凹凸状シートの製造方法及び装置
【課題】表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。
【解決手段】放射線硬化樹脂液４が塗布されることにより、表面に樹脂液層が形成されている帯状可撓性のシートＷを連続走行させ、シートを回転する凹凸ローラ１３に巻き掛け、樹脂液層に凹凸ローラ表面の凹凸パターンを転写し、シートが凹凸ローラに巻き掛けられている状態で樹脂液層に放射線を照射し、シートを凹凸ローラより剥離する凹凸状シートの製造方法である。凹凸ローラに、頂部のローラ径がＤ１の凸部と底部のローラ径がＤ１より小径であるＤ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部１３Ａと、凹凸パターン部の両側に配されるローラ径Ｄ３の平坦部１３Ｂとを設け、ローラ径をＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようにする。
【解決手段】放射線硬化樹脂液４が塗布されることにより、表面に樹脂液層が形成されている帯状可撓性のシートＷを連続走行させ、シートを回転する凹凸ローラ１３に巻き掛け、樹脂液層に凹凸ローラ表面の凹凸パターンを転写し、シートが凹凸ローラに巻き掛けられている状態で樹脂液層に放射線を照射し、シートを凹凸ローラより剥離する凹凸状シートの製造方法である。凹凸ローラに、頂部のローラ径がＤ１の凸部と底部のローラ径がＤ１より小径であるＤ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部１３Ａと、凹凸パターン部の両側に配されるローラ径Ｄ３の平坦部１３Ｂとを設け、ローラ径をＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようにする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹凸状シートの製造方法及び装置に係り、特に、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された反射防止効果等を有するエンボスシート等のシート状物を、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な凹凸状シートの製造方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶等の電子ディスプレイの用途に、反射防止効果を有するエンボスシートが採用されている。また、レンチキュラーレンズやフライアイレンズ等の平板状レンズ、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート、プリズムシート等のエンボスシートが使用されている。このようなエンボスシートとしては、従来より、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成されたものが公知である。このような規則的な微細凹凸パターンを形成する手法としては、従来より各種の方法が知られている（特許文献１〜７参照）。
【０００３】
たとえば、図８に示されるような構成の装置において、表面に規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ１の表面に塗布手段２で樹脂を塗布し、連続走行されるシート３をスタンパーローラ１とニップローラ４とで挟み、スタンパーローラ１の樹脂をシート３に接触させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート３をリリースローラ５に巻き掛けてスタンパーローラ１より剥離させる内容が開示されている（特許文献１〜３参照）。
【０００４】
また、図９に示されるような構成の装置において、連続走行されるシート３の表面に予め樹脂を塗布しておき、このシート３を、規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ１とニップローラ４とで挟み、スタンパーローラ１の凹凸パターンを樹脂に転写させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート３をリリースローラ５に巻き掛けてスタンパーローラ１より剥離させる内容が開示されている（特許文献３、４参照）。
【０００５】
このプロセスで重要なポイントの１つは、シート３とスタンパーローラ１との間に硬化樹脂が介在し、樹脂の硬化後に、スタンパーローラ１から良好に剥離できることである。ところが、パターン加工されている部分が複雑な形状（接触面積の大きい形状）であるほど、剥離しにくくなる。特に、図１０に拡大断面図で示されるように、硬化樹脂膜６の幅方向の端部は、剥離の際に、樹脂がちぎれてスタンパーローラ１（エンボスローラ）に残ってしまうような致命的な欠陥を生じることもある。
【０００６】
このため、スタンパーローラ１の幅方向の端部周縁に各種の工夫を施し、剥離性を良好ならしめる各種の提案がなされている（特許文献５〜７参照）。
【特許文献１】特許第２５３３３７９号公報
【特許文献２】特許第２８９１３４４号公報
【特許文献３】特開平１１−３００７６８号公報
【特許文献４】特開２０００−１４１４８１号公報
【特許文献５】特公平５−５８７８８号公報
【特許文献６】特許第３５４６４８５号公報
【特許文献７】特開平１０−１５３９６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来からの各種の剥離不良対策では、実効を挙げていないのが現状である。たとえば特許文献５によれば、スタンパーローラ１の幅方向の端部周縁に平滑面を設けて、硬化樹脂膜６の端部を、この平滑面で形成することにより、端部の剥離性を良化することができるとされている。
【０００８】
この提案では、図１１に拡大断面図で示されるように、平滑面高さを凸部の最大高さと同じとしている。ところが、端部の硬化樹脂膜６が、凹凸パターン部の凸部よりも高いために、硬化樹脂膜６の端部が圧力を受けて潰されたり、シート変形を助長したりすることとなり、硬化樹脂膜６の端部の形状が不安定となりやすい。
【０００９】
また、特許文献６によれば、スタンパーローラ１の幅方向の端部周縁に平滑面を設けて、この平滑面高さを凹部と同じ高さとし、また、凹凸部の幅をシート３よりも狭くしている。ところが、端部の硬化樹脂膜６は、シート３とスタンパーローラ１との間に樹脂が介する前の厚さよりも、シート３とスタンパーローラ１との間（ギャップ）の方が大きいため、硬化樹脂膜６の端部の形状が非常に不安定となりやすい。
【００１０】
また、特許文献７によれば、図１２に拡大断面図で示されるように、スタンパーローラ１の幅方向の端部周縁に土手部となる溝を設けて安定化することを図っている。この溝深さは、凹部よりも深い。ところが、溝を設けても特許文献６と同様に、端部の硬化樹脂膜６は、シート３とスタンパーローラ１との間に樹脂が介する前の厚さよりも、シート３とスタンパーローラ１との間（ギャップ）の方が大きいため、硬化樹脂膜６の端部の形状が非常に不安定となりやすい。
【００１１】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、樹脂の剥離性を向上させることにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な凹凸状シートの製造方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、前記目的を達成するために、放射線硬化樹脂液が塗布されることにより、表面に樹脂液層が形成されている帯状可撓性のシート状体を連続走行させ、前記シート状体を、回転する凹凸ローラに巻き掛け、前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸パターンを転写し、前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で前記樹脂液層に放射線を照射し、前記シート状体を前記凹凸ローラより剥離する凹凸状シートの製造方法において、前記凹凸ローラに、頂部におけるローラ径Ｄ１の凸部と底部におけるローラ径Ｄ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部と、該凹凸パターン部の両側に配されるローラ径Ｄ３の平坦部とを設け、ローラ径をＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようにすることを特徴とする凹凸状シートの製造方法を提供する。
【００１３】
また、このために、本発明は、帯状可撓性のシート状体を送り出すシート状体供給手段と、前記シート状体の表面に放射線硬化樹脂液を塗布する塗布手段と、連続走行する前記シート状体を、回転する凹凸ローラに巻き掛けながら、該凹凸ローラ表面の凹凸パターンを前記シート状体の表面に転写形成する転写手段と、前記凹凸ローラの近傍に設けられ、前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で前記樹脂液を硬化させる放射線照射手段と、を備えた凹凸状シートの製造装置において、前記凹凸ローラに、頂部におけるローラ径Ｄ１の凸部と底部におけるローラ径Ｄ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部と、該凹凸パターン部の両側に配されるローラ径Ｄ３の平坦部とが設けられ、ローラ径がＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようになっていることを特徴とする凹凸状シートの製造装置を提供する。
【００１４】
本発明によれば、凹凸ローラに、頂部のローラ径がＤ１の凸部と底部のローラ径がＤ１より小径であるＤ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部と、凹凸パターン部の両側に配されるローラ径Ｄ３の平坦部とを設け、ローラ径をＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようにする。
【００１５】
すなわち、平坦部の高さを凸部高さと凹部高さの中間くらいのレベルにするので、硬化樹脂の層が凹凸パターン部で受ける圧力と、端部の平坦部で受ける圧力とをほぼ同等にできる。これにより、平坦部の樹脂層は、凹凸部の樹脂層と平均厚さがほぼ同等となるため、安定に層が形成され、剥離不良はなくなる。
【００１６】
したがって、本発明によれば、樹脂の剥離性を向上させることにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。
【００１７】
なお、本明細書において「凹凸ローラ」とは、円柱状のローラの表面に凹凸パターン（エンボス形状用が形成されたエンボスローラのみならず、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたものをも含むものとする。このようなベルト状体であっても、円柱状のエンボスローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
【００１８】
本発明において、前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸パターンを転写する際に、前記シート状体と前記平坦部との間に容積Ａの空間が形成され、前記凹凸パターン部より前記平坦部へ洩れ出す樹脂液の体積ＢがＡ＜Ｂとなるようにローラ径Ｄ３及び／又はニップ圧を設定することが好ましい。
【００１９】
このような容積Ａの空間が形成され、凹凸パターン部より平坦部へ洩れ出す樹脂液の体積ＢがＡ＜Ｂとなれば、安定に樹脂層が形成され、一層剥離不良はなくなる。
【００２０】
本発明において、前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸パターンを転写する際に、前記シート状体と前記平坦部との間の空間の容積Ａがゼロとなるようにローラ径Ｄ３及び／又はニップ圧を設定することが好ましい。このような空間の容積Ａが形成されなければ、安定に樹脂層が形成され、一層剥離不良はなくなる。
【００２１】
また、本発明において、前記ローラ径Ｄ３を前記凹凸パターン部の平均ローラ径Ｄ４と略同一にすることが好ましい。このように、平坦部の高さを凹凸パターン部の平均高さに合わせることができれば、硬化樹脂層が凹凸パターン部で受ける圧力と、平坦部で受ける圧力を同等にでき、一層安定に樹脂層が形成され、一層剥離不良はなくなる。
【００２２】
また、本発明において、前記樹脂液層の幅を前記凹凸パターン部の幅より大きく設けることが好ましい。このように、樹脂液層の幅を凹凸パターン部の幅より大きく設けていれば、樹脂液層の幅方向端部は平坦部に位置することとなり、一層安定に樹脂層が形成され、一層剥離不良はなくなる。なお、樹脂液層の幅は、物理的にシート状体の幅より小である。
【００２３】
また、本発明において、前記シート状体を、前記凹凸ローラと該凹凸ローラに対向配置するとともに表面を弾性体で形成したニップローラとで挟圧しながら前記凹凸ローラに巻き掛けることが好ましい。このように、表面が弾性体であるニップローラをシート状体の裏面に押し付けることにより、硬化樹脂層の全体に圧力がかかり、硬化樹脂が凹凸ローラの凹凸パターンに均一に入り込み、かつ、平坦部（端部）において硬化樹脂層の端部も同等の圧力にて、シート状体と凹凸ローラとに挟まれることになるので、高精度かつ欠陥のない安定した微細パターンが形成できる。
【００２４】
また、本発明において、前記凹凸ローラとニップローラとの挟圧力が調整可能となっていることが好ましい。このように、挟圧力が調整可能となっていれば、安定した微細パターンの形成に一層有効である。
【００２５】
また、本発明において、前記シート状体に転写形成された凹凸パターンのピッチが１００μｍ以下であることが好ましい。また、本発明において、前記凹凸状シートが光学フイルムとして使用されることが好ましい。
【発明の効果】
【００２６】
以上説明したように、本発明によれば、樹脂の剥離性を向上させることにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様について説明する。図１は、本発明が適用されるエンボスシートの製造装置１０の構成を示す概念図である。このエンボスシートの製造装置１０は、シート状体供給手段１１と、塗布手段１２と、凹凸ローラであるエンボスローラ１３と、ニップローラ１４と、樹脂硬化手段１５と、剥離ローラ１６と、乾燥手段１９と、保護フィルム供給手段１７と、シート巻き取り手段１８、等とより構成される。
【００２８】
シート状体供給手段であるシート供給手段１１は、シート状体であるシートＷを送り出すもので、シートＷが巻回された送り出しロール等より構成される。
【００２９】
塗布手段１２は、シートＷの表面に放射線硬化樹脂液を塗布する装置であり、放射線硬化樹脂液を供給する液供給源１２Ａと、液供給装置（送液ポンプ）１２Ｂと、塗布ヘッド１２Ｃと、塗布の際にシートＷを巻き掛けて支持する支持ローラ１２Ｄと、液供給源１２Ａより塗布ヘッド１２Ｃまで放射線硬化樹脂液を供給するための配管等より構成される。なお、塗布ヘッド１２Ｃとしては、ダイコータ（エクストルージョン方式のコータ）の塗布ヘッドが採用されている。
【００３０】
乾燥手段１９は、たとえば図１に示されるトンネル状の乾燥装置のように、シートＷに塗布された塗布液を均一に乾燥させることができるものであれば、公知の各種方式のものが採用できる。たとえば、ヒータによる輻射加熱方式のもの、熱風循環方式のもの、遠赤外線方式のもの、真空方式のもの等が採用できる。
【００３１】
エンボスローラ１３としては、シートＷの表面に、ローラ表面の凹凸を転写形成できる、凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度等を有することが求められる。このようなエンボスローラ１３としては、金属製のローラが好ましい。
【００３２】
エンボスローラ１３の外周面には、規則的な微細凹凸パターンが形成されている。このような規則的な微細凹凸パターンは、製品としてのエンボスシート表面の微細凹凸パターンを反転した形状であることが求められる。なお、エンボスローラ１３の両端部近傍の形状については、後で詳述する。
【００３３】
製品としてのエンボスシートとしては、微細凹凸パターンが二次元配列された、たとえばレンチキュラーレンズや、微細凹凸パターンが三次元配列された、たとえばフライアイレンズ、円錐、角錐等の微細な錐体をＸＹ方向に敷きつめた平板レンズ等が対象となり、エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンは、これに対応させる。
【００３４】
エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンの形成方法としては、エンボスローラ１３の表面をダイヤモンドバイト（シングルポイント）で切削加工する方法、エンボスローラ１３の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工等で直接凹凸を形成する方法が採用でき、また、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法が採用できる。
【００３５】
その他、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法も採用できる。特に反転型を電鋳等により形成する場合には、１つの原盤（マザー）より複数の同一形状の板状体が得られるという特長がある。
【００３６】
エンボスローラ１３の表面には、離型処理を施すことが好ましい。このように、エンボスローラ１３の表面に離型処理を施すことにより、微細凹凸パターンの形状が良好に維持できる。離型処理としては、公知の各種方法、たとえば、フッ素樹脂によるコーティング処理が採用できる。なお、エンボスローラ１３には駆動手段が設けられていることが好ましい。エンボスローラ１３は、図示の矢印ように、反時計方向（ＣＣＷ）に回転する。
【００３７】
次に、エンボスローラ１３の両端部近傍の形状について説明する。図４は、エンボスローラ１３とシートＷとの位置関係を示す要部断面図である。ここでは、図４（ａ）を主に説明する。
【００３８】
エンボスローラ１３の表面には、頂部のローラ径がＤ１の凸部と底部のローラ径がＤ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部１３Ａが形成されている。なお、この凹凸パターン部１３Ａの断面形状は、凸部及び凹部のいずれも平坦箇所のない三角形状である。また、両端部にローラ径Ｄ３の平坦部１３Ｂが設けられている。そして、ローラ径をＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようにすることが必要である。
【００３９】
このような構成によれば、平坦部１３Ｂの高さを凸部高さと凹部高さの中間のレベルにするので、硬化樹脂４の層が凹凸パターン部１３Ａで受ける圧力と、端部の平坦部１３Ｂで受ける圧力とをほぼ同等にできる。これにより、平坦部１３Ｂの硬化樹脂４の層は、凹凸部パターン部１３Ａの硬化樹脂４の層と平均厚さがほぼ同等となるため、安定に層が形成され、剥離不良はなくなる。
【００４０】
したがって、本発明によれば、樹脂の剥離性を向上させることにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。
【００４１】
なお、図４の構成では、ローラ径Ｄ３が凹凸パターン部１３Ａの平均ローラ径Ｄ４と同一になっている。したがって、硬化樹脂４の層が凹凸パターン部１３Ａで受ける圧力と、平坦部１３Ｂで受ける圧力を同等にでき、一層安定に樹脂層が形成され、一層剥離不良はなくなる。
【００４２】
この平均ローラ径Ｄ４は、凹凸パターン部１３Ａの断面形状によって異なり、たとえば、凹凸パターンが正弦波形状や放物線形状、双曲線形状等であった場合には、平均ローラ径Ｄ４のレベルも図４とは異なる。
【００４３】
なお、平坦部１３Ｂは、エンボスローラ１３の端部まで形成される必要はなく、図４（ｂ）に示されるように、溝部１３Ｃのように形成されていてもよい。
【００４４】
図３は、別の観点から見たエンボスローラ１３の両端部近傍の形状について説明する要部断面図であり、エンボスローラ１３とシートＷとの位置関係を示す図である。このうち、（ａ）及び（ｃ）は、エンボスローラ１３の凹凸パターンをシートＷの表面に転写形成する前の状態を示し、（ｂ）及び（ｄ）は、エンボスローラ１３の凹凸パターンをシートＷの表面に転写形成している状態を示す。
【００４５】
図３において、樹脂液４の層の幅は、シートＷの幅よりも狭くなっており、エンボスローラ１３の幅は、シートＷの幅よりも広くなっている。
【００４６】
図３（ｃ）においては、樹脂液４の層にエンボスローラ１３の表面の凹凸パターンを転写する際に、図３（ｄ）に示されるように、シートＷと平坦部１３Ｂとの間の空間の容積Ａがゼロとなるように、ローラ径Ｄ３が設定されている。
【００４７】
このような構成によって、硬化樹脂４の層が凹凸パターン部１３Ａで受ける圧力と、端部の平坦部１３Ｂで受ける圧力とをほぼ同等にできる。これにより、平坦部１３Ｂの硬化樹脂４の層は、凹凸部パターン部１３Ａの硬化樹脂４の層と平均厚さがほぼ同等となるため、安定に層が形成され、剥離不良はなくなる。
【００４８】
なお、上記の構成と同時に、又は上記の構成に代えて、ニップローラ１４によるニップ圧を適正値に設定し、シートＷと平坦部１３Ｂとの間の空間の容積Ａがゼロとなるようにしてもよい。
【００４９】
これに対し、図３（ａ）及び（ｂ）はＮＧの例であり、樹脂液４の層にエンボスローラ１３の表面の凹凸パターンを転写する際に、図３（ｂ）に示されるように、シートＷと平坦部１３Ｂとの間に容積Ａの空間を生じるように、ローラ径Ｄ３が設定されている。
【００５０】
次に、ニップローラ１４について説明する。ニップローラ１４は、エンボスローラ１３と対になってシートＷを押圧しながらローラ成形加工するもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。ニップローラ１４の表面は弾性体で形成されていることが好ましい。
【００５１】
ニップローラ１４表面の縦弾性係数（ヤング率）は、樹脂やシートＷの材質や物性に応じて適宜の値とすることが好ましい。なお、ニップローラ１４には駆動手段が設けられていることが好ましい。ニップローラ１４は、図示の矢印ように、時計方向（ＣＷ）に回転する。
【００５２】
エンボスローラ１３とニップローラ１４との間に所定の押圧力（挟圧力）を付与するべく、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに挟圧力が調整可能な加圧手段を設けることが好ましい。同様に、エンボスローラ１３とニップローラ１４との隙間（クリアランス）を正確に制御できるような微調整手段を、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに設けることが好ましい。
【００５３】
樹脂硬化手段１５は、ニップローラ１４の下流側においてエンボスローラ１３に対向して設けられる光照射手段である。この樹脂硬化手段１５は、光照射によってシートＷを透過して樹脂液層を硬化をさせるもので、樹脂の硬化特性に応じた波長の光（放射線）を照射でき、シートＷの搬送速度に応じた量の放射線を照射できることが好ましい。樹脂硬化手段１５として、たとえば、シートＷの幅と略同一長さの円柱状照射ランプが採用できる。また、この円柱状照射ランプを複数本平行に設けることもでき、この円柱状照射ランプの背面に反射板を設けることもできる。
【００５４】
剥離ローラ１６は、エンボスローラ１３と対になってエンボスローラ１３からシートＷを剥離させるもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。剥離箇所において、エンボスローラ１３の周面上に巻き掛けられたシートＷを回転するエンボスローラ１３と剥離ローラ１６とで挟みながら、シートＷをエンボスローラ１３から剥離させて剥離ローラ１６に巻き掛ける。この動作を確実にすべく、剥離ローラ１６には駆動手段が設けられていることが好ましい。剥離ローラ１６は、図示の矢印ように、時計方向（ＣＷ）に回転する。
【００５５】
なお、硬化により樹脂等の温度が上昇するような場合には、剥離時にシートＷを冷却させて剥離を確実にすべく、剥離ローラ１６の内部に冷水を通すなどの冷却手段を設ける構成も採用できる。
【００５６】
なお、図示は省略したが、エンボスローラ１３の押圧箇所（９時の位置）から剥離箇所（３時の位置）までの間に複数のバックアップローラを対向して設け、この複数のバックアップローラとエンボスローラ１３とでシートＷを押圧しながら硬化処理を行う構成も採用できる。
【００５７】
シート巻き取り手段１８は、剥離後のシートＷを収納するもので、シートＷを巻き取る巻き取りロール等より構成される。このシート巻き取り手段１８において、隣接して設けられる保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態で、シート巻き取り手段１８に収納される。
【００５８】
エンボスシートの製造装置１０において、塗布手段１２とエンボスローラ１３との間、剥離ローラ１６とシート巻き取り手段１８との間等に、シートＷの搬送路を形成するガイドローラ等を設けてもよく、その他、必要に応じてシートＷの搬送中の弛みを吸収すべく、テンションローラ等を設けることもできる。
【００５９】
次に、本発明に適用される各材料について説明する。シートＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルムの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。
【００６０】
シートＷの幅としては、０. １〜３ｍが、シートＷの長さとしては、１０００〜１０００００ｍが、シートＷの厚さとしては、１〜３００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。
【００６１】
これらのシートＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。シートＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。
【００６２】
また、シートＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。同様に、シートＷとして１層構成のもののみならず、２層以上の構成のものも採用できる。また、シートＷは、光が透過できるような透明体、半透明体であることが好ましい。
【００６３】
本発明に使用可能な樹脂は（メタ）アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。
【００６４】
特に硬化の速さからは、（メタ）アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤の組み合わせが好ましい。中でも（メタ）アクリレ−ト、ウレタン（メタ）アクリレ−ト、エポキシ（メタ）アクリレ−ト、ポリエステル（メタ）アクリレ−トなどの（メタ）アクロイル基含有化合物が好ましい。
【００６５】
この（メタ）アクロイル基含有化合物としては（メタ）アクロイル基が１個あるいは２個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。
【００６６】
このような、（メタ）アクロイル基含有化合物としては、たとえば、（メタ）アクロイル基含有化合物を１個だけ含有する単官能モノマ−としてイソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００６７】
更に芳香環を有する単官能モノマ−として、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６８】
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、エポキシエステルＭ−６００Ａ、ライトエステルＰＯ（以上、共栄社化学（株）製）、ニューフロンティアＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２、ＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００６９】
また、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーとしては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。
【００７０】
ビスフェノール骨格をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００７１】
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。
【００７２】
更に、３官能以上の（メタ）アクリレート不飽和モノマ−としては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレート、たとえばトリメチロールプロパンリト（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製、ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
【００７３】
加えてウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、たとえばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ（無水）フタル酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール；ポリε−カプロラクトン変性ポリオール；ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ等のビスフェノールＡ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＦ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＦ等のビスフェノールＦ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートから製造されるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー等が挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、本発明の硬化性組成物の粘度を適度に保つ上で好ましい。
【００７４】
これらウレタン（メタ）アクリレートの市販品のモノマーとしては、たとえばアロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）等が挙げられる。
【００７５】
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）有機ポリイソシアネート及び（ｃ）ポリオールの反応物として得られるものであるが、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートと（ｂ）有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで（ｃ）ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。
【００７６】
以上の不飽和モノマ−は単独で用いても良く、必要に応じて複数種を混合して用いても良い。
【００７７】
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００７８】
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８、８８９３Ｘ（以上ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）、ＫＩＰ１５０（ランベルティ社製）等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度という観点からはＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３Ｘが好ましい。
【００７９】
光ラジカル重合開始剤は全組成物中に、０．０１〜１０重量％、特に０．５〜７重量％配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。
【００８０】
本発明の組成物には更に光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、たとえばトリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、たとえばユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００８１】
更にまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、たとえば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。
【００８２】
ここで、酸化防止剤としては、たとえばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられ、光安定剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、シランカップリング剤としては、たとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられ、塗面改良剤としては、たとえばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはＦＣ-430、ＦＣ-171（以上 ３Ｍ（株））、メガファックＦ-176、Ｆ-177、Ｒ-08、F780（以上 大日本インキ（株）製）等が挙げられ、離型剤としてはプライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００８３】
本発明の樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一がなく混合できるものであればよく、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。
【００８４】
有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製晶の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼす懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。
【００８５】
ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。
【００８６】
したがって、有機溶剤の沸点としては５０°Ｃ以上、１５０°Ｃ以下が好ましく、７０°Ｃ以上、１２０°Ｃ以下がより好ましい。素材の溶解性や、沸点の観点から、有機溶剤としてはメチルエチルケトン（ｂｐ．７９．６°Ｃ）、１−プロパノール（ｂｐ．９７．２°Ｃ）などが好ましい。
【００８７】
本発明の樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂液の粘度にもよるが、充分に塗布性が改善されるためには、１０重量％以上、４０重量％以下の範囲であり、好ましくは１５重量％以上、３０重量％以下の範囲である。有機溶剤の添加量があまり少量だと、粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく、塗布性が充分に改良されない。
【００８８】
しかし、樹脂液を多く希釈しすぎると、粘度が低すぎてシート状体の上で液が流動してムラが発生したり、シート状体の裏面に液が回るなどの問題が発生する。また、乾燥工程において充分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼす懸念が生じる。
【００８９】
本発明の樹脂液は、前記の各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。このようにして調製される樹脂液の粘度は、通常１０〜５００００ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃである。
【００９０】
シートＷやエンボスローラ１３に樹脂液を供給する場合には、粘度が高すぎると、均一に組成物を供給するのが難しくなり、レンズを製造する際、塗布むらやうねり、気泡の混入が生じたりするため、目的とするレンズ厚を得るのが難しくなり、レンズとしての性能を充分に発揮できない。
【００９１】
特に、ラインスピードを高速化したときにその傾向が顕著になる。したがって、この場合には液粘度は低い方が好ましく、５〜１００ｍＰａ・ｓが好ましく、１０〜５０ｍＰａ・ｓがより好ましい。このような低い粘度は、有機溶剤を適当量添加することにより調整が可能である。また、塗布液の保温設定により、粘度を調整することも可能である。
【００９２】
一方、溶剤蒸発後の粘度が低すぎると、エンボスローラ１３で型押しする際、レンズ厚のコントロールが難しく、一定厚の均一なレンズを形成できない場合がある。好ましい粘度は５〜３０００ｍＰａ・ｓである。有機溶剤を混合している場合は、樹脂液の供給からエンボスローラ１３で型押しするまでの工程間に、有機溶剤を加熱乾燥などにより蒸発させる工程を設けることにより、樹脂液供給時は低粘度で均一に液供給ができ、エンボスローラ１３で型押しする際は、有機溶剤を乾燥させ、より高粘度化させた樹脂液で均一に型押しすることが可能になる。
【００９３】
本発明の樹脂液を放射線によって硬化させることにより得られる硬化物は、プリズムレンズシートの場合、以下の物性（屈折率、軟化点）を有するものであることが特に好ましい。
【００９４】
屈折率としては、硬化物の２５°Ｃにおいて１．５５以上が好ましく、１．５６以上がより好ましい。硬化物の２５°Ｃにおける屈折率が１．５５未満であると、本組成物を用いてプリズムレンズシートを形成した場合、充分な正面輝度を確保することができない場合が生じるからである。
【００９５】
軟化点としては、４０°Ｃ以上が好ましく、５０°Ｃ以上がより好ましい。軟化点が４０°Ｃ未満の場合には耐熱性が充分でない場合があるからである。
【００９６】
次に、図１に戻って、エンボスシートの製造装置１０の作用について説明する。シート供給手段１１より、一定速度でシートＷを送り出す。シートＷは塗布手段１２へ送り込まれ、シートＷの表面に樹脂液が塗布される。塗布後に乾燥手段１９によりシートＷに塗布された樹脂液が乾燥され、溶剤分が蒸発する。次いで、シートＷはエンボスローラ１３とニップローラ１４からなる成形手段へ送り込まれる。これにより、連続走行するシートＷを、エンボスローラ１３の９時の位置において、回転するエンボスローラ１３とニップローラ１４とで押圧しながらローラ成形加工がなされる。すなわち、シートＷを、回転するエンボスローラ１３に巻き掛け、硬化樹脂４の層にエンボスローラ１３表面の凹凸を転写する。
【００９７】
この際、エンボスローラ１３の、凸部頂部のローラ径Ｄ１と凹部底部のローラ径Ｄ２と両端部の平坦部１３Ｂのローラ径Ｄ３とがＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２の関係にあるので、平坦部１３Ｂの高さが凸部高さと凹部高さの中間のレベルになり、硬化樹脂４の層が凹凸パターン部１３Ａで受ける圧力と、端部の平坦部１３Ｂで受ける圧力とをほぼ同等にできる。これにより、平坦部１３Ｂの硬化樹脂４の層は、凹凸部パターン部１３Ａの硬化樹脂４の層と平均厚さがほぼ同等となるため、安定に層が形成され、剥離不良はなくなる。
【００９８】
したがって、本発明によれば、樹脂の剥離性を向上させることにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。
【００９９】
なお、樹脂液の層の幅を凹凸パターン部１３Ａの幅より大きく設けているので、樹脂液の層の幅方向端部は平坦部１３Ｂに位置することとなり、一層安定に樹脂層が形成され、一層剥離不良はなくなる。なお、樹脂液層の幅は、物理的にシートＷの幅より小である。
【０１００】
樹脂層へのエンボスローラ１３表面の凹凸の転写に次いで、シートＷがエンボスローラ１３に巻き掛けられている状態で、樹脂硬化手段１５によりシートＷを透過して樹脂液層に放射線照射を行い、樹脂液層を硬化させる。その後、エンボスローラ１３の３時の位置において、シートＷを剥離ローラ１６に巻き掛けることによりエンボスローラ１３から剥離する。
【０１０１】
なお、図１には示していないが、シートＷを剥離した後、硬化を更に促進させるため、再度放射線照射を行うこともできる。
【０１０２】
剥離されたシートＷは、シート巻き取り手段１８に搬送され、保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態でシート巻き取り手段１８の巻き取りロールにより巻き取られ、収納される。
【０１０３】
このように、シートＷ表面に樹脂層が厚さむらなく形成され、更に、エンボスローラ１３による型押しも安定・均一になされる。これにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で製造することができる。
【０１０４】
以上、本発明に係る凹凸状シートの製造方法及び装置の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【０１０５】
たとえば、本実施形態の例では、ローラ状のエンボスローラ１３を使用する態様を採用したが、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたものを使用する態様も採用できる。このようなベルト状体であっても、円柱状のローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
【実施例】
【０１０６】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０１０７】
［樹脂液の調整］
図４の表に示す化合物を記載の重量比にて混合し、５０°Ｃに加熱して攪拌溶解し、樹脂液を得た。なお、各化合物の名称と内容は以下の通りである。
【０１０８】
ＥＢ３７００：エベクリル３７００、ダイセルＵＣ（株）製、
ビスフェノールＡタイプエポキシアクリレート、
（粘度：２２００ｍＰａ・ｓ／６５°Ｃ）
ＢＰＥ２００：ＮＫエステルＢＰＥ−２００、新中村化学（株）製、
エチレンオキシド付加ビスフェノールＡメタクリル酸エステル、
（粘度：５９０ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃ）
ＢＲ−３１ ：ニューフロンティアＢＲ−３１、第一工業製薬工業（株）製、
トリブロモフェノキシエチルアクリレート、
（常温で固体、融点５０°Ｃ以上）
ＬＲ８８９３Ｘ：Ｌｕｃｉｒｉｎ ＬＲ８８９３Ｘ、ＢＡＳＦ（株）製の光ラジカル発生剤、
エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルオスフィンオキシド
ＭＥＫ ：メチルエチルケトン
［エンボスシートの製造］
図１に示される構成のエンボスシートの製造装置１０を使用してエンボスシートの製造を行った。
【０１０９】
シートＷとして、幅５００ｍｍ、厚さ１００μｍの透明なＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）のフィルムを使用した。
【０１１０】
エンボスローラ１３として、長さ（シートＷの幅方向）が７００ｍｍ、直径が３００ｍｍのＳ４５Ｃ製で表面の材質をニッケルとしたローラを使用した。ローラの表面の略５００ｍｍ幅の全周に、ダイヤモンドバイト（シングルポイント）を使用した切削加工により、ローラ軸方向のピッチが５０μｍの溝を形成した。溝の断面形状は、頂角が９０度の三角形状で、溝の底部も平坦部分のない９０度の三角形状である。すなわち、溝幅は５０μｍであり、溝深さは約２５μｍである。
【０１１１】
この溝は、ローラの周方向に継ぎ目がないエンドレスとなるので、このエンボスローラ１３により、シートＷに断面が三角形のレンチキュラーレンズ（プリズムシート）が形成できる。ローラの表面には、溝加工後にニッケルメッキを施した。エンボスローラ１３の概略断面図を図５に示す。
【０１１２】
エンボスローラ１３の端部の平坦部１３Ｂの形状は以下の３種類のものとした。図６は、エンボスローラ１３の端部を示す拡大断面図である。このうち、（ａ）は、本発明の実施例であり、（ｂ）は、比較例１であり、（ｃ）は、比較例２である。
【０１１３】
図６に示されるように、（ａ）の実施例においては平坦部１３Ｂのレベルは頂部より１８μｍ低くなっている。この平坦部１３Ｂのレベルは、溝の断面形状の平均高さとほぼ同等である。
【０１１４】
一方、（ｂ）の比較例１においては平坦部１３Ｂのレベルは頂部と同一レベルであり、（ｃ）の比較例２においては平坦部１３Ｂのレベルは底部と同一レベルである。
【０１１５】
塗布手段１２としてダイコータを使用した。塗布手段１２の塗布ヘッド１２Ｃとして、エクストルージョンタイプのものを使用した。塗布液Ｆ（樹脂液）として、既述したように図４の表に記載の液を使用した。
【０１１６】
塗布液Ｆ（樹脂液）の湿潤状態の厚さは、有機溶剤乾燥後の膜厚が２０μｍになるように、塗布ヘッド１２Ｃへの塗布液Ｆの供給量を液供給装置（送液ポンプ）１２Ｂにより制御した。
【０１１７】
乾燥手段１９として、熱風循環方式の装置を用いた。熱風の温度は１００°Ｃに設定した。
【０１１８】
ニップローラ１４として、直径が２００ｍｍで、表面にゴム硬度が９０のシリコンゴムの層を形成したローラを使用した。エンボスローラ１３とニップローラ１４とでシートＷを押圧するニップ圧（実効のニップ圧）は、０．５Ｐａとした。
【０１１９】
樹脂硬化手段１５として、メタルハライドランプを使用し、１０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで照射を行った。
【０１２０】
以上により、ライン速度２ｍ／分にて運転したところ、図６に示される実施例及び比較例に対応する、端面形状及び凹凸パターンが形成されたシートＷを得た。
【０１２１】
［エンボス形状の評価］
このシートＷを切断し、凹凸パターンの複数箇所における断面形状をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を使用して測定することによりエンボス形状の評価を行った。
【０１２２】
［運転後の結果］
実施例：１０時間連続で稼動したが、凹凸状シートを、欠陥なく高品質で製造でき、また、エンボスローラ１３にも異常は認められなかった。
【０１２３】
比較例１：２時間連続で稼動した時点で、シートの耳（端部）での乱れが目立ち始め、剥離不良が発生したので、ラインを停止させた。エンボスローラ１３を観察したところ、樹脂の付着が認められた。
【０１２４】
比較例２：４時間連続で稼動した時点で、シートの耳（端部）での乱れが目立ち始め、剥離不良が発生したので、ラインを停止させた。エンボスローラ１３を観察したところ、樹脂の付着が認められた。
【０１２５】
以下の結果より、本発明によれば安定稼動ができることを確認できた。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】本発明が適用されるエンボスシートの製造装置の構成を示す概念図
【図２】エンボスローラの概要を示す部分拡大断面図
【図３】エンボスローラの端部を示す拡大断面図
【図４】樹脂液の調合を示す表
【図５】エンボスローラの概要を示す断面図
【図６】エンボスローラの端部を示す拡大断面図
【図７】エンボスシートの概要を示す断面図
【図８】従来例のエンボスシートの製造装置の構成を示す概念図
【図９】従来例のエンボスシートの製造装置の他の構成を示す概念図
【図１０】従来例のエンボスローラの端部を示す拡大断面図
【図１１】従来例のエンボスローラの端部を示す拡大断面図
【図１２】従来例のエンボスローラの端部を示す拡大断面図
【符号の説明】
【０１２７】
１０…エンボスシートの製造装置、１１…シート供給手段、１２…塗布手段、１３…エンボスローラ、１４…ニップローラ、１５…樹脂硬化手段、１６…剥離ローラ、１７…保護フィルム供給手段、１８…シート巻き取り手段、Ｈ…保護フィルム、Ｗ…シート
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹凸状シートの製造方法及び装置に係り、特に、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された反射防止効果等を有するエンボスシート等のシート状物を、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な凹凸状シートの製造方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶等の電子ディスプレイの用途に、反射防止効果を有するエンボスシートが採用されている。また、レンチキュラーレンズやフライアイレンズ等の平板状レンズ、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート、プリズムシート等のエンボスシートが使用されている。このようなエンボスシートとしては、従来より、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成されたものが公知である。このような規則的な微細凹凸パターンを形成する手法としては、従来より各種の方法が知られている（特許文献１〜７参照）。
【０００３】
たとえば、図８に示されるような構成の装置において、表面に規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ１の表面に塗布手段２で樹脂を塗布し、連続走行されるシート３をスタンパーローラ１とニップローラ４とで挟み、スタンパーローラ１の樹脂をシート３に接触させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート３をリリースローラ５に巻き掛けてスタンパーローラ１より剥離させる内容が開示されている（特許文献１〜３参照）。
【０００４】
また、図９に示されるような構成の装置において、連続走行されるシート３の表面に予め樹脂を塗布しておき、このシート３を、規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ１とニップローラ４とで挟み、スタンパーローラ１の凹凸パターンを樹脂に転写させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート３をリリースローラ５に巻き掛けてスタンパーローラ１より剥離させる内容が開示されている（特許文献３、４参照）。
【０００５】
このプロセスで重要なポイントの１つは、シート３とスタンパーローラ１との間に硬化樹脂が介在し、樹脂の硬化後に、スタンパーローラ１から良好に剥離できることである。ところが、パターン加工されている部分が複雑な形状（接触面積の大きい形状）であるほど、剥離しにくくなる。特に、図１０に拡大断面図で示されるように、硬化樹脂膜６の幅方向の端部は、剥離の際に、樹脂がちぎれてスタンパーローラ１（エンボスローラ）に残ってしまうような致命的な欠陥を生じることもある。
【０００６】
このため、スタンパーローラ１の幅方向の端部周縁に各種の工夫を施し、剥離性を良好ならしめる各種の提案がなされている（特許文献５〜７参照）。
【特許文献１】特許第２５３３３７９号公報
【特許文献２】特許第２８９１３４４号公報
【特許文献３】特開平１１−３００７６８号公報
【特許文献４】特開２０００−１４１４８１号公報
【特許文献５】特公平５−５８７８８号公報
【特許文献６】特許第３５４６４８５号公報
【特許文献７】特開平１０−１５３９６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来からの各種の剥離不良対策では、実効を挙げていないのが現状である。たとえば特許文献５によれば、スタンパーローラ１の幅方向の端部周縁に平滑面を設けて、硬化樹脂膜６の端部を、この平滑面で形成することにより、端部の剥離性を良化することができるとされている。
【０００８】
この提案では、図１１に拡大断面図で示されるように、平滑面高さを凸部の最大高さと同じとしている。ところが、端部の硬化樹脂膜６が、凹凸パターン部の凸部よりも高いために、硬化樹脂膜６の端部が圧力を受けて潰されたり、シート変形を助長したりすることとなり、硬化樹脂膜６の端部の形状が不安定となりやすい。
【０００９】
また、特許文献６によれば、スタンパーローラ１の幅方向の端部周縁に平滑面を設けて、この平滑面高さを凹部と同じ高さとし、また、凹凸部の幅をシート３よりも狭くしている。ところが、端部の硬化樹脂膜６は、シート３とスタンパーローラ１との間に樹脂が介する前の厚さよりも、シート３とスタンパーローラ１との間（ギャップ）の方が大きいため、硬化樹脂膜６の端部の形状が非常に不安定となりやすい。
【００１０】
また、特許文献７によれば、図１２に拡大断面図で示されるように、スタンパーローラ１の幅方向の端部周縁に土手部となる溝を設けて安定化することを図っている。この溝深さは、凹部よりも深い。ところが、溝を設けても特許文献６と同様に、端部の硬化樹脂膜６は、シート３とスタンパーローラ１との間に樹脂が介する前の厚さよりも、シート３とスタンパーローラ１との間（ギャップ）の方が大きいため、硬化樹脂膜６の端部の形状が非常に不安定となりやすい。
【００１１】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、樹脂の剥離性を向上させることにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な凹凸状シートの製造方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、前記目的を達成するために、放射線硬化樹脂液が塗布されることにより、表面に樹脂液層が形成されている帯状可撓性のシート状体を連続走行させ、前記シート状体を、回転する凹凸ローラに巻き掛け、前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸パターンを転写し、前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で前記樹脂液層に放射線を照射し、前記シート状体を前記凹凸ローラより剥離する凹凸状シートの製造方法において、前記凹凸ローラに、頂部におけるローラ径Ｄ１の凸部と底部におけるローラ径Ｄ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部と、該凹凸パターン部の両側に配されるローラ径Ｄ３の平坦部とを設け、ローラ径をＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようにすることを特徴とする凹凸状シートの製造方法を提供する。
【００１３】
また、このために、本発明は、帯状可撓性のシート状体を送り出すシート状体供給手段と、前記シート状体の表面に放射線硬化樹脂液を塗布する塗布手段と、連続走行する前記シート状体を、回転する凹凸ローラに巻き掛けながら、該凹凸ローラ表面の凹凸パターンを前記シート状体の表面に転写形成する転写手段と、前記凹凸ローラの近傍に設けられ、前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で前記樹脂液を硬化させる放射線照射手段と、を備えた凹凸状シートの製造装置において、前記凹凸ローラに、頂部におけるローラ径Ｄ１の凸部と底部におけるローラ径Ｄ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部と、該凹凸パターン部の両側に配されるローラ径Ｄ３の平坦部とが設けられ、ローラ径がＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようになっていることを特徴とする凹凸状シートの製造装置を提供する。
【００１４】
本発明によれば、凹凸ローラに、頂部のローラ径がＤ１の凸部と底部のローラ径がＤ１より小径であるＤ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部と、凹凸パターン部の両側に配されるローラ径Ｄ３の平坦部とを設け、ローラ径をＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようにする。
【００１５】
すなわち、平坦部の高さを凸部高さと凹部高さの中間くらいのレベルにするので、硬化樹脂の層が凹凸パターン部で受ける圧力と、端部の平坦部で受ける圧力とをほぼ同等にできる。これにより、平坦部の樹脂層は、凹凸部の樹脂層と平均厚さがほぼ同等となるため、安定に層が形成され、剥離不良はなくなる。
【００１６】
したがって、本発明によれば、樹脂の剥離性を向上させることにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。
【００１７】
なお、本明細書において「凹凸ローラ」とは、円柱状のローラの表面に凹凸パターン（エンボス形状用が形成されたエンボスローラのみならず、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたものをも含むものとする。このようなベルト状体であっても、円柱状のエンボスローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
【００１８】
本発明において、前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸パターンを転写する際に、前記シート状体と前記平坦部との間に容積Ａの空間が形成され、前記凹凸パターン部より前記平坦部へ洩れ出す樹脂液の体積ＢがＡ＜Ｂとなるようにローラ径Ｄ３及び／又はニップ圧を設定することが好ましい。
【００１９】
このような容積Ａの空間が形成され、凹凸パターン部より平坦部へ洩れ出す樹脂液の体積ＢがＡ＜Ｂとなれば、安定に樹脂層が形成され、一層剥離不良はなくなる。
【００２０】
本発明において、前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸パターンを転写する際に、前記シート状体と前記平坦部との間の空間の容積Ａがゼロとなるようにローラ径Ｄ３及び／又はニップ圧を設定することが好ましい。このような空間の容積Ａが形成されなければ、安定に樹脂層が形成され、一層剥離不良はなくなる。
【００２１】
また、本発明において、前記ローラ径Ｄ３を前記凹凸パターン部の平均ローラ径Ｄ４と略同一にすることが好ましい。このように、平坦部の高さを凹凸パターン部の平均高さに合わせることができれば、硬化樹脂層が凹凸パターン部で受ける圧力と、平坦部で受ける圧力を同等にでき、一層安定に樹脂層が形成され、一層剥離不良はなくなる。
【００２２】
また、本発明において、前記樹脂液層の幅を前記凹凸パターン部の幅より大きく設けることが好ましい。このように、樹脂液層の幅を凹凸パターン部の幅より大きく設けていれば、樹脂液層の幅方向端部は平坦部に位置することとなり、一層安定に樹脂層が形成され、一層剥離不良はなくなる。なお、樹脂液層の幅は、物理的にシート状体の幅より小である。
【００２３】
また、本発明において、前記シート状体を、前記凹凸ローラと該凹凸ローラに対向配置するとともに表面を弾性体で形成したニップローラとで挟圧しながら前記凹凸ローラに巻き掛けることが好ましい。このように、表面が弾性体であるニップローラをシート状体の裏面に押し付けることにより、硬化樹脂層の全体に圧力がかかり、硬化樹脂が凹凸ローラの凹凸パターンに均一に入り込み、かつ、平坦部（端部）において硬化樹脂層の端部も同等の圧力にて、シート状体と凹凸ローラとに挟まれることになるので、高精度かつ欠陥のない安定した微細パターンが形成できる。
【００２４】
また、本発明において、前記凹凸ローラとニップローラとの挟圧力が調整可能となっていることが好ましい。このように、挟圧力が調整可能となっていれば、安定した微細パターンの形成に一層有効である。
【００２５】
また、本発明において、前記シート状体に転写形成された凹凸パターンのピッチが１００μｍ以下であることが好ましい。また、本発明において、前記凹凸状シートが光学フイルムとして使用されることが好ましい。
【発明の効果】
【００２６】
以上説明したように、本発明によれば、樹脂の剥離性を向上させることにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様について説明する。図１は、本発明が適用されるエンボスシートの製造装置１０の構成を示す概念図である。このエンボスシートの製造装置１０は、シート状体供給手段１１と、塗布手段１２と、凹凸ローラであるエンボスローラ１３と、ニップローラ１４と、樹脂硬化手段１５と、剥離ローラ１６と、乾燥手段１９と、保護フィルム供給手段１７と、シート巻き取り手段１８、等とより構成される。
【００２８】
シート状体供給手段であるシート供給手段１１は、シート状体であるシートＷを送り出すもので、シートＷが巻回された送り出しロール等より構成される。
【００２９】
塗布手段１２は、シートＷの表面に放射線硬化樹脂液を塗布する装置であり、放射線硬化樹脂液を供給する液供給源１２Ａと、液供給装置（送液ポンプ）１２Ｂと、塗布ヘッド１２Ｃと、塗布の際にシートＷを巻き掛けて支持する支持ローラ１２Ｄと、液供給源１２Ａより塗布ヘッド１２Ｃまで放射線硬化樹脂液を供給するための配管等より構成される。なお、塗布ヘッド１２Ｃとしては、ダイコータ（エクストルージョン方式のコータ）の塗布ヘッドが採用されている。
【００３０】
乾燥手段１９は、たとえば図１に示されるトンネル状の乾燥装置のように、シートＷに塗布された塗布液を均一に乾燥させることができるものであれば、公知の各種方式のものが採用できる。たとえば、ヒータによる輻射加熱方式のもの、熱風循環方式のもの、遠赤外線方式のもの、真空方式のもの等が採用できる。
【００３１】
エンボスローラ１３としては、シートＷの表面に、ローラ表面の凹凸を転写形成できる、凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度等を有することが求められる。このようなエンボスローラ１３としては、金属製のローラが好ましい。
【００３２】
エンボスローラ１３の外周面には、規則的な微細凹凸パターンが形成されている。このような規則的な微細凹凸パターンは、製品としてのエンボスシート表面の微細凹凸パターンを反転した形状であることが求められる。なお、エンボスローラ１３の両端部近傍の形状については、後で詳述する。
【００３３】
製品としてのエンボスシートとしては、微細凹凸パターンが二次元配列された、たとえばレンチキュラーレンズや、微細凹凸パターンが三次元配列された、たとえばフライアイレンズ、円錐、角錐等の微細な錐体をＸＹ方向に敷きつめた平板レンズ等が対象となり、エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンは、これに対応させる。
【００３４】
エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンの形成方法としては、エンボスローラ１３の表面をダイヤモンドバイト（シングルポイント）で切削加工する方法、エンボスローラ１３の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工等で直接凹凸を形成する方法が採用でき、また、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法が採用できる。
【００３５】
その他、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法も採用できる。特に反転型を電鋳等により形成する場合には、１つの原盤（マザー）より複数の同一形状の板状体が得られるという特長がある。
【００３６】
エンボスローラ１３の表面には、離型処理を施すことが好ましい。このように、エンボスローラ１３の表面に離型処理を施すことにより、微細凹凸パターンの形状が良好に維持できる。離型処理としては、公知の各種方法、たとえば、フッ素樹脂によるコーティング処理が採用できる。なお、エンボスローラ１３には駆動手段が設けられていることが好ましい。エンボスローラ１３は、図示の矢印ように、反時計方向（ＣＣＷ）に回転する。
【００３７】
次に、エンボスローラ１３の両端部近傍の形状について説明する。図４は、エンボスローラ１３とシートＷとの位置関係を示す要部断面図である。ここでは、図４（ａ）を主に説明する。
【００３８】
エンボスローラ１３の表面には、頂部のローラ径がＤ１の凸部と底部のローラ径がＤ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部１３Ａが形成されている。なお、この凹凸パターン部１３Ａの断面形状は、凸部及び凹部のいずれも平坦箇所のない三角形状である。また、両端部にローラ径Ｄ３の平坦部１３Ｂが設けられている。そして、ローラ径をＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようにすることが必要である。
【００３９】
このような構成によれば、平坦部１３Ｂの高さを凸部高さと凹部高さの中間のレベルにするので、硬化樹脂４の層が凹凸パターン部１３Ａで受ける圧力と、端部の平坦部１３Ｂで受ける圧力とをほぼ同等にできる。これにより、平坦部１３Ｂの硬化樹脂４の層は、凹凸部パターン部１３Ａの硬化樹脂４の層と平均厚さがほぼ同等となるため、安定に層が形成され、剥離不良はなくなる。
【００４０】
したがって、本発明によれば、樹脂の剥離性を向上させることにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。
【００４１】
なお、図４の構成では、ローラ径Ｄ３が凹凸パターン部１３Ａの平均ローラ径Ｄ４と同一になっている。したがって、硬化樹脂４の層が凹凸パターン部１３Ａで受ける圧力と、平坦部１３Ｂで受ける圧力を同等にでき、一層安定に樹脂層が形成され、一層剥離不良はなくなる。
【００４２】
この平均ローラ径Ｄ４は、凹凸パターン部１３Ａの断面形状によって異なり、たとえば、凹凸パターンが正弦波形状や放物線形状、双曲線形状等であった場合には、平均ローラ径Ｄ４のレベルも図４とは異なる。
【００４３】
なお、平坦部１３Ｂは、エンボスローラ１３の端部まで形成される必要はなく、図４（ｂ）に示されるように、溝部１３Ｃのように形成されていてもよい。
【００４４】
図３は、別の観点から見たエンボスローラ１３の両端部近傍の形状について説明する要部断面図であり、エンボスローラ１３とシートＷとの位置関係を示す図である。このうち、（ａ）及び（ｃ）は、エンボスローラ１３の凹凸パターンをシートＷの表面に転写形成する前の状態を示し、（ｂ）及び（ｄ）は、エンボスローラ１３の凹凸パターンをシートＷの表面に転写形成している状態を示す。
【００４５】
図３において、樹脂液４の層の幅は、シートＷの幅よりも狭くなっており、エンボスローラ１３の幅は、シートＷの幅よりも広くなっている。
【００４６】
図３（ｃ）においては、樹脂液４の層にエンボスローラ１３の表面の凹凸パターンを転写する際に、図３（ｄ）に示されるように、シートＷと平坦部１３Ｂとの間の空間の容積Ａがゼロとなるように、ローラ径Ｄ３が設定されている。
【００４７】
このような構成によって、硬化樹脂４の層が凹凸パターン部１３Ａで受ける圧力と、端部の平坦部１３Ｂで受ける圧力とをほぼ同等にできる。これにより、平坦部１３Ｂの硬化樹脂４の層は、凹凸部パターン部１３Ａの硬化樹脂４の層と平均厚さがほぼ同等となるため、安定に層が形成され、剥離不良はなくなる。
【００４８】
なお、上記の構成と同時に、又は上記の構成に代えて、ニップローラ１４によるニップ圧を適正値に設定し、シートＷと平坦部１３Ｂとの間の空間の容積Ａがゼロとなるようにしてもよい。
【００４９】
これに対し、図３（ａ）及び（ｂ）はＮＧの例であり、樹脂液４の層にエンボスローラ１３の表面の凹凸パターンを転写する際に、図３（ｂ）に示されるように、シートＷと平坦部１３Ｂとの間に容積Ａの空間を生じるように、ローラ径Ｄ３が設定されている。
【００５０】
次に、ニップローラ１４について説明する。ニップローラ１４は、エンボスローラ１３と対になってシートＷを押圧しながらローラ成形加工するもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。ニップローラ１４の表面は弾性体で形成されていることが好ましい。
【００５１】
ニップローラ１４表面の縦弾性係数（ヤング率）は、樹脂やシートＷの材質や物性に応じて適宜の値とすることが好ましい。なお、ニップローラ１４には駆動手段が設けられていることが好ましい。ニップローラ１４は、図示の矢印ように、時計方向（ＣＷ）に回転する。
【００５２】
エンボスローラ１３とニップローラ１４との間に所定の押圧力（挟圧力）を付与するべく、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに挟圧力が調整可能な加圧手段を設けることが好ましい。同様に、エンボスローラ１３とニップローラ１４との隙間（クリアランス）を正確に制御できるような微調整手段を、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに設けることが好ましい。
【００５３】
樹脂硬化手段１５は、ニップローラ１４の下流側においてエンボスローラ１３に対向して設けられる光照射手段である。この樹脂硬化手段１５は、光照射によってシートＷを透過して樹脂液層を硬化をさせるもので、樹脂の硬化特性に応じた波長の光（放射線）を照射でき、シートＷの搬送速度に応じた量の放射線を照射できることが好ましい。樹脂硬化手段１５として、たとえば、シートＷの幅と略同一長さの円柱状照射ランプが採用できる。また、この円柱状照射ランプを複数本平行に設けることもでき、この円柱状照射ランプの背面に反射板を設けることもできる。
【００５４】
剥離ローラ１６は、エンボスローラ１３と対になってエンボスローラ１３からシートＷを剥離させるもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。剥離箇所において、エンボスローラ１３の周面上に巻き掛けられたシートＷを回転するエンボスローラ１３と剥離ローラ１６とで挟みながら、シートＷをエンボスローラ１３から剥離させて剥離ローラ１６に巻き掛ける。この動作を確実にすべく、剥離ローラ１６には駆動手段が設けられていることが好ましい。剥離ローラ１６は、図示の矢印ように、時計方向（ＣＷ）に回転する。
【００５５】
なお、硬化により樹脂等の温度が上昇するような場合には、剥離時にシートＷを冷却させて剥離を確実にすべく、剥離ローラ１６の内部に冷水を通すなどの冷却手段を設ける構成も採用できる。
【００５６】
なお、図示は省略したが、エンボスローラ１３の押圧箇所（９時の位置）から剥離箇所（３時の位置）までの間に複数のバックアップローラを対向して設け、この複数のバックアップローラとエンボスローラ１３とでシートＷを押圧しながら硬化処理を行う構成も採用できる。
【００５７】
シート巻き取り手段１８は、剥離後のシートＷを収納するもので、シートＷを巻き取る巻き取りロール等より構成される。このシート巻き取り手段１８において、隣接して設けられる保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態で、シート巻き取り手段１８に収納される。
【００５８】
エンボスシートの製造装置１０において、塗布手段１２とエンボスローラ１３との間、剥離ローラ１６とシート巻き取り手段１８との間等に、シートＷの搬送路を形成するガイドローラ等を設けてもよく、その他、必要に応じてシートＷの搬送中の弛みを吸収すべく、テンションローラ等を設けることもできる。
【００５９】
次に、本発明に適用される各材料について説明する。シートＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルムの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。
【００６０】
シートＷの幅としては、０. １〜３ｍが、シートＷの長さとしては、１０００〜１０００００ｍが、シートＷの厚さとしては、１〜３００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。
【００６１】
これらのシートＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。シートＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。
【００６２】
また、シートＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。同様に、シートＷとして１層構成のもののみならず、２層以上の構成のものも採用できる。また、シートＷは、光が透過できるような透明体、半透明体であることが好ましい。
【００６３】
本発明に使用可能な樹脂は（メタ）アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。
【００６４】
特に硬化の速さからは、（メタ）アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤の組み合わせが好ましい。中でも（メタ）アクリレ−ト、ウレタン（メタ）アクリレ−ト、エポキシ（メタ）アクリレ−ト、ポリエステル（メタ）アクリレ−トなどの（メタ）アクロイル基含有化合物が好ましい。
【００６５】
この（メタ）アクロイル基含有化合物としては（メタ）アクロイル基が１個あるいは２個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。
【００６６】
このような、（メタ）アクロイル基含有化合物としては、たとえば、（メタ）アクロイル基含有化合物を１個だけ含有する単官能モノマ−としてイソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００６７】
更に芳香環を有する単官能モノマ−として、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６８】
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、エポキシエステルＭ−６００Ａ、ライトエステルＰＯ（以上、共栄社化学（株）製）、ニューフロンティアＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２、ＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００６９】
また、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーとしては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。
【００７０】
ビスフェノール骨格をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００７１】
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。
【００７２】
更に、３官能以上の（メタ）アクリレート不飽和モノマ−としては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレート、たとえばトリメチロールプロパンリト（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製、ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
【００７３】
加えてウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、たとえばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ（無水）フタル酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール；ポリε−カプロラクトン変性ポリオール；ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ等のビスフェノールＡ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＦ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＦ等のビスフェノールＦ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートから製造されるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー等が挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、本発明の硬化性組成物の粘度を適度に保つ上で好ましい。
【００７４】
これらウレタン（メタ）アクリレートの市販品のモノマーとしては、たとえばアロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）等が挙げられる。
【００７５】
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）有機ポリイソシアネート及び（ｃ）ポリオールの反応物として得られるものであるが、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートと（ｂ）有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで（ｃ）ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。
【００７６】
以上の不飽和モノマ−は単独で用いても良く、必要に応じて複数種を混合して用いても良い。
【００７７】
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００７８】
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８、８８９３Ｘ（以上ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）、ＫＩＰ１５０（ランベルティ社製）等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度という観点からはＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３Ｘが好ましい。
【００７９】
光ラジカル重合開始剤は全組成物中に、０．０１〜１０重量％、特に０．５〜７重量％配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。
【００８０】
本発明の組成物には更に光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、たとえばトリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、たとえばユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００８１】
更にまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、たとえば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。
【００８２】
ここで、酸化防止剤としては、たとえばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられ、光安定剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、シランカップリング剤としては、たとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられ、塗面改良剤としては、たとえばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはＦＣ-430、ＦＣ-171（以上 ３Ｍ（株））、メガファックＦ-176、Ｆ-177、Ｒ-08、F780（以上 大日本インキ（株）製）等が挙げられ、離型剤としてはプライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００８３】
本発明の樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一がなく混合できるものであればよく、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。
【００８４】
有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製晶の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼす懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。
【００８５】
ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。
【００８６】
したがって、有機溶剤の沸点としては５０°Ｃ以上、１５０°Ｃ以下が好ましく、７０°Ｃ以上、１２０°Ｃ以下がより好ましい。素材の溶解性や、沸点の観点から、有機溶剤としてはメチルエチルケトン（ｂｐ．７９．６°Ｃ）、１−プロパノール（ｂｐ．９７．２°Ｃ）などが好ましい。
【００８７】
本発明の樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂液の粘度にもよるが、充分に塗布性が改善されるためには、１０重量％以上、４０重量％以下の範囲であり、好ましくは１５重量％以上、３０重量％以下の範囲である。有機溶剤の添加量があまり少量だと、粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく、塗布性が充分に改良されない。
【００８８】
しかし、樹脂液を多く希釈しすぎると、粘度が低すぎてシート状体の上で液が流動してムラが発生したり、シート状体の裏面に液が回るなどの問題が発生する。また、乾燥工程において充分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼす懸念が生じる。
【００８９】
本発明の樹脂液は、前記の各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。このようにして調製される樹脂液の粘度は、通常１０〜５００００ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃである。
【００９０】
シートＷやエンボスローラ１３に樹脂液を供給する場合には、粘度が高すぎると、均一に組成物を供給するのが難しくなり、レンズを製造する際、塗布むらやうねり、気泡の混入が生じたりするため、目的とするレンズ厚を得るのが難しくなり、レンズとしての性能を充分に発揮できない。
【００９１】
特に、ラインスピードを高速化したときにその傾向が顕著になる。したがって、この場合には液粘度は低い方が好ましく、５〜１００ｍＰａ・ｓが好ましく、１０〜５０ｍＰａ・ｓがより好ましい。このような低い粘度は、有機溶剤を適当量添加することにより調整が可能である。また、塗布液の保温設定により、粘度を調整することも可能である。
【００９２】
一方、溶剤蒸発後の粘度が低すぎると、エンボスローラ１３で型押しする際、レンズ厚のコントロールが難しく、一定厚の均一なレンズを形成できない場合がある。好ましい粘度は５〜３０００ｍＰａ・ｓである。有機溶剤を混合している場合は、樹脂液の供給からエンボスローラ１３で型押しするまでの工程間に、有機溶剤を加熱乾燥などにより蒸発させる工程を設けることにより、樹脂液供給時は低粘度で均一に液供給ができ、エンボスローラ１３で型押しする際は、有機溶剤を乾燥させ、より高粘度化させた樹脂液で均一に型押しすることが可能になる。
【００９３】
本発明の樹脂液を放射線によって硬化させることにより得られる硬化物は、プリズムレンズシートの場合、以下の物性（屈折率、軟化点）を有するものであることが特に好ましい。
【００９４】
屈折率としては、硬化物の２５°Ｃにおいて１．５５以上が好ましく、１．５６以上がより好ましい。硬化物の２５°Ｃにおける屈折率が１．５５未満であると、本組成物を用いてプリズムレンズシートを形成した場合、充分な正面輝度を確保することができない場合が生じるからである。
【００９５】
軟化点としては、４０°Ｃ以上が好ましく、５０°Ｃ以上がより好ましい。軟化点が４０°Ｃ未満の場合には耐熱性が充分でない場合があるからである。
【００９６】
次に、図１に戻って、エンボスシートの製造装置１０の作用について説明する。シート供給手段１１より、一定速度でシートＷを送り出す。シートＷは塗布手段１２へ送り込まれ、シートＷの表面に樹脂液が塗布される。塗布後に乾燥手段１９によりシートＷに塗布された樹脂液が乾燥され、溶剤分が蒸発する。次いで、シートＷはエンボスローラ１３とニップローラ１４からなる成形手段へ送り込まれる。これにより、連続走行するシートＷを、エンボスローラ１３の９時の位置において、回転するエンボスローラ１３とニップローラ１４とで押圧しながらローラ成形加工がなされる。すなわち、シートＷを、回転するエンボスローラ１３に巻き掛け、硬化樹脂４の層にエンボスローラ１３表面の凹凸を転写する。
【００９７】
この際、エンボスローラ１３の、凸部頂部のローラ径Ｄ１と凹部底部のローラ径Ｄ２と両端部の平坦部１３Ｂのローラ径Ｄ３とがＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２の関係にあるので、平坦部１３Ｂの高さが凸部高さと凹部高さの中間のレベルになり、硬化樹脂４の層が凹凸パターン部１３Ａで受ける圧力と、端部の平坦部１３Ｂで受ける圧力とをほぼ同等にできる。これにより、平坦部１３Ｂの硬化樹脂４の層は、凹凸部パターン部１３Ａの硬化樹脂４の層と平均厚さがほぼ同等となるため、安定に層が形成され、剥離不良はなくなる。
【００９８】
したがって、本発明によれば、樹脂の剥離性を向上させることにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。
【００９９】
なお、樹脂液の層の幅を凹凸パターン部１３Ａの幅より大きく設けているので、樹脂液の層の幅方向端部は平坦部１３Ｂに位置することとなり、一層安定に樹脂層が形成され、一層剥離不良はなくなる。なお、樹脂液層の幅は、物理的にシートＷの幅より小である。
【０１００】
樹脂層へのエンボスローラ１３表面の凹凸の転写に次いで、シートＷがエンボスローラ１３に巻き掛けられている状態で、樹脂硬化手段１５によりシートＷを透過して樹脂液層に放射線照射を行い、樹脂液層を硬化させる。その後、エンボスローラ１３の３時の位置において、シートＷを剥離ローラ１６に巻き掛けることによりエンボスローラ１３から剥離する。
【０１０１】
なお、図１には示していないが、シートＷを剥離した後、硬化を更に促進させるため、再度放射線照射を行うこともできる。
【０１０２】
剥離されたシートＷは、シート巻き取り手段１８に搬送され、保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態でシート巻き取り手段１８の巻き取りロールにより巻き取られ、収納される。
【０１０３】
このように、シートＷ表面に樹脂層が厚さむらなく形成され、更に、エンボスローラ１３による型押しも安定・均一になされる。これにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で製造することができる。
【０１０４】
以上、本発明に係る凹凸状シートの製造方法及び装置の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【０１０５】
たとえば、本実施形態の例では、ローラ状のエンボスローラ１３を使用する態様を採用したが、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたものを使用する態様も採用できる。このようなベルト状体であっても、円柱状のローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
【実施例】
【０１０６】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０１０７】
［樹脂液の調整］
図４の表に示す化合物を記載の重量比にて混合し、５０°Ｃに加熱して攪拌溶解し、樹脂液を得た。なお、各化合物の名称と内容は以下の通りである。
【０１０８】
ＥＢ３７００：エベクリル３７００、ダイセルＵＣ（株）製、
ビスフェノールＡタイプエポキシアクリレート、
（粘度：２２００ｍＰａ・ｓ／６５°Ｃ）
ＢＰＥ２００：ＮＫエステルＢＰＥ−２００、新中村化学（株）製、
エチレンオキシド付加ビスフェノールＡメタクリル酸エステル、
（粘度：５９０ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃ）
ＢＲ−３１ ：ニューフロンティアＢＲ−３１、第一工業製薬工業（株）製、
トリブロモフェノキシエチルアクリレート、
（常温で固体、融点５０°Ｃ以上）
ＬＲ８８９３Ｘ：Ｌｕｃｉｒｉｎ ＬＲ８８９３Ｘ、ＢＡＳＦ（株）製の光ラジカル発生剤、
エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルオスフィンオキシド
ＭＥＫ ：メチルエチルケトン
［エンボスシートの製造］
図１に示される構成のエンボスシートの製造装置１０を使用してエンボスシートの製造を行った。
【０１０９】
シートＷとして、幅５００ｍｍ、厚さ１００μｍの透明なＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）のフィルムを使用した。
【０１１０】
エンボスローラ１３として、長さ（シートＷの幅方向）が７００ｍｍ、直径が３００ｍｍのＳ４５Ｃ製で表面の材質をニッケルとしたローラを使用した。ローラの表面の略５００ｍｍ幅の全周に、ダイヤモンドバイト（シングルポイント）を使用した切削加工により、ローラ軸方向のピッチが５０μｍの溝を形成した。溝の断面形状は、頂角が９０度の三角形状で、溝の底部も平坦部分のない９０度の三角形状である。すなわち、溝幅は５０μｍであり、溝深さは約２５μｍである。
【０１１１】
この溝は、ローラの周方向に継ぎ目がないエンドレスとなるので、このエンボスローラ１３により、シートＷに断面が三角形のレンチキュラーレンズ（プリズムシート）が形成できる。ローラの表面には、溝加工後にニッケルメッキを施した。エンボスローラ１３の概略断面図を図５に示す。
【０１１２】
エンボスローラ１３の端部の平坦部１３Ｂの形状は以下の３種類のものとした。図６は、エンボスローラ１３の端部を示す拡大断面図である。このうち、（ａ）は、本発明の実施例であり、（ｂ）は、比較例１であり、（ｃ）は、比較例２である。
【０１１３】
図６に示されるように、（ａ）の実施例においては平坦部１３Ｂのレベルは頂部より１８μｍ低くなっている。この平坦部１３Ｂのレベルは、溝の断面形状の平均高さとほぼ同等である。
【０１１４】
一方、（ｂ）の比較例１においては平坦部１３Ｂのレベルは頂部と同一レベルであり、（ｃ）の比較例２においては平坦部１３Ｂのレベルは底部と同一レベルである。
【０１１５】
塗布手段１２としてダイコータを使用した。塗布手段１２の塗布ヘッド１２Ｃとして、エクストルージョンタイプのものを使用した。塗布液Ｆ（樹脂液）として、既述したように図４の表に記載の液を使用した。
【０１１６】
塗布液Ｆ（樹脂液）の湿潤状態の厚さは、有機溶剤乾燥後の膜厚が２０μｍになるように、塗布ヘッド１２Ｃへの塗布液Ｆの供給量を液供給装置（送液ポンプ）１２Ｂにより制御した。
【０１１７】
乾燥手段１９として、熱風循環方式の装置を用いた。熱風の温度は１００°Ｃに設定した。
【０１１８】
ニップローラ１４として、直径が２００ｍｍで、表面にゴム硬度が９０のシリコンゴムの層を形成したローラを使用した。エンボスローラ１３とニップローラ１４とでシートＷを押圧するニップ圧（実効のニップ圧）は、０．５Ｐａとした。
【０１１９】
樹脂硬化手段１５として、メタルハライドランプを使用し、１０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで照射を行った。
【０１２０】
以上により、ライン速度２ｍ／分にて運転したところ、図６に示される実施例及び比較例に対応する、端面形状及び凹凸パターンが形成されたシートＷを得た。
【０１２１】
［エンボス形状の評価］
このシートＷを切断し、凹凸パターンの複数箇所における断面形状をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を使用して測定することによりエンボス形状の評価を行った。
【０１２２】
［運転後の結果］
実施例：１０時間連続で稼動したが、凹凸状シートを、欠陥なく高品質で製造でき、また、エンボスローラ１３にも異常は認められなかった。
【０１２３】
比較例１：２時間連続で稼動した時点で、シートの耳（端部）での乱れが目立ち始め、剥離不良が発生したので、ラインを停止させた。エンボスローラ１３を観察したところ、樹脂の付着が認められた。
【０１２４】
比較例２：４時間連続で稼動した時点で、シートの耳（端部）での乱れが目立ち始め、剥離不良が発生したので、ラインを停止させた。エンボスローラ１３を観察したところ、樹脂の付着が認められた。
【０１２５】
以下の結果より、本発明によれば安定稼動ができることを確認できた。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】本発明が適用されるエンボスシートの製造装置の構成を示す概念図
【図２】エンボスローラの概要を示す部分拡大断面図
【図３】エンボスローラの端部を示す拡大断面図
【図４】樹脂液の調合を示す表
【図５】エンボスローラの概要を示す断面図
【図６】エンボスローラの端部を示す拡大断面図
【図７】エンボスシートの概要を示す断面図
【図８】従来例のエンボスシートの製造装置の構成を示す概念図
【図９】従来例のエンボスシートの製造装置の他の構成を示す概念図
【図１０】従来例のエンボスローラの端部を示す拡大断面図
【図１１】従来例のエンボスローラの端部を示す拡大断面図
【図１２】従来例のエンボスローラの端部を示す拡大断面図
【符号の説明】
【０１２７】
１０…エンボスシートの製造装置、１１…シート供給手段、１２…塗布手段、１３…エンボスローラ、１４…ニップローラ、１５…樹脂硬化手段、１６…剥離ローラ、１７…保護フィルム供給手段、１８…シート巻き取り手段、Ｈ…保護フィルム、Ｗ…シート
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線硬化樹脂液が塗布されることにより、表面に樹脂液層が形成されている帯状可撓性のシート状体を連続走行させ、
前記シート状体を、回転する凹凸ローラに巻き掛け、前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸パターンを転写し、
前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で前記樹脂液層に放射線を照射し、
前記シート状体を前記凹凸ローラより剥離する凹凸状シートの製造方法において、
前記凹凸ローラに、頂部におけるローラ径Ｄ１の凸部と底部におけるローラ径Ｄ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部と、該凹凸パターン部の両側に配されるローラ径Ｄ３の平坦部とを設け、ローラ径をＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようにすることを特徴とする凹凸状シートの製造方法。
【請求項２】
前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸パターンを転写する際に、前記シート状体と前記平坦部との間の空間の容積Ａがゼロとなるようにローラ径Ｄ３及び／又はニップ圧を設定することを特徴とする請求項１に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項３】
前記ローラ径Ｄ３を前記凹凸パターン部の平均ローラ径Ｄ４と略同一にすることを特徴とする請求項１又は２に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項４】
前記樹脂液層の幅を前記凹凸パターン部の幅より大きく設けることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項５】
前記シート状体を、前記凹凸ローラと該凹凸ローラに対向配置するとともに表面を弾性体で形成したニップローラとで挟圧しながら前記凹凸ローラに巻き掛けることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項６】
前記凹凸ローラとニップローラとの挟圧力が調整可能となっていることを特徴とする請求項５に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項７】
前記シート状体に転写形成された凹凸パターンのピッチが１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項８】
前記凹凸状シートが光学フイルムとして使用されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項９】
帯状可撓性のシート状体を送り出すシート状体供給手段と、
前記シート状体の表面に放射線硬化樹脂液を塗布する塗布手段と、
連続走行する前記シート状体を、回転する凹凸ローラに巻き掛けながら、該凹凸ローラ表面の凹凸パターンを前記シート状体の表面に転写形成する転写手段と、
前記凹凸ローラの近傍に設けられ、前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で前記樹脂液を硬化させる放射線照射手段と、を備えた凹凸状シートの製造装置において、
前記凹凸ローラに、頂部におけるローラ径Ｄ１の凸部と底部におけるローラ径Ｄ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部と、該凹凸パターン部の両側に配されるローラ径Ｄ３の平坦部とが設けられ、ローラ径がＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようになっていることを特徴とする凹凸状シートの製造装置。
【請求項１】
放射線硬化樹脂液が塗布されることにより、表面に樹脂液層が形成されている帯状可撓性のシート状体を連続走行させ、
前記シート状体を、回転する凹凸ローラに巻き掛け、前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸パターンを転写し、
前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で前記樹脂液層に放射線を照射し、
前記シート状体を前記凹凸ローラより剥離する凹凸状シートの製造方法において、
前記凹凸ローラに、頂部におけるローラ径Ｄ１の凸部と底部におけるローラ径Ｄ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部と、該凹凸パターン部の両側に配されるローラ径Ｄ３の平坦部とを設け、ローラ径をＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようにすることを特徴とする凹凸状シートの製造方法。
【請求項２】
前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸パターンを転写する際に、前記シート状体と前記平坦部との間の空間の容積Ａがゼロとなるようにローラ径Ｄ３及び／又はニップ圧を設定することを特徴とする請求項１に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項３】
前記ローラ径Ｄ３を前記凹凸パターン部の平均ローラ径Ｄ４と略同一にすることを特徴とする請求項１又は２に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項４】
前記樹脂液層の幅を前記凹凸パターン部の幅より大きく設けることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項５】
前記シート状体を、前記凹凸ローラと該凹凸ローラに対向配置するとともに表面を弾性体で形成したニップローラとで挟圧しながら前記凹凸ローラに巻き掛けることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項６】
前記凹凸ローラとニップローラとの挟圧力が調整可能となっていることを特徴とする請求項５に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項７】
前記シート状体に転写形成された凹凸パターンのピッチが１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項８】
前記凹凸状シートが光学フイルムとして使用されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項９】
帯状可撓性のシート状体を送り出すシート状体供給手段と、
前記シート状体の表面に放射線硬化樹脂液を塗布する塗布手段と、
連続走行する前記シート状体を、回転する凹凸ローラに巻き掛けながら、該凹凸ローラ表面の凹凸パターンを前記シート状体の表面に転写形成する転写手段と、
前記凹凸ローラの近傍に設けられ、前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で前記樹脂液を硬化させる放射線照射手段と、を備えた凹凸状シートの製造装置において、
前記凹凸ローラに、頂部におけるローラ径Ｄ１の凸部と底部におけるローラ径Ｄ２の凹部とがローラ幅方向に交互に形成された凹凸パターン部と、該凹凸パターン部の両側に配されるローラ径Ｄ３の平坦部とが設けられ、ローラ径がＤ１＞Ｄ３＞Ｄ２のようになっていることを特徴とする凹凸状シートの製造装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２００７−２０３６７８（Ｐ２００７−２０３６７８Ａ）
【公開日】平成１９年８月１６日（２００７．８．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２７６１６（Ｐ２００６−２７６１６）
【出願日】平成１８年２月３日（２００６．２．３）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年８月１６日（２００７．８．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年２月３日（２００６．２．３）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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