加飾されたセメント質硬化体
【課題】意匠の自由度が高く、光沢性、鮮映性に優れ、複雑な表面形状に沿った表面性状の得られる加飾された硬化体を提供する。
【解決手段】表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下であるセメント質硬化体に、金属層１３を、離型層１１を介して担持したキャリアフィルム２０から熱転写して、鮮映性測定値（ＧＤ値）０．５以上の光沢膜を形成し、加飾されたセメント質硬化体とする。さらに、前記セメント質硬化体は、表面が平滑（表面粗さが１０μｍ以下）な型枠を使用して成形することにより、表面研磨をすることなく、表面粗さ（Ｒｍａｘ）を１０μｍ以下とすることができる。
【解決手段】表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下であるセメント質硬化体に、金属層１３を、離型層１１を介して担持したキャリアフィルム２０から熱転写して、鮮映性測定値（ＧＤ値）０．５以上の光沢膜を形成し、加飾されたセメント質硬化体とする。さらに、前記セメント質硬化体は、表面が平滑（表面粗さが１０μｍ以下）な型枠を使用して成形することにより、表面研磨をすることなく、表面粗さ（Ｒｍａｘ）を１０μｍ以下とすることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加飾されたセメント質硬化体に関し、特に、ホットスタンプにより、加飾されたセメント質硬化体に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、物品の表面を転写により加飾する方法としては、ホットスタンプ等が知られている。ホットスタンプは、専用の印刷層が塗られたスタンプ箔の印刷層を熱版により被印刷物に転写して印刷する方法である。例えば、物品表面を被印刷物として、熱版には印刷パターンを凸版として形成し、物品表面と熱版との間に前記スタンプ箔を置き、前記熱版により前記スタンプ箔を物品表面に対し加圧、加熱し、印刷層を物品表面に転写することにより、ホットスタンプを行う。
【０００３】
コンクリート等のセメント質硬化体は、いわゆる打ち放し仕上げでは、素材の灰白色と色の不均一、ざらざら感が素材の質感を醸し出して、ある意味で魅力的である。一方で、内装建材や意匠性の要求される部材に用いるには、不満足とされる向きも否めない。
【０００４】
そこで、コンクリート等のセメント質硬化体の表面処理に関し、金属溶射皮膜を用いた表面処理により、金属光沢の付与と、溶射による凹部を封孔仕上げする方法が開示されている（特許文献１）。更に、無機質板の表面に加熱発泡剤を混入した接着剤を塗布後、模様を印刷した化粧シートを重ねて凸部を形成したエンボス版を化粧シートに押し当て、凹部を形成しながら立体的な化粧を施す化粧板の製造が開示されている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−２６９６７７号公報
【特許文献２】特開平７−８０９９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１の加飾方法では、コンクリート等の表面が金属本来の光沢を有し、同時に金属溶射皮膜の封孔処理ができるが、溶射皮膜層の形成が前提となっていた。従って、まず、溶射層を金属溶射によって、形成する必要があり、溶射で可能な金属にかなり限定され、微細な文様の表示等は困難であった。
【０００７】
特許文献２では、建材等の仕上げ表面が化粧シートの意匠に凹凸を加えたものであり、比較的厚い接着層と発泡部分の態様を反映したものに限定される傾向にあった。また、エンボス版を用いるため、建材の表面が起伏している場合、この起伏に沿った化粧シートの貼付は困難であった。
【０００８】
そこで、本発明においては、意匠の自由度が高く、光沢性、鮮映性に優れ、複雑な表面形状に沿った表面性状の得られる加飾されたセメント質硬化体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するため、セメント質硬化体の表面性状の制御とホットスタンプ方法の制御により、課題解決の糸口を見出し、［１］ 表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下であるセメント質硬化体に、金属層を、離型層を介して担持したフィルム層から熱転写して、鮮映性測定値（ＧＤ値）０．５以上の光沢膜を形成されたことを特徴とする加飾されたセメント質硬化体を提供する。
【００１０】
さらに、［２］前記硬化体が、表面研磨をすることなく、表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下である硬化体であることを特徴とする［１］記載加飾された加飾されたセメント質硬化体を提供する。
【００１１】
［３］前記金属が、金属蒸着層であることを特徴とする［１］〜［２］記載の加飾されたセメント質硬化体を提供する。
［４］前記セメント質硬化体が、セメント１００重量部、粒径２ｍｍ以下の細骨材５０〜２５０重量部、減水剤を固形分換算で０.1〜４．０重量部、及び１０〜３０重量部の水を含む配合物を型枠に流し込んで得た硬化体であることを特徴とする［１］〜［３］記載の加飾されたセメント質硬化体、を提供する。
【００１２】
本発明は、表面粗さ（以降、Ｒｍａｘと称す）が１０μｍ以下のセメント質硬化体であれば、金属層を、離型層を介して担持したフィルム層から熱転写して、所定の鮮映度が得られる。
【００１３】
Ｒｍａｘが１０μｍ以下のセメント質硬化体を得るには、モルタルやコンクリート等のセメント質硬化体の表面研磨によって、通常の手段でおこなうことができる。表面研磨手段は、ブラスト処理、金属製研磨剤による研磨、ダイヤモンド研磨、炭化ケイ素粉末研磨等々である。
【００１４】
更に、表面研磨後に、または、表面研磨に替えて、セメント質硬化体と熱転写箔の密着性向上のために、プライマリー塗装などの処理を妨げるものではない。こうして、Ｒｍａｘが、１０μｍ以下のセメント質硬化体を得ることができる。
【００１５】
また、表面研磨をせず、Ｒｍａｘが１０μｍ以下のセメント質硬化体を得るには、例えば、０打フロー値（「ＪＩＳ Ｒ ５２０１（セメントの物理試験方法）１１．フロー試験」に記載される方法において、１５回の落下運動を行わないで測定したフロー値）が２３０ｍｍ以上の高流動モルタル、又はスランプフロー値が５０ｃｍ以上の高流動コンクリートを、表面が平滑(表面粗さが１０μｍ以下)な型枠を使用して成形すればよい。このような型枠としては、ポリエチレンやポリウレタン製等の樹脂型枠や金属型枠等が挙げられる。
【００１６】
そして、このセメント質硬化体表面に、熱転写を行えば、その表面がきめ細やかで、高級感のある意匠を実現できる。
【００１７】
また、熱転写箔は、後述するように、材質を限定した柔軟なキャリアフィルムで担持された熱転写層を含む。このとき、セメント質硬化体の表面に起伏が形成されていても、滑らかな角のないデザインであって、Ｒｍａｘが、１０μｍ以下ならば、この起伏に沿った転写が可能となって、立体的表面を形成し、意匠性が向上する。
【００１８】
セメント質硬化体の好ましい材料と配合割合の１例を説明する。
セメント質硬化体は、少なくとも、セメント１００重量部に対して、最大粒径２ｍｍ以下の細骨材５０〜２５０重量部、減水剤(固形分換算)０．1〜４．０重量部、及び水１０〜３０重量部を含む配合物の硬化体であれば、配合物の０打フロー値を２３０ｍｍ以上にすることができ、表面が平滑(表面粗さが１０μｍ以下)な型枠を使用して成形すれば、表面研磨を行わなくても該硬化体のＲｍａｘを１０μｍ以下にすることができるので好ましい。
【００１９】
セメントの種類は限定するものではなく、普通ポルトランドセメント、早強ポルトランドセメント、中庸熱ポルトランドセメント、低熱ポルトランドセメント等の各種ポルトランドセメントや高炉セメント、フライアッシュセメント等の混合セメントを使用することができる。
細骨材としては、粒径２ｍｍ以下の細骨材を用いることができる。ここで、細骨材の粒径とは、８５％重量累積粒径である。細骨材としては、川砂、陸砂、海砂、砕砂、珪砂及びこれらの混合物を使用することができる。
減水剤としては、リグニン系、ナフタレンスルホン酸系、メラミン系、ポリカルボン酸系の減水剤、ＡＥ減水剤、高性能減水剤又は高性能ＡＥ減水剤を使用することができる。これらのうち、減水効果の大きな高性能減水剤又は高性能ＡＥ減水剤を使用することが好ましい。なお、減水剤は、液状又は粉末状どちらでも使用可能である。
【００２０】
なお、セメント質硬化体は、上記材料に加えて、ブレーン比表面積4000〜10000ｃｍ２／ｇの無機粉末(例えば、高炉スラグ粉末、フライアッシュ、石灰石粉末、石英粉末等)やＢＥＴ比表面積2〜20ｍ２／ｇの微粉末(例えば、シリカフューム、石灰石粉末等)、さらには繊維(金属繊維や有機質繊維)や粗骨材等を含むことができる。
【００２１】
表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下である前記硬化体に、金属層を、離型層を介して担持したフィルム層から熱転写する。鮮映性測定値（ＧＤ値）を、本願の意匠性の判定に用いることは、客観的評価の基準として好ましい。本願においては、このＧＤ値が、０．５以上の光沢膜を形成することができる。
【００２２】
セメント質硬化体への金属層の熱転写を可能にする熱転写箔について、図１に基づき説明する。
【００２３】
図１は、本発明に用いる熱転写箔の積層構造を模式的に示す図である。熱転写箔１００は、キャリアフィルム２０の片面に、離型層１１、保護着色層１２、金属層１３、および接着層１４が順次積層する。保護着色層１２、金属層１３、および接着層１４は、併せて熱転写層１０を構成する。熱転写箔１００は、連続テープ状であることが好ましい。
【００２４】
キャリアフィルム２０は、熱転写層１０を支持し、熱転写箔１００から熱転写層１０の転写後は、単独で回収されることが好ましい。キャリアフィルム２０としては、転写時のサーマルパッド３２からの熱で溶融しないものを選定する。そのため、キャリアフィルム２０は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＥ（ポリエチレン）が好ましい。例えば、厚みが、１２μｍ〜２５μｍ程度の２軸延伸ＰＥＴフィルムが用いられる。この材質、厚みならば、セメント質硬化体の表面に起伏が形成されていても、それが、滑らかな角のないデザインであって、Ｒｍａｘが、１０μｍならば、この起伏に沿った転写が可能となって、立体的表面を形成し、意匠性が向上する。
【００２５】
離型層１１は、キャリアフィルム２０上に形成し、サーマルパッド３２で加熱された熱転写層１０が、キャリアフィルム２０から容易に剥離するために用いることができる。離型層１１は、１μｍ程度の厚みとし、その全部または一部がセメント質硬化体表面に転写移行してもよく、あるいは、セメント質硬化体に全く移行しなくともよい。離型層１１は、具体的には、パラフィンワックス、カルナバワックス等のワックス等の樹脂を主成分とすることができる。
【００２６】
保護着色層１２の厚みは、１μｍ程度で、熱転写箔製造時、金属層１３をキャリアフィルム２０に付着させる層である。また加飾、熱転写時には、熱転写層１０がキャリアフィルム２０から剥がれ、セメント質硬化体に固着し、金属層１３を保護するという機能を持つ。着色作用は任意である。保護着色層１２の主成分としては、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン系樹脂、フッ素樹脂などの１種または２種以上を使用できる。フッ素樹脂を用いて、加飾後のセメント質硬化体の耐候性、耐薬品性を高めることもできる。
【００２７】
金属層１３は、銅、スズ、アルミニウム、クロム、金、銀等のいずれかの金属を含む。金属層１３は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの物理蒸着法や、化学蒸着法、電着、化学めっき等により製膜される。より好ましくは、金属層１３は真空蒸着法により製膜される。真空蒸着では、高真空炉の中で金属片を蒸発させ、蒸発した金属が金属微粒子となり、保護着色層１２に付着する。
【００２８】
金属層１３は、十分な金属光沢を得るために、厚さが２０ｎｍ以上である。さらに確実に要求される金属光沢を得るために、好適には、厚さが３０ｎｍ以上である。
【００２９】
真空蒸着では、真空度、蒸着温度、蒸着処理速度等の蒸着条件を変化させた試料を用いて、電子顕微鏡で金属層形成条件を確認して、真空蒸着条件を調整することができる。
【００３０】
接着層１４（厚みは２μｍ程度）は、熱転写箔製造においては、金属層１３を保護し、また熱転写時には、金属層１３とセメント質硬化体を接着する機能を持つ。材料としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体などの１種または２種以上を主成分とするもの、及び／又は各種ワックスを用いてもよい。
【００３１】
図２に示すホットパッドを用いた転写では、台上にセメント質硬化体をセットした。加熱したホットパッドが巻き出した転写箔を硬化体に押し付け、転写箔を加熱しながら加圧し、ホットパッドを離して転写層のみを硬化体表面に残した。転写済みのキャリアは、ロールに巻き取った。
【００３２】
なお、硬化体表面と転写箔の間の空気を吸引する装置（図示せず）を設け、転写箔をホットプレスしながら、クランプ状態で、転写箔と硬化体の間にトラップされる空気を吸引して抜くことにより、転写箔を、硬化体に沿わせて密着させる熱転写を行うこともできる。
【発明の効果】
【００３３】
複雑な表面形状に対応し、意匠の自由度が高いセメント質硬化体への加飾を実現でき、光沢性や鮮映性に極めて優れる加飾されたセメント質硬化体を実現できる。そして、これを利用したセメント二次製品（舗装版、床版等）の意匠性をたかめ、その用途を広範にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明に用いる熱転写箔を説明する模式図である。
【図２】本発明の加飾された硬化体の製造方法を説明する模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
より具体的に実施形態を記載する。
セメント質硬化体は、セメント１００重量部に対して、最大粒径２ｍｍ以下の細骨材１００重量部、ポリカルボン酸系減水剤(固形分換算)０．６重量部、及び水２０重量部を含む配合物について、配合物の０打フロー値を２３０ｍｍ以上であることを確認して、表面が平滑(表面粗さが１０μｍ以下)な樹脂型枠を使用して成形した。脱型後、表面研磨を行わなくても該硬化体のＲｍａｘを９μｍのモルタル硬化体を得た。
【００３６】
熱転写箔１００の製造に関しては、まず、厚さ１０μｍ程度の２軸延伸ＰＥＴフィルム等からなるキャリアフィルム２０を用意した。
【００３７】
キャリアフィルム２０の片面に１μｍ厚の離型層１１を形成した。ワックスを水により溶解した塗工液を用意し、この塗工液をキャリアフィルム２０に塗布した後、乾燥することにより行った。保護着色層１２は、離型層１１にポリエステル樹脂をアルコールにより溶解した塗工液を塗布して形成した。
【００３８】
ついで、保護着色層１２に金属層１３を形成した。金属層をアルミニウムとし、金属層１３の厚みが７０ｎｍ以下となる条件で真空蒸着を行った。金属層の厚さが２０ｎｍ未満では所望の金属光沢感がでにくい。また、金属層１３の厚さが７０ｎｍより厚いと、表面が乱反射を起こすため光沢がでにくくなるため、金属層の厚みが５０ｎｍ以下となるような条件で真空蒸着を行うことが好適であった。そこで、４０ｎｍ厚の金属層を形成した。
【００３９】
次いで、樹脂を有機溶剤に溶解させた塗工液をアルミニウム金属層１３に塗布した後、乾燥することにより、接着層１４を形成し、本実施形態の熱転写箔１００を製造した。
【００４０】
さらに、前記モルタル硬化体に熱転写し、加飾されたセメント質硬化体を次のように製造した。図２に示す熱転写装置３０は、熱転写箔をスクロールさせる一対の熱転写箔ローラ３１と、セメント質硬化体設置台（図示せず）を備えた。一対の熱転写箔ローラ３１の中間位置に、熱転写箔１００を加熱してセメント質硬化体に熱転写層１０を熱転写するためのサーマルパッド３２を設けた。図（a）、図（ｂ）は、それぞれ転写前後の作動状態を示した。サーマルパッド３２は、ガイド３３に沿って上下し、セメント質硬化体を加圧する弾力体であり、セメント質硬化体の起伏する表面形状にフィットした熱転写をおこなった。
【００４１】
熱転写時には、熱転写箔ローラ３１が回転して熱転写箔１００をスクロールさせた。そして、サーマルパッド３２が、熱転写箔１００を加熱しながら、セメント質硬化体４０に圧接させることにより、セメント質硬化体に熱転写層１０が熱転写され、加飾セメント質硬化体を製造した。熱転写箔１００とセメント質硬化体４０の間の空気は、設置台に備えた空気吸引孔（図示せず）より減圧して取り除いた。
【００４２】
得られた加飾されたセメント質硬化体は、鮮映性測定値（ＧＤ値）０．５以上の光沢膜が形成され、美麗な外観を有するものであった。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明は、意匠の自由度が高く、光沢性、鮮映性に優れ、起伏のある表面形状に沿った加飾されたセメント質硬化体を提供する等、その用途を広範囲とすることができる。
【符号の説明】
【００４４】
１０：熱転写層
１１：離型層
１２：保護着色層
１３：金属層
１４：接着層
１００：熱転写箔
２０：キャリアフィルム
３０：熱転写装置
３１：熱転写箔ローラ
３２：サーマルパッド
３３：ガイド
４０：セメント質硬化体
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加飾されたセメント質硬化体に関し、特に、ホットスタンプにより、加飾されたセメント質硬化体に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、物品の表面を転写により加飾する方法としては、ホットスタンプ等が知られている。ホットスタンプは、専用の印刷層が塗られたスタンプ箔の印刷層を熱版により被印刷物に転写して印刷する方法である。例えば、物品表面を被印刷物として、熱版には印刷パターンを凸版として形成し、物品表面と熱版との間に前記スタンプ箔を置き、前記熱版により前記スタンプ箔を物品表面に対し加圧、加熱し、印刷層を物品表面に転写することにより、ホットスタンプを行う。
【０００３】
コンクリート等のセメント質硬化体は、いわゆる打ち放し仕上げでは、素材の灰白色と色の不均一、ざらざら感が素材の質感を醸し出して、ある意味で魅力的である。一方で、内装建材や意匠性の要求される部材に用いるには、不満足とされる向きも否めない。
【０００４】
そこで、コンクリート等のセメント質硬化体の表面処理に関し、金属溶射皮膜を用いた表面処理により、金属光沢の付与と、溶射による凹部を封孔仕上げする方法が開示されている（特許文献１）。更に、無機質板の表面に加熱発泡剤を混入した接着剤を塗布後、模様を印刷した化粧シートを重ねて凸部を形成したエンボス版を化粧シートに押し当て、凹部を形成しながら立体的な化粧を施す化粧板の製造が開示されている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−２６９６７７号公報
【特許文献２】特開平７−８０９９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１の加飾方法では、コンクリート等の表面が金属本来の光沢を有し、同時に金属溶射皮膜の封孔処理ができるが、溶射皮膜層の形成が前提となっていた。従って、まず、溶射層を金属溶射によって、形成する必要があり、溶射で可能な金属にかなり限定され、微細な文様の表示等は困難であった。
【０００７】
特許文献２では、建材等の仕上げ表面が化粧シートの意匠に凹凸を加えたものであり、比較的厚い接着層と発泡部分の態様を反映したものに限定される傾向にあった。また、エンボス版を用いるため、建材の表面が起伏している場合、この起伏に沿った化粧シートの貼付は困難であった。
【０００８】
そこで、本発明においては、意匠の自由度が高く、光沢性、鮮映性に優れ、複雑な表面形状に沿った表面性状の得られる加飾されたセメント質硬化体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するため、セメント質硬化体の表面性状の制御とホットスタンプ方法の制御により、課題解決の糸口を見出し、［１］ 表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下であるセメント質硬化体に、金属層を、離型層を介して担持したフィルム層から熱転写して、鮮映性測定値（ＧＤ値）０．５以上の光沢膜を形成されたことを特徴とする加飾されたセメント質硬化体を提供する。
【００１０】
さらに、［２］前記硬化体が、表面研磨をすることなく、表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下である硬化体であることを特徴とする［１］記載加飾された加飾されたセメント質硬化体を提供する。
【００１１】
［３］前記金属が、金属蒸着層であることを特徴とする［１］〜［２］記載の加飾されたセメント質硬化体を提供する。
［４］前記セメント質硬化体が、セメント１００重量部、粒径２ｍｍ以下の細骨材５０〜２５０重量部、減水剤を固形分換算で０.1〜４．０重量部、及び１０〜３０重量部の水を含む配合物を型枠に流し込んで得た硬化体であることを特徴とする［１］〜［３］記載の加飾されたセメント質硬化体、を提供する。
【００１２】
本発明は、表面粗さ（以降、Ｒｍａｘと称す）が１０μｍ以下のセメント質硬化体であれば、金属層を、離型層を介して担持したフィルム層から熱転写して、所定の鮮映度が得られる。
【００１３】
Ｒｍａｘが１０μｍ以下のセメント質硬化体を得るには、モルタルやコンクリート等のセメント質硬化体の表面研磨によって、通常の手段でおこなうことができる。表面研磨手段は、ブラスト処理、金属製研磨剤による研磨、ダイヤモンド研磨、炭化ケイ素粉末研磨等々である。
【００１４】
更に、表面研磨後に、または、表面研磨に替えて、セメント質硬化体と熱転写箔の密着性向上のために、プライマリー塗装などの処理を妨げるものではない。こうして、Ｒｍａｘが、１０μｍ以下のセメント質硬化体を得ることができる。
【００１５】
また、表面研磨をせず、Ｒｍａｘが１０μｍ以下のセメント質硬化体を得るには、例えば、０打フロー値（「ＪＩＳ Ｒ ５２０１（セメントの物理試験方法）１１．フロー試験」に記載される方法において、１５回の落下運動を行わないで測定したフロー値）が２３０ｍｍ以上の高流動モルタル、又はスランプフロー値が５０ｃｍ以上の高流動コンクリートを、表面が平滑(表面粗さが１０μｍ以下)な型枠を使用して成形すればよい。このような型枠としては、ポリエチレンやポリウレタン製等の樹脂型枠や金属型枠等が挙げられる。
【００１６】
そして、このセメント質硬化体表面に、熱転写を行えば、その表面がきめ細やかで、高級感のある意匠を実現できる。
【００１７】
また、熱転写箔は、後述するように、材質を限定した柔軟なキャリアフィルムで担持された熱転写層を含む。このとき、セメント質硬化体の表面に起伏が形成されていても、滑らかな角のないデザインであって、Ｒｍａｘが、１０μｍ以下ならば、この起伏に沿った転写が可能となって、立体的表面を形成し、意匠性が向上する。
【００１８】
セメント質硬化体の好ましい材料と配合割合の１例を説明する。
セメント質硬化体は、少なくとも、セメント１００重量部に対して、最大粒径２ｍｍ以下の細骨材５０〜２５０重量部、減水剤(固形分換算)０．1〜４．０重量部、及び水１０〜３０重量部を含む配合物の硬化体であれば、配合物の０打フロー値を２３０ｍｍ以上にすることができ、表面が平滑(表面粗さが１０μｍ以下)な型枠を使用して成形すれば、表面研磨を行わなくても該硬化体のＲｍａｘを１０μｍ以下にすることができるので好ましい。
【００１９】
セメントの種類は限定するものではなく、普通ポルトランドセメント、早強ポルトランドセメント、中庸熱ポルトランドセメント、低熱ポルトランドセメント等の各種ポルトランドセメントや高炉セメント、フライアッシュセメント等の混合セメントを使用することができる。
細骨材としては、粒径２ｍｍ以下の細骨材を用いることができる。ここで、細骨材の粒径とは、８５％重量累積粒径である。細骨材としては、川砂、陸砂、海砂、砕砂、珪砂及びこれらの混合物を使用することができる。
減水剤としては、リグニン系、ナフタレンスルホン酸系、メラミン系、ポリカルボン酸系の減水剤、ＡＥ減水剤、高性能減水剤又は高性能ＡＥ減水剤を使用することができる。これらのうち、減水効果の大きな高性能減水剤又は高性能ＡＥ減水剤を使用することが好ましい。なお、減水剤は、液状又は粉末状どちらでも使用可能である。
【００２０】
なお、セメント質硬化体は、上記材料に加えて、ブレーン比表面積4000〜10000ｃｍ２／ｇの無機粉末(例えば、高炉スラグ粉末、フライアッシュ、石灰石粉末、石英粉末等)やＢＥＴ比表面積2〜20ｍ２／ｇの微粉末(例えば、シリカフューム、石灰石粉末等)、さらには繊維(金属繊維や有機質繊維)や粗骨材等を含むことができる。
【００２１】
表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下である前記硬化体に、金属層を、離型層を介して担持したフィルム層から熱転写する。鮮映性測定値（ＧＤ値）を、本願の意匠性の判定に用いることは、客観的評価の基準として好ましい。本願においては、このＧＤ値が、０．５以上の光沢膜を形成することができる。
【００２２】
セメント質硬化体への金属層の熱転写を可能にする熱転写箔について、図１に基づき説明する。
【００２３】
図１は、本発明に用いる熱転写箔の積層構造を模式的に示す図である。熱転写箔１００は、キャリアフィルム２０の片面に、離型層１１、保護着色層１２、金属層１３、および接着層１４が順次積層する。保護着色層１２、金属層１３、および接着層１４は、併せて熱転写層１０を構成する。熱転写箔１００は、連続テープ状であることが好ましい。
【００２４】
キャリアフィルム２０は、熱転写層１０を支持し、熱転写箔１００から熱転写層１０の転写後は、単独で回収されることが好ましい。キャリアフィルム２０としては、転写時のサーマルパッド３２からの熱で溶融しないものを選定する。そのため、キャリアフィルム２０は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＥ（ポリエチレン）が好ましい。例えば、厚みが、１２μｍ〜２５μｍ程度の２軸延伸ＰＥＴフィルムが用いられる。この材質、厚みならば、セメント質硬化体の表面に起伏が形成されていても、それが、滑らかな角のないデザインであって、Ｒｍａｘが、１０μｍならば、この起伏に沿った転写が可能となって、立体的表面を形成し、意匠性が向上する。
【００２５】
離型層１１は、キャリアフィルム２０上に形成し、サーマルパッド３２で加熱された熱転写層１０が、キャリアフィルム２０から容易に剥離するために用いることができる。離型層１１は、１μｍ程度の厚みとし、その全部または一部がセメント質硬化体表面に転写移行してもよく、あるいは、セメント質硬化体に全く移行しなくともよい。離型層１１は、具体的には、パラフィンワックス、カルナバワックス等のワックス等の樹脂を主成分とすることができる。
【００２６】
保護着色層１２の厚みは、１μｍ程度で、熱転写箔製造時、金属層１３をキャリアフィルム２０に付着させる層である。また加飾、熱転写時には、熱転写層１０がキャリアフィルム２０から剥がれ、セメント質硬化体に固着し、金属層１３を保護するという機能を持つ。着色作用は任意である。保護着色層１２の主成分としては、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン系樹脂、フッ素樹脂などの１種または２種以上を使用できる。フッ素樹脂を用いて、加飾後のセメント質硬化体の耐候性、耐薬品性を高めることもできる。
【００２７】
金属層１３は、銅、スズ、アルミニウム、クロム、金、銀等のいずれかの金属を含む。金属層１３は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの物理蒸着法や、化学蒸着法、電着、化学めっき等により製膜される。より好ましくは、金属層１３は真空蒸着法により製膜される。真空蒸着では、高真空炉の中で金属片を蒸発させ、蒸発した金属が金属微粒子となり、保護着色層１２に付着する。
【００２８】
金属層１３は、十分な金属光沢を得るために、厚さが２０ｎｍ以上である。さらに確実に要求される金属光沢を得るために、好適には、厚さが３０ｎｍ以上である。
【００２９】
真空蒸着では、真空度、蒸着温度、蒸着処理速度等の蒸着条件を変化させた試料を用いて、電子顕微鏡で金属層形成条件を確認して、真空蒸着条件を調整することができる。
【００３０】
接着層１４（厚みは２μｍ程度）は、熱転写箔製造においては、金属層１３を保護し、また熱転写時には、金属層１３とセメント質硬化体を接着する機能を持つ。材料としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体などの１種または２種以上を主成分とするもの、及び／又は各種ワックスを用いてもよい。
【００３１】
図２に示すホットパッドを用いた転写では、台上にセメント質硬化体をセットした。加熱したホットパッドが巻き出した転写箔を硬化体に押し付け、転写箔を加熱しながら加圧し、ホットパッドを離して転写層のみを硬化体表面に残した。転写済みのキャリアは、ロールに巻き取った。
【００３２】
なお、硬化体表面と転写箔の間の空気を吸引する装置（図示せず）を設け、転写箔をホットプレスしながら、クランプ状態で、転写箔と硬化体の間にトラップされる空気を吸引して抜くことにより、転写箔を、硬化体に沿わせて密着させる熱転写を行うこともできる。
【発明の効果】
【００３３】
複雑な表面形状に対応し、意匠の自由度が高いセメント質硬化体への加飾を実現でき、光沢性や鮮映性に極めて優れる加飾されたセメント質硬化体を実現できる。そして、これを利用したセメント二次製品（舗装版、床版等）の意匠性をたかめ、その用途を広範にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明に用いる熱転写箔を説明する模式図である。
【図２】本発明の加飾された硬化体の製造方法を説明する模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
より具体的に実施形態を記載する。
セメント質硬化体は、セメント１００重量部に対して、最大粒径２ｍｍ以下の細骨材１００重量部、ポリカルボン酸系減水剤(固形分換算)０．６重量部、及び水２０重量部を含む配合物について、配合物の０打フロー値を２３０ｍｍ以上であることを確認して、表面が平滑(表面粗さが１０μｍ以下)な樹脂型枠を使用して成形した。脱型後、表面研磨を行わなくても該硬化体のＲｍａｘを９μｍのモルタル硬化体を得た。
【００３６】
熱転写箔１００の製造に関しては、まず、厚さ１０μｍ程度の２軸延伸ＰＥＴフィルム等からなるキャリアフィルム２０を用意した。
【００３７】
キャリアフィルム２０の片面に１μｍ厚の離型層１１を形成した。ワックスを水により溶解した塗工液を用意し、この塗工液をキャリアフィルム２０に塗布した後、乾燥することにより行った。保護着色層１２は、離型層１１にポリエステル樹脂をアルコールにより溶解した塗工液を塗布して形成した。
【００３８】
ついで、保護着色層１２に金属層１３を形成した。金属層をアルミニウムとし、金属層１３の厚みが７０ｎｍ以下となる条件で真空蒸着を行った。金属層の厚さが２０ｎｍ未満では所望の金属光沢感がでにくい。また、金属層１３の厚さが７０ｎｍより厚いと、表面が乱反射を起こすため光沢がでにくくなるため、金属層の厚みが５０ｎｍ以下となるような条件で真空蒸着を行うことが好適であった。そこで、４０ｎｍ厚の金属層を形成した。
【００３９】
次いで、樹脂を有機溶剤に溶解させた塗工液をアルミニウム金属層１３に塗布した後、乾燥することにより、接着層１４を形成し、本実施形態の熱転写箔１００を製造した。
【００４０】
さらに、前記モルタル硬化体に熱転写し、加飾されたセメント質硬化体を次のように製造した。図２に示す熱転写装置３０は、熱転写箔をスクロールさせる一対の熱転写箔ローラ３１と、セメント質硬化体設置台（図示せず）を備えた。一対の熱転写箔ローラ３１の中間位置に、熱転写箔１００を加熱してセメント質硬化体に熱転写層１０を熱転写するためのサーマルパッド３２を設けた。図（a）、図（ｂ）は、それぞれ転写前後の作動状態を示した。サーマルパッド３２は、ガイド３３に沿って上下し、セメント質硬化体を加圧する弾力体であり、セメント質硬化体の起伏する表面形状にフィットした熱転写をおこなった。
【００４１】
熱転写時には、熱転写箔ローラ３１が回転して熱転写箔１００をスクロールさせた。そして、サーマルパッド３２が、熱転写箔１００を加熱しながら、セメント質硬化体４０に圧接させることにより、セメント質硬化体に熱転写層１０が熱転写され、加飾セメント質硬化体を製造した。熱転写箔１００とセメント質硬化体４０の間の空気は、設置台に備えた空気吸引孔（図示せず）より減圧して取り除いた。
【００４２】
得られた加飾されたセメント質硬化体は、鮮映性測定値（ＧＤ値）０．５以上の光沢膜が形成され、美麗な外観を有するものであった。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明は、意匠の自由度が高く、光沢性、鮮映性に優れ、起伏のある表面形状に沿った加飾されたセメント質硬化体を提供する等、その用途を広範囲とすることができる。
【符号の説明】
【００４４】
１０：熱転写層
１１：離型層
１２：保護着色層
１３：金属層
１４：接着層
１００：熱転写箔
２０：キャリアフィルム
３０：熱転写装置
３１：熱転写箔ローラ
３２：サーマルパッド
３３：ガイド
４０：セメント質硬化体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下であるセメント質硬化体に、金属層を、離型層を介して担持したフィルム層から熱転写して、鮮映性測定値（ＧＤ値）０．５以上の光沢膜を形成したことを特徴とする加飾されたセメント質硬化体。
【請求項２】
前記セメント質硬化体が、表面研磨をすることなく、表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下である硬化体であることを特徴とする請求項１記載の加飾されたセメント質硬化体。
【請求項３】
前記金属層が、金属蒸着層であることを特徴とする請求項１又は２記載の加飾されたセメント質硬化体。
【請求項４】
前記セメント質硬化体が、セメント１００重量部、粒径２ｍｍ以下の細骨材５０〜２５０重量部、減水剤を固形分換算で０．1〜４．０重量部、及び１０〜３０重量部の水を含む配合物を型枠に流し込んで得た硬化体であることを特徴とする請求項１乃至３記載の加飾されたセメント質硬化体。
【請求項１】
表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下であるセメント質硬化体に、金属層を、離型層を介して担持したフィルム層から熱転写して、鮮映性測定値（ＧＤ値）０．５以上の光沢膜を形成したことを特徴とする加飾されたセメント質硬化体。
【請求項２】
前記セメント質硬化体が、表面研磨をすることなく、表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下である硬化体であることを特徴とする請求項１記載の加飾されたセメント質硬化体。
【請求項３】
前記金属層が、金属蒸着層であることを特徴とする請求項１又は２記載の加飾されたセメント質硬化体。
【請求項４】
前記セメント質硬化体が、セメント１００重量部、粒径２ｍｍ以下の細骨材５０〜２５０重量部、減水剤を固形分換算で０．1〜４．０重量部、及び１０〜３０重量部の水を含む配合物を型枠に流し込んで得た硬化体であることを特徴とする請求項１乃至３記載の加飾されたセメント質硬化体。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１２−１４１２（Ｐ２０１２−１４１２Ａ）
【公開日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１４０３３９（Ｐ２０１０−１４０３３９）
【出願日】平成２２年６月２１日（２０１０．６．２１）
【出願人】（００００００２４０）太平洋セメント株式会社 (1,449)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年６月２１日（２０１０．６．２１）
【出願人】（００００００２４０）太平洋セメント株式会社 (1,449)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]