミノ−Ｎ−［（２−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２４）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−メトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：４２．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．５０（３Ｈ，ｓ），４．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．７４−６．７９（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．５８−７．６８（２Ｈ，ｍ），７．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．２６−８．３２（２Ｈ，ｍ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【００９７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６０．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．５２（３Ｈ，ｓ），３．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．７４−６．７９（２Ｈ，ｍ），７．１１−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．２７−７．３０（１Ｈ，ｍ），７．５２−７．６１（２Ｈ，ｍ），８．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．２１−８．２７（２Ｈ，ｍ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
【００９８】
例２５：５−アミノ−Ｎ−［（３−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３−メトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．３４（３Ｈ，ｓ），４．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．６４−６．７３（３Ｈ，ｍ），７．０９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６０−７．７７（３Ｈ，ｍ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５２−８．５７（２Ｈ，ｍ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【００９９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８１．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：３．５５（３Ｈ，ｓ），４．１０（２Ｈ，ｓ），６．５５−６．６１（３Ｈ，ｍ），６．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６４−７．７９（３Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．８４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【０１００】
例２６：５−アミノ−Ｎ−［（４−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２６）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−メトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：４９．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．６８（３Ｈ，ｓ），３．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．７２−６．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１０１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７６．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．６９（３Ｈ，ｓ），３．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ）．
【０１０２】
例２７：５−アミノ−Ｎ−［（３，４−メチレンジオキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２７）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，４−メチレンジオキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８１．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ，ｓ）,５．９１（２Ｈ，ｓ）,６．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．２Ｈｚ），６．６６（１Ｈ，ｓ），６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１０３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，４−メチレンジオキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６７．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），５．９２（２Ｈ，ｓ），６．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．５Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５５−７．６４（２Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【０１０４】
例２８：５−アミノ−Ｎ−［（２，３−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２８）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２，３−ジメトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．５６（３Ｈ，ｓ），３．７４（３Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｓ），６．７９−６．８４（１Ｈ，ｍ），６．８７−６．９４（２Ｈ，ｍ），７．６３−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｓ），８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１０５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２，３−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７０．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．５６（３Ｈ，ｓ），３．７４（３Ｈ，ｓ），４．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．７９−６．９０（３Ｈ，ｍ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３３−８．３６（２Ｈ，ｍ）．
【０１０６】
例２９：５−アミノ−Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号２９）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２，４−ジメトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．４２（３Ｈ，ｓ），３．６８（３Ｈ，ｓ），３．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，２．４Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０４（１Ｈ，ｓ）．
【０１０７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２，４−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６（８０℃），δ）：３．５１（３Ｈ，ｓ），３．５９（３Ｈ，ｓ），３．７３（２Ｈ，ｓ），６．０６（１Ｈ，ｍ），６．５１（２Ｈ，ｍ），７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｂｒｓ），７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１０８】
例３０：５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３０）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，４−ジメトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７８．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．３９（３Ｈ，ｓ），３．６５（３Ｈ，ｓ），３．９８（２Ｈ，ｓ），６．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，２．１Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５９−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｂｒｓ），８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１０９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：５４．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．４３（３Ｈ，ｓ），３．６６（３Ｈ，ｓ），３．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．１Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５７−７．６５（２Ｈ，ｍ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１１０】
例３１：５−アミノ−Ｎ−［（３，５−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３１）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，５−ジメトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７３．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．５０（６Ｈ，ｓ），４．００−４．０１（２Ｈ，ｍ），６．２３（１Ｈ，ｓ），６．２３（２Ｈ，ｓ），７．６０−７．７７（３Ｈ，ｍ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【０１１１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，５−ジメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７３．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：３．５３（６Ｈ，ｓ），４．０９（２Ｈ，ｓ），６．１１−６．１６（３Ｈ，ｍ），７．０１−７．８０（３Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．８５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【０１１２】
例３２：５−アミノ−Ｎ−［（２，４，６−トリメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３２）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２，４，６−トリメトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：５６．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．４３（６Ｈ，ｓ），３．６６（３Ｈ，ｓ），３．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），５．９１（２Ｈ，ｓ），７．５３−７．６４（３Ｈ，ｍ），７．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１０．０１（１Ｈ，ｓ）．
【０１１３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２，４，６−トリメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７３．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．７９（６Ｈ，ｓ），３．８５（３Ｈ，ｓ），３．８５（２Ｈ，ｓ），６．３０（２Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．４５（２Ｈ，ｂｒｓ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．５Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１１４】
例３３：５−アミノ−Ｎ−［（３，４，５−トリメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，４，５−トリメトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：６８．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），３．４４（６Ｈ，ｓ），３．５０（３Ｈ，ｓ），４．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．２７（２Ｈ，ｓ），７．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．５Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５１−８．５５（２Ｈ，ｍ），１０．０４（１Ｈ，ｓ）．
【０１１５】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，４，５−トリメトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６２．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．４５（６Ｈ，ｓ），３．５２（３Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．３１（２Ｈ，ｓ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．５６−７．６３（２Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１１６】
例３４：５−アミノ−Ｎ−［（２−エトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド（化合物番号３４）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−エトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．２０（３Ｈ，ｓ），３．８２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．７６（２Ｈ，ｍ），７．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．２Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【０１１７】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−エトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミドの製造
例１（２）と同様の方法で製造した（ただし、塩酸塩化せず遊離体として単離した）。
収率：６８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．８６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），５．９５（２Ｈ，ｓ），６．７７（１Ｈ，ｍ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．１，７．５，１．８Ｈｚ），７．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．５Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，８．１Ｈｚ），７．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１．２Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１１８】
例３５：５−アミノ−Ｎ−［［３−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［３−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７３．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．８７（２Ｈ，ｓ），６．７２−６．７９（３Ｈ，ｍ），７．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．３１−７．３９（５Ｈ，ｍ），７．６０−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．５２−８．５６（２Ｈ，ｍ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【０１１９】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［３−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
例１（２）と同様の方法で反応時間を２０分間として製造した。
収率：６８．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．８６（２Ｈ，ｓ），６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．７６−６．７８（２Ｈ，ｍ），７．０９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．３１−７．４０（５Ｈ，ｍ），７．５１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【０１２０】
例３６：５−アミノ−Ｎ−［［４−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３６）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［４−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７２．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），３．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），５．０３（２Ｈ，ｓ），６．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３１−７．４３（５Ｈ，ｍ），７．６０−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【０１２１】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［４−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：６６．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），５．０４（２Ｈ，ｓ），６．８３（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．０６（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２９−７．４４（５Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．８Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．２Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．３３−８．３９（２Ｈ，ｍ）．
【０１２２】
例３７：５−アミノ−Ｎ−［（６−メトキシ−２−ナフタレニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３７）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（６−メトキシ−２−ナフタレニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．８５（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｓ），７．６３（３Ｈ，ｍ），７．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８，７Ｈｚ），８．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１２３】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（６−メトキシ−２−ナフタレニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．８５（３Ｈ，ｓ），４．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｍ），７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５９（３Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１２４】
例３８：５−アミノ−Ｎ−［（３−ヒドロキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３８）の製造
Ｎ−［５−［［［［３−（フェニルメトキシ）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミド（例３５（１）の化合物）を用い、例１（２）と同様の方法で反応時間を８．５時間として製造した。
収率：８３．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．５６−６．６１（２Ｈ，ｍ），６．６７−６．６９（１Ｈ，ｍ），７．００（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１２５】
例３９：５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジヒドロキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号３９）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３，４−ジヒドロキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：４３．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．８Ｈｚ），６．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６３−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３３−８．３８（２Ｈ，ｍ），８．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．７４（１Ｈ，ｓ），８．８２（１Ｈ，ｓ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【０１２６】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３，４−ジヒドロキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：２８．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：３．９５（２Ｈ，ｓ），６．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，２．１Ｈｚ），６．４０−６．４３（２Ｈ，ｍ），７．６６−７．７６（３Ｈ，ｍ），８．１８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，０．９Ｈｚ）．
【０１２７】
例４０：５−アミノ−Ｎ−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号４０）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：６６．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．５１−６．５９（３Ｈ，ｍ），７．６０−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７７（１Ｈ，ｂｒｓ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１２８】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：２７．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．４６（３Ｈ，ｓ），３．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．５１−６．５９（３Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．４９−７．６１（２Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８，３１−８．３５（２Ｈ，ｍ）．
【０１２９】
例４１：５−アミノ−Ｎ−［（３−ニトロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号４１）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３−ニトロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７５．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１８（３Ｈ，ｓ），４．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．３７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６８−７．７１（１Ｈ，ｍ），７．９１−７．９７（２Ｈ，ｍ），８．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【０１３０】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３−ニトロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：７６．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．２９（２Ｈ，ｓ），７．２７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３９−７．４２（１Ｈ，ｍ），７．６６−７．７９（４Ｈ，ｍ），７．８７（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．１，２．４，１．２Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．７９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【０１３１】
例４２：５−アミノ−Ｎ−［（４−ニトロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号４２）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−ニトロフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７３．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．４４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．６１−７．７８（３Ｈ，ｍ），８．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０５（１Ｈ，ｓ）．
【０１３２】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−ニトロフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８４．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．４１−７．４５（２Ｈ，ｍ），７．５５−７．６３（２Ｈ，ｍ），８．０１−８．０６（２Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．７２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【０１３３】
例４３：５−アミノ−Ｎ−［（２−アミノフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩（化合物番号４３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（２−アミノフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７２．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．８４（２Ｈ，ｓ），４．８９（２Ｈ，ｓ），６．４４（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ）６．５７−６．６０（１Ｈ，ｍ），６．９１−６．９７（２Ｈ，ｍ），７．６４−７．７１（２Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１３４】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（２−アミノフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩の製造
収率：８２．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．２４（２Ｈ，ｓ），７．２７−７．３１（２Ｈ，ｍ），７．３４−７．４３（２Ｈ，ｍ），７．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．２Ｈｚ），７．７７−７．８４（２Ｈ，ｍ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
【０１３５】
例４４：５−アミノ−Ｎ−［（３−アミノフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩（化合物番号４４）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（３−アミノフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：４８．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．８５（２Ｈ，ｓ），４．９７（２Ｈ，ｓ），６．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．３８−６．４４（２Ｈ，ｍ），６．８５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６３−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３８−８．４２（１Ｈ，ｍ），８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【０１３６】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（３−アミノフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩の製造
収率：８６．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．１５（２Ｈ，ｓ），７．２０−７．２６（２Ｈ，ｍ），７．３１−７．３９（２Ｈ，ｍ），７．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．７７−７．８３（２Ｈ，ｍ），８．２６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１３７】
例４５：５−アミノ−Ｎ−［（４−アミノフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩（化合物番号４５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（４−アミノフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：６７．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．９８（２Ｈ，ｓ），６．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６２−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．２９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１３８】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（４−アミノフェニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩の製造
収率：％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．５９−７．６５（２Ｈ，ｍ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３１−８．３７（２Ｈ，ｍ），８．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１３９】
例４６：５−アミノ−Ｎ−［［［３−（メチルスルホニル）アミノ］フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号４６）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［［３−（メチルスルホニル）アミノ］フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
Ｎ−［５−［［［（３−アミノフェニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミド（例４４（１）の化合物：１２０ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン（０．０５５ｍｌ，０．３９ｍｍｏｌ）、メタンスルホニルクロリド（０．０３０ｍｌ，０．３９ｍｍｏｌ）を添加、次いで室温で２日間攪拌した。反応混合物を希塩酸にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／３→酢酸エチル）で精製して標題化合物の淡褐色ガム状物（９８．４ｍｇ，６８．７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：２．２９（３Ｈ，ｓ），２．８３（３Ｈ，ｓ），４．０４（２Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．９５−６．９７（２Ｈ，ｍ），７．０１−７．０６（１Ｈ，ｍ），７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．６３−７．６９（２Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５７−８．６４（１Ｈ，ｍ）．
【０１４０】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［［３−（メチルスルホニル）アミノ］フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８１．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：２．８７（３Ｈ，ｓ），４．１０（２Ｈ，ｓ），６．７９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），６．９３−６．９６（２Ｈ，ｍ），７．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），７．７５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【０１４１】
例４７：５−アミノ−Ｎ−［［４−（ジメチルアミノ）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩（化合物番号４７）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［４−（ジメチルアミノ）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），２．８１（６Ｈ，ｓ），３．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．５５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，６．９Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１４２】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［４−（ジメチルアミノ）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩の製造
収率：５６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．０１（６Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１４３】
例４８：４−［［［（５−アミノ−１−ナフタレニル）スルホニル］アミノ］メチル］安息香酸塩酸塩（化合物番号４８）の製造
（１）４−［［［（５−アセトアミド−１−ナフタレニル）スルホニル］アミノ］メチル］安息香酸の製造
４−（アミノメチル）安息香酸（７２６ｍｇ，４．８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．６７ｍｌ，４．８ｍｍｏｌ）を２規定水酸化ナトリウム水溶液（２．４ｍｌ，４．８ｍｍｏｌ）、ジオキサン（４．８ｍｌ）および水（１２ｍｌ）に溶解し、氷冷攪拌下、Ｎ−［５−（クロロスルホニル）−１−ナフタレニル］アセトアミド（１．１３５ｇ，４ｍｍｏｌ）をジオキサン（４ｍｌ）、メタノール（１２ｍｌ）に懸濁した液を添加、次いで室温で３０分間攪拌した。反応混合物を希塩酸にあけ、析出した固体を水洗、真空乾燥して標題化合物の淡褐色結晶（１．３６１ｇ，８５．４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．３０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６２−７．７２（２Ｈ，ｍ），７．７６−７．８０（３Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，０．９Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１４４】
（２）４−［［［（５−アミノ−１−ナフタレニル）スルホニル］アミノ］メチル］安息香酸塩酸塩の製造
収率：６４．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．２１（２Ｈ，ｓ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６７−７．７８）５Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝８．７，６．０，１．２Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝７．２，６．０，１．２Ｈｚ），８．８１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【０１４５】
例４９：５−アミノ−Ｎ−［［４−（メチルスルホニル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号４９）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［４−（メチルスルホニル）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：９１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），３．１４（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．４３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，８．１Ｈｚ），７．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，８．１Ｈｚ），７．７３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，８．４Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．１１（１Ｈ，ｓ）．
【０１４６】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［４−（メチルスルホニル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：３．１６（３Ｈ，ｓ），４．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．４１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６１（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．７３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【０１４７】
例５０：５−アミノ−Ｎ−［［４−（スルファモイル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号５０）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［［４−（スルファモイル）フェニル］メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：３３．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．２９（２Ｈ，ｓ），７．３６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６３−７．７９（５Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，０．９Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１４８】
（２）５−アミノ−Ｎ−［［４−（スルファモイル）フェニル］メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：５３．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．３３−７．３５（５Ｈ，ｍ），７．５７−７．６７（４Ｈ，ｍ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．６４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
【０１４９】
例５１：５−アミノ−Ｎ−（２−フラニルメチル）−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号５１）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（２−フラニルメチル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８７．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），６．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．０，１．８Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，０．９Ｈｚ），７．６０−７．６８（２Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ−７．５，１．２Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１５０】
（２）５−アミノ−Ｎ−（２−フラニルメチル）−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
Ｎ−［５−［［（２−フラニルメチル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミド（２０２ｍｇ，０．５９ｍｍｏｌ）を水酸化ナトリウム（１４８ｍｇ，３．７ｍｍｏｌ）の１−プロパノール（４ｍｌ）溶液に懸濁し、５時間加熱還流した。反応混合物を濃縮後、飽和食塩水を加え酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル）で精製して褐色油状物を得た。これを１−プロパノール（１ｍｌ）に溶解し、２規定塩酸（０．４ｍｌ）を添加、次いで室温で２０分間攪拌した。析出した結晶を濾取、１−プロパノール、次いでジイソプロピルエーテルで洗浄、真空乾燥して標題化合物の灰白色結晶（１３５ｍｇ，６７．８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ），６．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，１．５Ｈｚ），７．３４−７．３５（１Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５７−７．６８（２Ｈ，ｍ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ）．
【０１５１】
例５２：５−アミノ−Ｎ−［（５−メチル−２−フラニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号５２）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（５−メチル−２−フラニル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８７．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．９０（３Ｈ，ｓ），２．１９（３Ｈ，ｓ），４．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），５．７１−５．７２（１Ｈ，ｍ），５．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．５８−７．６８（２Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１５２】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（５−メチル−２−フラニル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
例５１（２）と同様の方法で製造した。
収率：７０．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ-）：１．８１（３Ｈ，ｍ），４．１０（２Ｈ，ｓ），５．５１−５．５２（１Ｈ，ｍ），５．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．６７−７．７９（３Ｈ，ｍ），８．１８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．７８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．１，１．２Ｈｚ）．
【０１５３】
例５３：５−アミノ−Ｎ−（２−ピリジニルメチル）−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩（化合物番号５３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（２−ピリジニルメチル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：９５．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１３−７．１７（１Ｈ，ｍ），７．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５７−７．７１（３Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．３０−８．３４（２Ｈ，ｍ），８．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１５４】
（２）５−アミノ−Ｎ−（２−ピリジニルメチル）−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩の製造
収率：８２．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：４．４１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６１−７．６９（４Ｈ，ｍ），８．１５−８．２１（２Ｈ，ｍ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．０，１．５Ｈｚ），９．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）．
【０１５５】
例５４：５−アミノ−Ｎ−［（１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩（化合物番号５４）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［（１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル）メチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：５８．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２０（３Ｈ，ｓ），４．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１２−７．１８（２Ｈ，ｍ），７．４５−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ），１２．４１（１Ｈ，ｂｒ）．
【０１５６】
（２）５−アミノ−Ｎ−［（１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル）メチル］−１−ナフタレンスルホンアミド二塩酸塩の製造
収率：７３．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．８５（２Ｈ，ｓ），７．５８−７．６４（２Ｈ，ｍ），７．６８−７．８３（５Ｈ，ｍ），８．３０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ）， ８．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．７６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝９．０，１．２Ｈｚ）．
【０１５７】
例５５：５−アミノ−Ｎ−（１−フェニルエチル）−１−ナフタレンスルホンアミド（化合物番号５５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（１−フェニルエチル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：６７．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．１９（３Ｈ，ｓ），４．３２（１Ｈ，ｍ），７．０３−７．１０（５Ｈ，ｍ），７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．２Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．８Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，５．１Ｈｚ），１０．０１（１Ｈ，ｓ）．
【０１５８】
（２）５−アミノ−Ｎ−（１−フェニルエチル）−１−ナフタレンスルホンアミドの製造
例１（２）と同様の方法で製造した（ただし、塩酸塩化せず遊離体として単離した）。
収率：２７．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．１１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．２９（１Ｈ，ｍ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０７−７．１６（５Ｈ，ｍ），７．３６（２Ｈ，ｍ），７．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．２７−８．３１（２Ｈ，ｍ）．
【０１５９】
例５６：５−アミノ−Ｎ−［１−（１−ナフタレニル）エチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号５６）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［１−（１−ナフタレニル）エチル］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７１．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），５．１９（１Ｈ，ｍ），７．１７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３８−７．４６（４Ｈ，ｍ），７．６２−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．８１−７．８４（１Ｈ，ｍ），７．９４−８．００（２Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），９．９９（１Ｈ，ｓ）．
【０１６０】
（２）５−アミノ−Ｎ−［１−（１−ナフタレニル）エチル］−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８０．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．２９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．１８（１Ｈ，ｍ），７．１７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３６−７．４６（５Ｈ，ｍ），７．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８１−７．８４（１Ｈ，ｍ），７．９３−７．９６（１Ｈ，ｍ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）．
【０１６１】
例５７：５−アミノ−Ｎ−（２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−１−イル）−１−ナフタレンスルホンアミド（化合物番号５７）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−１−イル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：９１．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．４９−１．６２（１Ｈ，ｍ），１．８８−１．９７（１Ｈ，ｍ），２．２１（３Ｈ，ｓ），２．５３−２．６４（１Ｈ，ｍ），２．７１−２．２９（１Ｈ，ｍ），４．６５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０３−７．０８（１Ｈ，ｍ），７．１２−７．１６（２Ｈ，ｍ），７．６６−７．７２（２Ｈ，ｍ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，０．９Ｈｚ），８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０９（１Ｈ，ｓ）．
【０１６２】
（２）５−アミノ−Ｎ−（２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−１−イル）−１−ナフタレンスルホンアミドの製造
例５１（２）と同様の方法で製造した（ただし、塩酸塩化せず遊離体として単離した）。
収率：６３．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．５０−１．６３（１Ｈ，ｍ），１．８７−１．９７（１Ｈ，ｍ），２．５９（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），２．７４（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１５．９，８．７．３．０Ｈｚ），４．５９（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．９９（２Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．０２−７．０７（１Ｈ，ｍ），７．１１−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．８Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．５Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１６３】
例５８：５−アミノ−Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレニル）−１−ナフタレンスルホンアミド（化合物番号５８）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレニル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：９３．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．４２−１．５０（３Ｈ，ｍ），１．６６−１．７６（１Ｈ，ｍ），２．２１（３Ｈ，ｓ），２．５４−２．６６（２Ｈ，ｍ），４．２６−４．３３（１Ｈ，ｍ），６．９０−７．０２（３Ｈ，ｍ），７．０６−７．１１（１Ｈ，ｍ），７．６３−７．７２（２Ｈ，ｍ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０９（１Ｈ，ｓ）．
【０１６４】
（２）５−アミノ−Ｎ−（１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレニル）−１−ナフタレンスルホンアミドの製造
例５１（２）と同様の方法で製造した（ただし、塩酸塩化せず遊離体として単離した）。
収率：８４．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．４４（３Ｈ，ｂｒｓ），１．６５−１．７６（１Ｈ，ｍ），２．５４−２．６５（２Ｈ，ｍ），４．２３（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），５．９８（２Ｈ，ｓ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９２−７．１０（４Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．８Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
【０１６５】
例５９：５−アミノ−Ｎ−（２−フェニルプロピル）−１−ナフタレンスルホンアミド（化合物番号５９）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（２−フェニルプロピル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．４３（６Ｈ，ｓ），２．２０（３Ｈ，ｓ），７．０４（３Ｈ，ｍ），７．２１（２Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１．２Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｓ），８．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０２（１Ｈ，ｓ）．
【０１６６】
（２）５−アミノ−Ｎ−（２−フェニルプロピル）−１−ナフタレンスルホンアミドの製造
例５１（２）と同様の方法で製造した（ただし、塩酸塩化せず遊離体として単離した）。
収率：７９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．３９（６Ｈ，ｓ），５．９２（２Ｈ，ｂｒｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０８（３Ｈ，ｍ），７．２５（２Ｈ，ｍ），７．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，８．１Ｈｚ），７．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｓ），８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１６７】
例６０：５−アミノ−Ｎ−メチル−Ｎ−（フェニルメチル）−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号６０）の製造
（１）Ｎ−［５−［［［Ｎ−メチル−Ｎ−（フェニルメチル）］アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．２１（３Ｈ，ｓ），２．７０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ），４．４０（２Ｈ，ｓ），７．３２（５Ｈ，ｍ），７．７３（３Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，０．９Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１０．１１（１Ｈ，ｓ）．
【０１６８】
（２）５−アミノ−Ｎ−メチル−Ｎ−（フェニルメチル）−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：８６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．６８（３Ｈ，ｓ），４．３８（２Ｈ，ｓ），７．３１（５Ｈ，ｍ），７．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．８Ｈｚ），７．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，７．８Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１６９】
例６１：２−［（５−アミノ−１−ナフタレニル）スルホニル］−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−イソインドール塩酸塩（化合物番号６１）の製造
（１）Ｎ−［５−［（２，３−ジヒドロ−１Ｈ−イソインドール−２−イル）スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８８．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），４．６９（４Ｈ，ｓ），７．２５−７．３１（４Ｈ，ｍ），７．６８−７．７８（３Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１０．０９（１Ｈ，ｓ）．
【０１７０】
（２）２−［（５−アミノ−１−ナフタレニル）スルホニル］−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−イソインドール塩酸塩の製造
収率：８６．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：４．７３（４Ｈ，ｓ），７．２１−７．２７（４Ｈ，ｍ），７．７２−７．８３（２Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，７．５Ｈｚ），８．２８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），９．０２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，０．９Ｈｚ）．
【０１７１】
例６２：２−［（５−アミノ−１−ナフタレニル）スルホニル］−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン塩酸塩（化合物番号６２）の製造
（１）Ｎ−［５−［（１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−２−イル）スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：７０．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），２．８２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），３．５４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），４．４１（２Ｈ，ｓ），７．０９（４Ｈ，ｍ），７．６６−７．７６（３Ｈ，ｍ），８．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０８（１Ｈ，ｓ）．
【０１７２】
（２）２−［（５−アミノ−１−ナフタレニル）スルホニル］−１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン塩酸塩の製造
収率：６９．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．８１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），３．５３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．３９（２Ｈ，ｓ），７．０８−７．１４（４Ｈ，ｍ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．２３−８．３０（２Ｈ，ｍ），８．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１７３】
例６３：５−アミノ−Ｎ−シクロヘキシルメチル−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号６３）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（シクロヘキシルメチル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：９５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：０．７２（２Ｈ，ｍ），１．０１（３Ｈ，ｍ），１．２４（１Ｈ，ｍ），１．５３（５Ｈ，ｍ），２．１９（３Ｈ，ｓ），２．６１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．６６（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．７，７．２，１．５Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．９３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０６（１Ｈ，ｓ）．
【０１７４】
（２）５−アミノ−Ｎ−シクロヘキシルメチル−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：９１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：０．７２（２Ｈ，ｍ），１．０２（３Ｈ，ｍ），１．２５（１Ｈ，ｍ），１．５３（５Ｈ，ｍ），２．６０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，８．１Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）．
【０１７５】
例６４：５−アミノ−Ｎ−フェニル−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号６４）の製造
（１）Ｎ−［５−［（フェニルアミノ）スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：５８．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１７（３Ｈ，ｓ），６．８９−６．９５（１Ｈ，ｍ），６．９９−７．０３（２Ｈ，ｍ），７．１１−７．１４（２Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），７．６７−７．７２（１Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，０．９Ｈｚ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０３（１Ｈ，ｓ），１０．６７（１Ｈ，ｓ）．
【０１７６】
（２）５−アミノ−Ｎ−フェニル−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：３５．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：６．９１−６．９９（３Ｈ，ｍ），７．０５−７．１１（２Ｈ，ｍ），７．６９−７．８０（３Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．９０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ）．
【０１７７】
例６５：５−アミノ−Ｎ−（２−フェニルエチル）−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩（化合物番号６５）の製造
（１）Ｎ−［５−［［（２−フェニルエチル）アミノ］スルホニル］−１−ナフタレニル］アセトアミドの製造
収率：８３．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：２．１９（３Ｈ，ｓ），２．６１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．９８−３．０５（２Ｈ，ｍ），７．０３−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．２１（３Ｈ，ｍ），７．６３−７．６９（２Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
【０１７８】
（２）５−アミノ−Ｎ−（２−フェニルエチル）−１−ナフタレンスルホンアミド塩酸塩の製造
収率：９２．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ，δ）：２．６１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．１４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９１−６．９４（２Ｈ，ｍ），７．０１−７．１０（３Ｈ，ｍ），７．６４−７．６８（１Ｈ，ｍ），７．７１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，７．５Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ），８．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．２Ｈｚ），８．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
【０１７９】
試験例
上記で合成した化合物を用い、単独投与でのJurkat細胞増殖に対する作用、あるいはブレオマイシンとの併用投与による細胞増殖抑制効果を検討した。材料と方法は以下のとおりである。大日本製薬から入手したJurkat細胞を96穴の培養プレート上に1穴あたり約10,000個播種し、37℃、5％CO2インキュベーター内で、10％ウシ胎仔血清(Irvine Scientific)を加えたRPMI1640(ICN)培地中で培養した。このとき、それぞれの化合物を単独で加えるか、あるいはさらにそれらにブレオマイシン(Wako)を5μg/mlまたは10μg/mlとなるように加えた。培養36時間後、MTS法により生存細胞数の測定を行なった。
具体的には、CellTiter96TM AQueous One Solution (Promega)を1穴あたり20μl加え、さらに1時間培養を続け、490nmでの吸光度をマイクロプレートリーダーで測定した。溶媒として用いたDMSOを最終濃度が0.25％となるように加えたものを対照とし、このときの細胞数を生存率100％とし、それぞれの化合物について、単独あるいは併用投与での細胞生存率を求めた。5μg/mlまたは10μg/mlのブレオマイシンのみの処理では、Jurkat細胞の生存率はおよそ5-10％の減少を示した。これに対し、本発明の化合物を共存させた場合には、5μg/mlまたは10μg/mlのブレオマイシン存在下でのJurkat細胞の生存率は顕著に低下していた。結果を下記の表に示す。表中、++は顕著な増強作用、＋は中程度の増強作用が認められたことを示す。
【表９】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の一般式（II）：
【化１】
［式中、ｎは０又は１を表し、
ｎが０である場合、
ＡはＣ３〜Ｃ５のシクロアルキル基、置換基を有するＣ３〜Ｃ６のシクロアルキル基、Ｃ１０のアリール基、置換基を有するＣ６〜Ｃ１０のアリール基、又は窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含有する４〜１０員単環又は二環の不飽和、部分飽和又は完全飽和の複素環基（該複素環基は置換基を有していてもよい）を示し；Ｂは単結合又は置換基を有していてもよいメチレン基を示し；Ｙは水素原子又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を示すか、あるいはＹはＡの有する置換基と一緒になってＣ１〜Ｃ４のアルキレン基（該アルキレン基は置換基を有していてもよい）を示し（但し、Ａが窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含有する５員単環の不飽和、部分飽和又は完全飽和の複素環基（該複素環基は置換基を有していてもよい）であり、Ｙが水素原子である場合、Ｂは置換基を有していてもよいメチレン基である。）、
ｎが１である場合、
ＡはＣ３〜Ｃ５のシクロアルキル基、置換基を有するＣ３〜Ｃ６のシクロアルキル基、Ｃ１０のアリール基、置換基を有するＣ６〜Ｃ１０のアリール基、又は窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含有する４〜１０員単環又は二環の不飽和、部分飽和又は完全飽和の複素環基（該複素環基は置換基を有していてもよい）を示し；Ｂは置換基を有していてもよいメチレン基を示し；Ｗ及びＸはそれぞれ独立して水素原子又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表すか、或いはＷはＡの有する置換基と一緒になってＣ１〜Ｃ４のアルキレン基（該アルキレン基は置換基を有していてもよい）を表し；Ｙは水素原子又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を示すか、あるいはＹはＡの有する置換基と一緒になってＣ１〜Ｃ４のアルキレン基（該アルキレン基は置換基を有していてもよい）を示す。］
で表される化合物又はその塩。
【請求項１】
下記の一般式（II）：
【化１】
［式中、ｎは０又は１を表し、
ｎが０である場合、
ＡはＣ３〜Ｃ５のシクロアルキル基、置換基を有するＣ３〜Ｃ６のシクロアルキル基、Ｃ１０のアリール基、置換基を有するＣ６〜Ｃ１０のアリール基、又は窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含有する４〜１０員単環又は二環の不飽和、部分飽和又は完全飽和の複素環基（該複素環基は置換基を有していてもよい）を示し；Ｂは単結合又は置換基を有していてもよいメチレン基を示し；Ｙは水素原子又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を示すか、あるいはＹはＡの有する置換基と一緒になってＣ１〜Ｃ４のアルキレン基（該アルキレン基は置換基を有していてもよい）を示し（但し、Ａが窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含有する５員単環の不飽和、部分飽和又は完全飽和の複素環基（該複素環基は置換基を有していてもよい）であり、Ｙが水素原子である場合、Ｂは置換基を有していてもよいメチレン基である。）、
ｎが１である場合、
ＡはＣ３〜Ｃ５のシクロアルキル基、置換基を有するＣ３〜Ｃ６のシクロアルキル基、Ｃ１０のアリール基、置換基を有するＣ６〜Ｃ１０のアリール基、又は窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を含有する４〜１０員単環又は二環の不飽和、部分飽和又は完全飽和の複素環基（該複素環基は置換基を有していてもよい）を示し；Ｂは置換基を有していてもよいメチレン基を示し；Ｗ及びＸはそれぞれ独立して水素原子又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表すか、或いはＷはＡの有する置換基と一緒になってＣ１〜Ｃ４のアルキレン基（該アルキレン基は置換基を有していてもよい）を表し；Ｙは水素原子又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を示すか、あるいはＹはＡの有する置換基と一緒になってＣ１〜Ｃ４のアルキレン基（該アルキレン基は置換基を有していてもよい）を示す。］
で表される化合物又はその塩。
【公開番号】特開２００９−２４２４３７（Ｐ２００９−２４２４３７Ａ）
【公開日】平成２１年１０月２２日（２００９．１０．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１７５７７２（Ｐ２００９−１７５７７２）
【出願日】平成２１年７月２８日（２００９．７．２８）
【分割の表示】特願２００３−５１３５３９（Ｐ２００３−５１３５３９）の分割
【原出願日】平成１４年６月７日（２００２．６．７）
【出願人】（５９７０５１１４８）株式会社医薬分子設計研究所 (18)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１０月２２日（２００９．１０．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年７月２８日（２００９．７．２８）
【分割の表示】特願２００３−５１３５３９（Ｐ２００３−５１３５３９）の分割
【原出願日】平成１４年６月７日（２００２．６．７）
【出願人】（５９７０５１１４８）株式会社医薬分子設計研究所 (18)
【Ｆターム（参考）】
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