基板処理装置
【課題】開口を通過する基板の汚染を、より効果的に防止することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】シャッタ機構１９は、開口１７を覆うことができる第１シャッタ２０と、側壁２Ａにおける開口１７の上部分である上部領域ＡＵを覆うことができる第２シャッタ２１と、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１を昇降させる第１移動機構３０とを備えている。第１移動機構３０は、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１を、第１シャッタ２０が開口１７を閉塞し、第２シャッタ２１が上部領域２ＡＵの大部分を覆う閉状態と、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１がパスラインＰＬよりも下方に退避する開状態との間で、鉛直姿勢を維持させつつ昇降させることができる。
【解決手段】シャッタ機構１９は、開口１７を覆うことができる第１シャッタ２０と、側壁２Ａにおける開口１７の上部分である上部領域ＡＵを覆うことができる第２シャッタ２１と、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１を昇降させる第１移動機構３０とを備えている。第１移動機構３０は、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１を、第１シャッタ２０が開口１７を閉塞し、第２シャッタ２１が上部領域２ＡＵの大部分を覆う閉状態と、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１がパスラインＰＬよりも下方に退避する開状態との間で、鉛直姿勢を維持させつつ昇降させることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理液による処理を基板に施すための基板処理装置に関する。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板等が含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示装置の製造工程では、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板等の基板の表面に処理液による処理を施すために、基板を１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置が用いられることがある。
枚葉式の基板処理装置は、処理チャンバ内に、基板を水平な姿勢に保持して回転させるスピンチャックと、基板の表面に処理液を供給するためのノズルとを備えている。処理チャンバの側壁には、基板が通過可能な開口が形成されている。処理対象の基板は、開口を介して処理チャンバ内に搬入され、スピンチャックに保持される。その後、スピンチャックにより基板が回転されつつ、その基板の表面にノズルから処理液が供給される。こうして、基板の表面に対する処理液による処理が行われる。そして、処理が施された後の基板は、処理チャンバから開口を介して搬出される。
【０００３】
基板の処理中には、回転中の基板に処理液が供給されるので、その処理液が基板の周囲に飛散する。基板から飛散する処理液は、処理チャンバの側壁の内面における開口の上方の部分にも付着する。この部分に付着した処理液は、側壁の内面を伝って開口に向かって流下し、開口の上端縁から滴り落ちるため、開口を通過する処理後の基板に付着して、基板を汚染するおそれがある。
【０００４】
そこで、このような基板の汚染を防止するための構成が提案されている（たとえば、特許文献１，２参照）。
特許文献１では、洗浄液を吐出する洗浄液吐出ノズルを処理チャンバ内に設け、洗浄液吐出ノズルからの洗浄液によって、側壁における開口の上方の部分に付着した処理液を洗い流すことが提案されている。
【０００５】
特許文献２では、側壁における開口の上方の部分に、上方から落下してくる処理液の液滴を受け止めるための樋を設けることが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−１０７０００号公報
【特許文献２】特開平１０−１６３１６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、特許文献１で提案されている構成では、洗浄液を用いて洗浄するため、洗浄後に側壁からの洗浄液の除去が不十分であると、この洗浄液の液滴が基板上に落下するおそれがある。
一方、特許文献２で提案されている構成では、樋の壁面に処理液が付着し、この処理液が液滴となって基板上に落下するおそれがある。
【０００８】
したがって、特許文献１および２のいずれの構成であっても、開口を通過する際の基板の汚染を確実に防止することはできなかった。
そこで、この発明の目的は、開口を通過する際の基板の汚染を防止することができる基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、側壁（２）により取り囲まれて、処理液を用いた処理を基板（Ｗ）に対して施すための処理チャンバ（３）と、前記側壁に形成されて、前記処理チャンバに対して基板を搬出または搬入する際に基板が通過する開口（１７）と、前記開口を閉塞するための第１シャッタ（２０；２０Ａ；２０Ｂ）と、前記側壁および前記第１シャッタに対して相対変位可能に設けられて、前記側壁における前記開口の上方の部分（２ＡＵ）を覆うための第２シャッタ（２１；２１Ａ；２１Ｂ；２１Ｃ）と、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタを、前記第１シャッタが前記開口を閉塞するとともに前記第２シャッタが前記側壁における前記開口の上方の部分を覆う閉状態と、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタが前記開口における前記基板の通過位置（ＰＬ）の下方へ退避し、前記開口を開放する開状態との間で移動させる移動機構（３０；４０；５０）とを含む、基板処理装置（１；１００；２００；３００）である。
【００１０】
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
この構成によれば、第１シャッタおよび第２シャッタの閉状態では、開口が第１シャッタにより閉塞され、側壁における開口の上方の部分が第２シャッタにより覆われる。そして、その閉状態で、処理チャンバ内において、処理液を用いた処理が基板に行われる。このため、基板から飛散する処理液は、第１シャッタおよび第２シャッタの内面に付着しても、側壁における開口の上方の部分には付着しない。
【００１１】
そして、第１シャッタおよび第２シャッタの開状態では、第１シャッタおよび第２シャッタが開口における基板の通過位置の下方に退避する。したがって、第１シャッタおよび第２シャッタの内面に付着した処理液が、開口を通過する基板上に落下することはない。また、側壁における開口の上部の部分には処理液が付着していないので、その部分から開口を通過する基板上に処理液が落下することもない。よって、開口を通過する基板の汚染を、防止することができる。
【００１２】
請求項２記載の発明は、前記移動機構は、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタを、前記開口が形成された前記側壁と平行をなす姿勢を維持させつつスライド移動させるスライド移動機構（３０；４０）である、請求項１に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第１シャッタおよび第２シャッタを、開状態と閉状態との間を、開口が形成された側壁と平行をなす姿勢を維持しながらスライド移動させることができる。よって、第１シャッタおよび第２シャッタの開閉時に、第１シャッタおよび第２シャッタの内面に付着した処理液が側方に飛散するのを抑えることができる。
【００１３】
請求項３記載の発明は、前記スライド移動機構は、上下方向に進出／没入可能な第１ロッド（３４）を有し、前記第１ロッドが前記第１シャッタに固定された第１シリンダ（３３）と、前記第１ロッドに取り付けられたシリンダ支持部材（３５，３６）と、前記シリンダ支持部材に支持され、上下方向に進出／没入可能な第２ロッド（３２）を有し、前記第２ロッドが前記第２シャッタに固定された第２シリンダ（３１）とを含む、請求項２に記載の基板処理装置である。
【００１４】
この構成によれば、第１シリンダの第１ロッドおよび第２シリンダの第２ロッドをともに進出させることにより、第１シャッタを上方へ移動させて、開口を第１シャッタで閉塞することができ、第１シャッタに対して第２シャッタをさらに上方へ移動させて、側壁における開口の上方の部分を第２シャッタで覆うことができる。一方、第１シリンダの第１ロッドおよび第２シリンダの第２ロッドをともに没入させることにより、第１シャッタおよび第２シャッタを基板の通過位置の下方へ退避させることができる。
【００１５】
請求項４記載の発明は、前記スライド移動機構は、上下方向に進出／没入可能な第１ロッド（４４）を有し、前記第１ロッドが前記第１シャッタに固定された第１シリンダ（４３）と、前記第１シャッタに固定されたプーリと、一端（４１Ａ）が前記側壁における前記開口の下方の部分に固定され、前記プーリの周面に巻き掛けられてＵ字状をなし、他端（４１Ｂ）が前記第２シャッタに固定されたベルト（４１）とを含む、請求項２に記載の基板処理装置である。
【００１６】
この構成によれば、ベルトがプーリの周面に巻き掛けられてＵ字状をなし、一端が側壁における開口の下方の部分に固定されるとともに、他端が第２シャッタに固定される。また、このプーリは、第１シャッタに固定されている。
第１シャッタのスライド方向への移動に伴って、プーリとベルトの一端との間の距離、およびプーリとベルトの他端との間の距離が変わる。ベルトの他端が第２シャッタに固定されているので、第１シャッタの移動に連動して、第２シャッタを移動させることができる。これにより、第２シャッタのみを駆動する機構を省略することができ、コストダウンを図ることができる。
【００１７】
請求項５記載の発明は、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタの互いに近い側の端部（２８Ａ，２９Ｂ）が、前記開口が形成されている前記側壁と平行な回動軸（２５，２７）まわりに回動可能に連結されており、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタの互いに遠い側の端部（２８Ｂ，２９Ａ）が、前記回動軸と直交し、前記開口が形成されている前記側壁と平行なスライド方向に移動可能であり、前記移動機構が、前記第１シャッタと前記第２シャッタとの連結部分（２４）を、前記回動軸および前記スライド方向と直交する方向に移動させる直交移動機構（５０）を含む、請求項１に記載の基板処理装置である。
【００１８】
この構成によれば、閉状態にある第１シャッタおよび第２シャッタがスライド方向と直交する方向の一方側に移動されると、第１シャッタおよび第２シャッタが回動軸まわりに回動されて、第１シャッタおよび第２シャッタがスライド方向に関して重なるように折り畳まれるようになる。これにより、開口を開放させることができる。
また、逆に、開状態にある第１シャッタおよび第２シャッタがスライド方向と直交する方向の他方側に移動されると、第１シャッタおよび第２シャッタが回動軸まわりに回動されて、第１シャッタにより開口が閉塞される。
【００１９】
請求項６記載の発明は、前記第２シャッタの上部には、前記処理チャンバの内方に向けて突出する庇部（６０）が形成されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、基板への処理時には、第２シャッタが側壁における開口の上方の部分を覆っている。そして、第２シャッタの上部には、庇部が形成されている。これにより、第２シャッタの高さを低く抑えながら、側壁における開口の上方の部分に処理液が付着することを、高さ方向においてより広範囲で防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態（第１実施形態）に係る基板処理装置の構成を模式的に示す断面図である。
【図２】第１シャッタおよび第２シャッタが閉状態であるときの処理チャンバの開口付近の図である。
【図３】第１シャッタおよび第２シャッタが開状態であるときの処理チャンバの開口付近の図である。
【図４】本発明の他の実施形態（第２実施形態）に係る基板処理装置の処理チャンバの開口付近の断面図である。
【図５】本発明のさらに他の実施形態（第３実施形態）に係る基板処理装置の処理チャンバの開口付近の断面図である。
【図６】本発明のさらに他の実施形態（第４実施形態）に係る基板処理装置の処理チャンバの要部の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態（第１実施形態）に係る基板処理装置１の構成を模式的に示す断面図である。
基板処理装置１は、たとえば基板の一例としての半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」という。）Ｗの表面に薬液および純水による処理を施すための枚葉式の装置である。
【００２２】
この基板処理装置１は、複数の側壁２によって取り囲まれた処理チャンバ３を有している。処理チャンバ３には、ウエハＷをほぼ水平に保持するとともに、その中心を通るほぼ鉛直な回転軸線方向まわりにウエハＷを回転させるスピンチャック４と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に対して処理液としての薬液を供給するための薬液ノズル５と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に対して処理液としての純水（deionized water：脱イオン化された水）を供給するための純水ノズル６と、ウエハＷから流下または飛散する薬液や純水を受け止めるための有底容器状のカップ７０とが収容されている。
【００２３】
スピンチャック４は、モータ７と、このモータ７の回転駆動力によって鉛直軸線まわりに回転される円盤状のスピンベース８と、スピンベース８の周縁部の複数箇所にほぼ等間隔で設けられ、ウエハＷをほぼ水平な姿勢で挟持するための複数個の挟持部材９とを備えている。これにより、スピンチャック４は、複数個の挟持部材９によってウエハＷを挟持した状態で、モータ７の回転駆動力によってスピンベース８を回転させることにより、そのウエハＷを、ほぼ水平な姿勢を保った状態で、スピンベース８とともに鉛直軸線まわりに回転させることができる。
【００２４】
薬液ノズル５は、スピンチャック４の上方でほぼ水平に延びるノズルアーム１０の先端に取り付けられている。このノズルアーム１０は、スピンチャック４の側方でほぼ鉛直に延びたアーム支持軸１１に支持されている。また、アーム支持軸１１には、ノズル駆動機構１２が結合されており、このノズル駆動機構１２の駆動力によって、アーム支持軸１１を回動させて、ノズルアーム１０を揺動させることができるようになっている。
【００２５】
薬液ノズル５には、薬液供給管１３が接続されており、薬液供給源からの薬液が薬液供給管１３を通して供給されるようになっている。薬液供給管１３の途中部には、薬液ノズル５への薬液の供給および供給停止を切り換えるための薬液バルブ１４が介装されている。
薬液ノズル５から吐出される薬液として、ＳＣ１（アンモニア過酸化水素水混合液）、ＳＣ２（塩酸過酸化水素水混合液）、ＳＰＭ（sulfuric acid／hydrogen peroxide mixture：硫酸過酸化水素水混合液）、フッ酸、バファードフッ酸（Buffered HF：フッ酸とフッ化アンモニウムとの混合液）、塩酸、リン酸、酢酸、アンモニア、過酸化水素水、クエン酸、蓚酸およびＴＭＡＨなどを例示することができる。
【００２６】
純水ノズル６は、スピンチャック４の上方で、吐出口をウエハＷの中央部に向けて配置されている。この純水ノズル６には、純水供給管１５が接続されており、純水供給源からの処理液としての純水が純水供給管１５を通して供給されるようになっている。純水供給管１５の途中部には、純水ノズル６への純水の供給および供給停止を切り換えるための純水バルブ１６が介装されている。
【００２７】
なお、薬液ノズル５は、いわゆるスキャンノズルの形態である必要はなく、スピンチャック４に対して固定的に配置された構成であってもよい。
カップ７０は、スピンチャック４を収容している。カップ７０には、このカップ７０を処理位置（図１で二点鎖線にて図示）と処理位置よりも下方にあるスピンドライ位置（図１で実線にて図示）との間で昇降させるためのカップ昇降駆動機構１８が結合されている。処理位置では、カップ７０はスピンチャック４に保持されたウエハＷの周囲を取り囲み、ウエハＷの周縁部から飛散する薬液および純水はカップ７０に受け止められる。一方、スピンドライ位置では、カップ７０はスピンチャック４の側方から下方に退避する。
【００２８】
側壁２Ａ（複数の側壁２のうちの１つ）には、処理チャンバ３内に対してウエハＷを搬入および搬出するための開口１７が形成されている。ウエハＷの搬入および搬出の際には、処理チャンバ３外で開口１７に対向する搬送ロボットＴＲが、開口１７を通して処理チャンバ３内にハンドをアクセスさせる。これにより、スピンチャック４上に未処理のウエハＷを載置したり、スピンチャック４上から処理済のウエハＷを取り除いたりすることができる。この処理チャンバ３内に搬入または搬出されるウエハＷは、パスラインＰＬ（開口１７におけるウエハＷの通過位置）を通過する。この開口１７は、シャッタ機構１９によって開閉される。
【００２９】
シャッタ機構１９は、開口１７を覆うことができる第１シャッタ２０と、側壁２Ａにおける開口１７の上方の部分（以下、「上部領域」という。）２ＡＵを覆うことができる第２シャッタ２１と、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１を、鉛直姿勢を維持させつつ昇降させる第１移動機構（スライド移動機構）３０（図２参照）とを備えている。
図２は、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が閉状態であるときの処理チャンバ３の開口１７付近の図である。図３は、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が開状態であるときの処理チャンバ３の開口１７付近の図である。図２（ａ）および図３（ａ）は、開口１７を処理チャンバ３の外側から見た正面図である。図２（ｂ）は、図２（ａ）の切断面線II−IIから見た断面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）の切断面線III−IIIから見た断面図である。
【００３０】
開口１７は、正面視で横長の略長方形状に形成されている。開口１７の上辺および下辺は水平方向に沿って形成され、開口１７の両側辺（左辺および右辺）は鉛直方向に沿って形成されている。
第１シャッタ２０（図２（ａ）および図３（ａ）にて太字の破線で図示）は、開口１７の全域を覆うことができる大きさに形成された略長方形状の平板であり、側壁２Ａの内側に配置されている。第１シャッタ２０の上辺部からは、後述する第１ロッド３４に連結するための連結部２２が、側壁２Ａ側に向けて突出している。
【００３１】
第２シャッタ２１（図２（ａ）および図３（ａ）にて太字の二点鎖線で図示）は、上部領域２ＡＵのほぼ全域を覆うことができる大きさに形成された略長方形状の板材であり、第１シャッタ２０よりも内側に配置されている。第２シャッタ２１の上部には、後述する第２ロッド３２に連結するための連結部２３が、側壁２Ａ側に向けて突出している。
第１移動機構３０は、第１シリンダ３３と、シリンダ支持部材としての接続板３５およびシリンダ支持板３６と、第２シリンダ３１とを備えている。これら第１シリンダ３３および第２シリンダ３１は、側壁２Ａの外方で、側壁２Ａに沿う方向に並んでいる。
【００３２】
第１シリンダ３３は、鉛直方向に進出／没入可能な第１ロッド３４を有している。この第１シリンダ３３は、第１ロッド３４を上方に向けている。第１シリンダ３３の本体は、側壁２Ａの外面に固定されている。第１ロッド３４の上端部には、第１シャッタ２０の連結部２２が固定されている。これにより、第１ロッド３４と第１シャッタ２０とが固定されて、第１シャッタ２０が第１シリンダ３３によって鉛直姿勢に保持される。
【００３３】
第１ロッド３４の先端部には、側面視倒立略Ｌ字状の接続板（シリンダ支持部材）３５が取り付けられている。この接続板３５の先端（下端）には、水平方向に延びるシリンダ支持板（シリンダ支持部材）３６が支持されている。このシリンダ支持部材３５，３６には、第２シリンダ３１が保持されている。
第２シリンダ３１は、鉛直方向に進出／没入可能な第２ロッド３２を有している。この第２シリンダ３１は、第２ロッド３２を上方に向けている。第２シリンダ３１の本体は、シリンダ支持板３６に固定されている。第２ロッド３２の上端部には、第２シャッタ２１の連結部２３が固定されている。これにより、第２ロッド３２と第２シャッタ２１とが固定されて、第２シャッタ２１が第２シリンダ３１によって鉛直姿勢に保持される。
【００３４】
第２シリンダ３１がシリンダ支持板３５，３６を介して第１シリンダ３３に支持されている。このため、第２シャッタ２１を、第１シリンダ３３のストローク量と第２シリンダ３１のストローク量とを併せたストローク量で昇降させることができる。このため、第２シャッタ２１を第２シリンダ３１のみで昇降させる場合と比較して、小型の第２シリンダ３１を採用することができる。これにより、第２シリンダ３１の大型化を防ぐことができる。
【００３５】
第１シャッタ２０および第２シャッタ２１は、図２に示す閉状態と、図３に示す開状態との間で昇降可能にされている。図２に示す閉状態では、第１シャッタ２０は開口１７を閉塞し、第２シャッタ２１は上部領域２ＡＵの大部分を覆う。図３に示す開状態では、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１は、パスラインＰＬよりも下方に退避して、鉛直姿勢を維持しつつ、水平方向に関して重なっている。これにより、開口１７の大部分が開放される。
【００３６】
第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が開かれるタイミングとなると、第１ロッド３４が第１シリンダ３３の本体に没入されるとともに、第２ロッド３２が第２シリンダ３１の本体に没入される。これら第１ロッド３４および第２ロッド３２の没入により、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が、パスラインＰＬよりも下方に退避して、開状態（図３参照）まで下降する。
【００３７】
第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が閉じられるタイミングとなると、第１ロッド３４が第１シリンダ３３の本体に対して進出されるとともに、第２ロッド３２が第２シリンダ３１の本体に対して進出される。これら第１ロッド３４および第２ロッド３２の進出により、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が、閉状態（図２参照）まで上昇する。
【００３８】
図１を再び参照して、この基板処理装置１におけるウエハＷの処理について説明する。
ウエハＷの処理に際して、第１シリンダ３３および第２シリンダ３１が駆動されて、閉状態の第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が開状態にされる。その後、搬送ロボットＴＲによって、未処理のウエハＷが開口１７を通って処理チャンバ３内に搬入されて、その表面を上方に向けた状態でスピンチャック４に保持される。搬送ロボットＴＲのハンドが処理チャンバ３外に退避した後、第１シリンダ３３および第２シリンダ３１が駆動されて、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が閉状態にされる。なお、このウエハＷの搬入時においては、その搬入の妨げにならないように、カップ７０はスピンドライ位置（図１で実線にて図示）に下げられている。
【００３９】
ウエハＷの保持後、モータ７が駆動されて、スピンチャック４によるウエハＷの回転が開始され、ウエハＷの回転速度が所定の液処理速度（たとえば１５００ｒｐｍ）まで上げられる。また、カップ昇降駆動機構１８が駆動されて、カップ７０がスピンドライ位置から処理位置（図１で二点鎖線にて図示）まで上昇される。さらに、ノズル駆動機構１２が制御されてノズルアーム１０が回動し、薬液ノズル５がスピンチャック４の側方の退避位置からウエハＷの上方位置へと移動される。
【００４０】
ウエハＷの回転速度が液処理速度に達すると、薬液バルブ１４が開かれて、薬液ノズル５からウエハＷの表面に向けて薬液が供給される。また、ノズル駆動機構１２が駆動されて、ノズルアーム１０が所定の角度範囲内で揺動される。これによって、薬液ノズル５からの薬液が導かれるウエハＷの表面上の供給位置は、ウエハＷの回転中心からウエハＷの周縁部に至る範囲内を、ウエハＷの回転方向と交差する円弧状の軌跡を描きつつ往復移動する。
【００４１】
ウエハＷの表面に供給された薬液は、ウエハＷの回転による遠心力によって、ウエハＷの周縁から側方に向けて飛散し、ウエハＷの周囲を取り囲むカップ７０の内壁に受け止められる。そして、カップ７０の内壁を伝って底部に集められ、廃液ライン（図示しない）へと送られ、廃液設備（図示しない）へ導かれる。
薬液の種類によってはウエハＷの表面で薬液が激しく反応し、ウエハＷからの薬液が、ウエハＷの周囲を取り囲むカップ７０の外方に飛散することがある。しかし、上部領域２ＡＵが第２シャッタ２１によって覆われているので、ウエハＷから飛散する薬液が上部領域２ＡＵに付着することはない。
【００４２】
薬液供給位置の往復運動が所定回数行われると、薬液バルブ１４が閉じられて、薬液ノズル５からの薬液の供給が停止されるとともに、ノズル駆動機構１２が制御されてノズルアーム１０が回動し、薬液ノズル５は、ウエハＷの上方位置からスピンチャック４の側方の退避位置に退避される。
薬液ノズル５が退避されると、純水バルブ１６が開かれて、純水ノズル６から回転状態にあるウエハＷの表面の回転中心に向けて純水が吐出される。ウエハＷの表面に供給された純水は、ウエハＷの回転による遠心力によって、ウエハＷの周縁に向けて流れる。これにより、ウエハＷの表面に付着している薬液が純水によって洗い流される。ウエハＷの周縁に向けて流れる純水は、ウエハＷの周縁から側方へ飛散する。ウエハＷの周縁から飛散する純水（ウエハＷから洗い流された薬液を含む）は、ウエハＷの端面に対向しているカップ７０の内壁に受け止められた後、底部に集められ、廃液ライン（図示しない）へと送られ、廃液設備（図示しない）へ導かれる。
【００４３】
純水の供給開始から所定のリンス時間が経過すると、純水バルブ１６が閉じられて、ウエハＷへの純水の供給が停止される。その後、カップ昇降駆動機構１８が駆動されて、カップ７０が処理位置（図１で二点鎖線にて図示）からスピンドライ位置（図１で実線にて図示）に下げられる。このスピンドライ位置では、カップ７０がスピンチャック４に保持されたウエハＷの側方から下方に退避している。また、ウエハＷの回転速度がスピンドライ回転速度（たとえば３０００ｒｐｍ）に上げられる。これにより、リンス処理後のウエハＷの表面に付着している純水を遠心力で振り切って乾燥させるスピンドライ処理が実施される。上部領域２ＡＵが第２シャッタ２１によって覆われているので、ウエハＷから飛散する純水は、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の内面に付着し、上部領域２ＡＵには付着しない。これにより、上部領域２ＡＵに純水が付着することを防止することができる。
【００４４】
スピンドライ処理が所定のスピンドライ時間にわたって行われると、スピンチャック４の回転が停止される。その後、第１シリンダ３３および第２シリンダ３１が駆動されて、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が閉状態から開状態まで下降される。第２シャッタ２１の下降に伴って上部領域２ＡＵが露出されるが、この上部領域２ＡＵには薬液および純水は付着していない。
【００４５】
そして、処理済のウエハＷが搬送ロボットＴＲによって搬出される。このウエハＷの搬出と同時に、搬送ロボットＴＲによって次のウエハＷが搬入される。
以上により、この実施形態によれば、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の閉状態では、開口１７が第１シャッタ２０により閉塞され、上部領域２ＡＵが第２シャッタ星により覆われる。そして、その閉状態で、処理チャンバ３内において、薬液および純水を用いた処理がウエハＷに行われる。このため、ウエハＷから飛散する薬液および純水は、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の内面に付着しても、上部領域２ＡＵには付着しない。
【００４６】
そして、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の開状態では、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１がパスラインＰＬの下方に退避する。したがって、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の内面に付着した薬液および純水が、開口１７を通過するウエハＷ上に落下することはない。また、上部領域２ＡＵには薬液および純水が付着していないので、その上部領域２ＡＵから開口１７を通過するウエハＷ上に薬液および純水が落下することもない。よって、開口１７を通過するウエハＷの汚染を、防止することができる。
【００４７】
また、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１を、開状態と閉状態との間を、鉛直姿勢を維持しながらスライド移動させることができる。よって、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の開閉時に、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の内面に付着した薬液および純水が側方に飛散するのを抑えることができる。
図４は、本発明の他の実施形態（第２実施形態）に係る基板処理装置１００の処理チャンバ３の開口１７付近の断面図である。図４（ａ）は、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａが閉状態であるときを示し、図４（ｂ）は、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａが開状態であるときを示している。この図４において、前述の図１〜図３の実施形態（第１実施形態）に示された各部に対応する部分には、図１〜図３の場合と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
【００４８】
第２実施形態では、第１移動機構３０に代えて、ベルト４１、プーリ４２および第１シリンダ４３を備えた第２移動機構（スライド移動機構）４０を備えている。第２移動機構４０は、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａを、鉛直姿勢を維持させつつ昇降させる。
第１シャッタ２０Ａは、開口１７の全域を覆うことができる大きさに形成された略長方形状の平板であり、側壁２Ａの内側に配置されている。第１シャッタ２０Ａの上部には、後述する第１ロッド４４に連結するための連結部２２Ａが、側壁２Ａ側に向けて突出している。第１シャッタ２０Ａの上端には、複数（この実施形態では２個）のプーリ４２が固定されている。これらのプーリ４２は、第１シャッタ２０Ａの長手方向の両端部に配置されている。各プーリ４２は、側壁２Ａに平行で水平な軸まわりに回転可能に設けられている。
【００４９】
第２シャッタ２１Ａは、上部領域２ＡＵのほぼ全域を覆うことができる大きさに形成された略長方形状の板材であり、第１シャッタ２０Ａよりも内側に配置されている。この第２シャッタ２１Ａは、鉛直姿勢を維持しながら鉛直方向にスライド可能に構成されている
各ベルト４１は、第１シャッタ２０Ａと側壁２Ａとの間に掛け渡されて、プーリ４２の周面に巻き掛けられてＵ字状をなしている。具体的には、ベルト４１の一端４１Ａは、側壁２Ａにおける開口１７の下辺部１７Ａに固定されている。また、ベルト４１の他端４１Ｂは、第２シャッタ２１Ａの下端部に固定されている。
【００５０】
第１シリンダ４３は、鉛直方向に進出／没入可能な第１ロッド４４を有している。この第１シリンダ４３は、第１ロッド４４を上方に向けている。第１シリンダ４３の本体は、側壁２Ａの外面に固定されている。第１ロッド４４の上端部には、第１シャッタ２０Ａの連結部２２Ａが固定されている。これにより、第１ロッド４４と第１シャッタ２０Ａとが固定されて、第１シャッタ２０Ａが第１シリンダ４３によって鉛直姿勢に保持される。そして、第１シャッタ２０Ａおよびプーリ４２は第１ロッド４４の昇降動作に伴って、鉛直姿勢を維持しつつ昇降する。
【００５１】
第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａは、図４（ａ）に示す閉状態と、図４（ｂ）に示す開状態との間で昇降可能にされている。閉状態では、第１シャッタ２０Ａは開口１７を閉塞し、第２シャッタ２１Ａは、上部領域２ＡＵの大部分を覆う。一方、開状態では、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１ＡはパスラインＰＬよりも下方に退避して、鉛直姿勢を維持しつつ、水平方向に関して重なっている。これにより、開口１７の大部分が開放される。
【００５２】
第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａが開かれるタイミングとなると、第１ロッド４４が本体に没入される。この第１ロッド４４の没入により、第１シャッタ２０Ａおよびプーリ４２が下降する。そして、第１シャッタ２０Ａの下降に従って、プーリ４２とベルト４１の一端４１Ａとの間の距離が縮まり、プーリ４２とベルト４１の他端部との間の距離が広がる。このため、ベルト４１の他端４１Ｂが固定される第２シャッタ２１Ａは下降する。このときの第２シャッタ２１Ａの下降量は、第１シャッタ２０Ａの下降量の約２倍になる。そして、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａは、開状態（図４（ｂ）参照）に達するまで下降される。
【００５３】
第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａが閉じられるタイミングとなると、第１ロッド４４が本体に対して進出される。この第１ロッド４４の進出により、第１シャッタ２０Ａが上昇する。そして、第１シャッタ２０Ａの上昇に従って、プーリ４２とベルト４１の一端４１Ａとの間の距離が広がり、プーリ４２とベルト４１の他端４１Ｂとの間の距離が縮まる。このため、ベルト４１の他端４１Ｂが固定される第２シャッタ２１Ａは上昇する。このときの第２シャッタ２１Ａの上昇量は、第１シャッタ２０Ａの上昇量の約２倍になる。そして、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａは、閉状態（図４（ａ）参照）に達するまで上昇される。
【００５４】
以上により、この第２実施形態によれば、第１シャッタ２０Ａの昇降に伴って、プーリ４２とベルト４１の一端４１Ａとの間の距離、およびプーリ４２とベルト４１の他端４１Ｂとの間の距離が変わる。ベルト４１の他端４１Ｂが第２シャッタ２１Ａに固定されているので、第１シャッタ２０Ａの移動に連動して、第２シャッタ２１Ａを移動させることができる。これにより、第２シャッタ２１Ａを駆動する機構を省略することができ、コストダウンを図ることができる。
【００５５】
また、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａの閉動作における第２シャッタ２１Ａの上昇量を、第１シャッタ２０Ａの上昇量の２倍とすることができ、また、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａの開動作における第２シャッタ２１Ａの下降量を第１シャッタ２０Ａの下降量の２倍とすることができる。このため、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａを、開口１７を第１シャッタ２０Ａが閉塞し、上部領域２ＡＵを第２シャッタ２１Ａが覆う閉状態と、パスラインＰＬの下方に退避して、水平方向に関して重なる開状態との間で昇降させることができる。
【００５６】
図５は、本発明のさらに他の実施形態（第３実施形態）に係る基板処理装置２００の処理チャンバ３の開口１７付近の断面図である。図５（ａ）は、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが閉状態であるときを示し、図５（ｂ）は、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが開状態から閉状態への移動途中状態を示している。図５（ｃ）は、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが開状態であるときを示している。
【００５７】
この図５において、前述の図１〜図３の実施形態（第１実施形態）に示された各部に対応する部分には、図１〜図３の場合と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
第３実施形態が、第１実施形態と大きく相違する点は、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが折り畳み可能に構成されている点にある。
具体的には、第１シャッタ２０Ｂの上端部（第１シャッタ２０Ｂにおける第２シャッタ２１Ｂに近い側の端部）２８Ａと第２シャッタ２１Ｂの下端部（第２シャッタ２１Ｂにおける第１シャッタ２０Ｂに近い側の端部）２９Ｂとが連結板（第１シャッタ２０Ｂと第２シャッタ２１Ｂとの連結部分）２４を介して連結されている。第１シャッタ２０Ｂの上端部２８Ａと連結板２４の下辺とは、側壁２Ａに沿う水平方向に延びる第１回動軸２５を介して連結されている。そのため、連結板２４には、第１シャッタ２０Ｂが第１回動軸２５まわりに回動可能に連結されている。そして、第１シャッタ２０Ｂの下端部（第１シャッタ２０Ｂにおける第２シャッタ２１Ｂに遠い側の端部）２８Ｂは、溝カムやリンク機構などの案内機構２６によって、水平移動が規制されており、上下動しか許容されていない。
【００５８】
また、第２シャッタ２１Ｂの下端部２９Ｂと連結板２４の上辺とは、側壁２Ａに沿う水平方向に延びる第２回動軸２７を介して連結されている。そのため、連結板２４には、第２シャッタ２１Ｂが第２回動軸２７まわりに回動可能に連結されている。そして、第２シャッタ２１Ｂの上端部（第２シャッタ２１Ｂにおける第１シャッタ２０Ｂに遠い側の端部）２９Ａは、第１シャッタ２０Ｂの下端部２８Ｂと同様、溝カムやリンク機構などの案内機構２６によって、水平移動が規制されており、上下動しか許容されていない。
【００５９】
第１シャッタ２０Ｂは、開口１７のほぼ全域を覆うことができる大きさに形成された略長方形状の平板であり、側壁２Ａの内側に配置されている。
第２シャッタ２１Ｂは、上部領域２ＡＵのほぼ全域を覆うことができる大きさに形成された略長方形状の平板であり、側壁２Ａの内側に配置されている。
第１シャッタ２０Ｂ、第２シャッタ２１Ｂおよび連結板２４は、第３移動機構（直交移動機構）５０によって移動される。
【００６０】
第３移動機構５０は、連結板２４を水平移動させるための水平移動シリンダ５１と、水平移動シリンダ５１を支持するとともに、この水平移動シリンダ５１を昇降させるための昇降シリンダ５２とを備えている。これら水平移動シリンダ５１および昇降シリンダ５２は、側壁２Ａの外方に配置されている。
水平移動シリンダ５１は、側壁２Ａに直交する水平方向に進出／没入可能な水平移動ロッド５３を有している。この水平移動シリンダ５１は、水平移動ロッド５３を側壁２Ａに向けている。すなわち、水平移動シリンダ５１の水平移動ロッド５３が側壁２Ａに直交する方向に沿って出没する。水平移動ロッド５３の先端部は、連結板２４に固定されている。
【００６１】
昇降シリンダ５２は、鉛直方向に進出／没入可能な昇降ロッド５４を有している。この昇降シリンダ５２は、昇降ロッド５４を上方に向けている。昇降シリンダ５２の本体は、側壁２Ａの外面に固定されている。昇降ロッド５４の先端部には、水平移動シリンダ５１の本体が固定されている。
第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂは、図５（ａ）に示す閉状態と、図５（ｃ）に示す開状態との間でその全体姿勢を変形することが可能にされている。図５（ａ）に示す閉状態では、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが、側壁２Ａに平行な鉛直姿勢で上下に並べられている。第１シャッタ２０Ｂは開口１７を閉塞し、第２シャッタ２１Ｂは、上部領域２ＡＵの大部分を覆う。一方、図５（ｃ）に示す開状態では、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが、パスラインＰＬよりも下方の退避位置で、上下方向に関して重なるように折り畳まれている。第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂは、全体として側面視コ字状をなし、開口１７の大部分が開放される。
【００６２】
第１シャッタ２０Ｂと連結板２４との連結部分には、第１シャッタ２０Ｂが連結板２４と同一の方向に延びるように弾力付勢するねじりコイルばねなどの第１付勢部材５５（図５（ｂ）参照）が取り付けられている。また、第２シャッタ２１Ｂと連結板２４との連結部分には、第２シャッタ２１Ｂが連結板２４と同一の方向に延びるように弾力付勢するねじりコイルばねなどの第２付勢部材５６（図５（ｂ）参照）が取り付けられている。
【００６３】
第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが開かれるタイミングとなると、水平移動シリンダ５１の水平移動ロッド５３が本体から進出されて、連結板２４が側壁２Ａから離反する方向（処理チャンバ３の外側から内側へ向かう方向）へ向けて水平移動される。第１シャッタ２０Ｂの下端部２８Ｂが上下動しか許容されていないので、連結板２４の側壁２Ａからの離反に伴って、第１シャッタ２０Ｂが第１回動軸２５まわりに回動して、第１シャッタ２０Ｂの下端部２８Ｂが上昇される。また、第２シャッタ２１Ｂの上端部２９Ａが上下動しか許容されていないので、連結板２４の側壁２Ａからの離反に伴って、第２シャッタ２１Ｂが第２回動軸２７まわりに回動して、第２シャッタ２１Ｂの上端部２９Ａが下降される。このため、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが、上下方向に関して重なるように折り畳まれる（図５（ｂ）参照）。そして、水平移動ロッド５３が進出位置まで進出されると、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが全体として側面視コ字状をなし、開口１７が開放される。
【００６４】
その後、昇降シリンダ５２の昇降ロッド５４が本体に没入される。この昇降ロッド５４の没入により、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが、パスラインＰＬよりも下方に退避して、開状態（図５（ｃ）参照）まで下降する。
一方、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが閉じられるタイミングとなると、昇降ロッド５４が昇降シリンダ５２の本体に対して進出される。この昇降ロッド５４の進出により、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが折り畳み姿勢のまま上昇される。
【００６５】
第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが所定の高さ位置まで上昇されると、水平移動シリンダ５１の水平移動ロッド５３が本体に没入されて、連結板２４が側壁２Ａに接近する方向（処理チャンバ３の内側から外側に向かう方向）へ向けて水平移動される。第１シャッタ２０Ｂの下端部２８Ｂが上下動しか許容されていないので、連結板２４の側壁２Ａへの接近に伴って、第１シャッタ２０Ｂが第１回動軸２５まわりに回動して、第１シャッタ２０Ｂの下端部２８Ｂが下降される。また、第２シャッタ２１Ｂの上端部２９Ａが上下動しか許容されていないので、連結板２４の側壁２Ａへの接近に伴って、第２シャッタ２１Ｂが第２回動軸２７まわりに回動して、第２シャッタ２１Ｂの上端部２９Ａが上昇される。そして、水平移動ロッド５３が没入位置まで没入されると、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが上下に鉛直姿勢で並べられて、開口１７が閉塞される（図５（ａ）参照）。
【００６６】
また、第１付勢部材５５および第２付勢部材５６により、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが、互いに同一の方向に延びるように付勢されているので、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂの開状態から閉状態への移行をスムーズに行うことができる。
図６は、本発明のさらに他の実施形態（第４実施形態）に係る基板処理装置３００の処理チャンバ３の要部の断面図である。
【００６７】
この図６において、前述の図１〜図３の実施形態（第１実施形態）に示された各部に対応する部分には、図１〜図３の場合と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
第４実施形態に係る基板処理装置３００が、第１実施形態に係る基板処理装置１と相違する点は、第２シャッタ２１Ｃの上部に、庇部６０が形成されている点である。第２シャッタ２１Ｃは、平坦な板状部６１と、板状部６１の上辺６１Ａから内方に向けて屈曲し、斜め上方に向けて延びる庇部６０とを備えている。庇部６０は、板状部６１の左右方向（水平方向）の一端から他端にわたって形成されている。
【００６８】
庇部６０は、板状部６１の上辺６１Ａと、スピンチャック４に保持されたウエハＷにおける側壁２Ａとの距離が最短である位置（以下、「ウエハ最短位置」という。）ＷＳとを結ぶ線分Ｌ１と直交する方向に延びている。庇部６０の先端６０Ａは、ウエハ最短位置ＷＳと側壁２Ａの上辺とを結ぶ線分Ｌ２に達している。
この実施形態によれば、ウエハＷへの薬液および純水を用いた処理の際には、第２シャッタ２１Ｃが上部領域２ＡＵを覆っている。そして、第２シャッタ２１Ｃの上部には、庇部６０が形成されている。これにより、第２シャッタ２１Ｃの高さを低く抑えながら、上部領域２ＡＵに薬液および純水が付着することを、高さ方向においてより広範囲で防止することができる。
【００６９】
以上、本発明の４つの形態を説明したが、本発明は、他の形態で実施することもできる。
前述の第２実施形態では、ベルト４１の一端４１Ａが開口１７の下辺部１７Ａに固定されているとして説明したが、ベルト４１の一端４１Ａは、側壁２Ａにおける開口１７の下方の部分であれば、他の位置に固定されていてもよい。
【００７０】
また、第２実施形態では、プーリ４２は側壁２Ａに平行で水平な軸まわりに回転可能に設けられているとして説明したが、プーリ４２が回転しないでベルト４１がプーリ４２の周面を滑る構成とすることもできる。
前述の第３実施形態では、昇降シリンダ５２による第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂの昇降動作と、水平シリンダ５１による第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂの水平移動作とが連続するものとして説明したが、これらの動作が同時に進行するものであってもよい。
【００７１】
さらに、第１シャッタ２０Ｂの下端部２８Ｂと第２シャッタ２１Ｂの上端部２９Ａとが、連結板２４を介さずに、直接連結された構成であってもよい。
また、第４実施形態で採用した庇部６０を第１、第２および第３実施形態の第２シャッタ２１，２１Ａ，２１Ｂに採用してもよい。
さらに、第１〜第４実施形態において、第２シャッタ２１，２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは、その閉状態において、上部領域２ＡＵの全域を覆う構成でなく、その一部のみを覆う構成であってもよい。
【００７２】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【符号の説明】
【００７３】
１，１００，２００，３００ 基板処理装置
２ 側壁
２ＡＵ 上部領域（側壁における開口の上方の部分）
３ 処理チャンバ
１７ 開口
２０，２０Ａ，２０Ｂ 第１シャッタ
２１；２１Ａ；２１Ｂ；２１Ｃ 第２シャッタ
２４ 連結板（第１シャッタと第２シャッタとの連結部分）
２５ 第１回動軸
２７ 第２回動軸
２８Ａ 上端（第１シャッタの第２シャッタに近い側の端部）
２８Ｂ 下端（第１シャッタの第２シャッタから遠い側の端部）
２９Ａ 上端（第２シャッタの第１シャッタから遠い側の端部）
２９Ｂ 下端（第２シャッタの第１シャッタに近い側の端部）
３０ 第１移動機構（スライド移動機構）
３１ 第２シリンダ
３２ 第２ロッド
３３ 第１シリンダ
３４ 第１ロッド
３５ 接続板（シリンダ支持部材）
３６ シリンダ支持板（シリンダ支持部材）
４０ 第２移動機構（スライド移動機構）
４１ ベルト
４１Ａ 一端
４１Ｂ 他端
４２ プーリ
４３ 第１シリンダ
４４ 第１ロッド
５０ 第３移動機構（直交移動機構）
６０ 庇部
ＰＬ パスライン（開口における基板の通過位置）
Ｗ ウエハ（基板）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理液による処理を基板に施すための基板処理装置に関する。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板等が含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示装置の製造工程では、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板等の基板の表面に処理液による処理を施すために、基板を１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置が用いられることがある。
枚葉式の基板処理装置は、処理チャンバ内に、基板を水平な姿勢に保持して回転させるスピンチャックと、基板の表面に処理液を供給するためのノズルとを備えている。処理チャンバの側壁には、基板が通過可能な開口が形成されている。処理対象の基板は、開口を介して処理チャンバ内に搬入され、スピンチャックに保持される。その後、スピンチャックにより基板が回転されつつ、その基板の表面にノズルから処理液が供給される。こうして、基板の表面に対する処理液による処理が行われる。そして、処理が施された後の基板は、処理チャンバから開口を介して搬出される。
【０００３】
基板の処理中には、回転中の基板に処理液が供給されるので、その処理液が基板の周囲に飛散する。基板から飛散する処理液は、処理チャンバの側壁の内面における開口の上方の部分にも付着する。この部分に付着した処理液は、側壁の内面を伝って開口に向かって流下し、開口の上端縁から滴り落ちるため、開口を通過する処理後の基板に付着して、基板を汚染するおそれがある。
【０００４】
そこで、このような基板の汚染を防止するための構成が提案されている（たとえば、特許文献１，２参照）。
特許文献１では、洗浄液を吐出する洗浄液吐出ノズルを処理チャンバ内に設け、洗浄液吐出ノズルからの洗浄液によって、側壁における開口の上方の部分に付着した処理液を洗い流すことが提案されている。
【０００５】
特許文献２では、側壁における開口の上方の部分に、上方から落下してくる処理液の液滴を受け止めるための樋を設けることが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−１０７０００号公報
【特許文献２】特開平１０−１６３１６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、特許文献１で提案されている構成では、洗浄液を用いて洗浄するため、洗浄後に側壁からの洗浄液の除去が不十分であると、この洗浄液の液滴が基板上に落下するおそれがある。
一方、特許文献２で提案されている構成では、樋の壁面に処理液が付着し、この処理液が液滴となって基板上に落下するおそれがある。
【０００８】
したがって、特許文献１および２のいずれの構成であっても、開口を通過する際の基板の汚染を確実に防止することはできなかった。
そこで、この発明の目的は、開口を通過する際の基板の汚染を防止することができる基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、側壁（２）により取り囲まれて、処理液を用いた処理を基板（Ｗ）に対して施すための処理チャンバ（３）と、前記側壁に形成されて、前記処理チャンバに対して基板を搬出または搬入する際に基板が通過する開口（１７）と、前記開口を閉塞するための第１シャッタ（２０；２０Ａ；２０Ｂ）と、前記側壁および前記第１シャッタに対して相対変位可能に設けられて、前記側壁における前記開口の上方の部分（２ＡＵ）を覆うための第２シャッタ（２１；２１Ａ；２１Ｂ；２１Ｃ）と、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタを、前記第１シャッタが前記開口を閉塞するとともに前記第２シャッタが前記側壁における前記開口の上方の部分を覆う閉状態と、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタが前記開口における前記基板の通過位置（ＰＬ）の下方へ退避し、前記開口を開放する開状態との間で移動させる移動機構（３０；４０；５０）とを含む、基板処理装置（１；１００；２００；３００）である。
【００１０】
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
この構成によれば、第１シャッタおよび第２シャッタの閉状態では、開口が第１シャッタにより閉塞され、側壁における開口の上方の部分が第２シャッタにより覆われる。そして、その閉状態で、処理チャンバ内において、処理液を用いた処理が基板に行われる。このため、基板から飛散する処理液は、第１シャッタおよび第２シャッタの内面に付着しても、側壁における開口の上方の部分には付着しない。
【００１１】
そして、第１シャッタおよび第２シャッタの開状態では、第１シャッタおよび第２シャッタが開口における基板の通過位置の下方に退避する。したがって、第１シャッタおよび第２シャッタの内面に付着した処理液が、開口を通過する基板上に落下することはない。また、側壁における開口の上部の部分には処理液が付着していないので、その部分から開口を通過する基板上に処理液が落下することもない。よって、開口を通過する基板の汚染を、防止することができる。
【００１２】
請求項２記載の発明は、前記移動機構は、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタを、前記開口が形成された前記側壁と平行をなす姿勢を維持させつつスライド移動させるスライド移動機構（３０；４０）である、請求項１に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第１シャッタおよび第２シャッタを、開状態と閉状態との間を、開口が形成された側壁と平行をなす姿勢を維持しながらスライド移動させることができる。よって、第１シャッタおよび第２シャッタの開閉時に、第１シャッタおよび第２シャッタの内面に付着した処理液が側方に飛散するのを抑えることができる。
【００１３】
請求項３記載の発明は、前記スライド移動機構は、上下方向に進出／没入可能な第１ロッド（３４）を有し、前記第１ロッドが前記第１シャッタに固定された第１シリンダ（３３）と、前記第１ロッドに取り付けられたシリンダ支持部材（３５，３６）と、前記シリンダ支持部材に支持され、上下方向に進出／没入可能な第２ロッド（３２）を有し、前記第２ロッドが前記第２シャッタに固定された第２シリンダ（３１）とを含む、請求項２に記載の基板処理装置である。
【００１４】
この構成によれば、第１シリンダの第１ロッドおよび第２シリンダの第２ロッドをともに進出させることにより、第１シャッタを上方へ移動させて、開口を第１シャッタで閉塞することができ、第１シャッタに対して第２シャッタをさらに上方へ移動させて、側壁における開口の上方の部分を第２シャッタで覆うことができる。一方、第１シリンダの第１ロッドおよび第２シリンダの第２ロッドをともに没入させることにより、第１シャッタおよび第２シャッタを基板の通過位置の下方へ退避させることができる。
【００１５】
請求項４記載の発明は、前記スライド移動機構は、上下方向に進出／没入可能な第１ロッド（４４）を有し、前記第１ロッドが前記第１シャッタに固定された第１シリンダ（４３）と、前記第１シャッタに固定されたプーリと、一端（４１Ａ）が前記側壁における前記開口の下方の部分に固定され、前記プーリの周面に巻き掛けられてＵ字状をなし、他端（４１Ｂ）が前記第２シャッタに固定されたベルト（４１）とを含む、請求項２に記載の基板処理装置である。
【００１６】
この構成によれば、ベルトがプーリの周面に巻き掛けられてＵ字状をなし、一端が側壁における開口の下方の部分に固定されるとともに、他端が第２シャッタに固定される。また、このプーリは、第１シャッタに固定されている。
第１シャッタのスライド方向への移動に伴って、プーリとベルトの一端との間の距離、およびプーリとベルトの他端との間の距離が変わる。ベルトの他端が第２シャッタに固定されているので、第１シャッタの移動に連動して、第２シャッタを移動させることができる。これにより、第２シャッタのみを駆動する機構を省略することができ、コストダウンを図ることができる。
【００１７】
請求項５記載の発明は、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタの互いに近い側の端部（２８Ａ，２９Ｂ）が、前記開口が形成されている前記側壁と平行な回動軸（２５，２７）まわりに回動可能に連結されており、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタの互いに遠い側の端部（２８Ｂ，２９Ａ）が、前記回動軸と直交し、前記開口が形成されている前記側壁と平行なスライド方向に移動可能であり、前記移動機構が、前記第１シャッタと前記第２シャッタとの連結部分（２４）を、前記回動軸および前記スライド方向と直交する方向に移動させる直交移動機構（５０）を含む、請求項１に記載の基板処理装置である。
【００１８】
この構成によれば、閉状態にある第１シャッタおよび第２シャッタがスライド方向と直交する方向の一方側に移動されると、第１シャッタおよび第２シャッタが回動軸まわりに回動されて、第１シャッタおよび第２シャッタがスライド方向に関して重なるように折り畳まれるようになる。これにより、開口を開放させることができる。
また、逆に、開状態にある第１シャッタおよび第２シャッタがスライド方向と直交する方向の他方側に移動されると、第１シャッタおよび第２シャッタが回動軸まわりに回動されて、第１シャッタにより開口が閉塞される。
【００１９】
請求項６記載の発明は、前記第２シャッタの上部には、前記処理チャンバの内方に向けて突出する庇部（６０）が形成されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、基板への処理時には、第２シャッタが側壁における開口の上方の部分を覆っている。そして、第２シャッタの上部には、庇部が形成されている。これにより、第２シャッタの高さを低く抑えながら、側壁における開口の上方の部分に処理液が付着することを、高さ方向においてより広範囲で防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態（第１実施形態）に係る基板処理装置の構成を模式的に示す断面図である。
【図２】第１シャッタおよび第２シャッタが閉状態であるときの処理チャンバの開口付近の図である。
【図３】第１シャッタおよび第２シャッタが開状態であるときの処理チャンバの開口付近の図である。
【図４】本発明の他の実施形態（第２実施形態）に係る基板処理装置の処理チャンバの開口付近の断面図である。
【図５】本発明のさらに他の実施形態（第３実施形態）に係る基板処理装置の処理チャンバの開口付近の断面図である。
【図６】本発明のさらに他の実施形態（第４実施形態）に係る基板処理装置の処理チャンバの要部の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態（第１実施形態）に係る基板処理装置１の構成を模式的に示す断面図である。
基板処理装置１は、たとえば基板の一例としての半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」という。）Ｗの表面に薬液および純水による処理を施すための枚葉式の装置である。
【００２２】
この基板処理装置１は、複数の側壁２によって取り囲まれた処理チャンバ３を有している。処理チャンバ３には、ウエハＷをほぼ水平に保持するとともに、その中心を通るほぼ鉛直な回転軸線方向まわりにウエハＷを回転させるスピンチャック４と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に対して処理液としての薬液を供給するための薬液ノズル５と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に対して処理液としての純水（deionized water：脱イオン化された水）を供給するための純水ノズル６と、ウエハＷから流下または飛散する薬液や純水を受け止めるための有底容器状のカップ７０とが収容されている。
【００２３】
スピンチャック４は、モータ７と、このモータ７の回転駆動力によって鉛直軸線まわりに回転される円盤状のスピンベース８と、スピンベース８の周縁部の複数箇所にほぼ等間隔で設けられ、ウエハＷをほぼ水平な姿勢で挟持するための複数個の挟持部材９とを備えている。これにより、スピンチャック４は、複数個の挟持部材９によってウエハＷを挟持した状態で、モータ７の回転駆動力によってスピンベース８を回転させることにより、そのウエハＷを、ほぼ水平な姿勢を保った状態で、スピンベース８とともに鉛直軸線まわりに回転させることができる。
【００２４】
薬液ノズル５は、スピンチャック４の上方でほぼ水平に延びるノズルアーム１０の先端に取り付けられている。このノズルアーム１０は、スピンチャック４の側方でほぼ鉛直に延びたアーム支持軸１１に支持されている。また、アーム支持軸１１には、ノズル駆動機構１２が結合されており、このノズル駆動機構１２の駆動力によって、アーム支持軸１１を回動させて、ノズルアーム１０を揺動させることができるようになっている。
【００２５】
薬液ノズル５には、薬液供給管１３が接続されており、薬液供給源からの薬液が薬液供給管１３を通して供給されるようになっている。薬液供給管１３の途中部には、薬液ノズル５への薬液の供給および供給停止を切り換えるための薬液バルブ１４が介装されている。
薬液ノズル５から吐出される薬液として、ＳＣ１（アンモニア過酸化水素水混合液）、ＳＣ２（塩酸過酸化水素水混合液）、ＳＰＭ（sulfuric acid／hydrogen peroxide mixture：硫酸過酸化水素水混合液）、フッ酸、バファードフッ酸（Buffered HF：フッ酸とフッ化アンモニウムとの混合液）、塩酸、リン酸、酢酸、アンモニア、過酸化水素水、クエン酸、蓚酸およびＴＭＡＨなどを例示することができる。
【００２６】
純水ノズル６は、スピンチャック４の上方で、吐出口をウエハＷの中央部に向けて配置されている。この純水ノズル６には、純水供給管１５が接続されており、純水供給源からの処理液としての純水が純水供給管１５を通して供給されるようになっている。純水供給管１５の途中部には、純水ノズル６への純水の供給および供給停止を切り換えるための純水バルブ１６が介装されている。
【００２７】
なお、薬液ノズル５は、いわゆるスキャンノズルの形態である必要はなく、スピンチャック４に対して固定的に配置された構成であってもよい。
カップ７０は、スピンチャック４を収容している。カップ７０には、このカップ７０を処理位置（図１で二点鎖線にて図示）と処理位置よりも下方にあるスピンドライ位置（図１で実線にて図示）との間で昇降させるためのカップ昇降駆動機構１８が結合されている。処理位置では、カップ７０はスピンチャック４に保持されたウエハＷの周囲を取り囲み、ウエハＷの周縁部から飛散する薬液および純水はカップ７０に受け止められる。一方、スピンドライ位置では、カップ７０はスピンチャック４の側方から下方に退避する。
【００２８】
側壁２Ａ（複数の側壁２のうちの１つ）には、処理チャンバ３内に対してウエハＷを搬入および搬出するための開口１７が形成されている。ウエハＷの搬入および搬出の際には、処理チャンバ３外で開口１７に対向する搬送ロボットＴＲが、開口１７を通して処理チャンバ３内にハンドをアクセスさせる。これにより、スピンチャック４上に未処理のウエハＷを載置したり、スピンチャック４上から処理済のウエハＷを取り除いたりすることができる。この処理チャンバ３内に搬入または搬出されるウエハＷは、パスラインＰＬ（開口１７におけるウエハＷの通過位置）を通過する。この開口１７は、シャッタ機構１９によって開閉される。
【００２９】
シャッタ機構１９は、開口１７を覆うことができる第１シャッタ２０と、側壁２Ａにおける開口１７の上方の部分（以下、「上部領域」という。）２ＡＵを覆うことができる第２シャッタ２１と、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１を、鉛直姿勢を維持させつつ昇降させる第１移動機構（スライド移動機構）３０（図２参照）とを備えている。
図２は、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が閉状態であるときの処理チャンバ３の開口１７付近の図である。図３は、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が開状態であるときの処理チャンバ３の開口１７付近の図である。図２（ａ）および図３（ａ）は、開口１７を処理チャンバ３の外側から見た正面図である。図２（ｂ）は、図２（ａ）の切断面線II−IIから見た断面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）の切断面線III−IIIから見た断面図である。
【００３０】
開口１７は、正面視で横長の略長方形状に形成されている。開口１７の上辺および下辺は水平方向に沿って形成され、開口１７の両側辺（左辺および右辺）は鉛直方向に沿って形成されている。
第１シャッタ２０（図２（ａ）および図３（ａ）にて太字の破線で図示）は、開口１７の全域を覆うことができる大きさに形成された略長方形状の平板であり、側壁２Ａの内側に配置されている。第１シャッタ２０の上辺部からは、後述する第１ロッド３４に連結するための連結部２２が、側壁２Ａ側に向けて突出している。
【００３１】
第２シャッタ２１（図２（ａ）および図３（ａ）にて太字の二点鎖線で図示）は、上部領域２ＡＵのほぼ全域を覆うことができる大きさに形成された略長方形状の板材であり、第１シャッタ２０よりも内側に配置されている。第２シャッタ２１の上部には、後述する第２ロッド３２に連結するための連結部２３が、側壁２Ａ側に向けて突出している。
第１移動機構３０は、第１シリンダ３３と、シリンダ支持部材としての接続板３５およびシリンダ支持板３６と、第２シリンダ３１とを備えている。これら第１シリンダ３３および第２シリンダ３１は、側壁２Ａの外方で、側壁２Ａに沿う方向に並んでいる。
【００３２】
第１シリンダ３３は、鉛直方向に進出／没入可能な第１ロッド３４を有している。この第１シリンダ３３は、第１ロッド３４を上方に向けている。第１シリンダ３３の本体は、側壁２Ａの外面に固定されている。第１ロッド３４の上端部には、第１シャッタ２０の連結部２２が固定されている。これにより、第１ロッド３４と第１シャッタ２０とが固定されて、第１シャッタ２０が第１シリンダ３３によって鉛直姿勢に保持される。
【００３３】
第１ロッド３４の先端部には、側面視倒立略Ｌ字状の接続板（シリンダ支持部材）３５が取り付けられている。この接続板３５の先端（下端）には、水平方向に延びるシリンダ支持板（シリンダ支持部材）３６が支持されている。このシリンダ支持部材３５，３６には、第２シリンダ３１が保持されている。
第２シリンダ３１は、鉛直方向に進出／没入可能な第２ロッド３２を有している。この第２シリンダ３１は、第２ロッド３２を上方に向けている。第２シリンダ３１の本体は、シリンダ支持板３６に固定されている。第２ロッド３２の上端部には、第２シャッタ２１の連結部２３が固定されている。これにより、第２ロッド３２と第２シャッタ２１とが固定されて、第２シャッタ２１が第２シリンダ３１によって鉛直姿勢に保持される。
【００３４】
第２シリンダ３１がシリンダ支持板３５，３６を介して第１シリンダ３３に支持されている。このため、第２シャッタ２１を、第１シリンダ３３のストローク量と第２シリンダ３１のストローク量とを併せたストローク量で昇降させることができる。このため、第２シャッタ２１を第２シリンダ３１のみで昇降させる場合と比較して、小型の第２シリンダ３１を採用することができる。これにより、第２シリンダ３１の大型化を防ぐことができる。
【００３５】
第１シャッタ２０および第２シャッタ２１は、図２に示す閉状態と、図３に示す開状態との間で昇降可能にされている。図２に示す閉状態では、第１シャッタ２０は開口１７を閉塞し、第２シャッタ２１は上部領域２ＡＵの大部分を覆う。図３に示す開状態では、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１は、パスラインＰＬよりも下方に退避して、鉛直姿勢を維持しつつ、水平方向に関して重なっている。これにより、開口１７の大部分が開放される。
【００３６】
第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が開かれるタイミングとなると、第１ロッド３４が第１シリンダ３３の本体に没入されるとともに、第２ロッド３２が第２シリンダ３１の本体に没入される。これら第１ロッド３４および第２ロッド３２の没入により、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が、パスラインＰＬよりも下方に退避して、開状態（図３参照）まで下降する。
【００３７】
第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が閉じられるタイミングとなると、第１ロッド３４が第１シリンダ３３の本体に対して進出されるとともに、第２ロッド３２が第２シリンダ３１の本体に対して進出される。これら第１ロッド３４および第２ロッド３２の進出により、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が、閉状態（図２参照）まで上昇する。
【００３８】
図１を再び参照して、この基板処理装置１におけるウエハＷの処理について説明する。
ウエハＷの処理に際して、第１シリンダ３３および第２シリンダ３１が駆動されて、閉状態の第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が開状態にされる。その後、搬送ロボットＴＲによって、未処理のウエハＷが開口１７を通って処理チャンバ３内に搬入されて、その表面を上方に向けた状態でスピンチャック４に保持される。搬送ロボットＴＲのハンドが処理チャンバ３外に退避した後、第１シリンダ３３および第２シリンダ３１が駆動されて、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が閉状態にされる。なお、このウエハＷの搬入時においては、その搬入の妨げにならないように、カップ７０はスピンドライ位置（図１で実線にて図示）に下げられている。
【００３９】
ウエハＷの保持後、モータ７が駆動されて、スピンチャック４によるウエハＷの回転が開始され、ウエハＷの回転速度が所定の液処理速度（たとえば１５００ｒｐｍ）まで上げられる。また、カップ昇降駆動機構１８が駆動されて、カップ７０がスピンドライ位置から処理位置（図１で二点鎖線にて図示）まで上昇される。さらに、ノズル駆動機構１２が制御されてノズルアーム１０が回動し、薬液ノズル５がスピンチャック４の側方の退避位置からウエハＷの上方位置へと移動される。
【００４０】
ウエハＷの回転速度が液処理速度に達すると、薬液バルブ１４が開かれて、薬液ノズル５からウエハＷの表面に向けて薬液が供給される。また、ノズル駆動機構１２が駆動されて、ノズルアーム１０が所定の角度範囲内で揺動される。これによって、薬液ノズル５からの薬液が導かれるウエハＷの表面上の供給位置は、ウエハＷの回転中心からウエハＷの周縁部に至る範囲内を、ウエハＷの回転方向と交差する円弧状の軌跡を描きつつ往復移動する。
【００４１】
ウエハＷの表面に供給された薬液は、ウエハＷの回転による遠心力によって、ウエハＷの周縁から側方に向けて飛散し、ウエハＷの周囲を取り囲むカップ７０の内壁に受け止められる。そして、カップ７０の内壁を伝って底部に集められ、廃液ライン（図示しない）へと送られ、廃液設備（図示しない）へ導かれる。
薬液の種類によってはウエハＷの表面で薬液が激しく反応し、ウエハＷからの薬液が、ウエハＷの周囲を取り囲むカップ７０の外方に飛散することがある。しかし、上部領域２ＡＵが第２シャッタ２１によって覆われているので、ウエハＷから飛散する薬液が上部領域２ＡＵに付着することはない。
【００４２】
薬液供給位置の往復運動が所定回数行われると、薬液バルブ１４が閉じられて、薬液ノズル５からの薬液の供給が停止されるとともに、ノズル駆動機構１２が制御されてノズルアーム１０が回動し、薬液ノズル５は、ウエハＷの上方位置からスピンチャック４の側方の退避位置に退避される。
薬液ノズル５が退避されると、純水バルブ１６が開かれて、純水ノズル６から回転状態にあるウエハＷの表面の回転中心に向けて純水が吐出される。ウエハＷの表面に供給された純水は、ウエハＷの回転による遠心力によって、ウエハＷの周縁に向けて流れる。これにより、ウエハＷの表面に付着している薬液が純水によって洗い流される。ウエハＷの周縁に向けて流れる純水は、ウエハＷの周縁から側方へ飛散する。ウエハＷの周縁から飛散する純水（ウエハＷから洗い流された薬液を含む）は、ウエハＷの端面に対向しているカップ７０の内壁に受け止められた後、底部に集められ、廃液ライン（図示しない）へと送られ、廃液設備（図示しない）へ導かれる。
【００４３】
純水の供給開始から所定のリンス時間が経過すると、純水バルブ１６が閉じられて、ウエハＷへの純水の供給が停止される。その後、カップ昇降駆動機構１８が駆動されて、カップ７０が処理位置（図１で二点鎖線にて図示）からスピンドライ位置（図１で実線にて図示）に下げられる。このスピンドライ位置では、カップ７０がスピンチャック４に保持されたウエハＷの側方から下方に退避している。また、ウエハＷの回転速度がスピンドライ回転速度（たとえば３０００ｒｐｍ）に上げられる。これにより、リンス処理後のウエハＷの表面に付着している純水を遠心力で振り切って乾燥させるスピンドライ処理が実施される。上部領域２ＡＵが第２シャッタ２１によって覆われているので、ウエハＷから飛散する純水は、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の内面に付着し、上部領域２ＡＵには付着しない。これにより、上部領域２ＡＵに純水が付着することを防止することができる。
【００４４】
スピンドライ処理が所定のスピンドライ時間にわたって行われると、スピンチャック４の回転が停止される。その後、第１シリンダ３３および第２シリンダ３１が駆動されて、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１が閉状態から開状態まで下降される。第２シャッタ２１の下降に伴って上部領域２ＡＵが露出されるが、この上部領域２ＡＵには薬液および純水は付着していない。
【００４５】
そして、処理済のウエハＷが搬送ロボットＴＲによって搬出される。このウエハＷの搬出と同時に、搬送ロボットＴＲによって次のウエハＷが搬入される。
以上により、この実施形態によれば、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の閉状態では、開口１７が第１シャッタ２０により閉塞され、上部領域２ＡＵが第２シャッタ星により覆われる。そして、その閉状態で、処理チャンバ３内において、薬液および純水を用いた処理がウエハＷに行われる。このため、ウエハＷから飛散する薬液および純水は、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の内面に付着しても、上部領域２ＡＵには付着しない。
【００４６】
そして、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の開状態では、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１がパスラインＰＬの下方に退避する。したがって、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の内面に付着した薬液および純水が、開口１７を通過するウエハＷ上に落下することはない。また、上部領域２ＡＵには薬液および純水が付着していないので、その上部領域２ＡＵから開口１７を通過するウエハＷ上に薬液および純水が落下することもない。よって、開口１７を通過するウエハＷの汚染を、防止することができる。
【００４７】
また、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１を、開状態と閉状態との間を、鉛直姿勢を維持しながらスライド移動させることができる。よって、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の開閉時に、第１シャッタ２０および第２シャッタ２１の内面に付着した薬液および純水が側方に飛散するのを抑えることができる。
図４は、本発明の他の実施形態（第２実施形態）に係る基板処理装置１００の処理チャンバ３の開口１７付近の断面図である。図４（ａ）は、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａが閉状態であるときを示し、図４（ｂ）は、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａが開状態であるときを示している。この図４において、前述の図１〜図３の実施形態（第１実施形態）に示された各部に対応する部分には、図１〜図３の場合と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
【００４８】
第２実施形態では、第１移動機構３０に代えて、ベルト４１、プーリ４２および第１シリンダ４３を備えた第２移動機構（スライド移動機構）４０を備えている。第２移動機構４０は、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａを、鉛直姿勢を維持させつつ昇降させる。
第１シャッタ２０Ａは、開口１７の全域を覆うことができる大きさに形成された略長方形状の平板であり、側壁２Ａの内側に配置されている。第１シャッタ２０Ａの上部には、後述する第１ロッド４４に連結するための連結部２２Ａが、側壁２Ａ側に向けて突出している。第１シャッタ２０Ａの上端には、複数（この実施形態では２個）のプーリ４２が固定されている。これらのプーリ４２は、第１シャッタ２０Ａの長手方向の両端部に配置されている。各プーリ４２は、側壁２Ａに平行で水平な軸まわりに回転可能に設けられている。
【００４９】
第２シャッタ２１Ａは、上部領域２ＡＵのほぼ全域を覆うことができる大きさに形成された略長方形状の板材であり、第１シャッタ２０Ａよりも内側に配置されている。この第２シャッタ２１Ａは、鉛直姿勢を維持しながら鉛直方向にスライド可能に構成されている
各ベルト４１は、第１シャッタ２０Ａと側壁２Ａとの間に掛け渡されて、プーリ４２の周面に巻き掛けられてＵ字状をなしている。具体的には、ベルト４１の一端４１Ａは、側壁２Ａにおける開口１７の下辺部１７Ａに固定されている。また、ベルト４１の他端４１Ｂは、第２シャッタ２１Ａの下端部に固定されている。
【００５０】
第１シリンダ４３は、鉛直方向に進出／没入可能な第１ロッド４４を有している。この第１シリンダ４３は、第１ロッド４４を上方に向けている。第１シリンダ４３の本体は、側壁２Ａの外面に固定されている。第１ロッド４４の上端部には、第１シャッタ２０Ａの連結部２２Ａが固定されている。これにより、第１ロッド４４と第１シャッタ２０Ａとが固定されて、第１シャッタ２０Ａが第１シリンダ４３によって鉛直姿勢に保持される。そして、第１シャッタ２０Ａおよびプーリ４２は第１ロッド４４の昇降動作に伴って、鉛直姿勢を維持しつつ昇降する。
【００５１】
第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａは、図４（ａ）に示す閉状態と、図４（ｂ）に示す開状態との間で昇降可能にされている。閉状態では、第１シャッタ２０Ａは開口１７を閉塞し、第２シャッタ２１Ａは、上部領域２ＡＵの大部分を覆う。一方、開状態では、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１ＡはパスラインＰＬよりも下方に退避して、鉛直姿勢を維持しつつ、水平方向に関して重なっている。これにより、開口１７の大部分が開放される。
【００５２】
第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａが開かれるタイミングとなると、第１ロッド４４が本体に没入される。この第１ロッド４４の没入により、第１シャッタ２０Ａおよびプーリ４２が下降する。そして、第１シャッタ２０Ａの下降に従って、プーリ４２とベルト４１の一端４１Ａとの間の距離が縮まり、プーリ４２とベルト４１の他端部との間の距離が広がる。このため、ベルト４１の他端４１Ｂが固定される第２シャッタ２１Ａは下降する。このときの第２シャッタ２１Ａの下降量は、第１シャッタ２０Ａの下降量の約２倍になる。そして、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａは、開状態（図４（ｂ）参照）に達するまで下降される。
【００５３】
第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａが閉じられるタイミングとなると、第１ロッド４４が本体に対して進出される。この第１ロッド４４の進出により、第１シャッタ２０Ａが上昇する。そして、第１シャッタ２０Ａの上昇に従って、プーリ４２とベルト４１の一端４１Ａとの間の距離が広がり、プーリ４２とベルト４１の他端４１Ｂとの間の距離が縮まる。このため、ベルト４１の他端４１Ｂが固定される第２シャッタ２１Ａは上昇する。このときの第２シャッタ２１Ａの上昇量は、第１シャッタ２０Ａの上昇量の約２倍になる。そして、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａは、閉状態（図４（ａ）参照）に達するまで上昇される。
【００５４】
以上により、この第２実施形態によれば、第１シャッタ２０Ａの昇降に伴って、プーリ４２とベルト４１の一端４１Ａとの間の距離、およびプーリ４２とベルト４１の他端４１Ｂとの間の距離が変わる。ベルト４１の他端４１Ｂが第２シャッタ２１Ａに固定されているので、第１シャッタ２０Ａの移動に連動して、第２シャッタ２１Ａを移動させることができる。これにより、第２シャッタ２１Ａを駆動する機構を省略することができ、コストダウンを図ることができる。
【００５５】
また、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａの閉動作における第２シャッタ２１Ａの上昇量を、第１シャッタ２０Ａの上昇量の２倍とすることができ、また、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａの開動作における第２シャッタ２１Ａの下降量を第１シャッタ２０Ａの下降量の２倍とすることができる。このため、第１シャッタ２０Ａおよび第２シャッタ２１Ａを、開口１７を第１シャッタ２０Ａが閉塞し、上部領域２ＡＵを第２シャッタ２１Ａが覆う閉状態と、パスラインＰＬの下方に退避して、水平方向に関して重なる開状態との間で昇降させることができる。
【００５６】
図５は、本発明のさらに他の実施形態（第３実施形態）に係る基板処理装置２００の処理チャンバ３の開口１７付近の断面図である。図５（ａ）は、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが閉状態であるときを示し、図５（ｂ）は、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが開状態から閉状態への移動途中状態を示している。図５（ｃ）は、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが開状態であるときを示している。
【００５７】
この図５において、前述の図１〜図３の実施形態（第１実施形態）に示された各部に対応する部分には、図１〜図３の場合と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
第３実施形態が、第１実施形態と大きく相違する点は、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが折り畳み可能に構成されている点にある。
具体的には、第１シャッタ２０Ｂの上端部（第１シャッタ２０Ｂにおける第２シャッタ２１Ｂに近い側の端部）２８Ａと第２シャッタ２１Ｂの下端部（第２シャッタ２１Ｂにおける第１シャッタ２０Ｂに近い側の端部）２９Ｂとが連結板（第１シャッタ２０Ｂと第２シャッタ２１Ｂとの連結部分）２４を介して連結されている。第１シャッタ２０Ｂの上端部２８Ａと連結板２４の下辺とは、側壁２Ａに沿う水平方向に延びる第１回動軸２５を介して連結されている。そのため、連結板２４には、第１シャッタ２０Ｂが第１回動軸２５まわりに回動可能に連結されている。そして、第１シャッタ２０Ｂの下端部（第１シャッタ２０Ｂにおける第２シャッタ２１Ｂに遠い側の端部）２８Ｂは、溝カムやリンク機構などの案内機構２６によって、水平移動が規制されており、上下動しか許容されていない。
【００５８】
また、第２シャッタ２１Ｂの下端部２９Ｂと連結板２４の上辺とは、側壁２Ａに沿う水平方向に延びる第２回動軸２７を介して連結されている。そのため、連結板２４には、第２シャッタ２１Ｂが第２回動軸２７まわりに回動可能に連結されている。そして、第２シャッタ２１Ｂの上端部（第２シャッタ２１Ｂにおける第１シャッタ２０Ｂに遠い側の端部）２９Ａは、第１シャッタ２０Ｂの下端部２８Ｂと同様、溝カムやリンク機構などの案内機構２６によって、水平移動が規制されており、上下動しか許容されていない。
【００５９】
第１シャッタ２０Ｂは、開口１７のほぼ全域を覆うことができる大きさに形成された略長方形状の平板であり、側壁２Ａの内側に配置されている。
第２シャッタ２１Ｂは、上部領域２ＡＵのほぼ全域を覆うことができる大きさに形成された略長方形状の平板であり、側壁２Ａの内側に配置されている。
第１シャッタ２０Ｂ、第２シャッタ２１Ｂおよび連結板２４は、第３移動機構（直交移動機構）５０によって移動される。
【００６０】
第３移動機構５０は、連結板２４を水平移動させるための水平移動シリンダ５１と、水平移動シリンダ５１を支持するとともに、この水平移動シリンダ５１を昇降させるための昇降シリンダ５２とを備えている。これら水平移動シリンダ５１および昇降シリンダ５２は、側壁２Ａの外方に配置されている。
水平移動シリンダ５１は、側壁２Ａに直交する水平方向に進出／没入可能な水平移動ロッド５３を有している。この水平移動シリンダ５１は、水平移動ロッド５３を側壁２Ａに向けている。すなわち、水平移動シリンダ５１の水平移動ロッド５３が側壁２Ａに直交する方向に沿って出没する。水平移動ロッド５３の先端部は、連結板２４に固定されている。
【００６１】
昇降シリンダ５２は、鉛直方向に進出／没入可能な昇降ロッド５４を有している。この昇降シリンダ５２は、昇降ロッド５４を上方に向けている。昇降シリンダ５２の本体は、側壁２Ａの外面に固定されている。昇降ロッド５４の先端部には、水平移動シリンダ５１の本体が固定されている。
第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂは、図５（ａ）に示す閉状態と、図５（ｃ）に示す開状態との間でその全体姿勢を変形することが可能にされている。図５（ａ）に示す閉状態では、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが、側壁２Ａに平行な鉛直姿勢で上下に並べられている。第１シャッタ２０Ｂは開口１７を閉塞し、第２シャッタ２１Ｂは、上部領域２ＡＵの大部分を覆う。一方、図５（ｃ）に示す開状態では、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが、パスラインＰＬよりも下方の退避位置で、上下方向に関して重なるように折り畳まれている。第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂは、全体として側面視コ字状をなし、開口１７の大部分が開放される。
【００６２】
第１シャッタ２０Ｂと連結板２４との連結部分には、第１シャッタ２０Ｂが連結板２４と同一の方向に延びるように弾力付勢するねじりコイルばねなどの第１付勢部材５５（図５（ｂ）参照）が取り付けられている。また、第２シャッタ２１Ｂと連結板２４との連結部分には、第２シャッタ２１Ｂが連結板２４と同一の方向に延びるように弾力付勢するねじりコイルばねなどの第２付勢部材５６（図５（ｂ）参照）が取り付けられている。
【００６３】
第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが開かれるタイミングとなると、水平移動シリンダ５１の水平移動ロッド５３が本体から進出されて、連結板２４が側壁２Ａから離反する方向（処理チャンバ３の外側から内側へ向かう方向）へ向けて水平移動される。第１シャッタ２０Ｂの下端部２８Ｂが上下動しか許容されていないので、連結板２４の側壁２Ａからの離反に伴って、第１シャッタ２０Ｂが第１回動軸２５まわりに回動して、第１シャッタ２０Ｂの下端部２８Ｂが上昇される。また、第２シャッタ２１Ｂの上端部２９Ａが上下動しか許容されていないので、連結板２４の側壁２Ａからの離反に伴って、第２シャッタ２１Ｂが第２回動軸２７まわりに回動して、第２シャッタ２１Ｂの上端部２９Ａが下降される。このため、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが、上下方向に関して重なるように折り畳まれる（図５（ｂ）参照）。そして、水平移動ロッド５３が進出位置まで進出されると、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが全体として側面視コ字状をなし、開口１７が開放される。
【００６４】
その後、昇降シリンダ５２の昇降ロッド５４が本体に没入される。この昇降ロッド５４の没入により、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが、パスラインＰＬよりも下方に退避して、開状態（図５（ｃ）参照）まで下降する。
一方、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが閉じられるタイミングとなると、昇降ロッド５４が昇降シリンダ５２の本体に対して進出される。この昇降ロッド５４の進出により、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが折り畳み姿勢のまま上昇される。
【００６５】
第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが所定の高さ位置まで上昇されると、水平移動シリンダ５１の水平移動ロッド５３が本体に没入されて、連結板２４が側壁２Ａに接近する方向（処理チャンバ３の内側から外側に向かう方向）へ向けて水平移動される。第１シャッタ２０Ｂの下端部２８Ｂが上下動しか許容されていないので、連結板２４の側壁２Ａへの接近に伴って、第１シャッタ２０Ｂが第１回動軸２５まわりに回動して、第１シャッタ２０Ｂの下端部２８Ｂが下降される。また、第２シャッタ２１Ｂの上端部２９Ａが上下動しか許容されていないので、連結板２４の側壁２Ａへの接近に伴って、第２シャッタ２１Ｂが第２回動軸２７まわりに回動して、第２シャッタ２１Ｂの上端部２９Ａが上昇される。そして、水平移動ロッド５３が没入位置まで没入されると、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが上下に鉛直姿勢で並べられて、開口１７が閉塞される（図５（ａ）参照）。
【００６６】
また、第１付勢部材５５および第２付勢部材５６により、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂが、互いに同一の方向に延びるように付勢されているので、第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂの開状態から閉状態への移行をスムーズに行うことができる。
図６は、本発明のさらに他の実施形態（第４実施形態）に係る基板処理装置３００の処理チャンバ３の要部の断面図である。
【００６７】
この図６において、前述の図１〜図３の実施形態（第１実施形態）に示された各部に対応する部分には、図１〜図３の場合と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
第４実施形態に係る基板処理装置３００が、第１実施形態に係る基板処理装置１と相違する点は、第２シャッタ２１Ｃの上部に、庇部６０が形成されている点である。第２シャッタ２１Ｃは、平坦な板状部６１と、板状部６１の上辺６１Ａから内方に向けて屈曲し、斜め上方に向けて延びる庇部６０とを備えている。庇部６０は、板状部６１の左右方向（水平方向）の一端から他端にわたって形成されている。
【００６８】
庇部６０は、板状部６１の上辺６１Ａと、スピンチャック４に保持されたウエハＷにおける側壁２Ａとの距離が最短である位置（以下、「ウエハ最短位置」という。）ＷＳとを結ぶ線分Ｌ１と直交する方向に延びている。庇部６０の先端６０Ａは、ウエハ最短位置ＷＳと側壁２Ａの上辺とを結ぶ線分Ｌ２に達している。
この実施形態によれば、ウエハＷへの薬液および純水を用いた処理の際には、第２シャッタ２１Ｃが上部領域２ＡＵを覆っている。そして、第２シャッタ２１Ｃの上部には、庇部６０が形成されている。これにより、第２シャッタ２１Ｃの高さを低く抑えながら、上部領域２ＡＵに薬液および純水が付着することを、高さ方向においてより広範囲で防止することができる。
【００６９】
以上、本発明の４つの形態を説明したが、本発明は、他の形態で実施することもできる。
前述の第２実施形態では、ベルト４１の一端４１Ａが開口１７の下辺部１７Ａに固定されているとして説明したが、ベルト４１の一端４１Ａは、側壁２Ａにおける開口１７の下方の部分であれば、他の位置に固定されていてもよい。
【００７０】
また、第２実施形態では、プーリ４２は側壁２Ａに平行で水平な軸まわりに回転可能に設けられているとして説明したが、プーリ４２が回転しないでベルト４１がプーリ４２の周面を滑る構成とすることもできる。
前述の第３実施形態では、昇降シリンダ５２による第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂの昇降動作と、水平シリンダ５１による第１シャッタ２０Ｂおよび第２シャッタ２１Ｂの水平移動作とが連続するものとして説明したが、これらの動作が同時に進行するものであってもよい。
【００７１】
さらに、第１シャッタ２０Ｂの下端部２８Ｂと第２シャッタ２１Ｂの上端部２９Ａとが、連結板２４を介さずに、直接連結された構成であってもよい。
また、第４実施形態で採用した庇部６０を第１、第２および第３実施形態の第２シャッタ２１，２１Ａ，２１Ｂに採用してもよい。
さらに、第１〜第４実施形態において、第２シャッタ２１，２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは、その閉状態において、上部領域２ＡＵの全域を覆う構成でなく、その一部のみを覆う構成であってもよい。
【００７２】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【符号の説明】
【００７３】
１，１００，２００，３００ 基板処理装置
２ 側壁
２ＡＵ 上部領域（側壁における開口の上方の部分）
３ 処理チャンバ
１７ 開口
２０，２０Ａ，２０Ｂ 第１シャッタ
２１；２１Ａ；２１Ｂ；２１Ｃ 第２シャッタ
２４ 連結板（第１シャッタと第２シャッタとの連結部分）
２５ 第１回動軸
２７ 第２回動軸
２８Ａ 上端（第１シャッタの第２シャッタに近い側の端部）
２８Ｂ 下端（第１シャッタの第２シャッタから遠い側の端部）
２９Ａ 上端（第２シャッタの第１シャッタから遠い側の端部）
２９Ｂ 下端（第２シャッタの第１シャッタに近い側の端部）
３０ 第１移動機構（スライド移動機構）
３１ 第２シリンダ
３２ 第２ロッド
３３ 第１シリンダ
３４ 第１ロッド
３５ 接続板（シリンダ支持部材）
３６ シリンダ支持板（シリンダ支持部材）
４０ 第２移動機構（スライド移動機構）
４１ ベルト
４１Ａ 一端
４１Ｂ 他端
４２ プーリ
４３ 第１シリンダ
４４ 第１ロッド
５０ 第３移動機構（直交移動機構）
６０ 庇部
ＰＬ パスライン（開口における基板の通過位置）
Ｗ ウエハ（基板）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
側壁により取り囲まれて、処理液を用いた処理を基板に対して施すための処理チャンバと、
前記側壁に形成されて、前記処理チャンバに対して基板を搬出または搬入する際に基板が通過する開口と、
前記開口を閉塞するための第１シャッタと、
前記側壁および前記第１シャッタに対して相対変位可能に設けられて、前記側壁における前記開口の上部分を覆うための第２シャッタと、
前記第１シャッタおよび前記第２シャッタを、前記第１シャッタが前記開口を閉塞するとともに前記第２シャッタが前記側壁における前記開口の上部分を覆う閉状態と、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタが前記開口における前記基板の通過位置の下方へ退避し、前記開口を開放する開状態との間で移動させる移動機構とを含む、基板処理装置。
【請求項２】
前記移動機構は、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタを、前記開口が形成された前記側壁と平行をなす姿勢を維持させつつスライド移動させるスライド移動機構である、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記スライド移動機構は、
上下方向に進出／没入可能な第１ロッドを有し、前記第１ロッドが前記第１シャッタに固定された第１シリンダと、
前記第１ロッドに取り付けられたシリンダ支持部材と、
前記シリンダ支持部材に支持され、上下方向に進出／没入可能な第２ロッドを有し、前記第２ロッドが前記第２シャッタに固定された第２シリンダとを含む、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記スライド移動機構は、
上下方向に進出／没入可能な第１ロッドを有し、前記第１ロッドが前記第１シャッタに固定された第１シリンダと、
前記第１シャッタに固定されたプーリと、
一端が前記側壁における前記開口の下方の部分に固定され、前記プーリの周面に巻き掛けられてＵ字状をなし、他端が前記第２シャッタに固定されたベルトとを含む、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記第１シャッタおよび前記第２シャッタの互いに近い側の端部が、前記開口が形成された前記側壁と平行な回動軸まわりに回動可能に連結されており、
前記第１シャッタおよび前記第２シャッタの互いに遠い側の端部が、前記回動軸と直交し、前記開口が形成された前記側壁と平行なスライド方向に移動可能であり、
前記移動機構が、前記第１シャッタと前記第２シャッタとの連結部分を、前記回動軸および前記スライド方向と直交する方向に移動させる直交移動機構を含む、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記第２シャッタの上部には、前記処理チャンバの内方に向けて屈曲し、斜め上方に向けて延びる庇部が形成されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１】
側壁により取り囲まれて、処理液を用いた処理を基板に対して施すための処理チャンバと、
前記側壁に形成されて、前記処理チャンバに対して基板を搬出または搬入する際に基板が通過する開口と、
前記開口を閉塞するための第１シャッタと、
前記側壁および前記第１シャッタに対して相対変位可能に設けられて、前記側壁における前記開口の上部分を覆うための第２シャッタと、
前記第１シャッタおよび前記第２シャッタを、前記第１シャッタが前記開口を閉塞するとともに前記第２シャッタが前記側壁における前記開口の上部分を覆う閉状態と、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタが前記開口における前記基板の通過位置の下方へ退避し、前記開口を開放する開状態との間で移動させる移動機構とを含む、基板処理装置。
【請求項２】
前記移動機構は、前記第１シャッタおよび前記第２シャッタを、前記開口が形成された前記側壁と平行をなす姿勢を維持させつつスライド移動させるスライド移動機構である、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記スライド移動機構は、
上下方向に進出／没入可能な第１ロッドを有し、前記第１ロッドが前記第１シャッタに固定された第１シリンダと、
前記第１ロッドに取り付けられたシリンダ支持部材と、
前記シリンダ支持部材に支持され、上下方向に進出／没入可能な第２ロッドを有し、前記第２ロッドが前記第２シャッタに固定された第２シリンダとを含む、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記スライド移動機構は、
上下方向に進出／没入可能な第１ロッドを有し、前記第１ロッドが前記第１シャッタに固定された第１シリンダと、
前記第１シャッタに固定されたプーリと、
一端が前記側壁における前記開口の下方の部分に固定され、前記プーリの周面に巻き掛けられてＵ字状をなし、他端が前記第２シャッタに固定されたベルトとを含む、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記第１シャッタおよび前記第２シャッタの互いに近い側の端部が、前記開口が形成された前記側壁と平行な回動軸まわりに回動可能に連結されており、
前記第１シャッタおよび前記第２シャッタの互いに遠い側の端部が、前記回動軸と直交し、前記開口が形成された前記側壁と平行なスライド方向に移動可能であり、
前記移動機構が、前記第１シャッタと前記第２シャッタとの連結部分を、前記回動軸および前記スライド方向と直交する方向に移動させる直交移動機構を含む、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記第２シャッタの上部には、前記処理チャンバの内方に向けて屈曲し、斜め上方に向けて延びる庇部が形成されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１０−２１２３６４（Ｐ２０１０−２１２３６４Ａ）
【公開日】平成２２年９月２４日（２０１０．９．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−５５２３６（Ｐ２００９−５５２３６）
【出願日】平成２１年３月９日（２００９．３．９）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２４日（２０１０．９．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年３月９日（２００９．３．９）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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