光学活性モノスルホネート化合物の製造方法
【課題】光学活性モノスルホネート化合物の製造方法の提供。
【解決手段】ジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化する、モノスルホネート化合物の製造方法。特に、メソ−１，２−ジオール化合物（ＩＩ）およびスルホニル化剤（ＩＩＩ）を、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）、金属塩（Ｖ）および塩基の存在下反応させる、光学活性モノスルホネート化合物（Ｉ）の製造方法；
【解決手段】ジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化する、モノスルホネート化合物の製造方法。特に、メソ−１，２−ジオール化合物（ＩＩ）およびスルホニル化剤（ＩＩＩ）を、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）、金属塩（Ｖ）および塩基の存在下反応させる、光学活性モノスルホネート化合物（Ｉ）の製造方法；
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にスルホニル化することで得られる、光学活性モノスルホネート化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学活性ジオール類は各種キラル医薬の合成素子として重要であり、その不斉合成法の開発研究が活発に行われている。
光学活性ジオール類の合成法としては、近年発明者らにより、不斉銅錯体を触媒とする、メソ−１，２−ジオール類の不斉モノアシル化（非特許文献１および特許文献１参照）ならびにメソ−１，２−ジオール類のモノカルバモイル化（非特許文献２参照）などの不斉合成法が報告されている。
しかし、上記した不斉モノアシル化やモノカルバモイル化法では、適用されるジオール類の種類によってエナンチオ選択性がそれほど高くない場合があった（非特許文献３参照）。
【０００３】
一方、スルホン酸エステル類は、アシル基やカルバモイル基に比べ求核試薬や塩基に対するより良好な脱離基となることが知られている。よってジオール類をエナンチオ選択的にモノスルホニル化することにより得られた化合物も同様に、種々のキラル医薬の合成素子となり得る。
【０００４】
ジオール類のモノスルホニル化反応としては、ピリジンなどの塩基存在下、アルキルまたはアリールスルホニルハライドと反応させる方法が古くから知られている（例えば、非特許文献４参照）。しかし、この方法によればジスルホネート体も同時に生じるため、片方の水酸基を選択的にモノスルホニル化するための方法の開発が求められていた。
近年、Ｍａｒｔｉｎｅｌｌｉらによって、下記式で示すように触媒量のジブチル酸化スズでメソ−１，２−ジオール類のモノスルホニル化が効率的に進行する手法が報告された（非特許文献５〜７参照）。
【０００５】
【化１】
【０００６】
しかし、上記方法で得られるモノスルホネート体はラセミ体であった。さらに光学活性なモノスルホネート体を得る方法としては、下記式で示すような光学活性アルコールのモノスルホニル法（非特許文献８）およびα−ケトスルホネートの不斉還元法（非特許文献９）が知られているだけである。
【０００７】
【化２】
【０００８】
【化３】
【０００９】
このように、ジオール類をエナンチオ選択的にモノスルホニル化する方法はほとんど知られていない。従って、当該方法であって従来法（不斉モノアシル化やモノカルバモイル化法）より簡便で、かつ高い立体選択性を有する新たな方法が求められている。
【００１０】
【特許文献１】特開２００３−３１３１５３号公報
【非特許文献１】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ． ２００３，１２５，２０５２−２０５３．
【非特許文献２】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．２００６，４７，８４５３−８４５６．
【非特許文献３】有機合成化学協会誌 第６５巻 Ｎｏ．３、２００７年、２１６−２２５頁
【非特許文献４】Ｄｕｔｈａｌｅｒ，Ｒ．Ｏ．；Ｍａｉｅｎｆｉｓｃｈ，Ｐ．Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ １９８４，６７，８３２−４４．
【非特許文献５】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００２，１２４，３５７８−３５８５．
【非特許文献６】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．２０００，４１，３７７３−３７７６．
【非特許文献７】Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｅｔｔ．１９９９，１，４４７−４５０．
【非特許文献８】Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９７，６２，８２７−８３５．
【非特許文献９】Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１，２００１，１２０４−１２１１．
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の課題は、キラル医薬品の中間体として有用な、光学活性なジオール誘導体の立体選択的な製造方法を提供することである。詳細には、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することを特徴とする、光学活性モノスルホネート化合物（本明細書中、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することで得られた「光学活性モノスルホネート化合物」を、「光学活性ジオール誘導体」または「光学活性ジオール類」と記載する場合がある）の製造方法を提供することである。
【００１２】
特に本発明は、プロキラルジオール化合物のうち、メソ−１，２−ジオール化合物をエナンチオ選択的にモノスルホニル化したり、１，３−ジオール化合物をモノスルホニル化することによってジオール化合物を不斉対称化することで、光学活性モノスルホネート化合物を製造することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、光学活性ビスオキサゾリン−金属錯体を不斉触媒として用いることにより、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化できることを見出した。
特に、メソ−１，２−ジオール化合物をエナンチオ選択的にモノスルホニル化することで、また１，３−ジオール化合物をモノスルホニル化することで不斉対称化して、光学活性モノスルホネート化合物を製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１４】
即ち、本発明は以下のとおりである。
［１］プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することを特徴とする、光学活性モノスルホネート化合物の製造方法。
［２］モノスルホニル化が、プロキラルジオール化合物および式（ＩＩＩ）
【００１５】
【化４】
【００１６】
［式中、
Ｒ２は、置換されていてもよい炭化水素基を示し、
Ｘは、ハロゲン原子を示す］で表されるスルホニル化剤（以下、スルホニル化剤（ＩＩＩ）と記載する）を、式（ＩＶａ）
【００１７】
【化５】
【００１８】
［式中、
Ｒ３は、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ３が一体となって置換されていてもよいＣ２−６アルキレン基を示し、
Ｒ４は、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル基、または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物（以下、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）と記載する）もしくは式（ＩＶｂ）
【００１９】
【化６】
【００２０】
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物（以下、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）と記載する）、または式（ＩＶｃ）
【００２１】
【化７】
【００２２】
［式中、
Ｒ３は、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ３が一体となって置換されていてもよいＣ２−６アルキレン基を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物（以下、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）と記載する）もしくは式（ＩＶｄ）
【００２３】
【化８】
【００２４】
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物（以下、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）と記載する。また以下において、「光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）もしくは光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）、または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）もしくは光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）」をまとめて、「光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）」と記載する）、式（Ｖ）
【００２５】
【化９】
【００２６】
［式中、
Ｍは、２価の金属原子を示し、
Ｘ’は、ハロゲン原子、ＯＴｆ、ＮＴｆ２、ＢＦ４、ＰＦ６またはＳｂＦ６を示す］で表される金属塩（以下、金属塩（Ｖ）と記載する）および塩基の存在下で反応させることを特徴とする、［１］記載の製造方法。
［３］プロキラルジオール化合物が、式（ＩＩ）
【００２７】
【化１０】
【００２８】
［式中、
Ｒ１は、置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい炭素環、置換されていてもよい縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示す］で表されるメソ−１，２−ジオール化合物（以下、化合物（ＩＩ）と記載する）であって、光学活性モノスルホネート化合物が、式（Ｉ）
【００２９】
【化１１】
【００３０】
［式中、
Ｒ１は、前記と同義を示し、
Ｒ２は、置換されていてもよい炭化水素基を示す］で表される化合物（以下、化合物（Ｉ）と記載する）、または式（Ｉ’）
【００３１】
【化１２】
【００３２】
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される化合物（以下、化合物（Ｉ’）と記載する）である、［１］または［２］に記載の製造方法。
［４］Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、炭素環、縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示し、
Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、［３］記載の製造方法。
［５］Ｒ１が、置換されていてもよいメチル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、シクロオクテン環、テトラヒドロナフタレン環、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、Ｎ−ベンゾイルピロリジン環またはテトラヒドロチオフェン環を示し、
Ｒ２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、［４］記載の製造方法。
［６］プロキラルジオール化合物が、式（ＶＩＩ）
【００３３】
【化１３】
【００３４】
［式中、Ｒ５およびＲ６は互いに異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す］で表される１，３−ジオール化合物（以下、化合物（ＶＩＩ）と記載する）であって、光学活性モノスルホネート化合物が、式（ＶＩ）
【００３５】
【化１４】
【００３６】
［式中、
Ｒ２は、置換されていてもよい炭化水素基を示し、
Ｒ５およびＲ６は、前記と同義を示す］で表される化合物（以下、化合物（ＶＩ）と記載する）である、［１］または［２］に記載の製造方法。
［７］Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示し、
Ｒ５が、Ｃ１−１８アルキル基、Ｃ６−１４アリール基、Ｃ７−１６アラルキル基またはアシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す、
［６］記載の製造方法。
［８］Ｒ２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｒ５が、アシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基を示す、
［６］または［７］記載の製造方法。
［９］Ｒ３が、水素原子またはＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ３が一緒になって、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基またはペンタメチレン基を示し、
Ｒ４が、Ｃ１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ６−１４アリール基またはＣ７−１６アラルキル基を示す、
［２］〜［８］のいずれか一に記載の製造方法。
［１０］Ｒ３が、メチル基を示し、
Ｒ４が、フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはベンジル基を示す、［９］記載の製造方法。
［１１］Ｍが、２価の銅原子または２価の亜鉛原子を示し、
Ｘ’が、ハロゲン原子、ＯＴｆ、ＢＦ４またはＰＦ６を示す、
［２］〜［１０］のいずれか一に記載の製造方法。
［１２］塩基が、炭酸カリウム、トリエチルアミン、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウムおよびジイソプロピルエチルアミンからなる群から選択される少なくとも一つである、［２］〜［１１］のいずれか一に記載の製造方法。
［１３］テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、トルエン、イソプロピルアルコール、アセトニトリルおよび酢酸エチルからなる群から選択される少なくとも一つの溶媒中で行われる、［１］〜［１２］のいずれか一に記載の製造方法。
【発明の効果】
【００３７】
本発明により、プロキラルジオール化合物を、エナンチオ選択的にモノスルホニル化することができる。本発明の方法により得られる光学活性モノスルホネート化合物は、医薬品中間体として有用である。従って、本発明を適用することにより、各種医薬品を容易に合成することが可能となる。
【００３８】
本発明によれば、不斉モノアシル化やモノカルバモイル化法といった従来公知のエナンチオ選択的な光学活性ジオール誘導体の製造方法よりも、より簡便に、高い立体選択性を有する光学活性ジオール誘導体を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
本明細書中において使用する各置換基および各記号などの定義は次の通りである。
【００４０】
「ハロゲン原子」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が挙げられる。
「アルキル基」としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基（Ｃ１−６アルキル基）、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基、ウンデカニル基、ドデカニル基、トリデカニル基、テトラデカニル基、ペンタデカニル基、ヘキサデカニル基、ヘプタデカニル基、オクタデカニル基などの直鎖または分枝鎖のＣ１−１８アルキル基が挙げられる。
「アルケニル基」としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基などの直鎖または分枝鎖のＣ２−６アルケニル基が挙げられる。
「アルキニル基」としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、１−ヘキシニル基などの直鎖または分枝鎖のＣ２−６アルキニル基が挙げられる。
「シクロアルキル基」としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ビシクロ［３．１．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、ビシクロ［３．２．１］オクチル基、ビシクロ［３．２．２］ノニル基、ビシクロ［３．３．１］ノニル基、ビシクロ［４．２．１］ノニル基、ビシクロ［４．３．１］デシル基、アダマンチル基等のＣ３−１０シクロアルキル基が挙げられる。
【００４１】
「アリール基」としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などのＣ６−１４アリール基が挙げられる。
「アラルキル基」としては、例えば、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基などのＣ７−１６アラルキル基が挙げられる。
【００４２】
「アルコキシ基」としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基などの直鎖または分枝鎖のＣ１−６アルコキシ基が挙げられる。
「アリールオキシ基」としては、例えば、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基などのＣ６−１４アリールオキシ基が挙げられる。
「アラルキルオキシ基」としては、例えば、ベンジルオキシ基、１−フェニルエチルオキシ基、２−フェニルエチルオキシ基などのＣ７−１６アラルキルオキシ基が挙げられる。
【００４３】
「アルキレン基」としては、例えばエチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等の直鎖または分枝鎖のＣ２−６アルキレン基が挙げられる。
【００４４】
「アシル基」としては、例えば、ホルミル基、カルボキシル基、Ｃ１−６アルキル−カルボニル基、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル基、Ｃ６−１４アリール−カルボニル基、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基、Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル基、Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル基、Ｃ１−６アルキル−カルボニルオキシ基、Ｃ６−１４アリール−カルボニルオキシ基、Ｃ７−１６アラルキル−カルボニルオキシ基、Ｃ７−１６アラルキル−アミノカルボニル基、カルバモイル基、Ｃ１−６アルキル−カルバモイル基、Ｃ１−６アルコキシ−カルバモイル基、Ｃ６−１４アリール−カルバモイル基、Ｃ１−６アルキル−スルホニル基などが挙げられる。
ここで、「Ｃ１−６アルキル−カルボニル基」、「Ｃ１−６アルキル−カルボニルオキシ基」、「Ｃ１−６アルキル−カルバモイル基」および「Ｃ１−６アルキル−スルホニル基」における「Ｃ１−６アルキル」、「Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基」および「Ｃ１−６アルコキシ−カルバモイル基」における「Ｃ１−６アルコキシ」、「Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル基」における「Ｃ３−８シクロアルキル」、「Ｃ６−１４アリール−カルボニル基」および「Ｃ６−１４アリール−カルバモイル基」における「Ｃ６−１４アリール」、「Ｃ６−１４アリール−カルボニルオキシ基」、「Ｃ７−１６アラルキル−カルボニルオキシ基」、「Ｃ７−１６アラルキル−アミノカルボニル基」における「Ｃ７−１６アラルキル」、「Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル基」における「Ｃ６−１４アリールオキシ」、「Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル基」における「Ｃ７−１６アラルキルオキシ」としては、それぞれ、上記「アルキル基」における「Ｃ１−６アルキル基」、「アルコキシ基」における「Ｃ１−６アルコキシ基」、「シクロアルキル基」における「Ｃ３−８シクロアルキル基」、「アリール基」における「Ｃ６−１４アリール基」、「アラルキル基」における「Ｃ７−１６アラルキル基」、「アリールオキシ基」における「Ｃ６−１４アリールオキシ基」、「アラルキルオキシ基」における「Ｃ７−１６アラルキルオキシ基」が、それぞれ例示される。
【００４５】
「炭素環」としては、例えば、
（１）Ｃ３−１０シクロアルカン（例、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等）、
（２）Ｃ３−１０シクロアルケン（例、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環、シクロオクテン環等）
などのような脂環式炭化水素や、ベンゼンなどの芳香族炭化水素といった、他の環と縮合していない炭素環が挙げられる。
【００４６】
「縮合炭素環」としては、例えば、インデン、ナフタレン、アズレン、フルオレン、フェナントレン、アントラセン、アセナフチレン、ビフェニレンなどの二つ以上の炭素環が縮合して形成される、縮合多環式炭化水素が挙げられる。また、上記「縮合炭素環」には、上記で例示した各環の一部または全部の２重結合が飽和または不飽和である縮合炭素環も含まれる。
【００４７】
「複素環」としては、炭素原子以外に、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選択される１〜５個のヘテロ原子を含有し、芳香族でも非芳香族であってもよい３〜１２員の複素環を示し、例えば、
（１）３〜６員の単環式複素環（例、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環等）、
（２）８〜１２員の縮合多環式複素環（例、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、ベンゾ［ｂ］チオフェン環、インドール環、イソインドール環、１Ｈ−インダゾール環、ベンズインダゾール環、ベンゾオキサゾール環、１，２−ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾピラゾール環、１，２−ベンゾイソチアゾール環、１Ｈ−ベンゾトリアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、キナゾリン環、キノキサリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、プリン環、ブテリジン環、カルバゾール環、α−カルボリン環、β−カルボリン環、γ−カルボリン環、アクリジン環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、フェナジン環、フェノキサチイニン環、チアントレン環、フェナントリジン環、キサンテン環等）
などが挙げられる。また、上記「複素環」には、上記で例示した各環の一部または全部の２重結合が飽和または不飽和である複素環も含まれる。
【００４８】
上記「炭素環」、「縮合炭素環」および「複素環」は、化合物（ＩＩ）における二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に形成する環である。
従って、二つのＲ１が一緒になって隣接する炭素原子と一緒になって示す、「炭素環」、「縮合炭素環」および「複素環」としては、上記で例示した各環でもよいが、少なくとも一つの二重結合が飽和した、「炭素環」、「縮合炭素環」および「複素環」であることが好ましい。
【００４９】
少なくとも一つの二重結合が飽和した、「炭素環」としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環、シクロオクテン環等が挙げられる。
【００５０】
少なくとも一つの二重結合が飽和した、「縮合炭素環」としては、１，２−ジヒドロベンゼン、２，３−ジヒドロナフタレン、テトラヒドロナフタレン、２，３−ジヒドロインデン等が挙げられる。
【００５１】
少なくとも一つの二重結合が飽和した、「複素環」としては、ピロリジン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロチオフェン環、インドリン環、イソインドリン環、クロマン環、イソクロマン環、テトラヒドロベンゾチオフェン環等が挙げられる。
【００５２】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５およびＲ６で示される「置換されていてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基またはアリル基等が挙げられる。
【００５３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５およびＲ６で示される「置換されていてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」が有していてもよい置換基としては、例えば
（１）ハロゲン原子、
（２）水酸基、
（３）アルキル基、
（４）アリール基、
（５）カルボキシル基、
（６）アルコキシ基、
（７）アラルキルオキシ基、
（８）アシル基、
（９）ニトロ基
等が挙げられる。置換基の数は、炭化水素基によって異なるが、例えば、１〜５、好ましくは１〜３であり、置換基の数が２以上の場合、各置換基は同一または異なっていてもよい。
【００５４】
ここで、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ４で示される「置換されていてもよいＣ１−６アルキル基」の「Ｃ１−６アルキル基」、
Ｒ１で示される「置換されていてもよいメチル基」の「メチル基」、
Ｒ２で示される「置換されていてもよいフェニル基」の「フェニル基」、
Ｒ３で示される「置換されていてもよいＣ２−６アルキレン基」の「Ｃ２−６アルキレン基」、
Ｒ２、Ｒ４およびＲ６で示される「置換されていてもよいＣ６−１４アリール基」の「Ｃ６−１４アリール基」、
Ｒ４で示される「置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル基」の「Ｃ７−１６アラルキル基」、
二つのＲ１が一緒になって隣接する炭素原子と一緒になって示す「置換されていてもよい炭素環」の「炭素環」、
二つのＲ１が一緒になって隣接する炭素原子と一緒になって示す「置換されていてもよい縮合炭素環」の「縮合炭素環」、および
二つのＲ１が一緒になって隣接する炭素原子と一緒になって示す「置換されていてもよい複素環」の「複素環」
がそれぞれ有していてもよい置換基としては、例えば、上記「置換されていてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」が有していてもよい置換基が挙げられる。
【００５５】
本発明は、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することを特徴とする、モノスルホネート化合物の製造方法を提供する。
【００５６】
本発明の「プロキラルジオール化合物」とは、水酸基を二つ有する化合物であって、光学活性を示さないが、いずれかの水酸基が別の置換基に置換されることによって光学活性体となる化合物を広く含む。すなわち、当該化合物は、水酸基が置換されることにより初めて不斉炭素原子を有するようになる化合物のみならず、一つ以上の不斉炭素原子を有するがその構造上光学活性を示し得ない化合物であって、水酸基が置換されることにより初めて光学活性を示す化合物をも広く包含するものである。そのような化合物としては、好ましくは化合物（ＩＩ）または化合物（ＶＩＩ）が挙げられる。
【００５７】
本発明のプロキラルジオール化合物の一つである化合物（ＩＩ）は、不斉炭素原子を二つ有するが、分子内に対称面があるメソ体であって、光学活性を示さない。しかしながら、後述のスルホニル化によって片方の水酸基がスルホニル化することで光学活性体（光学活性モノスルホネート化合物）となり得る。
【００５８】
本発明の化合物（ＩＩ）としては、
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい炭素環、置換されていてもよい縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示す、化合物（ＩＩ）が好ましい。
【００５９】
また、本発明の化合物（ＩＩ）としては、
Ｒ１が、置換されていてもよいメチル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、炭素環、縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示す、化合物（ＩＩ）がより好ましい。
【００６０】
さらに、本発明の化合物（ＩＩ）としては、
Ｒ１が、ベンジルオキシメチル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、シクロオクテン環、テトラヒドロナフタレン環、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、Ｎ−ベンゾイルピロリジン環またはテトラヒドロチオフェン環を示す、化合物（ＩＩ）が特に好ましい。
【００６１】
また、本発明のプロキラルジオール化合物である化合物（ＶＩＩ）は、後述のスルホニル化によって片方の水酸基がスルホニル化することで光学活性体（光学活性モノスルホネート化合物）となり得る。
【００６２】
本発明の化合物（ＶＩＩ）としては、
Ｒ５が、Ｃ１−１８アルキル基、Ｃ６−１４アリール基、Ｃ７−１６アラルキル基またはアシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す、化合物（ＶＩＩ）が好ましい。
【００６３】
また、本発明の化合物（ＶＩＩ）としては、
Ｒ５が、アシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基を示す、
化合物（ＶＩＩ）がより好ましい。
【００６４】
さらに、本発明の化合物（ＶＩＩ）としては、
Ｒ５が、エトキシカルボニル基またはフェニルカルバモイル基を示し、
Ｒ６が、メチル基またはエチル基を示す、
化合物（ＶＩＩ）が特に好ましい。
【００６５】
本発明における「モノスルホニル化」は、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化する反応である。これにより、プロキラルジオール化合物、好ましくは化合物（ＩＩ）および化合物（ＶＩＩ）を、光学活性モノスルホネート化合物に導くことが可能となる。
【００６６】
本発明の「モノスルホニル化」反応は、下記の工程を含むことを特徴とする。
【００６７】
（工程１）金属塩（Ｖ）と、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）とを混合して、金属錯体を得る工程。
（工程２）工程１で得られた金属錯体に、塩基存在下、上記プロキラルジオール化合物およびスルホニル化剤（ＩＩＩ）を添加することで、光学活性モノスルホネート化合物を得る工程。
（工程３）得られた光学活性モノスルホネート化合物を、自体公知の方法で精製する工程。
なお、本発明において、上記工程１および２は便宜上分けて記載したに過ぎず、上記記載に限定されるものではない。例えば、上記プロキラルジオール化合物およびスルホニル化剤（ＩＩＩ）の混合物中に工程１で得られた金属錯体を添加してもよいし、塩基存在下でスルホニル化剤（ＩＩＩ）、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）、金属塩（Ｖ）および上記ジオール化合物を混合して一工程で反応を進行させてもよい。
【００６８】
以下、各工程に従って、各化合物を説明する。
【００６９】
工程１
本工程は、金属塩（Ｖ）と、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）とを混合して、式（ＩＶａ’）
【００７０】
【化１５】
【００７１】
で表される化合物（以下、金属錯体（ＩＶａ’）と記載する）もしくは式（ＩＶｂ’）
【００７２】
【化１６】
【００７３】
で表される化合物（以下、金属錯体（ＩＶｂ’）と記載する）または式（ＩＶｃ’）
【００７４】
【化１７】
【００７５】
で表される化合物（以下、金属錯体（ＩＶｃ’）と記載する）もしくは式（ＩＶｄ’）
【００７６】
【化１８】
【００７７】
で表される化合物（以下、金属錯体（ＩＶｄ’）と記載する。また以下において、「金属錯体（ＩＶａ’）もしくは金属錯体（ＩＶｂ’）、または金属錯体（ＩＶｃ’）もしくは金属錯体（ＩＶｄ’）」をまとめて、「金属錯体（ＩＶ）」と記載する）
を形成する工程である。
【００７８】
金属塩（Ｖ）は、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）に配位して、金属錯体（ＩＶ）をそれぞれ形成する。
【００７９】
金属塩（Ｖ）としては、
Ｍが、２価の銅原子または２価の亜鉛原子を示し、
Ｘ’が、ハロゲン原子、またはトリフルオロメチルスルホニル（以下、ＯＴｆと記載する場合がある）、四フッ化ホウ素（以下、ＢＦ４と記載する場合がある）、六フッ化リン（以下、ＰＦ６と記載する場合がある）、六フッ化アンチモン（以下、ＳｂＦ６と記載する場合がある）、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（以下、ＮＴｆ２と記載する場合がある）を示す、
金属塩（Ｖ）が好ましい。
【００８０】
また、金属塩（Ｖ）としては、
Ｍが、２価の銅原子または２価の亜鉛原子を示し、
Ｘ’が、フッ素原子、塩素原子、ＯＴｆ、ＮＦ４またはＰＦ６を示す、
金属塩（Ｖ）がより好ましい。
【００８１】
より具体的には、金属塩（Ｖ）としては、Ｃｕ（ＯＴｆ）２、Ｚｎ（ＯＴｆ）２、ＣｕＢｒ２、ＣｕＣｌ２、ＣｕＦ２、Ｃｕ（ＢＦ４）２、Ｃｕ（ＰＦ６）２、Ｃｕ（ＳｂＦ６）２およびＣｕ（ＮＴｆ２）２が好ましく、中でも、Ｃｕ（ＯＴｆ）２、Ｚｎ（ＯＴｆ）２、ＣｕＣｌ２、ＣｕＦ２、Ｃｕ（ＢＦ４）２およびＣｕ（ＰＦ６）２が特に好ましい。
なお、このような金属塩（Ｖ）は、市販品を用いてもよいし、自体公知の方法で製造してもよい。
【００８２】
本工程において、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）は、金属塩（Ｖ）の配位子として作用し、金属錯体（ＩＶ）をそれぞれ形成する。
【００８３】
光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）としては、
Ｒ３が、水素原子またはＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ３が一緒になって、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基またはペンタメチレン基を示し、
Ｒ４が、Ｃ１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ６−１４アリール基またはＣ７−１６アラルキル基を示す、
光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）が好ましい。
【００８４】
また、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）としては、
Ｒ３が、メチル基を示し、
Ｒ４が、フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはベンジル基を示す、
光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）がより好ましい。
【００８５】
光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）としては、Ｒ３が、水素原子またはＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ３が一緒になって、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基またはペンタメチレン基を示す、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）が好ましい。
【００８６】
また、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）としては、Ｒ３が、メチル基を示す、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）がより好ましい。
【００８７】
なお、本明細書中、
（１）Ｒ３が、メチル基を示し、Ｒ４が、フェニル基を示す光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）、（ＩＶｂ）をそれぞれ、「（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸ」、「（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸ」と記載し、
（２）Ｒ３が、メチル基を示し、Ｒ４が、ｔｅｒｔ−ブチル基を示す光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）、（ＩＶｂ）をそれぞれ、「（Ｒ，Ｒ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸ」、「（Ｓ，Ｓ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸ」と記載し、
（３）Ｒ３が、メチル基を示し、Ｒ４が、ベンジル基を示す光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）、（ＩＶｂ）をそれぞれ、「（Ｒ，Ｒ）−Ｂｎ−ＢＯＸ」、「（Ｓ，Ｓ）−Ｂｎ−ＢＯＸ」と記載し、かつ
（４）Ｒ３が、メチル基を示す光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）、（ＩＶｄ）をそれぞれ、「（４Ｓ，５Ｒ）−Ｉｎ−ＢＯＸ」、「（４Ｒ，５Ｓ）−Ｉｎ−ＢＯＸ」と記載する。
【００８８】
このような光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）は、自体公知の方法で製造することができる。当該製造方法としては、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１３，７２８−７２９（１９９１）記載の方法などが挙げられる。
【００８９】
本発明における、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）と金属塩（Ｖ）との好ましい組合せとしては、例えば、
（１）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せ、
（２）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕＣｌ２との組合せ、
（３）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕＦ２との組合せ、
（４）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＺｎ（ＯＴｆ）２との組合せ、
（５）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＢＦ４）２との組合せ、
（６）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＰＦ６）２との組合せ、
（７）（Ｒ，Ｒ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せ、
（８）（Ｒ，Ｒ）−Ｂｎ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せ
等が挙げられる。
【００９０】
また、本発明における、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）と金属塩（Ｖ）との好ましい組合せとしては、例えば、
（１’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せ、
（２’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕＣｌ２との組合せ、
（３’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕＦ２との組合せ、
（４’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＺｎ（ＯＴｆ）２との組合せ、
（５’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＢＦ４）２との組合せ、
（６’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＰＦ６）２との組合せ、
（７’）（Ｓ，Ｓ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せ、
（８’）（Ｓ，Ｓ）−Ｂｎ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せ
等が挙げられる。
【００９１】
さらに、本発明における、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）と金属塩（Ｖ）との好ましい組合せとしては、例えば、
（９）（４Ｓ，５Ｒ）−Ｉｎ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せが挙げられる。
【００９２】
また、本発明における、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）と金属塩（Ｖ）との好ましい組合せとしては、例えば、
（９’）（４Ｒ，５Ｓ）−Ｉｎ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せが挙げられる。
【００９３】
上記組合せのうち、（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７’）、（８）および（９）の組合せが特に好ましい。
【００９４】
本工程における光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）の使用量は、金属塩（Ｖ）１モルあたり、通常０．５モル〜２モル、好ましくは０．８モル〜１．２モルである。
【００９５】
本工程は、反応が進行する限り溶媒中で行っても無溶媒で行ってもよいが、通常、溶媒中で行われる。使用できる溶媒としては、本工程に影響を与えない限り特に限定されないが、好ましくはジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、ｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔ−ブタノール、イソブタノール、ノルマルブタノール、アセトニトリル、プロピオニトリル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ノルマルプロピル、酢酸ノルマルブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサンなどであり、より好ましくは、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、トルエン、イソプロピルアルコール、アセトニトリル、酢酸エチルである。溶媒の使用量は、当業者であれば適宜設定することが可能である。
【００９６】
本工程の反応温度は、反応が進行する限り特に限定されないが、０℃〜５０℃で行うことが好ましく、室温で行うことがさらに好ましい。なお本明細書中、室温とは、１５℃〜３５℃の範囲における温度のことをいう。
本工程の反応時間は、使用する試薬や溶媒の量、反応温度によっても異なるが、通常１分〜２４時間、好ましくは５分〜１時間である。
【００９７】
本工程で得られた金属錯体（ＩＶ）は、反応混合物から自体公知の手段、例えば抽出、濃縮、中和、濾過、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、分取用高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、中圧分取液体クロマトグラフィー（中圧分取ＬＣ）等の手段を用いることによって単離・精製することができるが、反応混合物のまま次工程２に付すことが好ましい。
【００９８】
工程２
本工程は、工程１で得られた金属錯体に、塩基存在下、上記プロキラルジオール化合物およびスルホニル化剤（ＩＩＩ）を添加することで、光学活性モノスルホネート化合物を得る工程である。
【００９９】
本工程において、スルホニル化剤（ＩＩＩ）は、工程１で得られた金属錯体存在下、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化して、光学活性モノスルホネート化合物を得るために用いられる。
【０１００】
スルホニル化剤（ＩＩＩ）としては、
Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
スルホニル化剤（ＩＩＩ）が好ましい。
【０１０１】
また、スルホニル化剤（ＩＩＩ）としては、
Ｒ２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
スルホニル化剤（ＩＩＩ）がより好ましい。
【０１０２】
さらに、スルホニル化剤（ＩＩＩ）としては、
Ｒ２が、メチル基、またはＣ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、ハロゲン原子およびニトロ基から選択される置換基で置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
スルホニル化剤（ＩＩＩ）がより好ましい。
【０１０３】
より具体的には、スルホニル化剤（ＩＩＩ）としては、塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化ｐ−メトキシベンゼンスルホニル、塩化ｐ−クロロベンゼンスルホニル、塩化ｐ−ニトロベンゼンスルホニル、塩化メタンスルホニルが好ましい。
なお、このようなスルホニル化剤（ＩＩＩ）は、市販品を用いてもよいし、自体公知の方法で製造してもよい。
【０１０４】
また、本工程におけるスルホニル化剤（ＩＩＩ）の使用量は、プロキラルジオール化合物１モルあたり、通常０．５モル〜５モル、好ましくは０．８モル〜３モル、より好ましくは０．８モル〜１．５モルである。
【０１０５】
本工程で用いられる塩基としては、反応が進行する限り特に限定されず、有機塩基、無機塩基などの自体公知の塩基が用いられるが、好ましくは炭酸カリウム、トリエチルアミン、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウムおよびジイソプロピルエチルアミンからなる群から選択される。
【０１０６】
本工程における塩基の使用量は、プロキラルジオール化合物１モルあたり、通常０．２５モル〜５モル、好ましくは０．４モル〜３モル、より好ましくは０．４モル〜１．５モルである。
【０１０７】
本工程は、反応が進行する限り溶媒中で行っても無溶媒で行ってもよいが、通常、工程１で得られた金属錯体を単離・精製しない限り、工程１で挙げられた溶媒中で行われる。
工程１で得られた金属錯体を単離・精製した場合には、本工程は溶媒中で行うことが好ましい。選択される当該溶媒としては、本工程に影響を与えない限り特に限定されないが、好ましくは工程１で挙げられた溶媒が挙げられる。当該溶媒の使用量は、当業者であれば適宜設定することが可能である。
【０１０８】
プロキラルジオール化合物については、上記で説明したとおりであるが、プロキラルジオール化合物として特に化合物（ＶＩＩ）を適用する場合は、上記記載のスルホニル化剤（ＩＩＩ）のうち、塩化ｐ−トルエンスルホニルを用いることが好ましく、上記記載の塩基のうち、炭酸カリウムを用いることが好ましい。
【０１０９】
一方、プロキラルジオール化合物として特に化合物（ＩＩ）を適用する場合、スルホニル化剤（ＩＩＩ）、塩基などは、上記工程２記載と同様のものを用いることができる。
【０１１０】
本工程の反応温度は、反応が進行する限り特に限定されないが、０℃〜５０℃で行うことが好ましく、室温で行うことがさらに好ましい。なお本明細書中、室温とは、１５℃〜３５℃の範囲における温度のことをいう。
本工程の反応時間は、使用する試薬や溶媒の量、反応温度によっても異なるが、通常１時間〜７２時間、好ましくは３時間〜４８時間である。
【０１１１】
本工程により、光学活性モノスルホネート化合物を得ることができる。光学活性モノスルホネート化合物としては、上記プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを、上記工程１ないし２を経て選択的にモノスルホニル化して得られた化合物であって、光学活性を有する限り特に限定されないが、好ましくは化合物（Ｉ）もしくは化合物（Ｉ’）、または化合物（ＶＩ）である。
【０１１２】
本発明の光学活性モノスルホネート化合物の一つである化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）は、それぞれ、上記化合物（ＩＩ）を上記工程１および２に付すことによって得られる化合物である。
詳細には、化合物（Ｉ）は、下記式
【０１１３】
【化１９】
【０１１４】
で表される（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−スルホニルオキシ体であり、化合物（Ｉ’）は、下記式
【０１１５】
【化２０】
【０１１６】
で表される（１Ｒ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−スルホニルオキシ体である。
【０１１７】
化合物（Ｉ）は、上記工程１において、例えば二価銅塩を用いた場合、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）を用いることにより製造することができる。一方、化合物（Ｉ’）は、上記工程１において、例えば二価銅塩を用いた場合、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）を用いることにより製造することができる。
すなわち、上記工程１において光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）を適宜使い分けることによって、ジオール化合物（例えば、化合物（ＩＩ））から、光学活性の異なるモノスルホネート化合物（例えば、化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’））を任意に製造することが可能である。
【０１１８】
本発明の化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）としては、
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい炭素環、置換されていてもよい縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示し、
Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す、
化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）が好ましい。
【０１１９】
また、本発明の化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）としては、
Ｒ１が、置換されていてもよいメチル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、炭素環、縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示し、
Ｒ２が、メチル基、イソプロピル基または置換されていてもよいフェニル基を示す、
化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）がより好ましい。
【０１２０】
さらに、本発明の化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）としては、
Ｒ１が、ベンジルオキシメチル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、シクロオクテン環、テトラヒドロナフタレン環、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、Ｎ−ベンゾイルピロリジン環またはテトラヒドロチオフェン環を示し、
Ｒ２が、メチル基、イソプロピル基、またはＣ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、ハロゲン原子およびニトロ基から選択される置換基で置換されていてもよいフェニル基を示す、
化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）が特に好ましい。
【０１２１】
一方、本発明の光学活性モノスルホネート化合物の一つである化合物（ＶＩ）は、上記化合物（ＶＩＩ）を上記工程１および２に付して得られる化合物である。
当該化合物は、Ｓ体、Ｒ体のいずれであってもよい。
そして、これらの化合物は、工程１における光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）を使い分けることによって、プロキラルジオール化合物（例えば、化合物（ＶＩＩ））から、特定の立体化学を有する光学活性モノスルホネート化合物（例えば、Ｓ体の化合物（ＶＩ）またはＲ体の化合物（ＶＩ））を製造することが可能である。
【０１２２】
本発明の化合物（ＶＩ）としては、
Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示し、
Ｒ５が、Ｃ１−１８アルキル基、Ｃ６−１４アリール基、Ｃ７−１６アラルキル基またはアシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す、
化合物（ＶＩ）が好ましい。
【０１２３】
また、本発明の化合物（ＶＩ）としては、
Ｒ２が、メチル基、イソプロピル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｒ５が、アシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基を示す、
化合物（ＶＩ）がより好ましい。
【０１２４】
さらに、本発明の化合物（ＶＩ）としては、
Ｒ２が、ｐ−トリル基を示し、
Ｒ５が、エトキシカルボニル基またはフェニルカルバモイル基を示し、
Ｒ６が、メチル基またはエチル基を示す、
化合物（ＶＩ）が特に好ましい。
【０１２５】
工程３
本工程は、工程２で得られた光学活性モノスルホネート化合物を精製する工程である。
【０１２６】
上記工程で得られる光学活性モノスルホネート化合物は、反応混合物から自体公知の手段、例えば抽出、濃縮、中和、濾過、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、分取用高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、中圧分取液体クロマトグラフィー（中圧分取ＬＣ）等の手段を用いることによって単離・精製することができる。
【０１２７】
上記工程により、目的物である光学活性モノスルホネート化合物が遊離の状態で得られる場合には、常法に従って塩に変換してもよく、また塩として得られる場合には、常法に従って遊離体または他の塩に変換することもできる。
光学活性モノスルホネート化合物は、種々の塩を形成することができる。本発明のモノスルホネート化合物は、かかる化合物をも包含する。
光学活性モノスルホネート化合物の塩としては、例えば、金属塩、アンモニウム塩、有機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性または酸性アミノ酸との塩等があげられる。
【０１２８】
金属塩の好適な例としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩等のアルカリ土類金属塩；アルミニウム塩等が挙げられる。
有機塩基との塩の好適な例としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、２，６−ルチジン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン、トロメタミン〔すなわち、トリス（ヒドロキシメチル）メチルアミン〕、ｔｅｒｔ−ブチルアミン等との塩が挙げられる。
無機酸との塩の好適な例としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸等との塩が挙げられる。
有機酸との塩の好適な例としては、例えば、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フタル酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等との塩が挙げられる。
塩基性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えば、アルギニン、リジン、オルニチン等との塩が挙げられ、酸性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えば、アスパラギン酸、グルタミン酸等との塩が挙げられる。
【０１２９】
光学活性モノスルホネート化合物は、水和物および非水和物のいずれであってもよい。光学活性モノスルホネート化合物の水和物としては、例えば、０．５水和物、１水和物、１．５水和物および２水和物等が挙げられる。また、自体公知の溶媒との溶媒和物であってもよい。
また、光学活性モノスルホネート化合物は、同位元素（例、３Ｈ、１４Ｃ、３５Ｓ）などで標識されていてもよい。
本発明の光学活性モノスルホネート化合物は、上記の水和物、溶媒和物等の種々の化合物をも包含する。
【０１３０】
本発明により得られた光学活性モノスルホネート化合物を、例えば国際公開第２００６−０５３０３７号パンフレットおよび国際公開第２００６−１３８６７３号パンフレットに記載の方法に適用することで、抗不整脈剤の有効成分である下記化合物を製造することができる。
【０１３１】
【化２１】
【０１３２】
また、本発明の光学活性モノスルホネート化合物を、例えば国際公開第２００６−１０６０５４号パンフレットに記載の方法に適用することで、抗肥満薬の有効成分である下記化合物を製造することもできる。
【０１３３】
【化２２】
【０１３４】
さらに、本発明の光学活性モノスルホネート化合物を、例えばＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（２００４），４７（８），２０９７−２１０９に記載の方法に適用することで、抗癌剤の有効成分である下記化合物を製造することもできる。
【０１３５】
【化２３】
【実施例】
【０１３６】
以下、実施例を示してさらに具体的に本発明を説明する。以下は代表的な実施例を示すものでこれらに限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で種々の応用が可能である。
【０１３７】
実施例１
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロペンタンの製造
【０１３８】
【化２４】
【０１３９】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロペンタン−１，２−ジオール（５１．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ｐ−トルエンスルホニル（１１４．４ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）を加えた。１２時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロペンタン（収率９１％，９５％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
ＩＲ（ｎｅａｔ）νｍａｘ；３５５０，２９５９，１３５６，１１７７ｃｍ−１
［α］１９Ｄ −８．５（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９５％ｅｅ）．
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８３（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），４．７２−４．６２（ｍ，４Ｈ），４．１８−４．０８（ｍ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．２９−２．０８（ｂｒｓ，１Ｈ），１．９５−１．４０（ｍ，６Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．８，１３３．５，１２９．７，１２７．６，８４．０，７２．６，２９．８，２７．７，２１．５，１８．７．
ＭＳ［ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ ２５７［Ｍ＋Ｈ］＋．
ＨＰＬＣ：キラルセルＯＤ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝２０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：３０．１ｍｉｎ（［＋］），３２．３ｍｉｎ（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）．
【０１４０】
比較例１−１（ベンゾイル化）
１−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシシクロペンタンの製造
【０１４１】
【化２５】
【０１４２】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロペンタン−１，２−ジオール（５１．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ベンゾイル（０．０５８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。３時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して１−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシシクロペンタン（収率４７％，０％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
ＩＲ νｍａｘ； ３４４５，２９７１，１７１７，１４５１，１２７５，１１２３，９８４，７１２ｃｍ−１．
１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； １．５９−１．７０（ｍ，２Ｈ），１．７４−１．８４（ｍ，２Ｈ），１．８６−２．１５（ｍ，２Ｈ），４．３２（ｑ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），５．２４（ｑ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），８．０６（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ）．
キラルＨＰＬＣ：Ｄａｉｃｅｌ キラルセルＯＪカラム（４．６ ｍｍφ，２５ ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ ｎｍ，流速：０．５ ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：１５．１分，１８．２分．
【０１４３】
比較例１−２（モノカルバモイル化）
（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−（Ｎ−フェニルカルバモイル）オキシシクロペンタンの製造
【０１４４】
【化２６】
【０１４５】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロペンタン−１，２−ジオール（５１．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、続いてフェニルイソシアネート（０．０５４ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。３０分間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−（Ｎ−フェニルカルバモイル）オキシシクロペンタン（収率９１％，７２％ｅｅ）を白色固体として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
ｍｐ ６２−６４ｏＣ； ［α］２８．９Ｄ ０．８１（ｃ ０．５，ＣＨＣｌ３，７２％ ｅｅ）．
ＩＲ νｍａｘ； ３３１０，２９７１，１７１７，１６０３，１５４１，１５０９，１４４１，１３１８，１２２５，１０９０，７５２，６９３ ｃｍ−１．
１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； １．５６−１．６４（ｍ，２Ｈ），１．６６−１．７８（ｍ，２Ｈ），１．７９−２．０７（ｍ，２Ｈ），２．１７（ｓ，１Ｈ），４．２５（ｔ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ），５．０２（ｑ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），６．７８（ｓ，１Ｈ），７．０８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２８−７．３９（ｍ，４Ｈ）．
キラルＨＰＬＣ：Ｄａｉｃｅｌ キラルセルＯＪカラム（４．６ ｍｍφ，２５ ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：８．３分（（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍａｊｏｒ），１１．４分（（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）− ｉｓｏｍｅｒ，ｍｉｎｏｒ）．
【０１４６】
実施例２
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサンの製造
【０１４７】
【化２７】
【０１４８】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロヘキサン−１，２−ジオール（５８．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ｐ−トルエンスルホニル（１１４．４ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）を加えた。１２時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（収率９４％，９７％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
［α］１９Ｄ −８．１（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９７％ｅｅ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ） νｍａｘ； ３５５０，２９４２，１３５６，１１７５ｃｍ−１．
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８２（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），４．６８−４．５８（ｍ，４Ｈ），３．８８−３．７８（ｍ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．１０−１．２０（ｍ，９Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１４４．６，１３４．０，１２９．７，１２７．５，８３．０，６８．８，３０．１，２７．５，２１．５（２Ｃ），２０．６．
ＭＳ ［ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ ２７１ ［Ｍ＋Ｈ］＋．
ＨＰＬＣ：キラルセルＯＤ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：１５．２分（［＋］），１６．９分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）．
【０１４９】
比較例２−１（ベンゾイル化）
（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−１−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサンの製造
【０１５０】
【化２８】
【０１５１】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロヘキサン−１，２−ジオール（５８．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ベンゾイル（０．０５８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。３時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−１−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサン（収率９０％，９８％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
［α］２４Ｄ １２．１（ｃ １．０，ＭｅＯＨ）．
ＩＲ νｍａｘ； ３４８０，２９３９，１７２１，１４５０，１２８８，１１１３，９８４，７１５ｃｍ−１．
１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； １．３９−１．５２（ｍ，２Ｈ），１．６８−１．９０（ｍ，４Ｈ），１．９８−２．０７（ｍ，２Ｈ），３．９６−３．９９（ｍ，１Ｈ），５．２２−５．２４（ｍ，１Ｈ），７．４６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５５−７．６０（ｍ，１Ｈ），８．０５−８．０８（ｍ，２Ｈ）．
キラルＨＰＬＣ：Ｄａｉｃｅｌ キラルセルＯＪカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１，波長：２５４ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：１３．１分（（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍａｊｏｒ），１６．５分（（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍｉｎｏｒ）．
【０１５２】
比較例２−２（モノカルバモイル化）
（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−２−ヒドロキシ−１−（Ｎ−フェニルカルバモイル）オキシシクロヘキサンの製造
【０１５３】
【化２９】
【０１５４】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロヘキサン−１，２−ジオール（５８．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、続いてフェニルイソシアネート（０．０５４ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。３０分間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−２−ヒドロキシ−１−（Ｎ−フェニルカルバモイル）オキシシクロヘキサン（収率９２％，７６％ｅｅ）を白色固体として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
ｍｐ ７２−７６ｏＣ； ［α］２２Ｄ ４．９（ｃ ０．５，ＣＨＣｌ３）．
ＩＲ νｍａｘ； ３３２１，２９４０，２８６３，１７０１，１６０１，１５４５，１５０１，１４５０，１３１４，１２３３，１０６５，１００１，７５６，６９４ ｃｍ−１．
１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； １．３８−１．４３（ｍ，２Ｈ），１．６６−１．８３（ｍ，４Ｈ），１．８６−１．９７（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｓ，１Ｈ），３．９６（ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ），４．９４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．８１（ｓ，１Ｈ），７．０７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２８−７．４０（ｍ，４Ｈ）．
キラルＨＰＬＣ：Ｄａｉｃｅｌ キラルセルＯＪカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２１０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：７．７分（（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍａｊｏｒ），１２．０分（（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍｉｎｏｒ）．
【０１５５】
実施例３〜１２、比較例３−１〜１２−２
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化、モノベンゾイル化およびモノカルバモイル化による不斉非対称化の比較
【０１５６】
実施例１、比較例１−１または比較例１−２におけるメソ−シクロペンタン−１，２−ジオールを種々のメソ−１，２−ジオール（表１中の「ジオール」）に変えた以外は、それぞれ同様の方法でメソ−１，２−ジオールの不斉非対称化を試みた（ただし、実施例１２は２４時間反応させた）。
得られた化合物の収率と光学純度を表１に示す。なお参考として、実施例１、比較例１−１および比較例１−２、ならびに実施例２、比較例２−１および比較例２−２の収率と光学純度を掲載している。
また、表１中、例えば、「番号３」の行の「実施例」の列に記載されたデータは、「実施例３の化合物の収率および光学純度」を示し、「番号４」の行の「比較例１」の列に記載されたデータは、「比較例４−１の化合物の収率および光学純度」を示し、「番号５」の行の「比較例２」の列に記載されたデータは、「比較例５−２の化合物の収率および光学純度」を示す。
【０１５７】
【表１】
【０１５８】
この結果から、本発明のメソ−１，２−ジオールの光学活性モノスルホニル化（光学活性モノトシル化）は、メソ−１，２−ジオールをモノベンゾイル化、モノカルバモイル化するよりも高収率、高光学純度で達成されることが分かった。
【０１５９】
得られた実施例化合物の物性データを以下に示す。
【０１６０】
（実施例３）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘプタン
【０１６１】
【化３０】
【０１６２】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８１（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），４．７２−４．６２（ｍ，１Ｈ），４．００−３．８９（ｍ，１Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），２．２０−１．２０（ｍ，１１Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．６，１３３．８，１２９．７，１２７．５，８６．６，７２．２，３０．８，２８．４，２６．４，２２．１，２１．４，２１．３；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９３６，１５９９，１３５６，１１７９ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：３１．６分（［＋］），３５．９分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］１９Ｄ −１１．８（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９９％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１４Ｈ２１Ｏ４Ｓからの計算値 ［Ｍ＋Ｈ］＋：２８５．１１６１，実測値：２８５．１１７６．
【０１６３】
（実施例４）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロオクタン
【０１６４】
【化３１】
【０１６５】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），４．８１−４．７０（ｍ，１Ｈ），４．００−３．８９（ｍ，１Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），２．１８−１．２７（ｍ，１３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．６，１３３．９，１２９．７，１２７．５，８５．８，７１．５，２９．９，２７．９，２６．７，２５．３，２３．７，２１．６，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９２６，１５９９，１３５６，１１７５ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：２９．３分（［＋］），３０．３分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］１９Ｄ −１８．３（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９８％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１５Ｈ２３Ｏ４Ｓからの計算値 ［Ｍ＋Ｈ］＋：２９９．１３１７，実測値：２９９．１３１７．
【０１６６】
（実施例５）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシ−４−シクロヘキセン
【０１６７】
【化３２】
【０１６８】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），５．６２−５．４２（ｍ，２Ｈ），４．８１−４．７２（ｍ，１Ｈ），４．１０−３．９９（ｍ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．４２−２．１０（ｍ，５Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．７，１３３．８，１２９．７，１２７．６，１２３．８，１２２．２，８０．４，６６．９，３１．３，２８．３，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５２８，２９２４，１５９９，１３６０，１１８０ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：２４．２分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），３０．３分（［＋］）；
［α］１９Ｄ −１５．９（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１３Ｈ１７Ｏ４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋ ：２６９．０８４８，実測値：２６９．０８５１．
【０１６９】
（実施例６）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシ−５−シクロオクテン
【０１７０】
【化３３】
【０１７１】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），５．７５−５．５５（ｍ，２Ｈ），４．８３−４．７３（ｍ，１Ｈ），４．１０−３．９６（ｍ，１Ｈ），２．６４−２．４９（ｍ，２Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．４１−２．２５（ｂｒｓ，１Ｈ），２．０６−１．５５（ｍ，６Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．７，１３３．５，１３０．５，１２９．７，１２９．０，１２７．６，８７．５，７３．２，３２．９，３０．５，２１．５（２Ｃ），２１．０；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９３８，１５９９，１３５６，１１７５ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１７．３分（［＋］），２１．９分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２１Ｄ −３３．５（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９９％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１５Ｈ２１Ｏ４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋ ：２９７．１１６１，実測値：２９７．１１７１．
【０１７２】
（実施例７）
（２Ｓ，３Ｒ）−（＋）−３−ヒドロキシ−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシ−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン
【０１７３】
【化３４】
【０１７４】
無色結晶；
Ｍｐ：１２６−１２８℃；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．１８−６．９１（ｍ，４Ｈ），４．９７−４．８７（ｍ，１Ｈ），４．２８−４．１８（ｍ，１Ｈ），３．２２−２．８７（ｍ，４Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．２９（ｂｒｓ，１Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．９，１３３．６，１３２．２，１３１．３，１２９．８，１２９．０，１２８．６，１２７．６，１２６．５，１２６．２，８０．５，６７．４，３４．５，３１．８，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９２６，１５９７，１３５６，１１７７ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルパックＡＳカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１１．２分（［−］），１３．８分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２１Ｄ ＋１５．２（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９８％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１７Ｈ１９Ｏ４Ｓからの計算値 ［Ｍ＋Ｈ］＋：３１９．１００４，実測値：３１９．１００５．
【０１７５】
（実施例８）
（３Ｓ，４Ｒ）−（＋）−１−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−３−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシピロリジン
【０１７６】
【化３５】
【０１７７】
泡状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．６８−７．２０（ｍ，７Ｈ），５．０１−４．９１，４．７８−４．６５（ｍ，ｔｏｔａｌ １Ｈ），４．５０−４．３８，４．３８−４．２５（ｍ，ｔｏｔａｌ １Ｈ），３．９２−３．４３（ｍ，４Ｈ），３．２５，３．１４（ｂｒｓ，ｔｏｔａｌ １Ｈ），２．４６，２．４２（ｓ，ｔｏｔａｌ ３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６９．９，１４５．５，１３５．２，１３０．３，１３０．０，１２９．９，１２８．２，１２７．７，１２７．１，７８．６，７８．２，７０．１，６８．８，５２．６，５０．４，５０．０，４８．４，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３３５０，２９２５，１６２０，１３６４，１１７７ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１６．１分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１９．７分（［−］）；
［α］２１Ｄ ＋２２．７（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９４％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１８Ｈ２０ＮＯ５Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：３６２．１０６２，実測値：３６２．１０７３．
【０１７８】
（実施例９）
（３Ｓ，４Ｒ）−（−）−４−ヒドロキシ−３−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシテトラヒドロフラン
【０１７９】
【化３６】
無色結晶；
Ｍｐ：９２−９４℃；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），４．９０−４．８０（ｍ，１Ｈ），４．４３−４．３３（ｍ，１Ｈ），４．０２−３．６５（ｍ，４Ｈ），２．５５（ｂｒｓ，１Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４５．４，１３２．６，１２９．９，１２７．８，７９．０，７１．９，７０．３，６９．１，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３４２５，２９５５，１５９７，１３７２，１１８０ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１９．７分（［＋］），２１．５分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２４Ｄ −１０．０（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９５％ｅｅ）；
ＭＳ［ＬＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ ２５９［Ｍ＋Ｈ］＋．
【０１８０】
（実施例１０）
（３Ｒ，４Ｓ）−（−）−４−ヒドロキシ−３−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシテトラヒドロチオフェン
【０１８１】
【化３７】
【０１８２】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），４．９１−４．８１（ｍ，１Ｈ），４．４６−４．３５（ｍ，１Ｈ），３．０２−２．７４（ｍ，４Ｈ），２．５８（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４５．３，１３２．９，１２９．９，１２７．７，８２．８，７３．３，３２．３，２９．８，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９４６，１５９７，１３６２，１１７９ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルパックＡＳカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝８：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：３７．７分（［＋］），４７．４分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２２Ｄ −４．１（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９４％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１１Ｈ１５Ｏ４Ｓ２からの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：２７５．０４１２，実測値：２７５．０４１４．
【０１８３】
（実施例１１）
（２Ｓ，３Ｒ）−（−）−３−ヒドロキシ−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシブタン
【０１８４】
【化３８】
【０１８５】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），４．６１−４．５１（ｍ，１Ｈ），３．９５−３．８２（ｍ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．１３（ｂｒｓ，１Ｈ），１．２１（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ），１．１２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．６，１３３．９，１２９．７，１２７．６，８３．０，６９．１，２１．４，１７．４，１４．７；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９８４，１５９９，１３５６，１１８１ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１７．８分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），２０．０分（［＋］）；
［α］１８Ｄ −１１．３（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９９％ｅｅ）；
ＭＳ［ＬＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ ２４５［Ｍ＋Ｈ］＋．
【０１８６】
（実施例１２）
（２Ｓ，３Ｒ）−（＋）−１，４−ビス（ベンジルオキシ）−３−ヒドロキシ−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシブタン
【０１８７】
【化３９】
【０１８８】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．７５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３９−７．１７（ｍ，１２Ｈ），４．７９−４．６９（ｍ，１Ｈ），４．５２−４．２９（ｍ，４Ｈ），４．１０−４．００（ｍ，１Ｈ），３．７８−３．４２（ｍ，４Ｈ），２．７２（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），２．３８（ｓ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．５，１３７．５，１３７．４，１３３．７，１２９．５，１２８．３，１２８．２，１２７．７（２Ｃ），１２７．６（２Ｃ），１２７．５，８０．３，７３．２（２Ｃ），６９．８，６９．２，６８．３，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２８６９，１５９９，１３６２，１１７９ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝２：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：２５．３分（［−］），２９．４分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２０Ｄ ＋０．８（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９３％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ２５Ｈ２９Ｏ６Ｓからの計算値 ［Ｍ＋Ｈ］＋：４５７．１６８５，実測値：４５７．１６８７．
【０１８９】
実施例１３
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、塩基の影響
【０１９０】
炭酸カリウムを他の塩基に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表２に示す。
【０１９１】
【表２】
【０１９２】
この結果から、トリエチルアミン、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムおよびジイソプロピルエチルアミンを本発明の製造方法における塩基として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。
【０１９３】
実施例１４
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、溶媒の影響
【０１９４】
ジクロロメタンを他の溶媒に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表３に示す。
【０１９５】
【表３】
【０１９６】
この結果から、上記溶媒を本発明の製造方法における溶媒として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。
【０１９７】
実施例１５〜１９
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、スルホニル化剤の影響
【０１９８】
塩化ｐ−トルエンスルホニルを他のスルホニル化剤に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表４に示す。
【０１９９】
【表４】
【０２００】
これらの結果から、上記スルホニル化剤を本発明の製造方法におけるスルホニル化剤として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。
【０２０１】
得られた光学活性モノスルホネート化合物の物性データを以下に示す。
【０２０２】
（実施例１５）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−ニトロベンゼンスルホニル）オキシシクロヘキサン
【０２０３】
【化４０】
【０２０４】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ８．４０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．１５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），４．８５−４．７２（ｍ，１Ｈ），３．９１−３．７８（ｍ，１Ｈ），２．０８−１．２２（ｍ，９Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １５０．５，１４２．８，１２８．９，１２４．２，８４．６，６８．９，３０．０，２７．９，２１．２，２０．８；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５６７，２９４４，１５４１，１３６０，１１８６ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：８．１分（［＋］），１０．２分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２７Ｄ −４．９（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９２％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１２Ｈ１６ＮＯ６Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：３０２．０６９８，実測値：３０２．０６９３．
【０２０５】
（実施例１６）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−クロロベンゼンスルホニル）オキシシクロヘキサン
【０２０６】
【化４１】
【０２０７】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），４．７２−４．６１（ｍ，１Ｈ），３．８８−３．７７（ｍ，１Ｈ），２．０７（ｂｒｓ，１Ｈ），２．００−１．２２（ｍ，８Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４０．２，１３５．６，１２９．４，１２８．９，８３．６，６８．８，３０．１，２７．７，２１．４，２０．６；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９４４，１４７８，１３６２，１１８４ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：８．６分（［＋］），１１．２分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］１８Ｄ −５．５（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９３％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１２Ｈ１６ＣｌＯ４Ｓからの計算値 ［Ｍ＋Ｈ］＋：２９１．０４５８，実測値：２９１．０４６８．
【０２０８】
（実施例１７）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−ベンゼンスルホニルオキシシクロヘキサン
【０２０９】
【化４２】
【０２１０】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．９５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．７１−７．５０（ｍ，３Ｈ），４．７１−４．６０（ｍ，１Ｈ），３．９０−３．７６（ｍ，１Ｈ），２．１５（ｂｒｓ，１Ｈ），２．００−１．１８（ｍ，８Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １３７．０，１３３．６，１２９．１，１２７．４，８３．３，６８．８，３０．０，２７．６，２１．５，２０．６；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９４２，１４４９，１３６０，１１８６ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１９．２分（［＋］），２２．３分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］１９Ｄ −５．０（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９８％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１２Ｈ１７Ｏ４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：２５７．０８４８，実測値：２５７．０８６２．
【０２１１】
（実施例１８）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−メトキシベンゼンスルホニル）オキシシクロヘキサン
【０２１２】
【化４３】
【０２１３】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），４．６４−４．５３（ｍ，１Ｈ），３．９１−３．７６（ｍ，４Ｈ），２．０７−１．２１（ｍ，９Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６３．５，１２９．７，１２８．３，１１４．２，８２．８，６８．８，５５．５，３０．１，２７．６，２１．５，２０．６；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３６５０，２９４４，１５９７，１３４８，１１６３ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１６．７分（［＋］），１９．７分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］１８Ｄ −７．４（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９４％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１３Ｈ１９Ｏ５Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：２８７．０９５３，実測値：２８７．０９６６．
【０２１４】
（実施例１９）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−メタンスルホニルオキシシクロヘキサン
【０２１５】
【化４４】
【０２１６】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ４．８４−４．７４（ｍ，１Ｈ），３．９３−３．８２ （ｍ，１Ｈ），３．０９ （ｓ，３Ｈ），２．３９ （ｂｒｓ，１Ｈ），２．１５−２．００ （ｍ，１Ｈ），１．８３−１．２１ （ｍ，７Ｈ）．
【０２１７】
なお、この化合物は光学純度の分析が難しいので、以下の方法により安息香酸エステル化し、（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−メタンスルホニルオキシシクロヘキサンに変換した。
【０２１８】
【化４５】
【０２１９】
室温で（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−メタンスルホニルオキシシクロヘキサン（１ｍｍｏｌ、９７％ｅｅ）とトリエチルアミン（１．５当量）および４−ジメチルアミノピリジン（１．０当量）のジクロロメタン溶液（４ｍＬ）へ塩化ベンゾイル（１．５当量）を加えた。２４時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−メタンスルホニルオキシシクロヘキサン（収率９３％，７７％ｅｅ）を無色結晶として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２２０】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ８．０７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．３１−５．２１（ｍ，１Ｈ），５．０５−４．９６（ｍ，１Ｈ），２．９９（ｓ，３Ｈ），２．２５−１．４０（ｍ，８Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６５．６，１３３．１，１２９．５，１２８．３，７９．１，７１．５，３８．５，２９．３，２７．１，２１．７，２０．７；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９４４，１７２０，１３６０，１１８３ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１６．７分（［＋］），１８．９分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２７Ｄ −４．６（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，７７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１４Ｈ１９Ｏ５Ｓ［Ｍ＋Ｈ］＋における計算値：２９９．０９５３，実測値：２９９．０９６９．
【０２２１】
実施例２０
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、金属塩（触媒種）の影響
【０２２２】
トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）を他の金属塩に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表５に示す。
【０２２３】
【表５】
【０２２４】
この結果から、上記金属塩のうち、ＣｕＣｌ２、Ｚｎ（ＯＴｆ）２、ＣｕＦ２、Ｃｕ（ＢＦ４）２およびＣｕ（ＰＦ６）２を本発明の製造方法における金属塩として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。
【０２２５】
実施例２１
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、不斉配位子（光学活性ビスオキサゾリン化合物）の影響
【０２２６】
（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）を他の不斉配位子に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表６に示す。
【０２２７】
【表６】
【０２２８】
この結果から、上記不斉配位子のうち、（Ｓ，Ｓ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸ、（Ｒ，Ｒ）−Ｂｎ−ＢＯＸおよび（４Ｓ，５Ｒ）−Ｉｎ−ＢＯＸを本発明の製造方法における不斉配位子として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。
【０２２９】
実施例２２
（２Ｓ，３Ｒ）−（−）−３−ヒドロキシ−２−ベンゼンスルホニルオキシブタン
【０２３０】
【化４６】
【０２３１】
塩化ｐ−トルエンスルホニルの代わりに塩化ベンゼンスルホニルを使用した以外は実施例１１と同様の方法で、表題化合物を得た。
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．９４（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），７．６７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），４．６５−４．５３（ｍ，１Ｈ），３．９５−３．８２（ｍ，１Ｈ），２．１５（ｂｒｓ，１Ｈ），１．２２（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１２（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １３６．９，１３３．６，１２９．１，１２７．５，８３．３，６９．１，１７．４，１４．７；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９８６，１４４９，１３６４，１１９４ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルパックＡＳカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１６．６分（［＋］），１９．４分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］１８Ｄ −１０．４（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９６％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１０Ｈ１５Ｏ４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：２３１．０６９１，実測値：２３１．０７０４．
【０２３２】
実施例２３
（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシメチルプロピオン酸エチルの製造
【０２３３】
【化４７】
【０２３４】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへ２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸エチル（８１．０ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ｐ−トルエンスルホニル（９５．３ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。４８時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシメチルプロピオン酸エチル（収率５７％，７８％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．７９（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．１，２Ｈ），４．２６（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ），４．１４（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．０９（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ），３．６９（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，４Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ）２．３６（ｂｒｔ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），１．２３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），１．１６（ｓ，３Ｈ）；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＤ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１５：１，波長：２５４ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１５．５分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１７．１分（［＋］）；
［α］２５Ｄ −２．９（ｃ ０．７，ＣＨＣｌ３，７８％ｅｅ）．
【０２３５】
実施例２４
（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミドの製造
【０２３６】
【化４８】
【０２３７】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへ２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド（１１１．６ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ｐ−トルエンスルホニル（１１４．４ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）を加えた。１２時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド（収率９３％，８７％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ８．６８（ｂｒｓ，１Ｈ）、７．７８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３５−７．２３（ｍ，４Ｈ），７．１１（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），４．２８（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），４．１７（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，２Ｈ），３．９５（ｄｄ，Ｊ＝１１．４，５．７Ｈｚ，１Ｈ），３．８４（ｄｄ，Ｊ＝１１．４，５．７Ｈｚ，１Ｈ），３．００（ｂｒｓ，１Ｈ），２．４４（ｓ，３Ｈ）１．８５−１．６３（ｍ，２Ｈ），０．８７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ）；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３３００，２９２６，１６６１，１５９９，１３６０，１１７７ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：４５．７分（［＋］），５２．１分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２６Ｄ −４３．２（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，８７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１７Ｈ１９Ｏ４Ｓからの計算値 ［Ｍ＋Ｈ］＋：３７８．１３７５，実測値：３７８．１３８３．
【０２３８】
比較例１３
（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（Ｎ−フェニル）カルバモイルオキシメチルブタン酸エチルの製造
【０２３９】
【化４９】
【０２４０】
トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｓ，Ｓ）−（−）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を少量のジクロロメタン中（４ｍＬ）で混合し、溶解後（３０分以内）ジクロロメタンを減圧留去すると青緑色の固体が残った。このフラスコ内に２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸エチル（０．０８８ｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加えてテトラヒドロフラン２ｍｌに溶解し、その溶液を氷水中で冷却した。約１０分冷却した後フェニルイソシアネート０．０５４ｍＬ（分子量 １１９．１２，ｄ＝１．１０，０．５ｍｍｏｌ）を加えて撹拌した。一時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１０ｍＬ）で三回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（Ｎ−フェニル）カルバモイルオキシメチルブタン酸エチル０．１２９ｇ（収率８８％、５５％ｅｅ）を得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下のとおりであった。
無色油状物。
ＩＲ νｍａｘ； ３３４１，２９７５，１７３６，１６０３，１５４５，１４４７，１３１８，１２３５，１１４４，１０６８，８６２，７５６，６９３ｃｍ−１．
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； ０．９１（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．２８（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），１．５６−１．７２（ｍ，２Ｈ），２．９４（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），３．６８（ｄｄ，Ｊ＝６．９，１２．０Ｈｚ，１Ｈ），３．７９（ｄｄ，Ｊ＝６．９，１２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．２１（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．４０（ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，１Ｈ），４．４９（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．３８（ｓ，１Ｈ），７．０９（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２９−７．３６（ｍ，４Ｈ）．
ＨＰＬＣ：キラルパックＡＤカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ．保持時間：１６．４分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１８．２分（［＋］），［α］２３．８Ｄ −６．７１（ｃ ０．５０，ＣＨＣｌ３，５５％ｅｅ）．
【０２４１】
比較例１４
２−ベンゾイルオキシメチル−２−ヒドロキシメチルブタン酸エチルの製造
【０２４２】
【化５０】
【０２４３】
トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｓ，Ｓ）−（−）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を少量のジクロロメタン中（４ｍＬ）で混合し、溶解後（３０分以内）ジクロロメタンを減圧留去すると青緑色の固体が残った。このフラスコ内に２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸エチル（０．０８８ｇ，０．５ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（０．０１３１ｍＬ，０．７５ｍｍｏｌ）を加えてテトラヒドロフラン２ｍＬに溶解させた後、塩化ベンゾイル（０．０５８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えて撹拌した。一時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１０ｍＬ）で三回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して２−ベンゾイルオキシメチル−２−ヒドロキシメチルブタン酸エチル０．０３３ｇ（収率２２％、０％ｅｅ）を得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下のとおりであった。
無色油状物．
ＩＲ νｍａｘ； ３５１０，２９７３，１７２８，１４５３，１３１８，１２７５，１１１３，１０２６，９７０，７１２ｃｍ−１．
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； ０．９５（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．２７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），１．６５−１．７４（ｍ，２Ｈ），２．６０（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），３．７２−３．８７（ｍ，２Ｈ），４．２３（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．５３（ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１Ｈ），４．６５（ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ．
ＨＰＬＣ：キラルパックＡＤカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：１０．４分，１１．４分．
【０２４４】
比較例１５
（＋）−２−ヒドロキシメチル−２−（Ｎ−フェニル）カルバモイルオキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミドの製造
【０２４５】
【化５１】
【０２４６】
２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸エチルを、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド（１１２ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）に変え、塩化ベンゾイルをフェニルイソシアネートに変えた以外は、比較例１４と同様の方法で製造した。生成物の分析結果は以下のとおりであった。
白色固体。
融点、４７−５０℃．
ＩＲ νｍａｘ； ３３００，３０６１，２９７０，１７１３，１６６３，１６０１，１５０１，１４４５，１３１６，１２３１，１０６９，８９９，７５４，６９３，５０７ｃｍ−１．
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ； ０．９７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．６２−１．６９（ｍ，１Ｈ），１，８６−１．９５（ｍ，１Ｈ），３．７８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），３．７９−３．９５（ｍ，１Ｈ），４．１９（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），４．７４（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．８６（ｓ，１Ｈ），７．１１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．２７−７．３５（ｍ，６Ｈ），７．５５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），９．１３（ｓ，１Ｈ）．
ＨＰＬＣ：キラルセルＯＪカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２５４ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ．保持時間：２１．１分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１５．７分（［−］）．［α］２２．０Ｄ ３３．６８（ｃ １．００，ＣＨＣｌ３，６１％ｅｅ）．
Ｃ１９Ｈ２２Ｎ２Ｏ４からの計算値：Ｃ，６６．６５；Ｈ，６．４８；Ｎ，８．１８，実測値：Ｃ，６６．４７；Ｈ，６．５６；Ｎ，８．０８．
【０２４７】
比較例１６
（＋）−２−ベンゾイルオキシメチル−２−ヒドロキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミドの製造
【０２４８】
【化５２】
【０２４９】
トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｓ，Ｓ）−（−）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を少量のジクロロメタン中（４ｍＬ）で混合し、溶解後（３０分以内）ジクロロメタンを減圧留去すると青緑色の固体が残った。このフラスコ内に２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド（１１１．６ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（０．０１３１ｍＬ，０．７５ｍｍｏｌ）を加えてテトラヒドロフラン２ｍＬに溶解させた後、塩化ベンゾイル（０．０５８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えて撹拌した。一時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１０ｍＬ）で三回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（＋）−２−ベンゾイルオキシメチル−２−ヒドロキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド０．０７７ｇ（収率４７％、２３％ｅｅ）を得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下のとおりであった。
無色固体。
Ｍｐ：８５−９５℃
ＩＲ νｍａｘ； ３３１１，３０６３，２９７１，２８８２，１７２２，１６５５，１６０１，１５４１，１５０１，１４４７，１３１６，１２７９，１１７７，１１１５，１０７１，１０２８，９７０，９１１，７５６，７１２，６９３ｃｍ−１．
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； １．００（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．７１−１．８３（ｍ，１Ｈ），１．９３−２．０５（ｍ，１Ｈ），３．３９（ｓ，１Ｈ），３．７９（ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．００（ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．８８（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．１１（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３３（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５３−７．６３（ｍ，２Ｈ）８．０５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），９．００（ｓ，１Ｈ）．
ＨＰＬＣ：キラルセルＯＤカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１，波長：２５４ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：５８．６分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），６４．８分（［−］），［α］２２．０Ｄ ＋３．９（ｃ ０．７８，ＣＨＣｌ３，２３％ｅｅ）．
【０２５０】
応用例１（光学活性モノスルホネート体の利用）
工程１：（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサンの製造
【０２５１】
【化５３】
【０２５２】
室温で（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（２００ｍｇ，０．７４ｍｍｏｌ，９７％ｅｅ）とトリエチルアミン（１．５当量）および４−ジメチルアミノピリジン（１．０当量）のジクロロメタン（４ｍＬ）溶液へ塩化ベンゾイル（１．２当量）を加えた。２４時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（収率８４％，９７％ｅｅ）を無色結晶として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
Ｍｐ：１０２−１０４℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８９（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．５４（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４０（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），５．０２−４．９２（ｍ，１Ｈ），４．９０−４．８０（ｍ，１Ｈ），２．２６（ｓ，３Ｈ），２．１９−１．３１（ｍ，８Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６５．３，１４４．２，１３３．８，１３２．８，１２９．７ １２９．５（２Ｃ），１２８．０，１２７．４，７９．０，７１．７，２９．１，２６．６，２２．２，２１．４，２０．１；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９４６，１７１９，１５９９，１３６２，１１７７ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１２．３分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１９．５分（［＋］）；
［α］２７Ｄ −１２．２（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ２０Ｈ２３Ｏ５Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：３７５．１２６６，実測値：３７５．１２５６．
【０２５３】
工程２：（１Ｒ，２Ｒ）−２−アジド−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサンの製造
【０２５４】
【化５４】
【０２５５】
上記工程１で得られた（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（３７４．５ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ，９７％ｅｅ）のＤＭＦ（５ｍＬ）溶液へ、アジ化ナトリウム（１３０ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）と１５−クラウン−５（２２ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）を室温で加えた。１２時間、９０℃にて攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製して（１Ｒ，２Ｒ）−２−アジド−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサン（収率９３％，９７％ｅｅ）を無色結晶として得た。生成物の分析結果は以下の通りであった。
Ｍｐ：９０−９２℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ８．０７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），５．００−４．８３（ｍ，１Ｈ），３．６３−３．４８（ｍ，１Ｈ），２．２８−１．２８（ｍ，８Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６５．６，１３２．９，１２９．９，１２９．５，１２８．２，７５．８，６３．２，３０．３，３０．２，２３．６，２３．３；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９４４，２１１０，１７２８，１４５２，１２８１ｃｍ−１；
［α］２０Ｄ −１３２．１（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１３Ｈ１６Ｎ３Ｏ２からの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：２４６．１２４３，実測値：２４６．１２５９．
【０２５６】
工程３：（１Ｒ，２Ｒ）−２−アミノ−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサンの製造
【０２５７】
【化５５】
【０２５８】
上記工程２で得られた（１Ｒ，２Ｒ）−２−アジド−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサン（１．０ｍｍｏｌ）のメタノール（５ｍＬ）溶液へ、１０％パラジウム炭素（１３０ｍｇ）を室温で加え、１気圧の水素雰囲気下、室温にて１２時間攪拌後、セライト濾過した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。濾液を減圧濃縮して（１Ｒ，２Ｒ）−２−アミノ−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサン（定量的）を無色油状物として得た。
これは、精製することなく次の工程に用いた。
【０２５９】
工程４：（１Ｒ，２Ｒ）−（−）−１−ベンゾイルオキシ−２−（Ｎ−ベンゾイル）アミノシクロヘキサンの製造
【０２６０】
【化５６】
【０２６１】
上記工程３で得られた（１Ｒ，２Ｒ）−（−）−２−アミノ−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサン（１．０ｍｍｏｌ）のトリエチルアミン（２．０当量）および４−ジメチルアミノピリジン（０．２当量）のジクロロメタン（４ｍＬ）溶液へ塩化ベンゾイル（１．２当量）を室温で加えた。１２時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｒ，２Ｒ）−（−）−１−ベンゾイルオキシ−２−（Ｎ−ベンゾイル）アミノシクロヘキサン（収率８５％、９７％ｅｅ）を無色結晶として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
Ｍｐ：１４９−１５１℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ８．０１（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５８−７．２８（ｍ，６Ｈ），６．６２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），５．１１−４．９８（ｍ，１Ｈ），４．３１−４．１７（ｍ，１Ｈ），２．３７−１．２１（ｍ，８Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６７．６，１６６．９，１３４．３，１３３．０，１３１．１，１２９．７，１２９．６，１２８．３，１２８．２，１２６．６，７５．２，５３．６，３２．０，３１．１，２４．１（２Ｃ）；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３３００，２９４０，１７１７，１６３８，１５４１，１２７３ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＤカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝２０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１１．１分（［＋］），１４．８分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２１Ｄ −８５．６（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＬＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ ３２４［Ｍ＋Ｈ］＋．
【０２６２】
応用例２（光学活性モノスルホネート体の利用）
（３Ｒ）−（＋）−３−ベンゾイルオキシシクロヘキセンの製造
【０２６３】
【化５７】
【０２６４】
上記応用例１の工程１で得られた（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（２．０ｍｍｏｌ，９７％ｅｅ）のＤＭＦ（５ｍＬ）溶液へ、室温でＤＢＵ（２．０当量）を加え、１８時間、１２０℃にて攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製して（３Ｒ）−（＋）−３−ベンゾイルオキシシクロヘキセン（収率８０％，９７％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ８．０６（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４２（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ），６．０７−５．９１（ｍ，１Ｈ），５．９１−５．７８（ｍ，１Ｈ），５．５８−５．４４（ｍ，１Ｈ），２．３０−１．５６（ｍ，８Ｈ）．
ＨＰＬＣ キラルパックＡＤカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝９９．７：０．３，波長：２１０ｎｍ，流速：０．５ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１３．６分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１５．０分（［−］）；
［α］２６Ｄ ＋２１５．６（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＬＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ ２０３［Ｍ＋Ｈ］＋．
【０２６５】
なお、（３Ｓ）−（−）−３−ベンゾイルオキシシクロヘキセンは、本応用例２の方法に準じた方法によって容易に合成することができ、当該化合物は、ロイコトリエンＢ４合成の中間体となり得る（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ（１９９０）、３１（２３）、３３５５−３３５６参照）。
【０２６６】
以上のように、本発明の製造方法によって得られたモノスルホネート化合物を利用することにより、種々のキラル医薬に係る合成中間体を製造することが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【０２６７】
本発明によれば、ジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することによって、各種キラル医薬の合成素子として重要な光学活性モノスルホネート化合物を高収率かつ高立体選択的に得ることができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にスルホニル化することで得られる、光学活性モノスルホネート化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学活性ジオール類は各種キラル医薬の合成素子として重要であり、その不斉合成法の開発研究が活発に行われている。
光学活性ジオール類の合成法としては、近年発明者らにより、不斉銅錯体を触媒とする、メソ−１，２−ジオール類の不斉モノアシル化（非特許文献１および特許文献１参照）ならびにメソ−１，２−ジオール類のモノカルバモイル化（非特許文献２参照）などの不斉合成法が報告されている。
しかし、上記した不斉モノアシル化やモノカルバモイル化法では、適用されるジオール類の種類によってエナンチオ選択性がそれほど高くない場合があった（非特許文献３参照）。
【０００３】
一方、スルホン酸エステル類は、アシル基やカルバモイル基に比べ求核試薬や塩基に対するより良好な脱離基となることが知られている。よってジオール類をエナンチオ選択的にモノスルホニル化することにより得られた化合物も同様に、種々のキラル医薬の合成素子となり得る。
【０００４】
ジオール類のモノスルホニル化反応としては、ピリジンなどの塩基存在下、アルキルまたはアリールスルホニルハライドと反応させる方法が古くから知られている（例えば、非特許文献４参照）。しかし、この方法によればジスルホネート体も同時に生じるため、片方の水酸基を選択的にモノスルホニル化するための方法の開発が求められていた。
近年、Ｍａｒｔｉｎｅｌｌｉらによって、下記式で示すように触媒量のジブチル酸化スズでメソ−１，２−ジオール類のモノスルホニル化が効率的に進行する手法が報告された（非特許文献５〜７参照）。
【０００５】
【化１】
【０００６】
しかし、上記方法で得られるモノスルホネート体はラセミ体であった。さらに光学活性なモノスルホネート体を得る方法としては、下記式で示すような光学活性アルコールのモノスルホニル法（非特許文献８）およびα−ケトスルホネートの不斉還元法（非特許文献９）が知られているだけである。
【０００７】
【化２】
【０００８】
【化３】
【０００９】
このように、ジオール類をエナンチオ選択的にモノスルホニル化する方法はほとんど知られていない。従って、当該方法であって従来法（不斉モノアシル化やモノカルバモイル化法）より簡便で、かつ高い立体選択性を有する新たな方法が求められている。
【００１０】
【特許文献１】特開２００３−３１３１５３号公報
【非特許文献１】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ． ２００３，１２５，２０５２−２０５３．
【非特許文献２】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．２００６，４７，８４５３−８４５６．
【非特許文献３】有機合成化学協会誌 第６５巻 Ｎｏ．３、２００７年、２１６−２２５頁
【非特許文献４】Ｄｕｔｈａｌｅｒ，Ｒ．Ｏ．；Ｍａｉｅｎｆｉｓｃｈ，Ｐ．Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ １９８４，６７，８３２−４４．
【非特許文献５】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００２，１２４，３５７８−３５８５．
【非特許文献６】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．２０００，４１，３７７３−３７７６．
【非特許文献７】Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｅｔｔ．１９９９，１，４４７−４５０．
【非特許文献８】Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９７，６２，８２７−８３５．
【非特許文献９】Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１，２００１，１２０４−１２１１．
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の課題は、キラル医薬品の中間体として有用な、光学活性なジオール誘導体の立体選択的な製造方法を提供することである。詳細には、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することを特徴とする、光学活性モノスルホネート化合物（本明細書中、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することで得られた「光学活性モノスルホネート化合物」を、「光学活性ジオール誘導体」または「光学活性ジオール類」と記載する場合がある）の製造方法を提供することである。
【００１２】
特に本発明は、プロキラルジオール化合物のうち、メソ−１，２−ジオール化合物をエナンチオ選択的にモノスルホニル化したり、１，３−ジオール化合物をモノスルホニル化することによってジオール化合物を不斉対称化することで、光学活性モノスルホネート化合物を製造することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、光学活性ビスオキサゾリン−金属錯体を不斉触媒として用いることにより、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化できることを見出した。
特に、メソ−１，２−ジオール化合物をエナンチオ選択的にモノスルホニル化することで、また１，３−ジオール化合物をモノスルホニル化することで不斉対称化して、光学活性モノスルホネート化合物を製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１４】
即ち、本発明は以下のとおりである。
［１］プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することを特徴とする、光学活性モノスルホネート化合物の製造方法。
［２］モノスルホニル化が、プロキラルジオール化合物および式（ＩＩＩ）
【００１５】
【化４】
【００１６】
［式中、
Ｒ２は、置換されていてもよい炭化水素基を示し、
Ｘは、ハロゲン原子を示す］で表されるスルホニル化剤（以下、スルホニル化剤（ＩＩＩ）と記載する）を、式（ＩＶａ）
【００１７】
【化５】
【００１８】
［式中、
Ｒ３は、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ３が一体となって置換されていてもよいＣ２−６アルキレン基を示し、
Ｒ４は、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル基、または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物（以下、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）と記載する）もしくは式（ＩＶｂ）
【００１９】
【化６】
【００２０】
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物（以下、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）と記載する）、または式（ＩＶｃ）
【００２１】
【化７】
【００２２】
［式中、
Ｒ３は、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ３が一体となって置換されていてもよいＣ２−６アルキレン基を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物（以下、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）と記載する）もしくは式（ＩＶｄ）
【００２３】
【化８】
【００２４】
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物（以下、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）と記載する。また以下において、「光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）もしくは光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）、または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）もしくは光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）」をまとめて、「光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）」と記載する）、式（Ｖ）
【００２５】
【化９】
【００２６】
［式中、
Ｍは、２価の金属原子を示し、
Ｘ’は、ハロゲン原子、ＯＴｆ、ＮＴｆ２、ＢＦ４、ＰＦ６またはＳｂＦ６を示す］で表される金属塩（以下、金属塩（Ｖ）と記載する）および塩基の存在下で反応させることを特徴とする、［１］記載の製造方法。
［３］プロキラルジオール化合物が、式（ＩＩ）
【００２７】
【化１０】
【００２８】
［式中、
Ｒ１は、置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい炭素環、置換されていてもよい縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示す］で表されるメソ−１，２−ジオール化合物（以下、化合物（ＩＩ）と記載する）であって、光学活性モノスルホネート化合物が、式（Ｉ）
【００２９】
【化１１】
【００３０】
［式中、
Ｒ１は、前記と同義を示し、
Ｒ２は、置換されていてもよい炭化水素基を示す］で表される化合物（以下、化合物（Ｉ）と記載する）、または式（Ｉ’）
【００３１】
【化１２】
【００３２】
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される化合物（以下、化合物（Ｉ’）と記載する）である、［１］または［２］に記載の製造方法。
［４］Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、炭素環、縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示し、
Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、［３］記載の製造方法。
［５］Ｒ１が、置換されていてもよいメチル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、シクロオクテン環、テトラヒドロナフタレン環、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、Ｎ−ベンゾイルピロリジン環またはテトラヒドロチオフェン環を示し、
Ｒ２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、［４］記載の製造方法。
［６］プロキラルジオール化合物が、式（ＶＩＩ）
【００３３】
【化１３】
【００３４】
［式中、Ｒ５およびＲ６は互いに異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す］で表される１，３−ジオール化合物（以下、化合物（ＶＩＩ）と記載する）であって、光学活性モノスルホネート化合物が、式（ＶＩ）
【００３５】
【化１４】
【００３６】
［式中、
Ｒ２は、置換されていてもよい炭化水素基を示し、
Ｒ５およびＲ６は、前記と同義を示す］で表される化合物（以下、化合物（ＶＩ）と記載する）である、［１］または［２］に記載の製造方法。
［７］Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示し、
Ｒ５が、Ｃ１−１８アルキル基、Ｃ６−１４アリール基、Ｃ７−１６アラルキル基またはアシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す、
［６］記載の製造方法。
［８］Ｒ２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｒ５が、アシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基を示す、
［６］または［７］記載の製造方法。
［９］Ｒ３が、水素原子またはＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ３が一緒になって、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基またはペンタメチレン基を示し、
Ｒ４が、Ｃ１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ６−１４アリール基またはＣ７−１６アラルキル基を示す、
［２］〜［８］のいずれか一に記載の製造方法。
［１０］Ｒ３が、メチル基を示し、
Ｒ４が、フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはベンジル基を示す、［９］記載の製造方法。
［１１］Ｍが、２価の銅原子または２価の亜鉛原子を示し、
Ｘ’が、ハロゲン原子、ＯＴｆ、ＢＦ４またはＰＦ６を示す、
［２］〜［１０］のいずれか一に記載の製造方法。
［１２］塩基が、炭酸カリウム、トリエチルアミン、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウムおよびジイソプロピルエチルアミンからなる群から選択される少なくとも一つである、［２］〜［１１］のいずれか一に記載の製造方法。
［１３］テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、トルエン、イソプロピルアルコール、アセトニトリルおよび酢酸エチルからなる群から選択される少なくとも一つの溶媒中で行われる、［１］〜［１２］のいずれか一に記載の製造方法。
【発明の効果】
【００３７】
本発明により、プロキラルジオール化合物を、エナンチオ選択的にモノスルホニル化することができる。本発明の方法により得られる光学活性モノスルホネート化合物は、医薬品中間体として有用である。従って、本発明を適用することにより、各種医薬品を容易に合成することが可能となる。
【００３８】
本発明によれば、不斉モノアシル化やモノカルバモイル化法といった従来公知のエナンチオ選択的な光学活性ジオール誘導体の製造方法よりも、より簡便に、高い立体選択性を有する光学活性ジオール誘導体を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
本明細書中において使用する各置換基および各記号などの定義は次の通りである。
【００４０】
「ハロゲン原子」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が挙げられる。
「アルキル基」としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基（Ｃ１−６アルキル基）、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基、ウンデカニル基、ドデカニル基、トリデカニル基、テトラデカニル基、ペンタデカニル基、ヘキサデカニル基、ヘプタデカニル基、オクタデカニル基などの直鎖または分枝鎖のＣ１−１８アルキル基が挙げられる。
「アルケニル基」としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基などの直鎖または分枝鎖のＣ２−６アルケニル基が挙げられる。
「アルキニル基」としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、１−ヘキシニル基などの直鎖または分枝鎖のＣ２−６アルキニル基が挙げられる。
「シクロアルキル基」としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ビシクロ［３．１．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、ビシクロ［３．２．１］オクチル基、ビシクロ［３．２．２］ノニル基、ビシクロ［３．３．１］ノニル基、ビシクロ［４．２．１］ノニル基、ビシクロ［４．３．１］デシル基、アダマンチル基等のＣ３−１０シクロアルキル基が挙げられる。
【００４１】
「アリール基」としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などのＣ６−１４アリール基が挙げられる。
「アラルキル基」としては、例えば、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基などのＣ７−１６アラルキル基が挙げられる。
【００４２】
「アルコキシ基」としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基などの直鎖または分枝鎖のＣ１−６アルコキシ基が挙げられる。
「アリールオキシ基」としては、例えば、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基などのＣ６−１４アリールオキシ基が挙げられる。
「アラルキルオキシ基」としては、例えば、ベンジルオキシ基、１−フェニルエチルオキシ基、２−フェニルエチルオキシ基などのＣ７−１６アラルキルオキシ基が挙げられる。
【００４３】
「アルキレン基」としては、例えばエチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等の直鎖または分枝鎖のＣ２−６アルキレン基が挙げられる。
【００４４】
「アシル基」としては、例えば、ホルミル基、カルボキシル基、Ｃ１−６アルキル−カルボニル基、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル基、Ｃ６−１４アリール−カルボニル基、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基、Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル基、Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル基、Ｃ１−６アルキル−カルボニルオキシ基、Ｃ６−１４アリール−カルボニルオキシ基、Ｃ７−１６アラルキル−カルボニルオキシ基、Ｃ７−１６アラルキル−アミノカルボニル基、カルバモイル基、Ｃ１−６アルキル−カルバモイル基、Ｃ１−６アルコキシ−カルバモイル基、Ｃ６−１４アリール−カルバモイル基、Ｃ１−６アルキル−スルホニル基などが挙げられる。
ここで、「Ｃ１−６アルキル−カルボニル基」、「Ｃ１−６アルキル−カルボニルオキシ基」、「Ｃ１−６アルキル−カルバモイル基」および「Ｃ１−６アルキル−スルホニル基」における「Ｃ１−６アルキル」、「Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基」および「Ｃ１−６アルコキシ−カルバモイル基」における「Ｃ１−６アルコキシ」、「Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル基」における「Ｃ３−８シクロアルキル」、「Ｃ６−１４アリール−カルボニル基」および「Ｃ６−１４アリール−カルバモイル基」における「Ｃ６−１４アリール」、「Ｃ６−１４アリール−カルボニルオキシ基」、「Ｃ７−１６アラルキル−カルボニルオキシ基」、「Ｃ７−１６アラルキル−アミノカルボニル基」における「Ｃ７−１６アラルキル」、「Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル基」における「Ｃ６−１４アリールオキシ」、「Ｃ７−１６アラルキルオキシ−カルボニル基」における「Ｃ７−１６アラルキルオキシ」としては、それぞれ、上記「アルキル基」における「Ｃ１−６アルキル基」、「アルコキシ基」における「Ｃ１−６アルコキシ基」、「シクロアルキル基」における「Ｃ３−８シクロアルキル基」、「アリール基」における「Ｃ６−１４アリール基」、「アラルキル基」における「Ｃ７−１６アラルキル基」、「アリールオキシ基」における「Ｃ６−１４アリールオキシ基」、「アラルキルオキシ基」における「Ｃ７−１６アラルキルオキシ基」が、それぞれ例示される。
【００４５】
「炭素環」としては、例えば、
（１）Ｃ３−１０シクロアルカン（例、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等）、
（２）Ｃ３−１０シクロアルケン（例、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環、シクロオクテン環等）
などのような脂環式炭化水素や、ベンゼンなどの芳香族炭化水素といった、他の環と縮合していない炭素環が挙げられる。
【００４６】
「縮合炭素環」としては、例えば、インデン、ナフタレン、アズレン、フルオレン、フェナントレン、アントラセン、アセナフチレン、ビフェニレンなどの二つ以上の炭素環が縮合して形成される、縮合多環式炭化水素が挙げられる。また、上記「縮合炭素環」には、上記で例示した各環の一部または全部の２重結合が飽和または不飽和である縮合炭素環も含まれる。
【００４７】
「複素環」としては、炭素原子以外に、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選択される１〜５個のヘテロ原子を含有し、芳香族でも非芳香族であってもよい３〜１２員の複素環を示し、例えば、
（１）３〜６員の単環式複素環（例、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環等）、
（２）８〜１２員の縮合多環式複素環（例、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、ベンゾ［ｂ］チオフェン環、インドール環、イソインドール環、１Ｈ−インダゾール環、ベンズインダゾール環、ベンゾオキサゾール環、１，２−ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾピラゾール環、１，２−ベンゾイソチアゾール環、１Ｈ−ベンゾトリアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、キナゾリン環、キノキサリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、プリン環、ブテリジン環、カルバゾール環、α−カルボリン環、β−カルボリン環、γ−カルボリン環、アクリジン環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、フェナジン環、フェノキサチイニン環、チアントレン環、フェナントリジン環、キサンテン環等）
などが挙げられる。また、上記「複素環」には、上記で例示した各環の一部または全部の２重結合が飽和または不飽和である複素環も含まれる。
【００４８】
上記「炭素環」、「縮合炭素環」および「複素環」は、化合物（ＩＩ）における二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に形成する環である。
従って、二つのＲ１が一緒になって隣接する炭素原子と一緒になって示す、「炭素環」、「縮合炭素環」および「複素環」としては、上記で例示した各環でもよいが、少なくとも一つの二重結合が飽和した、「炭素環」、「縮合炭素環」および「複素環」であることが好ましい。
【００４９】
少なくとも一つの二重結合が飽和した、「炭素環」としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環、シクロオクテン環等が挙げられる。
【００５０】
少なくとも一つの二重結合が飽和した、「縮合炭素環」としては、１，２−ジヒドロベンゼン、２，３−ジヒドロナフタレン、テトラヒドロナフタレン、２，３−ジヒドロインデン等が挙げられる。
【００５１】
少なくとも一つの二重結合が飽和した、「複素環」としては、ピロリジン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロチオフェン環、インドリン環、イソインドリン環、クロマン環、イソクロマン環、テトラヒドロベンゾチオフェン環等が挙げられる。
【００５２】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５およびＲ６で示される「置換されていてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基またはアリル基等が挙げられる。
【００５３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５およびＲ６で示される「置換されていてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」が有していてもよい置換基としては、例えば
（１）ハロゲン原子、
（２）水酸基、
（３）アルキル基、
（４）アリール基、
（５）カルボキシル基、
（６）アルコキシ基、
（７）アラルキルオキシ基、
（８）アシル基、
（９）ニトロ基
等が挙げられる。置換基の数は、炭化水素基によって異なるが、例えば、１〜５、好ましくは１〜３であり、置換基の数が２以上の場合、各置換基は同一または異なっていてもよい。
【００５４】
ここで、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ４で示される「置換されていてもよいＣ１−６アルキル基」の「Ｃ１−６アルキル基」、
Ｒ１で示される「置換されていてもよいメチル基」の「メチル基」、
Ｒ２で示される「置換されていてもよいフェニル基」の「フェニル基」、
Ｒ３で示される「置換されていてもよいＣ２−６アルキレン基」の「Ｃ２−６アルキレン基」、
Ｒ２、Ｒ４およびＲ６で示される「置換されていてもよいＣ６−１４アリール基」の「Ｃ６−１４アリール基」、
Ｒ４で示される「置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル基」の「Ｃ７−１６アラルキル基」、
二つのＲ１が一緒になって隣接する炭素原子と一緒になって示す「置換されていてもよい炭素環」の「炭素環」、
二つのＲ１が一緒になって隣接する炭素原子と一緒になって示す「置換されていてもよい縮合炭素環」の「縮合炭素環」、および
二つのＲ１が一緒になって隣接する炭素原子と一緒になって示す「置換されていてもよい複素環」の「複素環」
がそれぞれ有していてもよい置換基としては、例えば、上記「置換されていてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」が有していてもよい置換基が挙げられる。
【００５５】
本発明は、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することを特徴とする、モノスルホネート化合物の製造方法を提供する。
【００５６】
本発明の「プロキラルジオール化合物」とは、水酸基を二つ有する化合物であって、光学活性を示さないが、いずれかの水酸基が別の置換基に置換されることによって光学活性体となる化合物を広く含む。すなわち、当該化合物は、水酸基が置換されることにより初めて不斉炭素原子を有するようになる化合物のみならず、一つ以上の不斉炭素原子を有するがその構造上光学活性を示し得ない化合物であって、水酸基が置換されることにより初めて光学活性を示す化合物をも広く包含するものである。そのような化合物としては、好ましくは化合物（ＩＩ）または化合物（ＶＩＩ）が挙げられる。
【００５７】
本発明のプロキラルジオール化合物の一つである化合物（ＩＩ）は、不斉炭素原子を二つ有するが、分子内に対称面があるメソ体であって、光学活性を示さない。しかしながら、後述のスルホニル化によって片方の水酸基がスルホニル化することで光学活性体（光学活性モノスルホネート化合物）となり得る。
【００５８】
本発明の化合物（ＩＩ）としては、
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい炭素環、置換されていてもよい縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示す、化合物（ＩＩ）が好ましい。
【００５９】
また、本発明の化合物（ＩＩ）としては、
Ｒ１が、置換されていてもよいメチル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、炭素環、縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示す、化合物（ＩＩ）がより好ましい。
【００６０】
さらに、本発明の化合物（ＩＩ）としては、
Ｒ１が、ベンジルオキシメチル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、シクロオクテン環、テトラヒドロナフタレン環、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、Ｎ−ベンゾイルピロリジン環またはテトラヒドロチオフェン環を示す、化合物（ＩＩ）が特に好ましい。
【００６１】
また、本発明のプロキラルジオール化合物である化合物（ＶＩＩ）は、後述のスルホニル化によって片方の水酸基がスルホニル化することで光学活性体（光学活性モノスルホネート化合物）となり得る。
【００６２】
本発明の化合物（ＶＩＩ）としては、
Ｒ５が、Ｃ１−１８アルキル基、Ｃ６−１４アリール基、Ｃ７−１６アラルキル基またはアシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す、化合物（ＶＩＩ）が好ましい。
【００６３】
また、本発明の化合物（ＶＩＩ）としては、
Ｒ５が、アシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基を示す、
化合物（ＶＩＩ）がより好ましい。
【００６４】
さらに、本発明の化合物（ＶＩＩ）としては、
Ｒ５が、エトキシカルボニル基またはフェニルカルバモイル基を示し、
Ｒ６が、メチル基またはエチル基を示す、
化合物（ＶＩＩ）が特に好ましい。
【００６５】
本発明における「モノスルホニル化」は、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化する反応である。これにより、プロキラルジオール化合物、好ましくは化合物（ＩＩ）および化合物（ＶＩＩ）を、光学活性モノスルホネート化合物に導くことが可能となる。
【００６６】
本発明の「モノスルホニル化」反応は、下記の工程を含むことを特徴とする。
【００６７】
（工程１）金属塩（Ｖ）と、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）とを混合して、金属錯体を得る工程。
（工程２）工程１で得られた金属錯体に、塩基存在下、上記プロキラルジオール化合物およびスルホニル化剤（ＩＩＩ）を添加することで、光学活性モノスルホネート化合物を得る工程。
（工程３）得られた光学活性モノスルホネート化合物を、自体公知の方法で精製する工程。
なお、本発明において、上記工程１および２は便宜上分けて記載したに過ぎず、上記記載に限定されるものではない。例えば、上記プロキラルジオール化合物およびスルホニル化剤（ＩＩＩ）の混合物中に工程１で得られた金属錯体を添加してもよいし、塩基存在下でスルホニル化剤（ＩＩＩ）、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）、金属塩（Ｖ）および上記ジオール化合物を混合して一工程で反応を進行させてもよい。
【００６８】
以下、各工程に従って、各化合物を説明する。
【００６９】
工程１
本工程は、金属塩（Ｖ）と、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）とを混合して、式（ＩＶａ’）
【００７０】
【化１５】
【００７１】
で表される化合物（以下、金属錯体（ＩＶａ’）と記載する）もしくは式（ＩＶｂ’）
【００７２】
【化１６】
【００７３】
で表される化合物（以下、金属錯体（ＩＶｂ’）と記載する）または式（ＩＶｃ’）
【００７４】
【化１７】
【００７５】
で表される化合物（以下、金属錯体（ＩＶｃ’）と記載する）もしくは式（ＩＶｄ’）
【００７６】
【化１８】
【００７７】
で表される化合物（以下、金属錯体（ＩＶｄ’）と記載する。また以下において、「金属錯体（ＩＶａ’）もしくは金属錯体（ＩＶｂ’）、または金属錯体（ＩＶｃ’）もしくは金属錯体（ＩＶｄ’）」をまとめて、「金属錯体（ＩＶ）」と記載する）
を形成する工程である。
【００７８】
金属塩（Ｖ）は、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）に配位して、金属錯体（ＩＶ）をそれぞれ形成する。
【００７９】
金属塩（Ｖ）としては、
Ｍが、２価の銅原子または２価の亜鉛原子を示し、
Ｘ’が、ハロゲン原子、またはトリフルオロメチルスルホニル（以下、ＯＴｆと記載する場合がある）、四フッ化ホウ素（以下、ＢＦ４と記載する場合がある）、六フッ化リン（以下、ＰＦ６と記載する場合がある）、六フッ化アンチモン（以下、ＳｂＦ６と記載する場合がある）、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド（以下、ＮＴｆ２と記載する場合がある）を示す、
金属塩（Ｖ）が好ましい。
【００８０】
また、金属塩（Ｖ）としては、
Ｍが、２価の銅原子または２価の亜鉛原子を示し、
Ｘ’が、フッ素原子、塩素原子、ＯＴｆ、ＮＦ４またはＰＦ６を示す、
金属塩（Ｖ）がより好ましい。
【００８１】
より具体的には、金属塩（Ｖ）としては、Ｃｕ（ＯＴｆ）２、Ｚｎ（ＯＴｆ）２、ＣｕＢｒ２、ＣｕＣｌ２、ＣｕＦ２、Ｃｕ（ＢＦ４）２、Ｃｕ（ＰＦ６）２、Ｃｕ（ＳｂＦ６）２およびＣｕ（ＮＴｆ２）２が好ましく、中でも、Ｃｕ（ＯＴｆ）２、Ｚｎ（ＯＴｆ）２、ＣｕＣｌ２、ＣｕＦ２、Ｃｕ（ＢＦ４）２およびＣｕ（ＰＦ６）２が特に好ましい。
なお、このような金属塩（Ｖ）は、市販品を用いてもよいし、自体公知の方法で製造してもよい。
【００８２】
本工程において、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）は、金属塩（Ｖ）の配位子として作用し、金属錯体（ＩＶ）をそれぞれ形成する。
【００８３】
光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）としては、
Ｒ３が、水素原子またはＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ３が一緒になって、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基またはペンタメチレン基を示し、
Ｒ４が、Ｃ１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ６−１４アリール基またはＣ７−１６アラルキル基を示す、
光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）が好ましい。
【００８４】
また、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）としては、
Ｒ３が、メチル基を示し、
Ｒ４が、フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはベンジル基を示す、
光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）がより好ましい。
【００８５】
光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）としては、Ｒ３が、水素原子またはＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ３が一緒になって、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基またはペンタメチレン基を示す、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）が好ましい。
【００８６】
また、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）としては、Ｒ３が、メチル基を示す、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）がより好ましい。
【００８７】
なお、本明細書中、
（１）Ｒ３が、メチル基を示し、Ｒ４が、フェニル基を示す光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）、（ＩＶｂ）をそれぞれ、「（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸ」、「（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸ」と記載し、
（２）Ｒ３が、メチル基を示し、Ｒ４が、ｔｅｒｔ−ブチル基を示す光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）、（ＩＶｂ）をそれぞれ、「（Ｒ，Ｒ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸ」、「（Ｓ，Ｓ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸ」と記載し、
（３）Ｒ３が、メチル基を示し、Ｒ４が、ベンジル基を示す光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）、（ＩＶｂ）をそれぞれ、「（Ｒ，Ｒ）−Ｂｎ−ＢＯＸ」、「（Ｓ，Ｓ）−Ｂｎ−ＢＯＸ」と記載し、かつ
（４）Ｒ３が、メチル基を示す光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）、（ＩＶｄ）をそれぞれ、「（４Ｓ，５Ｒ）−Ｉｎ−ＢＯＸ」、「（４Ｒ，５Ｓ）−Ｉｎ−ＢＯＸ」と記載する。
【００８８】
このような光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）は、自体公知の方法で製造することができる。当該製造方法としては、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１３，７２８−７２９（１９９１）記載の方法などが挙げられる。
【００８９】
本発明における、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）と金属塩（Ｖ）との好ましい組合せとしては、例えば、
（１）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せ、
（２）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕＣｌ２との組合せ、
（３）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕＦ２との組合せ、
（４）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＺｎ（ＯＴｆ）２との組合せ、
（５）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＢＦ４）２との組合せ、
（６）（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＰＦ６）２との組合せ、
（７）（Ｒ，Ｒ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せ、
（８）（Ｒ，Ｒ）−Ｂｎ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せ
等が挙げられる。
【００９０】
また、本発明における、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）と金属塩（Ｖ）との好ましい組合せとしては、例えば、
（１’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せ、
（２’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕＣｌ２との組合せ、
（３’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕＦ２との組合せ、
（４’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＺｎ（ＯＴｆ）２との組合せ、
（５’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＢＦ４）２との組合せ、
（６’）（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＯＸとＣｕ（ＰＦ６）２との組合せ、
（７’）（Ｓ，Ｓ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せ、
（８’）（Ｓ，Ｓ）−Ｂｎ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せ
等が挙げられる。
【００９１】
さらに、本発明における、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）と金属塩（Ｖ）との好ましい組合せとしては、例えば、
（９）（４Ｓ，５Ｒ）−Ｉｎ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せが挙げられる。
【００９２】
また、本発明における、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）と金属塩（Ｖ）との好ましい組合せとしては、例えば、
（９’）（４Ｒ，５Ｓ）−Ｉｎ−ＢＯＸとＣｕ（ＯＴｆ）２との組合せが挙げられる。
【００９３】
上記組合せのうち、（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７’）、（８）および（９）の組合せが特に好ましい。
【００９４】
本工程における光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）の使用量は、金属塩（Ｖ）１モルあたり、通常０．５モル〜２モル、好ましくは０．８モル〜１．２モルである。
【００９５】
本工程は、反応が進行する限り溶媒中で行っても無溶媒で行ってもよいが、通常、溶媒中で行われる。使用できる溶媒としては、本工程に影響を与えない限り特に限定されないが、好ましくはジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、ｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔ−ブタノール、イソブタノール、ノルマルブタノール、アセトニトリル、プロピオニトリル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ノルマルプロピル、酢酸ノルマルブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサンなどであり、より好ましくは、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、トルエン、イソプロピルアルコール、アセトニトリル、酢酸エチルである。溶媒の使用量は、当業者であれば適宜設定することが可能である。
【００９６】
本工程の反応温度は、反応が進行する限り特に限定されないが、０℃〜５０℃で行うことが好ましく、室温で行うことがさらに好ましい。なお本明細書中、室温とは、１５℃〜３５℃の範囲における温度のことをいう。
本工程の反応時間は、使用する試薬や溶媒の量、反応温度によっても異なるが、通常１分〜２４時間、好ましくは５分〜１時間である。
【００９７】
本工程で得られた金属錯体（ＩＶ）は、反応混合物から自体公知の手段、例えば抽出、濃縮、中和、濾過、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、分取用高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、中圧分取液体クロマトグラフィー（中圧分取ＬＣ）等の手段を用いることによって単離・精製することができるが、反応混合物のまま次工程２に付すことが好ましい。
【００９８】
工程２
本工程は、工程１で得られた金属錯体に、塩基存在下、上記プロキラルジオール化合物およびスルホニル化剤（ＩＩＩ）を添加することで、光学活性モノスルホネート化合物を得る工程である。
【００９９】
本工程において、スルホニル化剤（ＩＩＩ）は、工程１で得られた金属錯体存在下、プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化して、光学活性モノスルホネート化合物を得るために用いられる。
【０１００】
スルホニル化剤（ＩＩＩ）としては、
Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
スルホニル化剤（ＩＩＩ）が好ましい。
【０１０１】
また、スルホニル化剤（ＩＩＩ）としては、
Ｒ２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
スルホニル化剤（ＩＩＩ）がより好ましい。
【０１０２】
さらに、スルホニル化剤（ＩＩＩ）としては、
Ｒ２が、メチル基、またはＣ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、ハロゲン原子およびニトロ基から選択される置換基で置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
スルホニル化剤（ＩＩＩ）がより好ましい。
【０１０３】
より具体的には、スルホニル化剤（ＩＩＩ）としては、塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化ｐ−メトキシベンゼンスルホニル、塩化ｐ−クロロベンゼンスルホニル、塩化ｐ−ニトロベンゼンスルホニル、塩化メタンスルホニルが好ましい。
なお、このようなスルホニル化剤（ＩＩＩ）は、市販品を用いてもよいし、自体公知の方法で製造してもよい。
【０１０４】
また、本工程におけるスルホニル化剤（ＩＩＩ）の使用量は、プロキラルジオール化合物１モルあたり、通常０．５モル〜５モル、好ましくは０．８モル〜３モル、より好ましくは０．８モル〜１．５モルである。
【０１０５】
本工程で用いられる塩基としては、反応が進行する限り特に限定されず、有機塩基、無機塩基などの自体公知の塩基が用いられるが、好ましくは炭酸カリウム、トリエチルアミン、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウムおよびジイソプロピルエチルアミンからなる群から選択される。
【０１０６】
本工程における塩基の使用量は、プロキラルジオール化合物１モルあたり、通常０．２５モル〜５モル、好ましくは０．４モル〜３モル、より好ましくは０．４モル〜１．５モルである。
【０１０７】
本工程は、反応が進行する限り溶媒中で行っても無溶媒で行ってもよいが、通常、工程１で得られた金属錯体を単離・精製しない限り、工程１で挙げられた溶媒中で行われる。
工程１で得られた金属錯体を単離・精製した場合には、本工程は溶媒中で行うことが好ましい。選択される当該溶媒としては、本工程に影響を与えない限り特に限定されないが、好ましくは工程１で挙げられた溶媒が挙げられる。当該溶媒の使用量は、当業者であれば適宜設定することが可能である。
【０１０８】
プロキラルジオール化合物については、上記で説明したとおりであるが、プロキラルジオール化合物として特に化合物（ＶＩＩ）を適用する場合は、上記記載のスルホニル化剤（ＩＩＩ）のうち、塩化ｐ−トルエンスルホニルを用いることが好ましく、上記記載の塩基のうち、炭酸カリウムを用いることが好ましい。
【０１０９】
一方、プロキラルジオール化合物として特に化合物（ＩＩ）を適用する場合、スルホニル化剤（ＩＩＩ）、塩基などは、上記工程２記載と同様のものを用いることができる。
【０１１０】
本工程の反応温度は、反応が進行する限り特に限定されないが、０℃〜５０℃で行うことが好ましく、室温で行うことがさらに好ましい。なお本明細書中、室温とは、１５℃〜３５℃の範囲における温度のことをいう。
本工程の反応時間は、使用する試薬や溶媒の量、反応温度によっても異なるが、通常１時間〜７２時間、好ましくは３時間〜４８時間である。
【０１１１】
本工程により、光学活性モノスルホネート化合物を得ることができる。光学活性モノスルホネート化合物としては、上記プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを、上記工程１ないし２を経て選択的にモノスルホニル化して得られた化合物であって、光学活性を有する限り特に限定されないが、好ましくは化合物（Ｉ）もしくは化合物（Ｉ’）、または化合物（ＶＩ）である。
【０１１２】
本発明の光学活性モノスルホネート化合物の一つである化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）は、それぞれ、上記化合物（ＩＩ）を上記工程１および２に付すことによって得られる化合物である。
詳細には、化合物（Ｉ）は、下記式
【０１１３】
【化１９】
【０１１４】
で表される（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−スルホニルオキシ体であり、化合物（Ｉ’）は、下記式
【０１１５】
【化２０】
【０１１６】
で表される（１Ｒ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−スルホニルオキシ体である。
【０１１７】
化合物（Ｉ）は、上記工程１において、例えば二価銅塩を用いた場合、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶａ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｄ）を用いることにより製造することができる。一方、化合物（Ｉ’）は、上記工程１において、例えば二価銅塩を用いた場合、光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｂ）または光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶｃ）を用いることにより製造することができる。
すなわち、上記工程１において光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）を適宜使い分けることによって、ジオール化合物（例えば、化合物（ＩＩ））から、光学活性の異なるモノスルホネート化合物（例えば、化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’））を任意に製造することが可能である。
【０１１８】
本発明の化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）としては、
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい炭素環、置換されていてもよい縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示し、
Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す、
化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）が好ましい。
【０１１９】
また、本発明の化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）としては、
Ｒ１が、置換されていてもよいメチル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、炭素環、縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示し、
Ｒ２が、メチル基、イソプロピル基または置換されていてもよいフェニル基を示す、
化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）がより好ましい。
【０１２０】
さらに、本発明の化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）としては、
Ｒ１が、ベンジルオキシメチル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、シクロオクテン環、テトラヒドロナフタレン環、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、Ｎ−ベンゾイルピロリジン環またはテトラヒドロチオフェン環を示し、
Ｒ２が、メチル基、イソプロピル基、またはＣ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、ハロゲン原子およびニトロ基から選択される置換基で置換されていてもよいフェニル基を示す、
化合物（Ｉ）または化合物（Ｉ’）が特に好ましい。
【０１２１】
一方、本発明の光学活性モノスルホネート化合物の一つである化合物（ＶＩ）は、上記化合物（ＶＩＩ）を上記工程１および２に付して得られる化合物である。
当該化合物は、Ｓ体、Ｒ体のいずれであってもよい。
そして、これらの化合物は、工程１における光学活性ビスオキサゾリン化合物（ＩＶ）を使い分けることによって、プロキラルジオール化合物（例えば、化合物（ＶＩＩ））から、特定の立体化学を有する光学活性モノスルホネート化合物（例えば、Ｓ体の化合物（ＶＩ）またはＲ体の化合物（ＶＩ））を製造することが可能である。
【０１２２】
本発明の化合物（ＶＩ）としては、
Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示し、
Ｒ５が、Ｃ１−１８アルキル基、Ｃ６−１４アリール基、Ｃ７−１６アラルキル基またはアシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す、
化合物（ＶＩ）が好ましい。
【０１２３】
また、本発明の化合物（ＶＩ）としては、
Ｒ２が、メチル基、イソプロピル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｒ５が、アシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基を示す、
化合物（ＶＩ）がより好ましい。
【０１２４】
さらに、本発明の化合物（ＶＩ）としては、
Ｒ２が、ｐ−トリル基を示し、
Ｒ５が、エトキシカルボニル基またはフェニルカルバモイル基を示し、
Ｒ６が、メチル基またはエチル基を示す、
化合物（ＶＩ）が特に好ましい。
【０１２５】
工程３
本工程は、工程２で得られた光学活性モノスルホネート化合物を精製する工程である。
【０１２６】
上記工程で得られる光学活性モノスルホネート化合物は、反応混合物から自体公知の手段、例えば抽出、濃縮、中和、濾過、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、分取用高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、中圧分取液体クロマトグラフィー（中圧分取ＬＣ）等の手段を用いることによって単離・精製することができる。
【０１２７】
上記工程により、目的物である光学活性モノスルホネート化合物が遊離の状態で得られる場合には、常法に従って塩に変換してもよく、また塩として得られる場合には、常法に従って遊離体または他の塩に変換することもできる。
光学活性モノスルホネート化合物は、種々の塩を形成することができる。本発明のモノスルホネート化合物は、かかる化合物をも包含する。
光学活性モノスルホネート化合物の塩としては、例えば、金属塩、アンモニウム塩、有機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性または酸性アミノ酸との塩等があげられる。
【０１２８】
金属塩の好適な例としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩等のアルカリ土類金属塩；アルミニウム塩等が挙げられる。
有機塩基との塩の好適な例としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、２，６−ルチジン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン、トロメタミン〔すなわち、トリス（ヒドロキシメチル）メチルアミン〕、ｔｅｒｔ−ブチルアミン等との塩が挙げられる。
無機酸との塩の好適な例としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸等との塩が挙げられる。
有機酸との塩の好適な例としては、例えば、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フタル酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等との塩が挙げられる。
塩基性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えば、アルギニン、リジン、オルニチン等との塩が挙げられ、酸性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えば、アスパラギン酸、グルタミン酸等との塩が挙げられる。
【０１２９】
光学活性モノスルホネート化合物は、水和物および非水和物のいずれであってもよい。光学活性モノスルホネート化合物の水和物としては、例えば、０．５水和物、１水和物、１．５水和物および２水和物等が挙げられる。また、自体公知の溶媒との溶媒和物であってもよい。
また、光学活性モノスルホネート化合物は、同位元素（例、３Ｈ、１４Ｃ、３５Ｓ）などで標識されていてもよい。
本発明の光学活性モノスルホネート化合物は、上記の水和物、溶媒和物等の種々の化合物をも包含する。
【０１３０】
本発明により得られた光学活性モノスルホネート化合物を、例えば国際公開第２００６−０５３０３７号パンフレットおよび国際公開第２００６−１３８６７３号パンフレットに記載の方法に適用することで、抗不整脈剤の有効成分である下記化合物を製造することができる。
【０１３１】
【化２１】
【０１３２】
また、本発明の光学活性モノスルホネート化合物を、例えば国際公開第２００６−１０６０５４号パンフレットに記載の方法に適用することで、抗肥満薬の有効成分である下記化合物を製造することもできる。
【０１３３】
【化２２】
【０１３４】
さらに、本発明の光学活性モノスルホネート化合物を、例えばＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（２００４），４７（８），２０９７−２１０９に記載の方法に適用することで、抗癌剤の有効成分である下記化合物を製造することもできる。
【０１３５】
【化２３】
【実施例】
【０１３６】
以下、実施例を示してさらに具体的に本発明を説明する。以下は代表的な実施例を示すものでこれらに限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で種々の応用が可能である。
【０１３７】
実施例１
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロペンタンの製造
【０１３８】
【化２４】
【０１３９】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロペンタン−１，２−ジオール（５１．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ｐ−トルエンスルホニル（１１４．４ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）を加えた。１２時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロペンタン（収率９１％，９５％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
ＩＲ（ｎｅａｔ）νｍａｘ；３５５０，２９５９，１３５６，１１７７ｃｍ−１
［α］１９Ｄ −８．５（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９５％ｅｅ）．
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８３（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），４．７２−４．６２（ｍ，４Ｈ），４．１８−４．０８（ｍ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．２９−２．０８（ｂｒｓ，１Ｈ），１．９５−１．４０（ｍ，６Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．８，１３３．５，１２９．７，１２７．６，８４．０，７２．６，２９．８，２７．７，２１．５，１８．７．
ＭＳ［ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ ２５７［Ｍ＋Ｈ］＋．
ＨＰＬＣ：キラルセルＯＤ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝２０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：３０．１ｍｉｎ（［＋］），３２．３ｍｉｎ（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）．
【０１４０】
比較例１−１（ベンゾイル化）
１−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシシクロペンタンの製造
【０１４１】
【化２５】
【０１４２】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロペンタン−１，２−ジオール（５１．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ベンゾイル（０．０５８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。３時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して１−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシシクロペンタン（収率４７％，０％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
ＩＲ νｍａｘ； ３４４５，２９７１，１７１７，１４５１，１２７５，１１２３，９８４，７１２ｃｍ−１．
１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； １．５９−１．７０（ｍ，２Ｈ），１．７４−１．８４（ｍ，２Ｈ），１．８６−２．１５（ｍ，２Ｈ），４．３２（ｑ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），５．２４（ｑ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），８．０６（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ）．
キラルＨＰＬＣ：Ｄａｉｃｅｌ キラルセルＯＪカラム（４．６ ｍｍφ，２５ ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ ｎｍ，流速：０．５ ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：１５．１分，１８．２分．
【０１４３】
比較例１−２（モノカルバモイル化）
（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−（Ｎ−フェニルカルバモイル）オキシシクロペンタンの製造
【０１４４】
【化２６】
【０１４５】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロペンタン−１，２−ジオール（５１．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、続いてフェニルイソシアネート（０．０５４ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。３０分間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−（Ｎ−フェニルカルバモイル）オキシシクロペンタン（収率９１％，７２％ｅｅ）を白色固体として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
ｍｐ ６２−６４ｏＣ； ［α］２８．９Ｄ ０．８１（ｃ ０．５，ＣＨＣｌ３，７２％ ｅｅ）．
ＩＲ νｍａｘ； ３３１０，２９７１，１７１７，１６０３，１５４１，１５０９，１４４１，１３１８，１２２５，１０９０，７５２，６９３ ｃｍ−１．
１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； １．５６−１．６４（ｍ，２Ｈ），１．６６−１．７８（ｍ，２Ｈ），１．７９−２．０７（ｍ，２Ｈ），２．１７（ｓ，１Ｈ），４．２５（ｔ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ），５．０２（ｑ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），６．７８（ｓ，１Ｈ），７．０８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２８−７．３９（ｍ，４Ｈ）．
キラルＨＰＬＣ：Ｄａｉｃｅｌ キラルセルＯＪカラム（４．６ ｍｍφ，２５ ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：８．３分（（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍａｊｏｒ），１１．４分（（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）− ｉｓｏｍｅｒ，ｍｉｎｏｒ）．
【０１４６】
実施例２
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサンの製造
【０１４７】
【化２７】
【０１４８】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロヘキサン−１，２−ジオール（５８．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ｐ−トルエンスルホニル（１１４．４ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）を加えた。１２時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（収率９４％，９７％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
［α］１９Ｄ −８．１（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９７％ｅｅ）．
ＩＲ（ｎｅａｔ） νｍａｘ； ３５５０，２９４２，１３５６，１１７５ｃｍ−１．
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８２（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），４．６８−４．５８（ｍ，４Ｈ），３．８８−３．７８（ｍ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．１０−１．２０（ｍ，９Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１４４．６，１３４．０，１２９．７，１２７．５，８３．０，６８．８，３０．１，２７．５，２１．５（２Ｃ），２０．６．
ＭＳ ［ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ ２７１ ［Ｍ＋Ｈ］＋．
ＨＰＬＣ：キラルセルＯＤ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：１５．２分（［＋］），１６．９分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）．
【０１４９】
比較例２−１（ベンゾイル化）
（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−１−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサンの製造
【０１５０】
【化２８】
【０１５１】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロヘキサン−１，２−ジオール（５８．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ベンゾイル（０．０５８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。３時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−１−ベンゾイルオキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサン（収率９０％，９８％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
［α］２４Ｄ １２．１（ｃ １．０，ＭｅＯＨ）．
ＩＲ νｍａｘ； ３４８０，２９３９，１７２１，１４５０，１２８８，１１１３，９８４，７１５ｃｍ−１．
１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； １．３９−１．５２（ｍ，２Ｈ），１．６８−１．９０（ｍ，４Ｈ），１．９８−２．０７（ｍ，２Ｈ），３．９６−３．９９（ｍ，１Ｈ），５．２２−５．２４（ｍ，１Ｈ），７．４６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５５−７．６０（ｍ，１Ｈ），８．０５−８．０８（ｍ，２Ｈ）．
キラルＨＰＬＣ：Ｄａｉｃｅｌ キラルセルＯＪカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１，波長：２５４ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：１３．１分（（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍａｊｏｒ），１６．５分（（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍｉｎｏｒ）．
【０１５２】
比較例２−２（モノカルバモイル化）
（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−２−ヒドロキシ−１−（Ｎ−フェニルカルバモイル）オキシシクロヘキサンの製造
【０１５３】
【化２９】
【０１５４】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへメソ−シクロヘキサン−１，２−ジオール（５８．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、続いてフェニルイソシアネート（０．０５４ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。３０分間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−２−ヒドロキシ−１−（Ｎ−フェニルカルバモイル）オキシシクロヘキサン（収率９２％，７６％ｅｅ）を白色固体として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
ｍｐ ７２−７６ｏＣ； ［α］２２Ｄ ４．９（ｃ ０．５，ＣＨＣｌ３）．
ＩＲ νｍａｘ； ３３２１，２９４０，２８６３，１７０１，１６０１，１５４５，１５０１，１４５０，１３１４，１２３３，１０６５，１００１，７５６，６９４ ｃｍ−１．
１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； １．３８−１．４３（ｍ，２Ｈ），１．６６−１．８３（ｍ，４Ｈ），１．８６−１．９７（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｓ，１Ｈ），３．９６（ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ），４．９４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．８１（ｓ，１Ｈ），７．０７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２８−７．４０（ｍ，４Ｈ）．
キラルＨＰＬＣ：Ｄａｉｃｅｌ キラルセルＯＪカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２１０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：７．７分（（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍａｊｏｒ），１２．０分（（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）−ｉｓｏｍｅｒ，ｍｉｎｏｒ）．
【０１５５】
実施例３〜１２、比較例３−１〜１２−２
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化、モノベンゾイル化およびモノカルバモイル化による不斉非対称化の比較
【０１５６】
実施例１、比較例１−１または比較例１−２におけるメソ−シクロペンタン−１，２−ジオールを種々のメソ−１，２−ジオール（表１中の「ジオール」）に変えた以外は、それぞれ同様の方法でメソ−１，２−ジオールの不斉非対称化を試みた（ただし、実施例１２は２４時間反応させた）。
得られた化合物の収率と光学純度を表１に示す。なお参考として、実施例１、比較例１−１および比較例１−２、ならびに実施例２、比較例２−１および比較例２−２の収率と光学純度を掲載している。
また、表１中、例えば、「番号３」の行の「実施例」の列に記載されたデータは、「実施例３の化合物の収率および光学純度」を示し、「番号４」の行の「比較例１」の列に記載されたデータは、「比較例４−１の化合物の収率および光学純度」を示し、「番号５」の行の「比較例２」の列に記載されたデータは、「比較例５−２の化合物の収率および光学純度」を示す。
【０１５７】
【表１】
【０１５８】
この結果から、本発明のメソ−１，２−ジオールの光学活性モノスルホニル化（光学活性モノトシル化）は、メソ−１，２−ジオールをモノベンゾイル化、モノカルバモイル化するよりも高収率、高光学純度で達成されることが分かった。
【０１５９】
得られた実施例化合物の物性データを以下に示す。
【０１６０】
（実施例３）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘプタン
【０１６１】
【化３０】
【０１６２】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８１（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），４．７２−４．６２（ｍ，１Ｈ），４．００−３．８９（ｍ，１Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），２．２０−１．２０（ｍ，１１Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．６，１３３．８，１２９．７，１２７．５，８６．６，７２．２，３０．８，２８．４，２６．４，２２．１，２１．４，２１．３；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９３６，１５９９，１３５６，１１７９ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：３１．６分（［＋］），３５．９分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］１９Ｄ −１１．８（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９９％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１４Ｈ２１Ｏ４Ｓからの計算値 ［Ｍ＋Ｈ］＋：２８５．１１６１，実測値：２８５．１１７６．
【０１６３】
（実施例４）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロオクタン
【０１６４】
【化３１】
【０１６５】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），４．８１−４．７０（ｍ，１Ｈ），４．００−３．８９（ｍ，１Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），２．１８−１．２７（ｍ，１３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．６，１３３．９，１２９．７，１２７．５，８５．８，７１．５，２９．９，２７．９，２６．７，２５．３，２３．７，２１．６，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９２６，１５９９，１３５６，１１７５ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：２９．３分（［＋］），３０．３分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］１９Ｄ −１８．３（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９８％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１５Ｈ２３Ｏ４Ｓからの計算値 ［Ｍ＋Ｈ］＋：２９９．１３１７，実測値：２９９．１３１７．
【０１６６】
（実施例５）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシ−４−シクロヘキセン
【０１６７】
【化３２】
【０１６８】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），５．６２−５．４２（ｍ，２Ｈ），４．８１−４．７２（ｍ，１Ｈ），４．１０−３．９９（ｍ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．４２−２．１０（ｍ，５Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．７，１３３．８，１２９．７，１２７．６，１２３．８，１２２．２，８０．４，６６．９，３１．３，２８．３，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５２８，２９２４，１５９９，１３６０，１１８０ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：２４．２分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），３０．３分（［＋］）；
［α］１９Ｄ −１５．９（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１３Ｈ１７Ｏ４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋ ：２６９．０８４８，実測値：２６９．０８５１．
【０１６９】
（実施例６）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシ−５−シクロオクテン
【０１７０】
【化３３】
【０１７１】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），５．７５−５．５５（ｍ，２Ｈ），４．８３−４．７３（ｍ，１Ｈ），４．１０−３．９６（ｍ，１Ｈ），２．６４−２．４９（ｍ，２Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．４１−２．２５（ｂｒｓ，１Ｈ），２．０６−１．５５（ｍ，６Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．７，１３３．５，１３０．５，１２９．７，１２９．０，１２７．６，８７．５，７３．２，３２．９，３０．５，２１．５（２Ｃ），２１．０；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９３８，１５９９，１３５６，１１７５ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１７．３分（［＋］），２１．９分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２１Ｄ −３３．５（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９９％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１５Ｈ２１Ｏ４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋ ：２９７．１１６１，実測値：２９７．１１７１．
【０１７２】
（実施例７）
（２Ｓ，３Ｒ）−（＋）−３−ヒドロキシ−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシ−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン
【０１７３】
【化３４】
【０１７４】
無色結晶；
Ｍｐ：１２６−１２８℃；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．１８−６．９１（ｍ，４Ｈ），４．９７−４．８７（ｍ，１Ｈ），４．２８−４．１８（ｍ，１Ｈ），３．２２−２．８７（ｍ，４Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．２９（ｂｒｓ，１Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．９，１３３．６，１３２．２，１３１．３，１２９．８，１２９．０，１２８．６，１２７．６，１２６．５，１２６．２，８０．５，６７．４，３４．５，３１．８，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９２６，１５９７，１３５６，１１７７ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルパックＡＳカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１１．２分（［−］），１３．８分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２１Ｄ ＋１５．２（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９８％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１７Ｈ１９Ｏ４Ｓからの計算値 ［Ｍ＋Ｈ］＋：３１９．１００４，実測値：３１９．１００５．
【０１７５】
（実施例８）
（３Ｓ，４Ｒ）−（＋）−１−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−３−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシピロリジン
【０１７６】
【化３５】
【０１７７】
泡状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．６８−７．２０（ｍ，７Ｈ），５．０１−４．９１，４．７８−４．６５（ｍ，ｔｏｔａｌ １Ｈ），４．５０−４．３８，４．３８−４．２５（ｍ，ｔｏｔａｌ １Ｈ），３．９２−３．４３（ｍ，４Ｈ），３．２５，３．１４（ｂｒｓ，ｔｏｔａｌ １Ｈ），２．４６，２．４２（ｓ，ｔｏｔａｌ ３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６９．９，１４５．５，１３５．２，１３０．３，１３０．０，１２９．９，１２８．２，１２７．７，１２７．１，７８．６，７８．２，７０．１，６８．８，５２．６，５０．４，５０．０，４８．４，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３３５０，２９２５，１６２０，１３６４，１１７７ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１６．１分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１９．７分（［−］）；
［α］２１Ｄ ＋２２．７（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９４％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１８Ｈ２０ＮＯ５Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：３６２．１０６２，実測値：３６２．１０７３．
【０１７８】
（実施例９）
（３Ｓ，４Ｒ）−（−）−４−ヒドロキシ−３−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシテトラヒドロフラン
【０１７９】
【化３６】
無色結晶；
Ｍｐ：９２−９４℃；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），４．９０−４．８０（ｍ，１Ｈ），４．４３−４．３３（ｍ，１Ｈ），４．０２−３．６５（ｍ，４Ｈ），２．５５（ｂｒｓ，１Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４５．４，１３２．６，１２９．９，１２７．８，７９．０，７１．９，７０．３，６９．１，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３４２５，２９５５，１５９７，１３７２，１１８０ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１９．７分（［＋］），２１．５分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２４Ｄ −１０．０（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９５％ｅｅ）；
ＭＳ［ＬＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ ２５９［Ｍ＋Ｈ］＋．
【０１８０】
（実施例１０）
（３Ｒ，４Ｓ）−（−）−４−ヒドロキシ−３−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシテトラヒドロチオフェン
【０１８１】
【化３７】
【０１８２】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），４．９１−４．８１（ｍ，１Ｈ），４．４６−４．３５（ｍ，１Ｈ），３．０２−２．７４（ｍ，４Ｈ），２．５８（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４５．３，１３２．９，１２９．９，１２７．７，８２．８，７３．３，３２．３，２９．８，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９４６，１５９７，１３６２，１１７９ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルパックＡＳカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝８：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：３７．７分（［＋］），４７．４分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２２Ｄ −４．１（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９４％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１１Ｈ１５Ｏ４Ｓ２からの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：２７５．０４１２，実測値：２７５．０４１４．
【０１８３】
（実施例１１）
（２Ｓ，３Ｒ）−（−）−３−ヒドロキシ−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシブタン
【０１８４】
【化３８】
【０１８５】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），４．６１−４．５１（ｍ，１Ｈ），３．９５−３．８２（ｍ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．１３（ｂｒｓ，１Ｈ），１．２１（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ），１．１２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．６，１３３．９，１２９．７，１２７．６，８３．０，６９．１，２１．４，１７．４，１４．７；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９８４，１５９９，１３５６，１１８１ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１７．８分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），２０．０分（［＋］）；
［α］１８Ｄ −１１．３（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９９％ｅｅ）；
ＭＳ［ＬＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ ２４５［Ｍ＋Ｈ］＋．
【０１８６】
（実施例１２）
（２Ｓ，３Ｒ）−（＋）−１，４−ビス（ベンジルオキシ）−３−ヒドロキシ−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシブタン
【０１８７】
【化３９】
【０１８８】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．７５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３９−７．１７（ｍ，１２Ｈ），４．７９−４．６９（ｍ，１Ｈ），４．５２−４．２９（ｍ，４Ｈ），４．１０−４．００（ｍ，１Ｈ），３．７８−３．４２（ｍ，４Ｈ），２．７２（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），２．３８（ｓ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４４．５，１３７．５，１３７．４，１３３．７，１２９．５，１２８．３，１２８．２，１２７．７（２Ｃ），１２７．６（２Ｃ），１２７．５，８０．３，７３．２（２Ｃ），６９．８，６９．２，６８．３，２１．５；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２８６９，１５９９，１３６２，１１７９ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝２：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：２５．３分（［−］），２９．４分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２０Ｄ ＋０．８（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９３％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ２５Ｈ２９Ｏ６Ｓからの計算値 ［Ｍ＋Ｈ］＋：４５７．１６８５，実測値：４５７．１６８７．
【０１８９】
実施例１３
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、塩基の影響
【０１９０】
炭酸カリウムを他の塩基に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表２に示す。
【０１９１】
【表２】
【０１９２】
この結果から、トリエチルアミン、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムおよびジイソプロピルエチルアミンを本発明の製造方法における塩基として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。
【０１９３】
実施例１４
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、溶媒の影響
【０１９４】
ジクロロメタンを他の溶媒に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表３に示す。
【０１９５】
【表３】
【０１９６】
この結果から、上記溶媒を本発明の製造方法における溶媒として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。
【０１９７】
実施例１５〜１９
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、スルホニル化剤の影響
【０１９８】
塩化ｐ−トルエンスルホニルを他のスルホニル化剤に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表４に示す。
【０１９９】
【表４】
【０２００】
これらの結果から、上記スルホニル化剤を本発明の製造方法におけるスルホニル化剤として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。
【０２０１】
得られた光学活性モノスルホネート化合物の物性データを以下に示す。
【０２０２】
（実施例１５）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−ニトロベンゼンスルホニル）オキシシクロヘキサン
【０２０３】
【化４０】
【０２０４】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ８．４０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．１５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），４．８５−４．７２（ｍ，１Ｈ），３．９１−３．７８（ｍ，１Ｈ），２．０８−１．２２（ｍ，９Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １５０．５，１４２．８，１２８．９，１２４．２，８４．６，６８．９，３０．０，２７．９，２１．２，２０．８；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５６７，２９４４，１５４１，１３６０，１１８６ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：８．１分（［＋］），１０．２分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２７Ｄ −４．９（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９２％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１２Ｈ１６ＮＯ６Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：３０２．０６９８，実測値：３０２．０６９３．
【０２０５】
（実施例１６）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−クロロベンゼンスルホニル）オキシシクロヘキサン
【０２０６】
【化４１】
【０２０７】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），４．７２−４．６１（ｍ，１Ｈ），３．８８−３．７７（ｍ，１Ｈ），２．０７（ｂｒｓ，１Ｈ），２．００−１．２２（ｍ，８Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １４０．２，１３５．６，１２９．４，１２８．９，８３．６，６８．８，３０．１，２７．７，２１．４，２０．６；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９４４，１４７８，１３６２，１１８４ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：８．６分（［＋］），１１．２分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］１８Ｄ −５．５（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９３％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１２Ｈ１６ＣｌＯ４Ｓからの計算値 ［Ｍ＋Ｈ］＋：２９１．０４５８，実測値：２９１．０４６８．
【０２０８】
（実施例１７）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−ベンゼンスルホニルオキシシクロヘキサン
【０２０９】
【化４２】
【０２１０】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．９５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．７１−７．５０（ｍ，３Ｈ），４．７１−４．６０（ｍ，１Ｈ），３．９０−３．７６（ｍ，１Ｈ），２．１５（ｂｒｓ，１Ｈ），２．００−１．１８（ｍ，８Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １３７．０，１３３．６，１２９．１，１２７．４，８３．３，６８．８，３０．０，２７．６，２１．５，２０．６；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９４２，１４４９，１３６０，１１８６ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１９．２分（［＋］），２２．３分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］１９Ｄ −５．０（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９８％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１２Ｈ１７Ｏ４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：２５７．０８４８，実測値：２５７．０８６２．
【０２１１】
（実施例１８）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−メトキシベンゼンスルホニル）オキシシクロヘキサン
【０２１２】
【化４３】
【０２１３】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），４．６４−４．５３（ｍ，１Ｈ），３．９１−３．７６（ｍ，４Ｈ），２．０７−１．２１（ｍ，９Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６３．５，１２９．７，１２８．３，１１４．２，８２．８，６８．８，５５．５，３０．１，２７．６，２１．５，２０．６；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３６５０，２９４４，１５９７，１３４８，１１６３ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１６．７分（［＋］），１９．７分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］１８Ｄ −７．４（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９４％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１３Ｈ１９Ｏ５Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：２８７．０９５３，実測値：２８７．０９６６．
【０２１４】
（実施例１９）
（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−メタンスルホニルオキシシクロヘキサン
【０２１５】
【化４４】
【０２１６】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ４．８４−４．７４（ｍ，１Ｈ），３．９３−３．８２ （ｍ，１Ｈ），３．０９ （ｓ，３Ｈ），２．３９ （ｂｒｓ，１Ｈ），２．１５−２．００ （ｍ，１Ｈ），１．８３−１．２１ （ｍ，７Ｈ）．
【０２１７】
なお、この化合物は光学純度の分析が難しいので、以下の方法により安息香酸エステル化し、（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−メタンスルホニルオキシシクロヘキサンに変換した。
【０２１８】
【化４５】
【０２１９】
室温で（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−メタンスルホニルオキシシクロヘキサン（１ｍｍｏｌ、９７％ｅｅ）とトリエチルアミン（１．５当量）および４−ジメチルアミノピリジン（１．０当量）のジクロロメタン溶液（４ｍＬ）へ塩化ベンゾイル（１．５当量）を加えた。２４時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−メタンスルホニルオキシシクロヘキサン（収率９３％，７７％ｅｅ）を無色結晶として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
【０２２０】
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ８．０７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），５．３１−５．２１（ｍ，１Ｈ），５．０５−４．９６（ｍ，１Ｈ），２．９９（ｓ，３Ｈ），２．２５−１．４０（ｍ，８Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６５．６，１３３．１，１２９．５，１２８．３，７９．１，７１．５，３８．５，２９．３，２７．１，２１．７，２０．７；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９４４，１７２０，１３６０，１１８３ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１６．７分（［＋］），１８．９分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２７Ｄ −４．６（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，７７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１４Ｈ１９Ｏ５Ｓ［Ｍ＋Ｈ］＋における計算値：２９９．０９５３，実測値：２９９．０９６９．
【０２２１】
実施例２０
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、金属塩（触媒種）の影響
【０２２２】
トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）を他の金属塩に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表５に示す。
【０２２３】
【表５】
【０２２４】
この結果から、上記金属塩のうち、ＣｕＣｌ２、Ｚｎ（ＯＴｆ）２、ＣｕＦ２、Ｃｕ（ＢＦ４）２およびＣｕ（ＰＦ６）２を本発明の製造方法における金属塩として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。
【０２２５】
実施例２１
メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化反応における、不斉配位子（光学活性ビスオキサゾリン化合物）の影響
【０２２６】
（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）を他の不斉配位子に変えた以外は実施例２と同様の方法で、メソ−１，２−ジオールのモノスルホニル化を試みた。
得られた化合物の収率と光学純度を表６に示す。
【０２２７】
【表６】
【０２２８】
この結果から、上記不斉配位子のうち、（Ｓ，Ｓ）−ｔ−Ｂｕ−ＢＯＸ、（Ｒ，Ｒ）−Ｂｎ−ＢＯＸおよび（４Ｓ，５Ｒ）−Ｉｎ−ＢＯＸを本発明の製造方法における不斉配位子として用いた場合でも、高い光学純度で目的の光学活性モノスルホネート体が得られることが分かった。
【０２２９】
実施例２２
（２Ｓ，３Ｒ）−（−）−３−ヒドロキシ−２−ベンゼンスルホニルオキシブタン
【０２３０】
【化４６】
【０２３１】
塩化ｐ−トルエンスルホニルの代わりに塩化ベンゼンスルホニルを使用した以外は実施例１１と同様の方法で、表題化合物を得た。
無色油状物；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．９４（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），７．６７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），４．６５−４．５３（ｍ，１Ｈ），３．９５−３．８２（ｍ，１Ｈ），２．１５（ｂｒｓ，１Ｈ），１．２２（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．１２（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １３６．９，１３３．６，１２９．１，１２７．５，８３．３，６９．１，１７．４，１４．７；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３５３０，２９８６，１４４９，１３６４，１１９４ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルパックＡＳカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１６．６分（［＋］），１９．４分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］１８Ｄ −１０．４（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９６％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１０Ｈ１５Ｏ４Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：２３１．０６９１，実測値：２３１．０７０４．
【０２３２】
実施例２３
（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシメチルプロピオン酸エチルの製造
【０２３３】
【化４７】
【０２３４】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへ２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸エチル（８１．０ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ｐ−トルエンスルホニル（９５．３ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加えた。４８時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシメチルプロピオン酸エチル（収率５７％，７８％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．７９（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝８．１，２Ｈ），４．２６（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ），４．１４（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．０９（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ），３．６９（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，４Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ）２．３６（ｂｒｔ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），１．２３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），１．１６（ｓ，３Ｈ）；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＤ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１５：１，波長：２５４ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１５．５分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１７．１分（［＋］）；
［α］２５Ｄ −２．９（ｃ ０．７，ＣＨＣｌ３，７８％ｅｅ）．
【０２３５】
実施例２４
（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミドの製造
【０２３６】
【化４８】
【０２３７】
室温でトリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｒ，Ｒ）−（＋）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液を１０分間撹拌した。そこへ２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド（１１１．６ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０４．４ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、続いて塩化ｐ−トルエンスルホニル（１１４．４ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）を加えた。１２時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド（収率９３％，８７％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ８．６８（ｂｒｓ，１Ｈ）、７．７８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３５−７．２３（ｍ，４Ｈ），７．１１（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），４．２８（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），４．１７（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，２Ｈ），３．９５（ｄｄ，Ｊ＝１１．４，５．７Ｈｚ，１Ｈ），３．８４（ｄｄ，Ｊ＝１１．４，５．７Ｈｚ，１Ｈ），３．００（ｂｒｓ，１Ｈ），２．４４（ｓ，３Ｈ）１．８５−１．６３（ｍ，２Ｈ），０．８７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ）；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３３００，２９２６，１６６１，１５９９，１３６０，１１７７ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：４５．７分（［＋］），５２．１分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２６Ｄ −４３．２（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，８７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１７Ｈ１９Ｏ４Ｓからの計算値 ［Ｍ＋Ｈ］＋：３７８．１３７５，実測値：３７８．１３８３．
【０２３８】
比較例１３
（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（Ｎ−フェニル）カルバモイルオキシメチルブタン酸エチルの製造
【０２３９】
【化４９】
【０２４０】
トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｓ，Ｓ）−（−）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を少量のジクロロメタン中（４ｍＬ）で混合し、溶解後（３０分以内）ジクロロメタンを減圧留去すると青緑色の固体が残った。このフラスコ内に２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸エチル（０．０８８ｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加えてテトラヒドロフラン２ｍｌに溶解し、その溶液を氷水中で冷却した。約１０分冷却した後フェニルイソシアネート０．０５４ｍＬ（分子量 １１９．１２，ｄ＝１．１０，０．５ｍｍｏｌ）を加えて撹拌した。一時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１０ｍＬ）で三回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して（−）−２−ヒドロキシメチル−２−（Ｎ−フェニル）カルバモイルオキシメチルブタン酸エチル０．１２９ｇ（収率８８％、５５％ｅｅ）を得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下のとおりであった。
無色油状物。
ＩＲ νｍａｘ； ３３４１，２９７５，１７３６，１６０３，１５４５，１４４７，１３１８，１２３５，１１４４，１０６８，８６２，７５６，６９３ｃｍ−１．
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； ０．９１（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．２８（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），１．５６−１．７２（ｍ，２Ｈ），２．９４（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），３．６８（ｄｄ，Ｊ＝６．９，１２．０Ｈｚ，１Ｈ），３．７９（ｄｄ，Ｊ＝６．９，１２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．２１（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．４０（ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，１Ｈ），４．４９（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．３８（ｓ，１Ｈ），７．０９（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２９−７．３６（ｍ，４Ｈ）．
ＨＰＬＣ：キラルパックＡＤカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ．保持時間：１６．４分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１８．２分（［＋］），［α］２３．８Ｄ −６．７１（ｃ ０．５０，ＣＨＣｌ３，５５％ｅｅ）．
【０２４１】
比較例１４
２−ベンゾイルオキシメチル−２−ヒドロキシメチルブタン酸エチルの製造
【０２４２】
【化５０】
【０２４３】
トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｓ，Ｓ）−（−）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を少量のジクロロメタン中（４ｍＬ）で混合し、溶解後（３０分以内）ジクロロメタンを減圧留去すると青緑色の固体が残った。このフラスコ内に２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸エチル（０．０８８ｇ，０．５ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（０．０１３１ｍＬ，０．７５ｍｍｏｌ）を加えてテトラヒドロフラン２ｍＬに溶解させた後、塩化ベンゾイル（０．０５８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えて撹拌した。一時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１０ｍＬ）で三回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して２−ベンゾイルオキシメチル−２−ヒドロキシメチルブタン酸エチル０．０３３ｇ（収率２２％、０％ｅｅ）を得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下のとおりであった。
無色油状物．
ＩＲ νｍａｘ； ３５１０，２９７３，１７２８，１４５３，１３１８，１２７５，１１１３，１０２６，９７０，７１２ｃｍ−１．
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； ０．９５（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．２７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），１．６５−１．７４（ｍ，２Ｈ），２．６０（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），３．７２−３．８７（ｍ，２Ｈ），４．２３（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．５３（ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１Ｈ），４．６５（ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ．
ＨＰＬＣ：キラルパックＡＤカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：１０．４分，１１．４分．
【０２４４】
比較例１５
（＋）−２−ヒドロキシメチル−２−（Ｎ−フェニル）カルバモイルオキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミドの製造
【０２４５】
【化５１】
【０２４６】
２，２−ビス（ヒドロキシメチル）ブタン酸エチルを、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド（１１２ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）に変え、塩化ベンゾイルをフェニルイソシアネートに変えた以外は、比較例１４と同様の方法で製造した。生成物の分析結果は以下のとおりであった。
白色固体。
融点、４７−５０℃．
ＩＲ νｍａｘ； ３３００，３０６１，２９７０，１７１３，１６６３，１６０１，１５０１，１４４５，１３１６，１２３１，１０６９，８９９，７５４，６９３，５０７ｃｍ−１．
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ； ０．９７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．６２−１．６９（ｍ，１Ｈ），１，８６−１．９５（ｍ，１Ｈ），３．７８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），３．７９−３．９５（ｍ，１Ｈ），４．１９（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），４．７４（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．８６（ｓ，１Ｈ），７．１１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．２７−７．３５（ｍ，６Ｈ），７．５５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），９．１３（ｓ，１Ｈ）．
ＨＰＬＣ：キラルセルＯＪカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝１０：１，波長：２５４ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ．保持時間：２１．１分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１５．７分（［−］）．［α］２２．０Ｄ ３３．６８（ｃ １．００，ＣＨＣｌ３，６１％ｅｅ）．
Ｃ１９Ｈ２２Ｎ２Ｏ４からの計算値：Ｃ，６６．６５；Ｈ，６．４８；Ｎ，８．１８，実測値：Ｃ，６６．４７；Ｈ，６．５６；Ｎ，８．０８．
【０２４７】
比較例１６
（＋）−２−ベンゾイルオキシメチル−２−ヒドロキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミドの製造
【０２４８】
【化５２】
【０２４９】
トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）（１８．１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）と（Ｓ，Ｓ）−（−）−２，２’−イソプロピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）（１６．７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を少量のジクロロメタン中（４ｍＬ）で混合し、溶解後（３０分以内）ジクロロメタンを減圧留去すると青緑色の固体が残った。このフラスコ内に２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド（１１１．６ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（０．０１３１ｍＬ，０．７５ｍｍｏｌ）を加えてテトラヒドロフラン２ｍＬに溶解させた後、塩化ベンゾイル（０．０５８ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加えて撹拌した。一時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１０ｍＬ）で三回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（＋）−２−ベンゾイルオキシメチル−２−ヒドロキシメチル−（Ｎ−フェニル）ブチルアミド０．０７７ｇ（収率４７％、２３％ｅｅ）を得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下のとおりであった。
無色固体。
Ｍｐ：８５−９５℃
ＩＲ νｍａｘ； ３３１１，３０６３，２９７１，２８８２，１７２２，１６５５，１６０１，１５４１，１５０１，１４４７，１３１６，１２７９，１１７７，１１１５，１０７１，１０２８，９７０，９１１，７５６，７１２，６９３ｃｍ−１．
１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ； １．００（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．７１−１．８３（ｍ，１Ｈ），１．９３−２．０５（ｍ，１Ｈ），３．３９（ｓ，１Ｈ），３．７９（ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．００（ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．８８（ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．１１（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３３（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５３−７．６３（ｍ，２Ｈ）８．０５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），９．００（ｓ，１Ｈ）．
ＨＰＬＣ：キラルセルＯＤカラム（４．６ｍｍφ，２５ｃｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝３０：１，波長：２５４ｎｍ，流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．保持時間：５８．６分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），６４．８分（［−］），［α］２２．０Ｄ ＋３．９（ｃ ０．７８，ＣＨＣｌ３，２３％ｅｅ）．
【０２５０】
応用例１（光学活性モノスルホネート体の利用）
工程１：（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサンの製造
【０２５１】
【化５３】
【０２５２】
室温で（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ヒドロキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（２００ｍｇ，０．７４ｍｍｏｌ，９７％ｅｅ）とトリエチルアミン（１．５当量）および４−ジメチルアミノピリジン（１．０当量）のジクロロメタン（４ｍＬ）溶液へ塩化ベンゾイル（１．２当量）を加えた。２４時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（収率８４％，９７％ｅｅ）を無色結晶として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
Ｍｐ：１０２−１０４℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８９（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．５４（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４０（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），５．０２−４．９２（ｍ，１Ｈ），４．９０−４．８０（ｍ，１Ｈ），２．２６（ｓ，３Ｈ），２．１９−１．３１（ｍ，８Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６５．３，１４４．２，１３３．８，１３２．８，１２９．７ １２９．５（２Ｃ），１２８．０，１２７．４，７９．０，７１．７，２９．１，２６．６，２２．２，２１．４，２０．１；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９４６，１７１９，１５９９，１３６２，１１７７ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＪ−Ｈカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝５：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１２．３分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１９．５分（［＋］）；
［α］２７Ｄ −１２．２（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ２０Ｈ２３Ｏ５Ｓからの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：３７５．１２６６，実測値：３７５．１２５６．
【０２５３】
工程２：（１Ｒ，２Ｒ）−２−アジド−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサンの製造
【０２５４】
【化５４】
【０２５５】
上記工程１で得られた（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（３７４．５ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ，９７％ｅｅ）のＤＭＦ（５ｍＬ）溶液へ、アジ化ナトリウム（１３０ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）と１５−クラウン−５（２２ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）を室温で加えた。１２時間、９０℃にて攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製して（１Ｒ，２Ｒ）−２−アジド−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサン（収率９３％，９７％ｅｅ）を無色結晶として得た。生成物の分析結果は以下の通りであった。
Ｍｐ：９０−９２℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ８．０７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），５．００−４．８３（ｍ，１Ｈ），３．６３−３．４８（ｍ，１Ｈ），２．２８−１．２８（ｍ，８Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６５．６，１３２．９，１２９．９，１２９．５，１２８．２，７５．８，６３．２，３０．３，３０．２，２３．６，２３．３；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９４４，２１１０，１７２８，１４５２，１２８１ｃｍ−１；
［α］２０Ｄ −１３２．１（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＨＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ Ｃ１３Ｈ１６Ｎ３Ｏ２からの計算値［Ｍ＋Ｈ］＋：２４６．１２４３，実測値：２４６．１２５９．
【０２５６】
工程３：（１Ｒ，２Ｒ）−２−アミノ−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサンの製造
【０２５７】
【化５５】
【０２５８】
上記工程２で得られた（１Ｒ，２Ｒ）−２−アジド−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサン（１．０ｍｍｏｌ）のメタノール（５ｍＬ）溶液へ、１０％パラジウム炭素（１３０ｍｇ）を室温で加え、１気圧の水素雰囲気下、室温にて１２時間攪拌後、セライト濾過した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。濾液を減圧濃縮して（１Ｒ，２Ｒ）−２−アミノ−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサン（定量的）を無色油状物として得た。
これは、精製することなく次の工程に用いた。
【０２５９】
工程４：（１Ｒ，２Ｒ）−（−）−１−ベンゾイルオキシ−２−（Ｎ−ベンゾイル）アミノシクロヘキサンの製造
【０２６０】
【化５６】
【０２６１】
上記工程３で得られた（１Ｒ，２Ｒ）−（−）−２−アミノ−１−ベンゾイルオキシシクロヘキサン（１．０ｍｍｏｌ）のトリエチルアミン（２．０当量）および４−ジメチルアミノピリジン（０．２当量）のジクロロメタン（４ｍＬ）溶液へ塩化ベンゾイル（１．２当量）を室温で加えた。１２時間攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製して（１Ｒ，２Ｒ）−（−）−１−ベンゾイルオキシ−２−（Ｎ−ベンゾイル）アミノシクロヘキサン（収率８５％、９７％ｅｅ）を無色結晶として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
Ｍｐ：１４９−１５１℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ８．０１（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５８−７．２８（ｍ，６Ｈ），６．６２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），５．１１−４．９８（ｍ，１Ｈ），４．３１−４．１７（ｍ，１Ｈ），２．３７−１．２１（ｍ，８Ｈ）；
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６７．６，１６６．９，１３４．３，１３３．０，１３１．１，１２９．７，１２９．６，１２８．３，１２８．２，１２６．６，７５．２，５３．６，３２．０，３１．１，２４．１（２Ｃ）；
ＩＲ（ｎｅａｔ） ３３００，２９４０，１７１７，１６３８，１５４１，１２７３ｃｍ−１；
ＨＰＬＣ キラルセルＯＤカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝２０：１，波長：２２０ｎｍ，流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１１．１分（［＋］），１４．８分（［−］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ）；
［α］２１Ｄ −８５．６（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＬＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ ３２４［Ｍ＋Ｈ］＋．
【０２６２】
応用例２（光学活性モノスルホネート体の利用）
（３Ｒ）−（＋）−３−ベンゾイルオキシシクロヘキセンの製造
【０２６３】
【化５７】
【０２６４】
上記応用例１の工程１で得られた（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−２−ベンゾイルオキシ−１−（ｐ−トルエンスルホニル）オキシシクロヘキサン（２．０ｍｍｏｌ，９７％ｅｅ）のＤＭＦ（５ｍＬ）溶液へ、室温でＤＢＵ（２．０当量）を加え、１８時間、１２０℃にて攪拌後、反応液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で３回抽出した。有機相を集めて無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒 ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製して（３Ｒ）−（＋）−３−ベンゾイルオキシシクロヘキセン（収率８０％，９７％ｅｅ）を無色油状物として得た。光学純度はＨＰＬＣにより決定した。生成物の分析結果は以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ８．０６（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５７（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４２（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ），６．０７−５．９１（ｍ，１Ｈ），５．９１−５．７８（ｍ，１Ｈ），５．５８−５．４４（ｍ，１Ｈ），２．３０−１．５６（ｍ，８Ｈ）．
ＨＰＬＣ キラルパックＡＤカラム（４．６ｍｍφ，２５０ｍｍ），ｎ−ヘキサン：イソプロパノール＝９９．７：０．３，波長：２１０ｎｍ，流速：０．５ｍｌ／ｍｉｎ，保持時間：１３．６分（［＋］，ｅｎｒｉｃｈｅｄ），１５．０分（［−］）；
［α］２６Ｄ ＋２１５．６（ｃ １．０，ＣＨＣｌ３，９７％ｅｅ）；
ＭＳ［ＬＲ−ＦＡＢ（＋）］：ｍ／ｚ ２０３［Ｍ＋Ｈ］＋．
【０２６５】
なお、（３Ｓ）−（−）−３−ベンゾイルオキシシクロヘキセンは、本応用例２の方法に準じた方法によって容易に合成することができ、当該化合物は、ロイコトリエンＢ４合成の中間体となり得る（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ（１９９０）、３１（２３）、３３５５−３３５６参照）。
【０２６６】
以上のように、本発明の製造方法によって得られたモノスルホネート化合物を利用することにより、種々のキラル医薬に係る合成中間体を製造することが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【０２６７】
本発明によれば、ジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することによって、各種キラル医薬の合成素子として重要な光学活性モノスルホネート化合物を高収率かつ高立体選択的に得ることができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することを特徴とする、光学活性モノスルホネート化合物の製造方法。
【請求項２】
モノスルホニル化が、プロキラルジオール化合物および式（ＩＩＩ）
【化１】
［式中、
Ｒ２は、置換されていてもよい炭化水素基を示し、
Ｘは、ハロゲン原子を示す］で表されるスルホニル化剤を、式（ＩＶａ）
【化２】
［式中、
Ｒ３は、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ３が一体となって置換されていてもよいＣ２−６アルキレン基を示し、
Ｒ４は、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル基、または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物もしくは式（ＩＶｂ）
【化３】
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物、または式（ＩＶｃ）
【化４】
［式中、
Ｒ３は、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ３が一体となって置換されていてもよいＣ２−６アルキレン基を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物もしくは式（ＩＶｄ）
【化５】
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物、式（Ｖ）
【化６】
［式中、
Ｍは、２価の金属原子を示し、
Ｘ’は、ハロゲン原子、ＯＴｆ、ＮＴｆ２、ＢＦ４、ＰＦ６またはＳｂＦ６を示す］で表される金属塩および塩基の存在下で反応させることを特徴とする、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
プロキラルジオール化合物が、式（ＩＩ）
【化７】
［式中、
Ｒ１は、置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい炭素環、置換されていてもよい縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示す］で表されるメソ−１，２−ジオール化合物であって、光学活性モノスルホネート化合物が、式（Ｉ）
【化８】
［式中、
Ｒ１は、前記と同義を示し、
Ｒ２は、置換されていてもよい炭化水素基を示す］で表される化合物、または式（Ｉ’）
【化９】
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される化合物である、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、炭素環、縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示し、
Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
請求項３記載の製造方法。
【請求項５】
Ｒ１が、置換されていてもよいメチル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、シクロオクテン環、テトラヒドロナフタレン環、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、Ｎ−ベンゾイルピロリジン環またはテトラヒドロチオフェン環を示し、
Ｒ２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
請求項４記載の製造方法。
【請求項６】
プロキラルジオール化合物が、式（ＶＩＩ）
【化１０】
［式中、Ｒ５およびＲ６は互いに異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す］で表される１，３−ジオール化合物であって、光学活性モノスルホネート化合物が、式（ＶＩ）
【化１１】
［式中、
Ｒ２は、置換されていてもよい炭化水素基を示し、
Ｒ５およびＲ６は、前記と同義を示す］で表される化合物である、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項７】
Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示し、
Ｒ５が、Ｃ１−１８アルキル基、Ｃ６−１４アリール基、Ｃ７−１６アラルキル基またはアシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す、
請求項６記載の製造方法。
【請求項８】
Ｒ２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｒ５が、アシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基を示す、
請求項６または７記載の製造方法。
【請求項９】
Ｒ３が、水素原子またはＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ３が一緒になって、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基またはペンタメチレン基を示し、
Ｒ４が、Ｃ１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ６−１４アリール基またはＣ７−１６アラルキル基を示す、
請求項２〜８のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１０】
Ｒ３が、メチル基を示し、
Ｒ４が、フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはベンジル基を示す、請求項９記載の製造方法。
【請求項１１】
Ｍが、２価の銅原子または２価の亜鉛原子を示し、
Ｘ’が、ハロゲン原子、ＯＴｆ、ＢＦ４またはＰＦ６を示す、
請求項２〜１０のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１２】
塩基が、炭酸カリウム、トリエチルアミン、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウムおよびジイソプロピルエチルアミンからなる群から選択される少なくとも一つである、請求項２〜１１のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１３】
テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、トルエン、イソプロピルアルコール、アセトニトリルおよび酢酸エチルからなる群から選択される少なくとも一つの溶媒中で行われる、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１】
プロキラルジオール化合物の片方の水酸基のみを選択的にモノスルホニル化することを特徴とする、光学活性モノスルホネート化合物の製造方法。
【請求項２】
モノスルホニル化が、プロキラルジオール化合物および式（ＩＩＩ）
【化１】
［式中、
Ｒ２は、置換されていてもよい炭化水素基を示し、
Ｘは、ハロゲン原子を示す］で表されるスルホニル化剤を、式（ＩＶａ）
【化２】
［式中、
Ｒ３は、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ３が一体となって置換されていてもよいＣ２−６アルキレン基を示し、
Ｒ４は、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ７−１６アラルキル基、または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物もしくは式（ＩＶｂ）
【化３】
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物、または式（ＩＶｃ）
【化４】
［式中、
Ｒ３は、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ３が一体となって置換されていてもよいＣ２−６アルキレン基を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物もしくは式（ＩＶｄ）
【化５】
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される光学活性ビスオキサゾリン化合物、式（Ｖ）
【化６】
［式中、
Ｍは、２価の金属原子を示し、
Ｘ’は、ハロゲン原子、ＯＴｆ、ＮＴｆ２、ＢＦ４、ＰＦ６またはＳｂＦ６を示す］で表される金属塩および塩基の存在下で反応させることを特徴とする、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
プロキラルジオール化合物が、式（ＩＩ）
【化７】
［式中、
Ｒ１は、置換されていてもよい炭化水素基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい炭素環、置換されていてもよい縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示す］で表されるメソ−１，２−ジオール化合物であって、光学活性モノスルホネート化合物が、式（Ｉ）
【化８】
［式中、
Ｒ１は、前記と同義を示し、
Ｒ２は、置換されていてもよい炭化水素基を示す］で表される化合物、または式（Ｉ’）
【化９】
［式中、各記号は、前記と同義を示す］で表される化合物である、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
Ｒ１が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、炭素環、縮合炭素環または置換されていてもよい複素環を示し、
Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
請求項３記載の製造方法。
【請求項５】
Ｒ１が、置換されていてもよいメチル基を示すか、あるいは二つのＲ１が一緒になって、隣接する炭素原子と共に、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロヘキセン環、シクロオクテン環、テトラヒドロナフタレン環、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、Ｎ−ベンゾイルピロリジン環またはテトラヒドロチオフェン環を示し、
Ｒ２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｘが、塩素原子を示す、
請求項４記載の製造方法。
【請求項６】
プロキラルジオール化合物が、式（ＶＩＩ）
【化１０】
［式中、Ｒ５およびＲ６は互いに異なって、水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す］で表される１，３−ジオール化合物であって、光学活性モノスルホネート化合物が、式（ＶＩ）
【化１１】
［式中、
Ｒ２は、置換されていてもよい炭化水素基を示し、
Ｒ５およびＲ６は、前記と同義を示す］で表される化合物である、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項７】
Ｒ２が、置換されていてもよいＣ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示し、
Ｒ５が、Ｃ１−１８アルキル基、Ｃ６−１４アリール基、Ｃ７−１６アラルキル基またはアシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基または置換されていてもよいＣ６−１４アリール基を示す、
請求項６記載の製造方法。
【請求項８】
Ｒ２が、メチル基または置換されていてもよいフェニル基を示し、
Ｒ５が、アシル基を示し、
Ｒ６が、Ｃ１−６アルキル基を示す、
請求項６または７記載の製造方法。
【請求項９】
Ｒ３が、水素原子またはＣ１−６アルキル基を示すか、あるいは二つのＲ３が一緒になって、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基またはペンタメチレン基を示し、
Ｒ４が、Ｃ１−６アルキル基、置換されていてもよいＣ６−１４アリール基またはＣ７−１６アラルキル基を示す、
請求項２〜８のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１０】
Ｒ３が、メチル基を示し、
Ｒ４が、フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはベンジル基を示す、請求項９記載の製造方法。
【請求項１１】
Ｍが、２価の銅原子または２価の亜鉛原子を示し、
Ｘ’が、ハロゲン原子、ＯＴｆ、ＢＦ４またはＰＦ６を示す、
請求項２〜１０のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１２】
塩基が、炭酸カリウム、トリエチルアミン、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウムおよびジイソプロピルエチルアミンからなる群から選択される少なくとも一つである、請求項２〜１１のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１３】
テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、トルエン、イソプロピルアルコール、アセトニトリルおよび酢酸エチルからなる群から選択される少なくとも一つの溶媒中で行われる、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の製造方法。
【公開番号】特開２００８−２９０９８１（Ｐ２００８−２９０９８１Ａ）
【公開日】平成２０年１２月４日（２００８．１２．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１３９１６１（Ｐ２００７−１３９１６１）
【出願日】平成１９年５月２５日（２００７．５．２５）
【出願人】（５０４２０５５２１）国立大学法人 長崎大学 (226)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１２月４日（２００８．１２．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年５月２５日（２００７．５．２５）
【出願人】（５０４２０５５２１）国立大学法人 長崎大学 (226)
【Ｆターム（参考）】
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