リニアガイド
【課題】潤滑剤を介在させなくても円滑な作動を維持できる滑り式リニアガイドを提供する。
【解決手段】軌道面１２、１３を有するレール１１と、この軌道面１２、１３に摺接する摺動面を有するスライダ１とを備え、スライダ１がレール１１に沿って移動可能に支持される滑り式リニアガイド１０において、スライダ１の摺動面に炭素を主成分としたアモルファス構造体からなるＤＬＣコーティング膜を形成した。
【解決手段】軌道面１２、１３を有するレール１１と、この軌道面１２、１３に摺接する摺動面を有するスライダ１とを備え、スライダ１がレール１１に沿って移動可能に支持される滑り式リニアガイド１０において、スライダ１の摺動面に炭素を主成分としたアモルファス構造体からなるＤＬＣコーティング膜を形成した。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば工作機械のテーブル等を移動可能に支持するのに用いられるリニアガイドの改良に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のリニアガイドは、軌道面を有するレールと、この軌道面に摺接する摺動面を有するスライダとを備え、スライダがレールに沿って移動可能に支持されるようになっている。
【特許文献１】特開昭６０−２６３７２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来のリニアガイドにあっては、リニアガイドの摺接部に潤滑剤の介在が不可欠であり、頻繁に給油等を行う必要があり、例えばクリーンルーム内で使用する場合に潤滑剤が周囲に飛散して汚れが生じるという問題点があった。
【０００４】
従来、滑り式リニアガイドの摺動面をセラミック材で形成するものがあったが、この場合も例えば米ぬか等の潤滑剤が使用されていた。
【０００５】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、潤滑剤を介在させなくても円滑な作動を維持できる滑り式リニアガイドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、軌道面を有するレールと、この軌道面に摺接する摺動面を有するスライダとを備え、このスライダがレールに沿って移動可能に支持される滑り式リニアガイドにおいて、摺動面に炭素を主成分としたアモルファス構造体からなるＤＬＣコーティング膜を形成したことを特徴とするものとした。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によると、スライダの摺動面に高硬度のＤＬＣコーティング膜を形成する構造のため、摩擦係数が低い平滑なＤＬＣコーティング膜によってリニアガイドの摺接部に働く摩擦力を低減し、リニアガイドが動力を伝達する機械効率を高められるとともに、リニアガイドの寿命延長がはかれる。さらに、リニアガイドから生じる騒音を減らすことができる。
【０００８】
さらに、リニアガイドは潤滑油を供給しなくても円滑な作動性が確保されるため、無給油状態で作動させることが可能となる。この結果、リニアガイドは潤滑油が飛散したり、潤滑油から塵埃が発生することを回避し、例えばクリーンルーム内で使用することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて説明する。
【００１０】
図１に示すように、リニアガイド１０は、軌道面１２を有するレール１１と、この軌道面１２に摺接する摺動面を有する鞍状のスライダ１とを備え、スライダ１がレール１１に沿って移動可能に支持される。
【００１１】
レール１１は、その両側部に溝状の軌道面１２がそれぞれ形成されるとともに、その上部に軌道面１３が形成され、各軌道面１２、１３がレール１１の長手方向に延びている。
【００１２】
各軌道面１２は垂直面に対して傾斜し、下方を向くように、互いに対称的に形成される。軌道面１３は水平に延びている。
【００１３】
スライダ１は、鞍状の本体５と、この本体５とレール１１の左右軌道面１２の間に介装される摺動部材２と、本体５とレール１１の上部軌道面１３の間に介装される摺動部材３とを備える。
【００１４】
スライダ１は、左右摺動部材２が各軌道面１２、１３にそれぞれ摺接し、上部摺動部材３がレール１１の軌道面１３に摺接することにより、レール１１に沿って移動するようになっている。
【００１５】
そして本発明の要旨とするところであるが、レール１１に対するスライダ１の各摺動面に炭素を主成分としたアモルファス構造体からなるＤＬＣコーティング膜２０を形成する。ＤＬＣコーティング膜２０の厚さは、例えば数μ程度以下の寸法である。
【００１６】
ＤＬＣコーティング膜２０は、アンバランスマグネトロンスパッタ法（以下、「ＵＢＭスパッタ法」と称する）によって形成される。
【００１７】
スパッタの原理は、図３に示すように、アルゴン等の不活性ガスを導入した真空中でターゲット４１を陰極として陽極の間でグロー放電させてプラズマを形成し、このプラズマ中のイオンをターゲット４１に衝突させてターゲット４１の原子を弾き飛ばし、この原子をターゲット４１と対向して配置されたワーク（各摺動部材２、３）２１上に堆積させて皮膜を形成するようになっている。
【００１８】
ＵＢＭスパッタ法は、スパッタ蒸発源４０ａ〜４０ｄにターゲット４１の中心部と周辺部で異なる磁気特性を有する磁場４２，４３が配置されて、プラズマを形成しつつ強力な磁場４２により発生する磁力線の一部がワーク２１の近傍に達し、ワーク２１にバイアス電圧を印加することによって、ターゲット材４１を構成する物質がワーク２１上に堆積される。
【００１９】
図４は、ＵＢＭスパッタ装置５０の基本構成を示す。真空チャンバ５１に４つのスパッタ蒸発源４０ａ〜４０ｄが設けられ、その中央に配置された自公転式ワークテーブル５６上にワーク２１が置かれ、ワーク２１にコーティングが行われる。スパッタ蒸発源４０ａ〜４０ｄには皮膜材料となる平板状ターゲットが取り付けられる。真空チャンバ５１にはアルゴン等の不活性ガスとメタンガス等の炭化水素ガスが所定量充填される。
【００２０】
スパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃにはターゲットとしてグラファイトを使用し、スパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄにはターゲットとして金属を使用する。
【００２１】
ＤＬＣコーティング膜２０は、図２に示すように、ステンレス製ワーク２１の表面にニッケルメッキ層６１を形成し、このニッケルメッキ層６１の表面にボンド層６２、中間層６３、トップ層６４が順に積層して形成される。
【００２２】
図５は、上記ＤＬＣコーティング膜２０を形成するのにあたって、ターゲット出力が変化する様子を示している。
【００２３】
ボンド層６２は、金属ターゲット４０ｂ，４０ｄのみをスパッタして、金属膜として形成される。このボンド層６２を形成するのにあたって、図５に示すように、スパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄの金属ターゲット出力を１００％とし、スパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃのグラファイトターゲット出力を０％と一定にして、所定時間だけスパッタが行われる。
【００２４】
中間層６３は、スパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄの金属ターゲットとスパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃのグラファイトターゲットを同時にスパッタし、ターゲット出力を次第に変化させて金属と炭素の傾斜組成膜として形成される。この中間層６３を形成するのにあたって、図５に示すように、スパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄの金属ターゲット出力を１００％から一次的に減少させる一方、スパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃのグラファイトターゲット出力を０％から一次的に増加させて、所定時間だけスパッタが行われる。
【００２５】
トップ層６４は、スパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄの金属ターゲットとスパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃのグラファイトターゲットを同時にスパッタし、ターゲット出力を略一定にしてスパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄの金属ターゲットとスパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃのグラファイトターゲットのスパッタ率を所定範囲に保って、所定時間だけスパッタが行われる。
【００２６】
このトップ層６４を形成するのにあたって、図５に示すように、スパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄの金属ターゲット出力を１０％程度とし、スパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃのグラファイトターゲット出力を９０％程度と一定にして、トップ層６４に含まれる金属の比率は３〜１８％の範囲に設定する。さらに望ましくは、トップ層６４に含まれる金属の比率を３〜１２％の範囲に設定する。
【００２７】
以上のように構成されて、次に作用について説明する。
【００２８】
ステンレス製のワーク２１の表面にニッケルメッキ層６１を形成した後、金属の比率を１００％にしたボンド層６２を設けることにより、母材に対するＤＬＣコーティング膜２０の結合強度を高められる。
【００２９】
金属の比率を１００％にしたボンド層６２上に金属の比率を次第に減らす金属と炭素の傾斜組成膜からなる中間層６３を設け、中間層６３の上に炭素を主成分とするトップ層６４を設けることにより、ＤＬＣコーティング膜２０におけるトップ層６４の結合強度を高められる。
【００３０】
トップ層６４の金属の比率を３〜１８％の範囲に設定することにより、トップ層６４の密着性や靱性を高められ、高荷重によってワーク２１が変形するような場合、割れや、剥離が生じることを防止できる。そして、トップ層６４の硬度の低下を抑えられ、耐摩耗性を確保できる。
【００３１】
図６にトップ層６４に含まれる金属の比率と靱性及び硬度の関係を示すように、金属の比率を３〜１８％の範囲に設定することにより、トップ層６４の靱性と硬度の両方を高められる。さらにトップ層６４に含まれる金属の比率を３〜１２％の範囲に設定することにより、トップ層６４の靱性と硬度の両方を著しく高められる。
【００３２】
これに対して従来は、トップ層に含まれる金属の比率が０％になっていたため、密着性や靱性が不足し、トップ層に割れや剥離が生じやすいという問題点があった。
【００３３】
この結果、高荷重を受けるワーク２１の表面にＤＬＣコーティング膜２０を形成しても、ＤＬＣコーティング膜２０の割れや剥離が生じることを回避し、実用化が可能となる。
【００３４】
リニアガイド１０はスライダ１の摺動面に高硬度のＤＬＣコーティング膜２０を形成する構造のため、摩擦係数が低い平滑なＤＬＣコーティング膜２０によって摺接部に働く摩擦力を低減し、リニアガイド１０が動力を伝達する機械効率を高められるとともにリニアガイド１０の寿命延長がはかれる。さらに、リニアガイド１０の噛み合い部から生じる騒音を減らすことができる。
【００３５】
さらに、リニアガイド１０は潤滑剤を供給しなくても円滑な作動性が確保されるため、無給油状態で作動させることが可能となる。この結果、スライダ１とレール１１の間から潤滑剤が飛散したり、塵埃が発生することを回避し、例えばクリーンルーム内で使用することが可能となる。
【００３６】
他の実施の形態として、レール１１の軌道面１２の表面に前記のＤＬＣコーティング膜２０を形成しても良く、同様の効果が得られる。
【００３７】
本発明は上記の実施形態に限定されずに、その技術的な思想の範囲内において種々の変更がなしうることは明白である。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本発明は、搬送装置、工作機械、他の機械に用いられるリニアガイドに利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の実施形態を示し、リニアガイドの斜視図。
【図２】同じくＤＬＣコーティング膜の断面図。
【図３】同じくスパッタ法の原理を示す説明図。
【図４】同じくＵＢＭスパッタ装置の構成図。
【図５】同じくターゲット出力が変化する様子を示す特性図。
【図６】同じくトップ層に含まれる金属の比率と靱性及び硬度の関係を示す特性図。
【符号の説明】
【００４０】
１ スライダ
２、３ 摺動部材
１０ リニアガイド
１１ レール
１２、１３ 軌道面
２０ ＤＬＣコーティング膜
２１ ワーク
４０ａ〜４０ｄ スパッタ蒸発源
５０ ＵＢＭスパッタ装置
６１ メッキ層
６２ ボンド層
６３ 中間層
６４ トップ層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば工作機械のテーブル等を移動可能に支持するのに用いられるリニアガイドの改良に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のリニアガイドは、軌道面を有するレールと、この軌道面に摺接する摺動面を有するスライダとを備え、スライダがレールに沿って移動可能に支持されるようになっている。
【特許文献１】特開昭６０−２６３７２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来のリニアガイドにあっては、リニアガイドの摺接部に潤滑剤の介在が不可欠であり、頻繁に給油等を行う必要があり、例えばクリーンルーム内で使用する場合に潤滑剤が周囲に飛散して汚れが生じるという問題点があった。
【０００４】
従来、滑り式リニアガイドの摺動面をセラミック材で形成するものがあったが、この場合も例えば米ぬか等の潤滑剤が使用されていた。
【０００５】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、潤滑剤を介在させなくても円滑な作動を維持できる滑り式リニアガイドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、軌道面を有するレールと、この軌道面に摺接する摺動面を有するスライダとを備え、このスライダがレールに沿って移動可能に支持される滑り式リニアガイドにおいて、摺動面に炭素を主成分としたアモルファス構造体からなるＤＬＣコーティング膜を形成したことを特徴とするものとした。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によると、スライダの摺動面に高硬度のＤＬＣコーティング膜を形成する構造のため、摩擦係数が低い平滑なＤＬＣコーティング膜によってリニアガイドの摺接部に働く摩擦力を低減し、リニアガイドが動力を伝達する機械効率を高められるとともに、リニアガイドの寿命延長がはかれる。さらに、リニアガイドから生じる騒音を減らすことができる。
【０００８】
さらに、リニアガイドは潤滑油を供給しなくても円滑な作動性が確保されるため、無給油状態で作動させることが可能となる。この結果、リニアガイドは潤滑油が飛散したり、潤滑油から塵埃が発生することを回避し、例えばクリーンルーム内で使用することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて説明する。
【００１０】
図１に示すように、リニアガイド１０は、軌道面１２を有するレール１１と、この軌道面１２に摺接する摺動面を有する鞍状のスライダ１とを備え、スライダ１がレール１１に沿って移動可能に支持される。
【００１１】
レール１１は、その両側部に溝状の軌道面１２がそれぞれ形成されるとともに、その上部に軌道面１３が形成され、各軌道面１２、１３がレール１１の長手方向に延びている。
【００１２】
各軌道面１２は垂直面に対して傾斜し、下方を向くように、互いに対称的に形成される。軌道面１３は水平に延びている。
【００１３】
スライダ１は、鞍状の本体５と、この本体５とレール１１の左右軌道面１２の間に介装される摺動部材２と、本体５とレール１１の上部軌道面１３の間に介装される摺動部材３とを備える。
【００１４】
スライダ１は、左右摺動部材２が各軌道面１２、１３にそれぞれ摺接し、上部摺動部材３がレール１１の軌道面１３に摺接することにより、レール１１に沿って移動するようになっている。
【００１５】
そして本発明の要旨とするところであるが、レール１１に対するスライダ１の各摺動面に炭素を主成分としたアモルファス構造体からなるＤＬＣコーティング膜２０を形成する。ＤＬＣコーティング膜２０の厚さは、例えば数μ程度以下の寸法である。
【００１６】
ＤＬＣコーティング膜２０は、アンバランスマグネトロンスパッタ法（以下、「ＵＢＭスパッタ法」と称する）によって形成される。
【００１７】
スパッタの原理は、図３に示すように、アルゴン等の不活性ガスを導入した真空中でターゲット４１を陰極として陽極の間でグロー放電させてプラズマを形成し、このプラズマ中のイオンをターゲット４１に衝突させてターゲット４１の原子を弾き飛ばし、この原子をターゲット４１と対向して配置されたワーク（各摺動部材２、３）２１上に堆積させて皮膜を形成するようになっている。
【００１８】
ＵＢＭスパッタ法は、スパッタ蒸発源４０ａ〜４０ｄにターゲット４１の中心部と周辺部で異なる磁気特性を有する磁場４２，４３が配置されて、プラズマを形成しつつ強力な磁場４２により発生する磁力線の一部がワーク２１の近傍に達し、ワーク２１にバイアス電圧を印加することによって、ターゲット材４１を構成する物質がワーク２１上に堆積される。
【００１９】
図４は、ＵＢＭスパッタ装置５０の基本構成を示す。真空チャンバ５１に４つのスパッタ蒸発源４０ａ〜４０ｄが設けられ、その中央に配置された自公転式ワークテーブル５６上にワーク２１が置かれ、ワーク２１にコーティングが行われる。スパッタ蒸発源４０ａ〜４０ｄには皮膜材料となる平板状ターゲットが取り付けられる。真空チャンバ５１にはアルゴン等の不活性ガスとメタンガス等の炭化水素ガスが所定量充填される。
【００２０】
スパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃにはターゲットとしてグラファイトを使用し、スパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄにはターゲットとして金属を使用する。
【００２１】
ＤＬＣコーティング膜２０は、図２に示すように、ステンレス製ワーク２１の表面にニッケルメッキ層６１を形成し、このニッケルメッキ層６１の表面にボンド層６２、中間層６３、トップ層６４が順に積層して形成される。
【００２２】
図５は、上記ＤＬＣコーティング膜２０を形成するのにあたって、ターゲット出力が変化する様子を示している。
【００２３】
ボンド層６２は、金属ターゲット４０ｂ，４０ｄのみをスパッタして、金属膜として形成される。このボンド層６２を形成するのにあたって、図５に示すように、スパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄの金属ターゲット出力を１００％とし、スパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃのグラファイトターゲット出力を０％と一定にして、所定時間だけスパッタが行われる。
【００２４】
中間層６３は、スパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄの金属ターゲットとスパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃのグラファイトターゲットを同時にスパッタし、ターゲット出力を次第に変化させて金属と炭素の傾斜組成膜として形成される。この中間層６３を形成するのにあたって、図５に示すように、スパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄの金属ターゲット出力を１００％から一次的に減少させる一方、スパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃのグラファイトターゲット出力を０％から一次的に増加させて、所定時間だけスパッタが行われる。
【００２５】
トップ層６４は、スパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄの金属ターゲットとスパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃのグラファイトターゲットを同時にスパッタし、ターゲット出力を略一定にしてスパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄの金属ターゲットとスパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃのグラファイトターゲットのスパッタ率を所定範囲に保って、所定時間だけスパッタが行われる。
【００２６】
このトップ層６４を形成するのにあたって、図５に示すように、スパッタ蒸発源４０ｂ，４０ｄの金属ターゲット出力を１０％程度とし、スパッタ蒸発源４０ａ，４０ｃのグラファイトターゲット出力を９０％程度と一定にして、トップ層６４に含まれる金属の比率は３〜１８％の範囲に設定する。さらに望ましくは、トップ層６４に含まれる金属の比率を３〜１２％の範囲に設定する。
【００２７】
以上のように構成されて、次に作用について説明する。
【００２８】
ステンレス製のワーク２１の表面にニッケルメッキ層６１を形成した後、金属の比率を１００％にしたボンド層６２を設けることにより、母材に対するＤＬＣコーティング膜２０の結合強度を高められる。
【００２９】
金属の比率を１００％にしたボンド層６２上に金属の比率を次第に減らす金属と炭素の傾斜組成膜からなる中間層６３を設け、中間層６３の上に炭素を主成分とするトップ層６４を設けることにより、ＤＬＣコーティング膜２０におけるトップ層６４の結合強度を高められる。
【００３０】
トップ層６４の金属の比率を３〜１８％の範囲に設定することにより、トップ層６４の密着性や靱性を高められ、高荷重によってワーク２１が変形するような場合、割れや、剥離が生じることを防止できる。そして、トップ層６４の硬度の低下を抑えられ、耐摩耗性を確保できる。
【００３１】
図６にトップ層６４に含まれる金属の比率と靱性及び硬度の関係を示すように、金属の比率を３〜１８％の範囲に設定することにより、トップ層６４の靱性と硬度の両方を高められる。さらにトップ層６４に含まれる金属の比率を３〜１２％の範囲に設定することにより、トップ層６４の靱性と硬度の両方を著しく高められる。
【００３２】
これに対して従来は、トップ層に含まれる金属の比率が０％になっていたため、密着性や靱性が不足し、トップ層に割れや剥離が生じやすいという問題点があった。
【００３３】
この結果、高荷重を受けるワーク２１の表面にＤＬＣコーティング膜２０を形成しても、ＤＬＣコーティング膜２０の割れや剥離が生じることを回避し、実用化が可能となる。
【００３４】
リニアガイド１０はスライダ１の摺動面に高硬度のＤＬＣコーティング膜２０を形成する構造のため、摩擦係数が低い平滑なＤＬＣコーティング膜２０によって摺接部に働く摩擦力を低減し、リニアガイド１０が動力を伝達する機械効率を高められるとともにリニアガイド１０の寿命延長がはかれる。さらに、リニアガイド１０の噛み合い部から生じる騒音を減らすことができる。
【００３５】
さらに、リニアガイド１０は潤滑剤を供給しなくても円滑な作動性が確保されるため、無給油状態で作動させることが可能となる。この結果、スライダ１とレール１１の間から潤滑剤が飛散したり、塵埃が発生することを回避し、例えばクリーンルーム内で使用することが可能となる。
【００３６】
他の実施の形態として、レール１１の軌道面１２の表面に前記のＤＬＣコーティング膜２０を形成しても良く、同様の効果が得られる。
【００３７】
本発明は上記の実施形態に限定されずに、その技術的な思想の範囲内において種々の変更がなしうることは明白である。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本発明は、搬送装置、工作機械、他の機械に用いられるリニアガイドに利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の実施形態を示し、リニアガイドの斜視図。
【図２】同じくＤＬＣコーティング膜の断面図。
【図３】同じくスパッタ法の原理を示す説明図。
【図４】同じくＵＢＭスパッタ装置の構成図。
【図５】同じくターゲット出力が変化する様子を示す特性図。
【図６】同じくトップ層に含まれる金属の比率と靱性及び硬度の関係を示す特性図。
【符号の説明】
【００４０】
１ スライダ
２、３ 摺動部材
１０ リニアガイド
１１ レール
１２、１３ 軌道面
２０ ＤＬＣコーティング膜
２１ ワーク
４０ａ〜４０ｄ スパッタ蒸発源
５０ ＵＢＭスパッタ装置
６１ メッキ層
６２ ボンド層
６３ 中間層
６４ トップ層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軌道面を有するレールと、この軌道面に摺接する摺動面を有するスライダとを備え、このスライダがレールに沿って移動可能に支持される滑り式リニアガイドにおいて、
前記摺動面に炭素を主成分としたアモルファス構造体からなるＤＬＣコーティング膜を形成したことを特徴とするリニアガイド。
【請求項２】
前記摺動面にニッケルメッキ層を形成し、このニッケルメッキ層の表面に前記ＤＬＣコーティング膜を形成したことを特徴とする請求項１に記載のリニアガイド。
【請求項３】
前記ＤＬＣコーティング膜は、前記摺動面に金属ターゲットのみをスパッタしてボンド層を形成し、このボンド層上に金属ターゲットとグラファイトターゲットを同時にスパッタしかつターゲット出力を次第に変化させることにより中間層を形成し、この中間層上に金属ターゲットとグラファイトターゲットを同時にスパッタしかつターゲット出力を略一定にすることにより金属の比率を３〜１８％の範囲にしたトップ層を形成したことを特徴とする請求項１または２に記載のリニアガイド。
【請求項１】
軌道面を有するレールと、この軌道面に摺接する摺動面を有するスライダとを備え、このスライダがレールに沿って移動可能に支持される滑り式リニアガイドにおいて、
前記摺動面に炭素を主成分としたアモルファス構造体からなるＤＬＣコーティング膜を形成したことを特徴とするリニアガイド。
【請求項２】
前記摺動面にニッケルメッキ層を形成し、このニッケルメッキ層の表面に前記ＤＬＣコーティング膜を形成したことを特徴とする請求項１に記載のリニアガイド。
【請求項３】
前記ＤＬＣコーティング膜は、前記摺動面に金属ターゲットのみをスパッタしてボンド層を形成し、このボンド層上に金属ターゲットとグラファイトターゲットを同時にスパッタしかつターゲット出力を次第に変化させることにより中間層を形成し、この中間層上に金属ターゲットとグラファイトターゲットを同時にスパッタしかつターゲット出力を略一定にすることにより金属の比率を３〜１８％の範囲にしたトップ層を形成したことを特徴とする請求項１または２に記載のリニアガイド。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００７−１２７１５４（Ｐ２００７−１２７１５４Ａ）
【公開日】平成１９年５月２４日（２００７．５．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３１８３２１（Ｐ２００５−３１８３２１）
【出願日】平成１７年１１月１日（２００５．１１．１）
【出願人】（００００００９２９）カヤバ工業株式会社 (2,151)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年５月２４日（２００７．５．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１１月１日（２００５．１１．１）
【出願人】（００００００９２９）カヤバ工業株式会社 (2,151)
【Ｆターム（参考）】
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