塗布装置
【課題】メンテナンスの効率性を向上させると共に基板搬送部上に塵や埃などが付着するのを防ぐことができる塗布装置を提供すること。
【解決手段】基板搬送部によって基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布部を備える塗布装置であって、前記塗布部は、前記液状体を吐出するノズルを有し、前記ノズルに対して作業者がアクセス可能な領域まで前記塗布部を前記基板の搬送方向もしくは基板の搬送方向とは逆の方向に移動させる移動機構を備える。
【解決手段】基板搬送部によって基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布部を備える塗布装置であって、前記塗布部は、前記液状体を吐出するノズルを有し、前記ノズルに対して作業者がアクセス可能な領域まで前記塗布部を前記基板の搬送方向もしくは基板の搬送方向とは逆の方向に移動させる移動機構を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどの表示パネルを構成するガラス基板上には、配線や電極、カラーフィルタなどの微細なパターンが形成されている。一般的にこのようなパターンは、例えばフォトリソグラフィなどの手法によって形成される。フォトリソグラフィ法では、ガラス基板上にレジスト膜を形成する工程、このレジスト膜をパターン露光する工程、その後に当該レジスト膜を現像する工程がそれぞれ行われる。
【０００３】
基板の表面上にレジスト膜を塗布する装置として、スリットノズルを固定し、当該スリットノズルの下を移動するガラス基板にレジストを塗布する塗布装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。例えばレジストがスリットノズルの先端に固化して付着すると塗布ムラが発生するなど塗布性能が悪化するため、メンテナンス時にスリットノズルの先端を清掃する必要がある。
【０００４】
スリットノズル先端の清掃は、通常、当該スリットノズル先端に付着した異物を作業者が手作業で拭き取ることによって行われる。スリットノズルは基板を搬送するステージ上に設けられているため、従来、作業者がステージ上に登ってスリットノズルにアクセスしていた。
【特許文献１】特開２００５−２３６０９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ステージは基板の搬送のために設計されたものであり、本来作業者の立ち入りは想定されていない。このため、作業者がステージ上で安全に作業を行おうとするとメンテナンスの工程が煩雑になってしまう。また、作業者がステージ上に登ることでステージ上に塵や埃などが付着する可能性もある。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、メンテナンスの効率性を向上させると共に基板搬送部上に塵や埃などが付着するのを防ぐことができる塗布装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る塗布装置は、基板搬送部によって基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布部を備える塗布装置であって、前記塗布部は、前記液状体を吐出するノズルを有し、前記ノズルに対して作業者がアクセス可能な領域まで前記塗布部を前記基板の搬送方向もしくは基板の搬送方向とは逆の方向に移動させる移動機構を備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、基板搬送部によって基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布部を備える塗布装置の当該塗布部が液状体を吐出するノズルを有し、ノズルに対して作業者がアクセス可能な領域まで塗布部を基板の搬送方向もしくは基板の搬送方向とは逆の方向に移動させる移動機構を備えることとしたので、作業者が基板搬送部上に直接登ることなくノズルの清掃などのメンテナンスが可能となる。これにより、メンテナンスの効率性を向上させると共に基板搬送部上に塵や埃などが付着するのを防ぐことができる。
【０００９】
上記の塗布装置は、前記移動機構は、前記基板搬送部上であって前記基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方の端部を前記領域として前記塗布部を移動させることを特徴とする。
本発明によれば、移動機構が基板搬送部上であって基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方の端部を上記作業者がアクセス可能な領域として塗布部を移動させることとしたので、作業者がノズルにアクセスするのを一層容易にすることができる。
【００１０】
上記の塗布装置は、前記移動機構は、前記基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方の前記基板搬送部の端部を超える部分を前記領域として前記塗布部を移動させることを特徴とする。
本発明によれば、移動機構が基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方の基板搬送部の端部を超える部分を上記作業者がアクセス可能な領域として塗布部を移動させることとしたので、作業者が基板搬送部上から外れた位置においてノズルにアクセスすることができる。これにより、基板搬送部上に塵や埃などが付着するのをより確実に防ぐことができる。
【００１１】
上記の塗布装置は、前記塗布部を前記基板搬送部上の所定の位置に保持する保持機構を更に備えることを特徴とする。
本発明によれば、塗布部を基板搬送部上の所定の位置に保持する保持機構を更に備えることとしたので、塗布部の位置をより安定させることができる。これにより、作業者が一層ノズルにアクセスしやすくなる。
【００１２】
上記の塗布装置は、前記基板搬送部上に設けられ前記ノズルの状態を管理する管理部を更に備えることを特徴とする。
本発明によれば、基板搬送部上に設けられノズルの状態を管理する管理部を更に備えることとしたので、管理部によってノズルの状態を管理するのに加えて、作業者によって効率的にノズルが清掃されることとなるので、メンテナンス性の高い塗布装置を得ることができる。
【００１３】
上記の塗布装置は、前記基板搬入側及び前記基板搬出側のうち少なくとも一方に前記管理部を移動させる管理部移動機構を更に備えることを特徴とする。
本発明によれば、基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方に管理部を移動させる管理部移動機構を更に備えることとしたので、ノズルの移動位置に合わせて管理部の位置を移動させることができる。これにより、作業者によるノズルのメンテナンスを一層効率的に行うことができる。さらに、管理部移動機構によって管理部を移動させることで、管理部もノズルと同様にメンテナンスすることができる。
【００１４】
上記の塗布装置は、前記管理部は前記領域上に配置され、前記移動機構は、前記管理部上に前記塗布部を移動させることを特徴とする。
本発明によれば、管理部が上記作業者がアクセス可能な領域上に配置され、移動機構が管理部上に塗布部を移動させることとしたので、ノズルのメンテナンスの際にノズルの下方に管理部を移動させることができる。ノズルと基板搬送部との間に管理部が配置されることにより、例えばノズル清掃などのメンテナンス中にノズルから基板搬送部上に固化した液状体などが落下するのを防ぐことができ、基板搬送部上を清浄に保持することができる。
【００１５】
上記の塗布装置は、前記移動機構は、前記管理部を超えて前記塗布部を移動させることを特徴とする。
本発明によれば、移動機構が管理部を超えて塗布部を移動させることとしたので、管理部の位置に関わらず塗布部の移動位置を設定することができる。これにより、作業者がノズルのメンテナンスを一層容易に行うことができる。
【００１６】
上記の塗布装置は、前記管理部移動機構は、前記塗布部の移動に連動して前記管理部を移動させることを特徴とする。
本発明によれば、管理部移動機構が塗布部の移動に連動して管理部を移動させることとしたので、塗布部の移動及び管理部の移動を別個に行う場合に比べて移動時間の短縮化を図ることができると共に、移動制御を一層容易に行うことができる。
【００１７】
上記の塗布装置は、前記塗布部は複数設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、塗布部が複数設けられていることとしたので、例えば複数の塗布部のうち一の塗布部によって液状体の塗布を行っている間に残りの塗布部についてノズルのメンテナンスを行うことができる。これにより、処理タクトを短縮することができ、塗布性能が高く、メンテナンス性の良好な塗布装置を得ることができる。
【００１８】
上記の塗布装置は、前記移動機構は、一部の前記塗布部を前記搬送方向の基板搬入側へ移動させ、残りの前記塗布部を前記基板搬出側へ移動させることを特徴とする。
本発明によれば、塗布部が複数設けられている場合において、一部の塗布部を搬送方向の基板搬入側へ移動させ、残りの塗布部を基板搬出側へ移動させることとしたので、複数の塗布部について基板搬入側及び基板搬出側の両側で同時にノズルのメンテナンスを行うことができる。これにより、メンテナンスに要する時間を短縮することができる。また、複数の塗布部について分担してメンテナンスを行うことができるので、作業者の負担を軽減することができる。
【００１９】
上記の塗布装置は、前記ノズルは、前記領域側に傾くように回転可能に設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、ノズルが領域側に傾くように回転可能に設けられていることとしたので、作業者がノズルにアクセスする際にノズルを作業者の方へ向けることができる。これにより、作業者はノズルのメンテナンスを容易に行うことができる。
【００２０】
上記の塗布装置は、前記基板搬送部は、前記基板を浮上させる浮上機構を更に備えることを特徴とする。
作業者が基板搬送部上に直接登って作業を行うと基板搬送部上に塵や埃などが付着しやすくなる。基板搬送部が基板を浮上させる浮上機構を備える場合、当該塵や埃が基板に付着し、基板の品質を低下させる虞がある。本発明によれば、作業者が直接基板搬送部上に登って作業を行う必要が無いため、基板搬送部上に塵や埃が付着するのを抑えることができる。これにより、基板の品質の低下を回避することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、基板搬送部によって基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布部を備える塗布装置の当該塗布部が液状体を吐出するノズルを有し、ノズルに対して作業者がアクセス可能な領域まで塗布部を基板の搬送方向もしくは基板の搬送方向とは逆の方向に移動させる移動機構を備えることとしたので、作業者が基板搬送部上に直接登ることなくノズルの清掃などのメンテナンスが可能となる。これにより、メンテナンスの効率性を向上させると共に基板搬送部上に塵や埃などが付着するのを防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
［第１実施形態］
本発明の第１実施形態を図面に基づき説明する。
図１は本実施形態に係る塗布装置１の斜視図である。
図１に示すように、本実施形態に係る塗布装置１は、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板上にレジストを塗布する塗布装置であり、基板搬送部２と、塗布部３と、管理部４とを主要な構成要素としている。この塗布装置１は、基板搬送部２によって基板を浮上させて搬送しつつ塗布部３によって当該基板上にレジストが塗布されるようになっており、管理部４によって塗布部３の状態が管理されるようになっている。
【００２３】
図２は塗布装置１の正面図、図３は塗布装置１の平面図、図４は塗布装置１の側面図である。これらの図を参照して、塗布装置１の詳細な構成を説明する。以下、塗布装置１の構成を説明するにあたり、表記の簡単のため、図中の方向をＸＹＺ座標系を用いて説明する。基板搬送部２の長手方向であって基板の搬送方向をＸ方向と表記する。平面視でＸ方向（基板搬送方向）に直交する方向をＹ方向と表記する。Ｘ方向軸及びＹ方向軸を含む平面に垂直な方向をＺ方向と表記する。なお、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向のそれぞれは、図中の矢印の方向が＋方向、矢印の方向とは反対の方向が−方向であるものとする。
【００２４】
（基板搬送部）
まず、基板搬送部２の構成を説明する。
基板搬送部２は、基板搬入領域２０と、塗布処理領域２１と、基板搬出領域２２と、搬送機構２３と、これらを支持するフレーム部２４とを有している。この基板搬送部２では、搬送機構２３によって基板Ｓが基板搬入領域２０、塗布処理領域２１及び基板搬出領域２２へと順に搬送されるようになっている。基板搬入領域２０、塗布処理領域２１及び基板搬出領域２２は、基板搬送方向の上流側から下流側へこの順で配列されている。搬送機構２３は、基板搬入領域２０、塗布処理領域２１及び基板搬出領域２２の各部に跨るように当該各部の一側方に設けられている。
【００２５】
基板搬入領域２０は、装置外部から搬送されてきた基板Ｓを搬入する領域であり、搬入側ステージ２５と、リフト機構２６とを有している。
搬入側ステージ２５は、フレーム部２４上のＹ方向中央部に設けられており、例えばＳＵＳなどからなる平面視で矩形の板状部材である。この搬入側ステージ２５は、Ｘ方向が長手になっている。搬入側ステージ２５には、エア噴出孔２５ａと、昇降ピン出没孔２５ｂとがそれぞれ複数設けられている。これらエア噴出孔２５ａ及び昇降ピン出没孔２５ｂは、搬入側ステージ２５を貫通するように設けられている。
【００２６】
エア噴出孔２５ａは、搬入側ステージ２５のステージ表面２５ｃ上にエアを噴出する孔であり、例えば搬入側ステージ２５のうち基板Ｓの通過する領域に平面視マトリクス状に配置されている。このエア噴出孔２５ａには図示しないエア供給源が接続されている。この搬入側ステージ２５では、エア噴出孔２５ａから噴出されるエアによって基板Ｓを＋Ｚ方向に浮上させることができるようになっている。
【００２７】
昇降ピン出没孔２５ｂは、搬入側ステージ２５のうち基板Ｓの搬入される領域に設けられている。当該昇降ピン出没孔２５ｂは、ステージ表面２５ｃに供給されたエアが漏れ出さない構成になっている。
【００２８】
この搬入側ステージ２５のうちＹ方向の両端部には、アライメント装置２５ｄが１つずつ設けられている。アライメント装置２５ｄは、搬入側ステージ２５に搬入された基板Ｓの位置を合わせる装置である。各アライメント装置２５ｄは長孔と当該長孔内に設けられた位置合わせ部材を有しており、搬入ステージ２５に搬入される基板を両側から機械的に挟持するようになっている。
【００２９】
リフト機構２６は、搬入側ステージ２５の基板搬入位置の裏面側に設けられている。このリフト機構２６は、昇降部材２６ａと、複数の昇降ピン２６ｂとを有している。昇降部材２６ａは、図示しない駆動機構に接続されており、当該駆動機構の駆動によって昇降部材２６ａがＺ方向に移動するようになっている。複数の昇降ピン２６ｂは、昇降部材２６ａの上面から搬入側ステージ２５へ向けて立設されている。各昇降ピン２６ｂは、それぞれ上記の昇降ピン出没孔２５ｂに平面視で重なる位置に配置されている。昇降部材２６ａがＺ方向に移動することで、各昇降ピン２６ｂが昇降ピン出没孔２５ｂからステージ表面２５ｃ上に出没するようになっている。各昇降ピン２６ｂの＋Ｚ方向の端部はそれぞれＺ方向上の位置が揃うように設けられており、装置外部から搬送されてきた基板Ｓを水平な状態で保持することができるようになっている。
【００３０】
塗布処理領域２１は、レジストの塗布が行われる部位であり、基板Ｓを浮上支持する処理ステージ２７が設けられている。
処理ステージ２７は、ステージ表面２７ｃが例えば硬質アルマイトを主成分とする光吸収材料で覆われた平面視で矩形の板状部材であり、搬入側ステージ２５に対して＋Ｘ方向側に設けられている。処理ステージ２７のうち光吸収材料で覆われた部分では、レーザ光などの光の反射が抑制されるようになっている。この処理ステージ２７は、Ｙ方向が長手になっている。処理ステージ２７のＹ方向の寸法は、搬入側ステージ２５のＹ方向の寸法とほぼ同一になっている。処理ステージ２７には、ステージ表面２７ｃ上にエアを噴出する複数のエア噴出孔２７ａと、ステージ表面２７ｃ上のエアを吸引する複数のエア吸引孔２７ｂとが設けられている。これらエア噴出孔２７ａ及びエア吸引孔２７ｂは、処理ステージ２７を貫通するように設けられている。また、処理ステージ２７の内部には、エア噴出孔２７ａ及びエア吸引孔２７ｂを通過する気体の圧力に抵抗を与えるための図示しない溝が複数設けられている。この複数の溝は、ステージ内部においてエア噴出孔２７ａ及びエア吸引孔２７ｂに接続されている。
【００３１】
処理ステージ２７では、エア噴出孔２７ａのピッチが搬入側ステージ２５に設けられるエア噴出孔２５ａのピッチよりも狭く、搬入側ステージ２５に比べてエア噴出孔２７ａが密に設けられている。このため、この処理ステージ２７では他のステージに比べて基板の浮上量を高精度で調節できるようになっており、基板の浮上量が例えば１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下となるように制御することが可能になっている。
【００３２】
基板搬出領域２２は、レジストが塗布された基板Ｓを装置外部へ搬出する部位であり、搬出側ステージ２８と、リフト機構２９とを有している。この搬出側ステージ２８は、処理ステージ２７に対して＋Ｘ方向側に設けられており、基板搬入領域２０に設けられた搬入側ステージ２５とほぼ同様の材質、寸法から構成されている。搬出側ステージ２８には、搬入側ステージ２５と同様、エア噴出孔２８ａ及び昇降ピン出没孔２８ｂが設けられている。リフト機構２９は、搬出側ステージ２８の基板搬出位置の裏面側に設けられており、例えばフレーム部２４に支持されている。リフト機構２９の昇降部材２９ａ及び昇降ピン２９ｂは、基板搬入領域２０に設けられたリフト機構２６の各部位と同様の構成になっている。このリフト機構２９は、搬出側ステージ２８上の基板Ｓを外部装置へと搬出する際に、基板Ｓの受け渡しのため昇降ピン２９ｂによって基板Ｓを持ち上げることができるようになっている。
【００３３】
搬送機構２３は、搬送機２３ａと、真空パッド２３ｂと、レール２３ｃとを有している。搬送機２３ａは内部に例えばリニアモータが設けられた構成になっており、当該リニアモータが駆動することによって搬送機２３ａがレール２３ｃ上を移動可能になっている。この搬送機２３ａは、所定の部分２３ｄが平面視で基板Ｓの−Ｙ方向端部に重なるように配置されている。この基板Ｓに重なる部分２３ｄは、基板Ｓを浮上させたときの基板裏面の高さ位置よりも低い位置に設けられている。
【００３４】
真空パッド２３ｂは、搬送機２３ａのうち上記基板Ｓに重なる部分２３ｄに複数配列されている。この真空パッド２３ｂは、基板Ｓを真空吸着させる吸着面を有しており、当該吸着面が上方を向くように配置されている。真空パッド２３ｂは、吸着面が基板Ｓの裏面端部を吸着することで当該基板Ｓを保持可能になっている。各真空パッド２３ｂは搬送機２３ａの上面からの高さ位置が調節可能になっており、例えば基板Ｓの浮上量に応じて真空パッド２３ｂの高さ位置を上下させることができるようになっている。
【００３５】
レール２３ｃは、フレーム部２４の−Ｙ方向側の側部２４ａ上に設けられており、搬入側ステージ２５、処理ステージ２７及び搬出側ステージ２８の側方に各ステージに跨って延在している。当該レール２３ｃを摺動することで搬送機２３ａが当該各ステージに沿って移動できるようになっている。
【００３６】
（塗布部）
次に、塗布部３の構成を説明する。
塗布部３は、基板Ｓ上にレジストを塗布する部分であり、門型フレーム３１と、ノズル３２とを有している。
【００３７】
門型フレーム３１は、支柱部材３１ａと、架橋部材３１ｂとを有しており、処理ステージ２７をＹ方向に跨ぐように設けられている。支柱部材３１ａは処理ステージ２７のＹ方向側に１つずつ設けられており、各支柱部材３１ａがフレーム部２４のＹ方向側の両側面にそれぞれ支持されている。各支柱部材３１ａは、上端部の高さ位置が揃うように設けられている。架橋部材３１ｂは、各支柱部材３１ａの上端部の間に架橋されており、当該支柱部材３１ａに対して昇降可能となっている。
【００３８】
この門型フレーム３１は移動機構３４に接続されている。移動機構３４は、レール部材３５及び駆動機構３６を有している。レール部材３５はフレーム２４のうち−Ｙ方向側の側部２４ａ及び＋Ｙ方向側の側部２４ｂ上に１本ずつ設けられており、それぞれＸ方向に延在している。２本のレール部材３５の−Ｘ方向の端部は、それぞれフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの−Ｘ方向の端部まで設けられている。駆動機構３６は、門型フレーム３１に接続され塗布部３をレール部材３５に沿って移動させるアクチュエータである。
【００３９】
レール部材３５がフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの−Ｘ方向の端部まで設けられていることにより、塗布部３は搬入側ステージ２５の−Ｘ方向の端部まで移動可能になっている。塗布部３の移動に伴って、当該塗布部３に設けられたノズル３２についても搬入側ステージ２５の−Ｘ方向の端部まで移動可能になっている。また、この門型フレーム３１は、図示しない移動機構によりＺ方向にも移動可能になっている。
【００４０】
ノズル３２は、一方向が長手の長尺状に構成されており、門型フレーム３１の架橋部材３１ｂの−Ｚ方向側の面に設けられている。このノズル３２のうち−Ｚ方向の先端には、自身の長手方向に沿ってスリット状の開口部３２ａが設けられており、当該開口部３２ａからレジストが吐出されるようになっている。ノズル３２は、開口部３２ａの長手方向がＹ方向に平行になると共に、当該開口部３２ａが処理ステージ２７に対向するように配置されている。開口部３２ａの長手方向の寸法は搬送される基板ＳのＹ方向の寸法よりも小さくなっており、基板Ｓの周辺領域にレジストが塗布されないようになっている。ノズル３２の内部にはレジストを開口部３２ａに流通させる図示しない流通路が設けられており、この流通路には図示しないレジスト供給源が接続されている。このレジスト供給源は例えば図示しないポンプを有しており、当該ポンプでレジストを開口部３２ａへと押し出すことで開口部３２ａからレジストが吐出されるようになっている。支柱部材３１ａには不図示の移動機構が設けられており、当該移動機構によって架橋部材３１ｂに保持されたノズル３２がＺ方向に移動可能になっている。ノズル３２には不図示の移動機構が設けられており、当該移動機構によってノズル３２が架橋部材３１ｂに対してＺ方向に移動可能になっている。門型フレーム３１の架橋部材３１ｂの下面には、ノズル３２の開口部３２ａ、すなわち、ノズル３２の先端３２ｃと当該ノズル先端３２ｃに対向する対向面との間のＺ方向上の距離を測定するセンサ３３が取り付けられている。このセンサ３３はＹ方向に沿って例えば３つ設けられている。
【００４１】
（管理部）
管理部４の構成を説明する。
管理部４は、基板Ｓに吐出されるレジスト（液状体）の吐出量が一定になるようにノズル３２を管理する部位であり、基板搬送部２のうち塗布部３に対して−Ｘ方向側に設けられている。この管理部４は、予備吐出機構４１と、ディップ槽４２と、ノズル洗浄装置４３と、これらを収容する収容部４４と、当該収容部を保持する保持部材４５とを有している。
【００４２】
予備吐出機構４１、ディップ槽４２及びノズル洗浄装置４３は、−Ｘ方向側へこの順で配列されている。予備吐出機構４１は、レジストを予備的に吐出する部分である。当該予備吐出機構４１は塗布部３が塗布処理領域２１上に配置されている状態でノズル３２に最も近くなる位置に設けられている。ディップ槽４２は、内部にシンナーなどの溶剤が貯留された液体槽である。ノズル洗浄装置４３は、ノズル３２の開口部３２ａ近傍をリンス洗浄する装置であり、Ｙ方向に移動する図示しない洗浄機構と、当該洗浄機構を移動させる図示しない移動機構とを有している。この移動機構は、洗浄機構よりも−Ｘ方向側に設けられている。ノズル洗浄装置４３は、移動機構が設けられる分、予備吐出機構４１及びディップ槽４２に比べてＸ方向の寸法が大きくなっている。なお、予備吐出機構４１、ディップ槽４２、ノズル洗浄装置４３の配置については、本実施形態の配置に限られず、他の配置であっても構わない。
【００４３】
収容部４４のＹ方向の寸法は上記門型フレーム３１の支柱部材３１ａ間の距離よりも小さくなっており、上記門型フレーム３１が収容部４４を超えてＸ方向に移動できるようになっている。また、門型フレーム３１は、収容部４４内に設けられる予備吐出機構４１、ディップ槽４２及びノズル洗浄装置４３について、これらの各部を跨ぐようにアクセスできるようになっている。
【００４４】
保持部材４５は、管理部移動機構４６に接続されている。管理部移動機構４６は、レール部材４７及び駆動機構４８を有している。レール部材４７は、フレーム２４のうち−Ｙ方向側の側部２４ａ及び＋Ｙ方向側の側部２４ｂ上に１本ずつ設けられており、それぞれＸ方向に延在している。各レール部材４７は、塗布部３の門型フレーム３１に接続される２本のレール部材３５の間に配置されている。２本のレール部材４７の−Ｘ方向の端部は、それぞれフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの−Ｘ方向の端部まで設けられている。駆動機構４８は、保持部材４５に接続され管理部４をレール部材４７上に沿って移動させるアクチュエータである。
【００４５】
このレール部材４７がフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの−Ｘ方向の端部まで設けられていることにより、管理部４が搬入側ステージ２５の−Ｘ方向の端部まで移動可能になっている。また、各レール部材４７がレール部材３５の間に配置されているため、管理部４は塗布部３の門型フレーム３１をくぐるように移動することになる。
【００４６】
（塗布動作）
次に、上記のように構成された塗布装置１の動作を説明する。
図５〜図８は、塗布装置１の動作過程を示す平面図である。各図を参照して、基板Ｓにレジストを塗布する動作を説明する。この動作では、基板Ｓを基板搬入領域２０に搬入し、当該基板Ｓを浮上させて搬送しつつ塗布処理領域２１でレジストを塗布し、当該レジストを塗布した基板Ｓを基板搬出領域２２から搬出する。図５〜図８には門型フレーム３１及び管理部４の輪郭のみを破線で示し、ノズル３２及び処理ステージ２７の構成を判別しやすくした。以下、各部分における詳細な動作を説明する。
【００４７】
基板搬入領域２０に基板を搬入する前に、塗布装置１をスタンバイさせておく。具体的には、搬入側ステージ２５の基板搬入位置の−Ｙ方向側に搬送機２３ａを配置させ、真空パッド２３ｂの高さ位置を基板の浮上高さ位置に合わせておくと共に、搬入側ステージ２５のエア噴出孔２５ａ、処理ステージ２７のエア噴出孔２７ａ、エア吸引孔２７ｂ及び搬出側ステージ２８のエア噴出孔２８ａからそれぞれエアを噴出又は吸引し、各ステージ表面に基板が浮上する程度にエアが供給された状態にしておく。
【００４８】
この状態で、例えば図示しない搬送アームなどによって外部から図５に示す基板搬入位置に基板Ｓが搬送されてきたら、昇降部材２６ａを＋Ｚ方向に移動させて昇降ピン２６ｂを昇降ピン出没孔２５ｂからステージ表面２５ｃに突出させる。この昇降部材２６ａの動作により、基板Ｓが昇降ピン２６ｂに持ち上げられ、当該基板Ｓの受け取りが行われる。また、アライメント装置２５ｄの長孔から位置合わせ部材をステージ表面２５ｃに突出させておく。
【００４９】
基板Ｓを受け取った後、昇降部材２６ａを下降させて昇降ピン２６ｂを昇降ピン出没孔２５ｂ内に収容する。このとき、ステージ表面２５ｃにはエアの層が形成されているため、基板Ｓは当該エアによりステージ表面２５ｃに対して浮上した状態で保持される。基板Ｓがエア層の表面に到達した際、アライメント装置２５ｄの位置合わせ部材によって基板Ｓの位置合わせが行われ、基板搬入位置の−Ｙ方向側に配置された搬送機２３ａの真空パッド２３ｂを基板Ｓの−Ｙ方向側端部に真空吸着させる。基板Ｓの−Ｙ方向側端部が吸着された状態を図５に示す。真空パッド２３ｂによって基板Ｓの−Ｙ方向側端部が吸着された後、搬送機２３ａをレール２３ｃに沿って移動させる。基板Ｓが浮上した状態になっているため、搬送機２３ａの駆動力を比較的小さくしても基板Ｓはレール２３ｃに沿ってスムーズに移動する。
【００５０】
基板Ｓの搬送方向先端がノズル３２の開口部３２ａの位置に到達したら、図６に示すように、ノズル３２の開口部３２ａから基板Ｓへ向けてレジストを吐出する。レジストの吐出は、ノズル３２の位置を固定させ搬送機２３ａによって基板Ｓを搬送させながら行う。基板Ｓの移動に伴い、図７に示すように基板Ｓ上にレジスト膜Ｒが塗布されていく。基板Ｓがレジストを吐出する開口部３２ａの下を通過することにより、基板Ｓの所定の領域にレジスト膜Ｒが形成される。
【００５１】
レジスト膜Ｒの形成された基板Ｓは、搬送機２３ａによって搬出側ステージ２８へと搬送される。搬出側ステージ２８では、ステージ表面２８ｃに対して浮上した状態で、図８に示す基板搬出位置まで基板Ｓが搬送される。
【００５２】
基板Ｓが基板搬出位置に到達したら、真空パッド２３ｂの吸着を解除し、リフト機構２９の昇降部材２９ａを＋Ｚ方向に移動させる。昇降部材２９ａの移動により、昇降ピン２９ｂが昇降ピン出没孔２８ｂから基板Ｓの裏面へ突出し、基板Ｓが昇降ピン２９ｂによって持ち上げられる。この状態で、例えば搬出側ステージ２８の＋Ｘ方向側に設けられた外部の搬送アームが搬出側ステージ２８にアクセスし、基板Ｓを受け取る。基板Ｓを搬送アームに渡した後、搬送機２３ａを再び搬入側ステージ２５の基板搬入位置まで戻し、次の基板Ｓが搬送されるまで待機させる。
【００５３】
次の基板Ｓが搬送されてくるまでの間、塗布部３では、ノズル３２の吐出状態を保持するための予備吐出が行われる。図９に示すように、レール部材３５によって門型フレーム３１を管理部４の位置まで−Ｘ方向へ移動させる。
【００５４】
管理部４の位置まで門型フレーム３１を移動させた後、門型フレーム３１の位置を調整してノズル３２の先端をノズル洗浄装置４３にアクセスさせ、当該ノズル洗浄装置４３によってノズル先端３２ｃを洗浄する。
【００５５】
ノズル先端３２ｃの洗浄後、当該ノズル３２を予備吐出機構４１にアクセスさせる。予備吐出機構４１では、開口部３２ａと予備吐出面との間の距離を測定しながらノズル３２の先端の開口部３２ａをＺ方向上の所定の位置に移動させ、ノズル３２を−Ｘ方向へ移動させながら開口部３２ａからレジストを予備吐出する。
【００５６】
予備吐出動作を行った後、門型フレーム３１を元の位置に戻す。次の基板Ｓが搬送されてきたら、図１０に示すようにノズル３２をＺ方向上の所定の位置に移動させる。このように、基板Ｓにレジスト膜Ｒを塗布する塗布動作と予備吐出動作とを繰り返し行わせることで、基板Ｓには良質なレジスト膜Ｒが形成されることになる。
【００５７】
なお、必要に応じて、例えば管理部４に所定の回数アクセスする毎に、当該ノズル３２をディップ槽４２内にアクセスさせても良い。ディップ層４２では、ノズル３２の開口部３２ａをディップ槽４２に貯留された溶剤（シンナー）の蒸気雰囲気に曝すことでノズル３２の乾燥を防止する。
【００５８】
（メンテナンス）
次に、ノズル３２のメンテナンスについて説明する。本実施形態では、ノズル３２のメンテナンスのうちノズル３２の清掃について説明する。ノズル３２の清掃は、作業者がノズル３２を手作業にて拭き取ることによって行われる。
【００５９】
まず、図１１に示すように、塗布部３の門型フレーム３１に接続された駆動機構３６を駆動させ、基板搬送部２の塗布処理領域２１上に配置されていた塗布部３を、基板搬送部２の基板搬入領域２０の−Ｘ方向の端部まで移動させる。このとき、塗布部３は管理部４を超えて移動することになる。
【００６０】
次に、図１２に示すように、管理部４の保持部材４５に接続された駆動機構４８を駆動させ、管理部４を基板搬送部２の基板搬入領域２０の−Ｘ方向の端部まで移動させる。管理部４の当該動作により、門型フレーム３１の直下、すなわち、ノズル３２の直下に管理部４が配置されることになる。塗布部３の移動及び管理部４の移動については、それぞれ別々に移動させても良いし、塗布部３と管理部４とが連動するように駆動機構３６及び駆動機構４８を同時に駆動させても良い。
【００６１】
次に、図１３に示すように、フレーム２４の−Ｘ方向側に作業台６０を設置する。この作業台６０は、Ｙ方向の寸法が少なくともノズル３２のＹ方向の寸法よりも大きくなるように設けられており、ノズル３２をＹ方向にカバーする範囲に設置する。なお、作業台６０については、フレーム２４内に予め配置しておき必要に応じて出没させるようにしても良いし、外部から運んできて設置するようにしても良い。
【００６２】
作業台６０の設置後、図１４に示すように、作業者Ｐが作業台６０上に登る。作業者Ｐが作業台６０上に登った状態において、作業者Ｐのアクセス可能な範囲Ｑは、作業者Ｐの手の届く空間、すなわち、基板搬送部２上の空間のうち−Ｘ方向の端部を含んだ空間及び作業台６０上の空間となる。門型フレーム３１は基板搬送部２の−Ｘ方向の端部に移動してきているため、作業者Ｐのアクセス可能な範囲Ｑに含まれることになる。作業者Ｐは、アクセス可能な範囲Ｑ内に位置するノズル３２にアクセスし、ノズル先端を拭き取る作業を行う。拭き取り後、門型フレーム３２及び管理部４の位置を元の位置に戻し、塗布動作を行うようにする。
【００６３】
このように、本実施形態によれば、ノズル３２に対して作業者Ｐがアクセス可能な領域Ｑまで塗布部３を基板Ｓの搬送方向もしくは基板Ｓの搬送方向とは逆の方向に移動させる移動機構３４を備えることとしたので、作業者Ｐが基板搬送部２上に直接登ることなくノズル３２の拭き取りなどのメンテナンスが可能となる。これにより、メンテナンスの効率性を向上させると共に基板搬送部２上に塵や埃などが付着するのを防ぐことができる。
【００６４】
また、本実施形態によれば、基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方に管理部４を移動させる管理部移動機構４６を更に備えることとしたので、ノズル３２の移動位置に合わせて管理部４の位置を移動させることができる。これにより、作業者Ｐによるノズル３２のメンテナンスを一層効率的に行うことができる。
【００６５】
また、本実施形態によれば、管理部４が上記作業者がアクセス可能な領域Ｑ上に配置され、移動機構３４及び管理部移動機構４６によって塗布部３を管理部４上に移動させることとしたので、ノズル３２のメンテナンスの際にノズル３２の下方に管理部４を移動させることができる。ノズル３２と基板搬送部２との間に管理部４が配置されることにより、例えばノズル３２の清掃などのメンテナンス中にノズル３２から基板搬送部２の搬入側ステージ２５上に固化したレジストなどが落下するのを防ぐことができ、基板搬送部２上を清浄に保持することができる。
【００６６】
［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態を説明する。第１実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第１実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、フレーム２４の構成及びレール部材３５、レール部材４７の構成が第１実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
【００６７】
図１５は、本実施形態に係る塗布装置１の構成を示す斜視図であり、第１実施形態における図１に対応している。本実施形態では、フレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂにおける−Ｘ方向の端部Ｔ１が、基板搬送部２の搬入側ステージ２５における−Ｘ方向の端部Ｔ２よりも−Ｘ方向側にはみ出した状態になっている。また、レール部材３５及びレール部材４７がフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの端部Ｔ１まで設けられた構成になっている。他の構成は、第１実施形態と同一である。
【００６８】
図１５に示す構成においては、塗布部３及び管理部４が基板搬送部２の搬入側ステージ２５における−Ｘ方向の端部Ｔ２を超えた位置まで移動することができるようになっている。例えば、図１５に示すように、フレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂにおける−Ｘ方向の端部Ｔ１に合わせて作業台６０を設置した場合、作業者のアクセス可能な領域Ｑはフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂ上の空間のうち−Ｘ方向の端部を含んだ空間及び作業台６０上の空間となる。したがって、塗布部３及び管理部４は作業者のアクセス可能な領域Ｑまで移動可能に設けられていることになる。
【００６９】
このように、本実施形態によれば、基板搬送部２の−Ｘ方向の端部Ｔ２を超える部分を上記作業者がアクセス可能な領域Ｑとして、レール部材３５に沿って塗布部３を移動させることとしたので、基板搬送部２上から外れた位置において作業者にメンテナンスを行わせることができる。これにより、基板搬送部２上に塵や埃、レジストなどが付着するのをより確実に防ぐことができる。なお、本実施形態においては、レール部材３５のみが基板搬送部２の−Ｘ方向の端部Ｔ２を超えて延在する構成であっても、同様の効果を得ることができる。
【００７０】
［第３実施形態］
次に、本発明の第３実施形態を説明する。第１実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第１実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、レール部材３５及びレール部材４７の構成が第１実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
【００７１】
図１６は、本実施形態に係る塗布装置１の構成を示す斜視図であり、第１実施形態における図１に対応している。本実施形態では、レール部材３５及びレール部材４７がフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの−Ｘ方向側の端部から＋Ｘ方向側の端部まで設けられた構成になっている。他の構成は、第１実施形態と同様である。
【００７２】
図１６に示す構成においては、塗布部３及び管理部４が基板搬送部２の搬入側ステージ２５における−Ｘ方向側の端部及び搬出側ステージ２８における＋Ｘ方向側の端部まで移動可能に設けられている。例えば、図１６に示すように、搬入側ステージ２５の−Ｘ方向側端部に沿って作業台６０を設置する場合、作業者のアクセス可能な領域Ｑ１は、基板搬送部２上の空間のうち−Ｘ方向の端部を含んだ空間及び作業台６０上の空間である。また、例えば搬出側ステージ２８の＋Ｘ方向側端部に沿って作業台６１を設置した場合、作業者のアクセス可能な領域Ｑ２は、基板搬送部２上の空間のうち＋Ｘ方向の端部を含んだ空間及び作業台６１上の空間である。したがって、塗布部３及び管理部４は作業者のアクセス可能な領域Ｑ１及びＱ２まで移動可能に設けられていることになる。
【００７３】
このように、本実施形態によれば、塗布部３及び管理部４が作業者のアクセス可能な２つの領域Ｑ１及びＱ２に移動可能に設けられることとしたので、ノズル３２の清掃などのメンテナンスの際には塗布装置１の基板搬入側及び基板搬出側のどちらからでもノズル３２にアクセスすることができる。これにより、塗布装置１の設置される環境に応じて塗布部３の移動位置を柔軟に設定することが可能となる。
【００７４】
［第４実施形態］
次に、本発明の第４実施形態を説明する。第１実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第１実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、塗布部３の構成、レール部材３５及びレール部材４７の構成が第１実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
【００７５】
図１７は、本実施形態に係る塗布装置１の構成を示す斜視図であり、第１実施形態における図１に対応している。本実施形態では、塗布部が複数、例えば２つ設けられた構成になっており、基板搬入領域２０側には塗布部３ａが、基板搬出領域２２側には塗布部３ｂがそれぞれ設けられている。
【００７６】
また、本実施形態では、第３実施形態と同様に、レール部材３５及びレール部材４７がフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの−Ｘ方向側の端部から＋Ｘ方向側の端部まで設けられた構成になっている。他の構成は、第１実施形態と同様である。
【００７７】
図１７に示す構成においては、塗布部３ａが基板搬送部２の搬入側ステージ２５における−Ｘ方向側の端部に移動可能に設けられており、塗布部３ｂが搬出側ステージ２８における＋Ｘ方向側の端部まで移動可能に設けられている。例えば、図１７に示すように、搬入側ステージ２５の−Ｘ方向側端部に沿って作業台６０を設置する場合、作業者のアクセス可能な領域Ｑ１は、第３実施形態と同様、基板搬送部２上の空間のうち−Ｘ方向の端部を含んだ空間及び作業台６０上の空間である。また、例えば搬出側ステージ２８の＋Ｘ方向側端部に沿って作業台６１を設置した場合、作業者のアクセス可能な領域Ｑ２は、第３実施形態と同様、基板搬送部２上の空間のうち＋Ｘ方向の端部を含んだ空間及び作業台６１上の空間である。したがって、塗布部３ａは作業者のアクセス可能な領域Ｑ１まで移動可能に設けられていることになり、塗布部３ｂは作業者のアクセス可能な領域Ｑ２まで移動可能に設けられていることになる。
【００７８】
このように、本実施形態によれば、塗布部が複数設けられている場合において、塗布部３ａを基板搬入領域２０側へ移動させ、塗布部３ｂを基板搬出領域２２側へ移動させることとしたので、塗布部３ａ及び３ｂを基板搬入側及び基板搬出側の両側において同時にノズル３２のメンテナンスを行うことができる。これにより、メンテナンスに要する時間を短縮することができる。また、基板搬入領域２０側に設置された作業台６０、基板搬出領域側２２に設置された作業台６１において各作業者が塗布部３ａ及び３ｂに対して分担してノズル３２のメンテナンスを行うことができるため、メンテナンスの効率を向上させることができる。
【００７９】
なお、本実施形態においては、塗布部が２つ設けられた構成としたが、これに限られることは無く、例えば塗布部が３つ以上設けられた構成としても、本発明の適用は可能である。この場合、複数の塗布部のうち一部を基板搬入領域２０側に移動させ、残りを基板搬出領域２２側に移動させるようにすることが好ましい。
【００８０】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、塗布部３を作業者がアクセス可能な領域まで移動させる手段として、サーボで動かし、エンコーダー（リニアスケール）での位置決めを行ってもよく、さらにリミットセンサを付加するなどしても良い。また塗布部３を移動させた後に、メカニカル的に保持する保持機構を設けても良く、当該保持機構として、図１８に示すようなクランプ機構６２を設けるようにしても構わない。このクランプ機構６２は支柱部材３１ｂのうちレール部材３５に対向する位置に設けられており、例えばレール部材３５の図中左右方向の両側、すなわち、塗布部３の移動方向の側方に設けられている。塗布部３が所望の位置に移動した後、クランプ機構６２が突出してレール部材３５に当接し、両側からレール部材３５を挟持することで塗布部３の位置を保持するようになっている。
【００８１】
このように、塗布部３を基板搬送部２上の所定の位置に保持するクランプ機構６２を有することで、塗布部３の位置をより安定させることができる。これにより、作業者が一層ノズル３２のメンテナンスを行いやすくなる。クランプ機構６２を管理部４の保持部材４５に設けるようにしても構わない。また、クランプ機構６２の構成については、図１８に示す構成に限られず、他の構成であっても勿論構わない。
【００８２】
また、例えば図１９に示すように、ノズル３２が作業者Ｐ側に傾くように回転可能に設けられた構成であっても構わない。この構成によれば、ノズル３２の先端３２ｃが作業者Ｐの方を向くため、作業者Ｐはノズル３２に容易にアクセスすることが可能となる。これにより、メンテナンスの効率が向上することになる。
【００８３】
また、塗布装置１の全体構成については、上記実施形態では、搬送機構２３を各ステージの−Ｙ方向側に配置する構成としたが、これに限られることは無い。例えば、搬送機構２３を各ステージの＋Ｙ方向側に配置する構成であっても構わない。また、図２０に示すように、各ステージの−Ｙ方向側には上記の搬送機構２３（搬送機２３ａ、真空パッド２３ｂ、レール２３ｃ）を配置し、＋Ｙ方向側には当該搬送機構２３と同一の構成の搬送機構５３（搬送機５３ａ、真空パッド５３ｂ、レール５３ｃ）を配置して、搬送機構２３と搬送機構５３とで異なる基板を搬送できるように構成しても構わない。例えば、同図に示すように搬送機構２３には基板Ｓ１を搬送させ、搬送機構５３には基板Ｓ２を搬送させるようにする。この場合、搬送機構２３と搬送機構５３とで基板を交互に搬送することが可能となるため、スループットが向上することになる。また、上記の基板Ｓ、Ｓ１、Ｓ２の半分程度の面積を有する基板を搬送する場合には、例えば搬送機構２３と搬送機構５３とで１枚ずつ保持し、搬送機構２３と搬送機構５３とを＋Ｘ方向に並進させることによって、２枚の基板を同時に搬送させることができる。このような構成により、スループットを向上させることができる。
【００８４】
また、上記実施形態では、移動機構３４のレール部材３５及び移動機構４６のレール部材４７がそれぞれフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの上面に設けられた構成としたが、これに限られることは無く、例えば図２１に示すように、レール部材３５及びレール部材４７がそれぞれフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの内部に設けられた構成としても構わない。
【００８５】
図２１では、フレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂに溝部２４ｃ及び溝部２４ｄがＸ方向に沿って設けられると共に、レール部材３５が溝部２４ｃ内に設けられレール部材４７が溝部２４ｄに設けられた構成になっている。また、塗布部３の支柱部材３１ａの−Ｚ方向の端部が溝部２４ｃ内に挿入された状態で支柱部材３１ａがレール３５上に配置されており、管理部４の保持部材４５の−Ｚ方向の端部が溝部２４ｄ内に挿入された状態で保持部材４５がレール部材４７上に配置されている。
【００８６】
なお、図２１においては、溝部２４ｃのＺ方向の寸法が溝部２４ｄのＺ方向の寸法よりも大きくなっているが、勿論これに限られることは無く、例えば溝部２４ｄのＺ方向の寸法が溝部２４ｃのＺ方向の寸法よりも大きくなっていても構わないし、溝部２４ｃと溝部２４ｄとでＺ方向の寸法が同一になっていても構わない。
【００８７】
また、上記実施形態では、基板Ｓを浮上させて搬送する塗布装置１を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、基板を搬送させつつ塗布を行う塗布装置であれば、浮上搬送型以外の塗布装置、例えば搬送ローラなどの搬送機構によって基板を搬送する塗布装置であっても本発明の適用は可能である。
【００８８】
また、上記実施形態では、作業者がノズル３２のメンテナンスを行う構成のみを説明したが、これに限られることは無く、例えば管理部４をアクセス可能な領域Ｑへ移動させ当該管理部４のメンテナンスを行うようにしても構わない。また、例えば塗布部３及び管理部４を作業者のアクセス可能な領域Ｑへ移動させ、ノズル３２の直下に管理部４が配置された状態でまずノズル３２のメンテナンスを行い、ノズル３２のメンテナンス終了後に塗布部３を塗布処理領域２１に移動させ、その後管理部４のメンテナンスを行うようにしても構わない。これにより、塗布装置１のメンテナンスの効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る塗布装置の構成を示す斜視図。
【図２】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す正面図。
【図３】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す平面図。
【図４】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す側面図。
【図５】本実施形態に係る塗布装置の動作を示す図。
【図６】同、動作図。
【図７】同、動作図。
【図８】同、動作図。
【図９】同、動作図。
【図１０】同、動作図。
【図１１】本実施形態に係る塗布装置のメンテナンスの工程を示す図。
【図１２】同、工程図。
【図１３】同、工程図。
【図１４】同、工程図。
【図１５】本発明の第２実施形態に係る塗布装置の構成を示す斜視図。
【図１６】本発明の第３実施形態に係る塗布装置の構成を示す斜視図。
【図１７】本発明の第４実施形態に係る塗布装置の構成を示す斜視図。
【図１８】本発明に係る塗布装置の他の構成を示す図。
【図１９】本発明に係る塗布装置の他の構成を示す図。
【図２０】本発明に係る塗布装置の他の構成を示す図。
【図２１】本発明に係る塗布装置の他の構成を示す図。
【符号の説明】
【００９０】
１…塗布装置 ２…基板搬送部 ３…塗布部 ４…管理部 ２４…フレーム ２４ａ、２４ｂ…側部 ２５…搬入側ステージ ２８…搬出側ステージ ３１…門型フレーム ３４…移動機構 ４５…保持部材 ４６…移動機構 ６０、６１…作業台 ６２…クランプ機構 Ｐ…作業者 Ｑ、Ｑ１、Ｑ２…領域 Ｔ１、Ｔ２…端部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどの表示パネルを構成するガラス基板上には、配線や電極、カラーフィルタなどの微細なパターンが形成されている。一般的にこのようなパターンは、例えばフォトリソグラフィなどの手法によって形成される。フォトリソグラフィ法では、ガラス基板上にレジスト膜を形成する工程、このレジスト膜をパターン露光する工程、その後に当該レジスト膜を現像する工程がそれぞれ行われる。
【０００３】
基板の表面上にレジスト膜を塗布する装置として、スリットノズルを固定し、当該スリットノズルの下を移動するガラス基板にレジストを塗布する塗布装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。例えばレジストがスリットノズルの先端に固化して付着すると塗布ムラが発生するなど塗布性能が悪化するため、メンテナンス時にスリットノズルの先端を清掃する必要がある。
【０００４】
スリットノズル先端の清掃は、通常、当該スリットノズル先端に付着した異物を作業者が手作業で拭き取ることによって行われる。スリットノズルは基板を搬送するステージ上に設けられているため、従来、作業者がステージ上に登ってスリットノズルにアクセスしていた。
【特許文献１】特開２００５−２３６０９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ステージは基板の搬送のために設計されたものであり、本来作業者の立ち入りは想定されていない。このため、作業者がステージ上で安全に作業を行おうとするとメンテナンスの工程が煩雑になってしまう。また、作業者がステージ上に登ることでステージ上に塵や埃などが付着する可能性もある。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、メンテナンスの効率性を向上させると共に基板搬送部上に塵や埃などが付着するのを防ぐことができる塗布装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る塗布装置は、基板搬送部によって基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布部を備える塗布装置であって、前記塗布部は、前記液状体を吐出するノズルを有し、前記ノズルに対して作業者がアクセス可能な領域まで前記塗布部を前記基板の搬送方向もしくは基板の搬送方向とは逆の方向に移動させる移動機構を備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、基板搬送部によって基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布部を備える塗布装置の当該塗布部が液状体を吐出するノズルを有し、ノズルに対して作業者がアクセス可能な領域まで塗布部を基板の搬送方向もしくは基板の搬送方向とは逆の方向に移動させる移動機構を備えることとしたので、作業者が基板搬送部上に直接登ることなくノズルの清掃などのメンテナンスが可能となる。これにより、メンテナンスの効率性を向上させると共に基板搬送部上に塵や埃などが付着するのを防ぐことができる。
【０００９】
上記の塗布装置は、前記移動機構は、前記基板搬送部上であって前記基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方の端部を前記領域として前記塗布部を移動させることを特徴とする。
本発明によれば、移動機構が基板搬送部上であって基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方の端部を上記作業者がアクセス可能な領域として塗布部を移動させることとしたので、作業者がノズルにアクセスするのを一層容易にすることができる。
【００１０】
上記の塗布装置は、前記移動機構は、前記基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方の前記基板搬送部の端部を超える部分を前記領域として前記塗布部を移動させることを特徴とする。
本発明によれば、移動機構が基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方の基板搬送部の端部を超える部分を上記作業者がアクセス可能な領域として塗布部を移動させることとしたので、作業者が基板搬送部上から外れた位置においてノズルにアクセスすることができる。これにより、基板搬送部上に塵や埃などが付着するのをより確実に防ぐことができる。
【００１１】
上記の塗布装置は、前記塗布部を前記基板搬送部上の所定の位置に保持する保持機構を更に備えることを特徴とする。
本発明によれば、塗布部を基板搬送部上の所定の位置に保持する保持機構を更に備えることとしたので、塗布部の位置をより安定させることができる。これにより、作業者が一層ノズルにアクセスしやすくなる。
【００１２】
上記の塗布装置は、前記基板搬送部上に設けられ前記ノズルの状態を管理する管理部を更に備えることを特徴とする。
本発明によれば、基板搬送部上に設けられノズルの状態を管理する管理部を更に備えることとしたので、管理部によってノズルの状態を管理するのに加えて、作業者によって効率的にノズルが清掃されることとなるので、メンテナンス性の高い塗布装置を得ることができる。
【００１３】
上記の塗布装置は、前記基板搬入側及び前記基板搬出側のうち少なくとも一方に前記管理部を移動させる管理部移動機構を更に備えることを特徴とする。
本発明によれば、基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方に管理部を移動させる管理部移動機構を更に備えることとしたので、ノズルの移動位置に合わせて管理部の位置を移動させることができる。これにより、作業者によるノズルのメンテナンスを一層効率的に行うことができる。さらに、管理部移動機構によって管理部を移動させることで、管理部もノズルと同様にメンテナンスすることができる。
【００１４】
上記の塗布装置は、前記管理部は前記領域上に配置され、前記移動機構は、前記管理部上に前記塗布部を移動させることを特徴とする。
本発明によれば、管理部が上記作業者がアクセス可能な領域上に配置され、移動機構が管理部上に塗布部を移動させることとしたので、ノズルのメンテナンスの際にノズルの下方に管理部を移動させることができる。ノズルと基板搬送部との間に管理部が配置されることにより、例えばノズル清掃などのメンテナンス中にノズルから基板搬送部上に固化した液状体などが落下するのを防ぐことができ、基板搬送部上を清浄に保持することができる。
【００１５】
上記の塗布装置は、前記移動機構は、前記管理部を超えて前記塗布部を移動させることを特徴とする。
本発明によれば、移動機構が管理部を超えて塗布部を移動させることとしたので、管理部の位置に関わらず塗布部の移動位置を設定することができる。これにより、作業者がノズルのメンテナンスを一層容易に行うことができる。
【００１６】
上記の塗布装置は、前記管理部移動機構は、前記塗布部の移動に連動して前記管理部を移動させることを特徴とする。
本発明によれば、管理部移動機構が塗布部の移動に連動して管理部を移動させることとしたので、塗布部の移動及び管理部の移動を別個に行う場合に比べて移動時間の短縮化を図ることができると共に、移動制御を一層容易に行うことができる。
【００１７】
上記の塗布装置は、前記塗布部は複数設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、塗布部が複数設けられていることとしたので、例えば複数の塗布部のうち一の塗布部によって液状体の塗布を行っている間に残りの塗布部についてノズルのメンテナンスを行うことができる。これにより、処理タクトを短縮することができ、塗布性能が高く、メンテナンス性の良好な塗布装置を得ることができる。
【００１８】
上記の塗布装置は、前記移動機構は、一部の前記塗布部を前記搬送方向の基板搬入側へ移動させ、残りの前記塗布部を前記基板搬出側へ移動させることを特徴とする。
本発明によれば、塗布部が複数設けられている場合において、一部の塗布部を搬送方向の基板搬入側へ移動させ、残りの塗布部を基板搬出側へ移動させることとしたので、複数の塗布部について基板搬入側及び基板搬出側の両側で同時にノズルのメンテナンスを行うことができる。これにより、メンテナンスに要する時間を短縮することができる。また、複数の塗布部について分担してメンテナンスを行うことができるので、作業者の負担を軽減することができる。
【００１９】
上記の塗布装置は、前記ノズルは、前記領域側に傾くように回転可能に設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、ノズルが領域側に傾くように回転可能に設けられていることとしたので、作業者がノズルにアクセスする際にノズルを作業者の方へ向けることができる。これにより、作業者はノズルのメンテナンスを容易に行うことができる。
【００２０】
上記の塗布装置は、前記基板搬送部は、前記基板を浮上させる浮上機構を更に備えることを特徴とする。
作業者が基板搬送部上に直接登って作業を行うと基板搬送部上に塵や埃などが付着しやすくなる。基板搬送部が基板を浮上させる浮上機構を備える場合、当該塵や埃が基板に付着し、基板の品質を低下させる虞がある。本発明によれば、作業者が直接基板搬送部上に登って作業を行う必要が無いため、基板搬送部上に塵や埃が付着するのを抑えることができる。これにより、基板の品質の低下を回避することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、基板搬送部によって基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布部を備える塗布装置の当該塗布部が液状体を吐出するノズルを有し、ノズルに対して作業者がアクセス可能な領域まで塗布部を基板の搬送方向もしくは基板の搬送方向とは逆の方向に移動させる移動機構を備えることとしたので、作業者が基板搬送部上に直接登ることなくノズルの清掃などのメンテナンスが可能となる。これにより、メンテナンスの効率性を向上させると共に基板搬送部上に塵や埃などが付着するのを防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
［第１実施形態］
本発明の第１実施形態を図面に基づき説明する。
図１は本実施形態に係る塗布装置１の斜視図である。
図１に示すように、本実施形態に係る塗布装置１は、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板上にレジストを塗布する塗布装置であり、基板搬送部２と、塗布部３と、管理部４とを主要な構成要素としている。この塗布装置１は、基板搬送部２によって基板を浮上させて搬送しつつ塗布部３によって当該基板上にレジストが塗布されるようになっており、管理部４によって塗布部３の状態が管理されるようになっている。
【００２３】
図２は塗布装置１の正面図、図３は塗布装置１の平面図、図４は塗布装置１の側面図である。これらの図を参照して、塗布装置１の詳細な構成を説明する。以下、塗布装置１の構成を説明するにあたり、表記の簡単のため、図中の方向をＸＹＺ座標系を用いて説明する。基板搬送部２の長手方向であって基板の搬送方向をＸ方向と表記する。平面視でＸ方向（基板搬送方向）に直交する方向をＹ方向と表記する。Ｘ方向軸及びＹ方向軸を含む平面に垂直な方向をＺ方向と表記する。なお、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向のそれぞれは、図中の矢印の方向が＋方向、矢印の方向とは反対の方向が−方向であるものとする。
【００２４】
（基板搬送部）
まず、基板搬送部２の構成を説明する。
基板搬送部２は、基板搬入領域２０と、塗布処理領域２１と、基板搬出領域２２と、搬送機構２３と、これらを支持するフレーム部２４とを有している。この基板搬送部２では、搬送機構２３によって基板Ｓが基板搬入領域２０、塗布処理領域２１及び基板搬出領域２２へと順に搬送されるようになっている。基板搬入領域２０、塗布処理領域２１及び基板搬出領域２２は、基板搬送方向の上流側から下流側へこの順で配列されている。搬送機構２３は、基板搬入領域２０、塗布処理領域２１及び基板搬出領域２２の各部に跨るように当該各部の一側方に設けられている。
【００２５】
基板搬入領域２０は、装置外部から搬送されてきた基板Ｓを搬入する領域であり、搬入側ステージ２５と、リフト機構２６とを有している。
搬入側ステージ２５は、フレーム部２４上のＹ方向中央部に設けられており、例えばＳＵＳなどからなる平面視で矩形の板状部材である。この搬入側ステージ２５は、Ｘ方向が長手になっている。搬入側ステージ２５には、エア噴出孔２５ａと、昇降ピン出没孔２５ｂとがそれぞれ複数設けられている。これらエア噴出孔２５ａ及び昇降ピン出没孔２５ｂは、搬入側ステージ２５を貫通するように設けられている。
【００２６】
エア噴出孔２５ａは、搬入側ステージ２５のステージ表面２５ｃ上にエアを噴出する孔であり、例えば搬入側ステージ２５のうち基板Ｓの通過する領域に平面視マトリクス状に配置されている。このエア噴出孔２５ａには図示しないエア供給源が接続されている。この搬入側ステージ２５では、エア噴出孔２５ａから噴出されるエアによって基板Ｓを＋Ｚ方向に浮上させることができるようになっている。
【００２７】
昇降ピン出没孔２５ｂは、搬入側ステージ２５のうち基板Ｓの搬入される領域に設けられている。当該昇降ピン出没孔２５ｂは、ステージ表面２５ｃに供給されたエアが漏れ出さない構成になっている。
【００２８】
この搬入側ステージ２５のうちＹ方向の両端部には、アライメント装置２５ｄが１つずつ設けられている。アライメント装置２５ｄは、搬入側ステージ２５に搬入された基板Ｓの位置を合わせる装置である。各アライメント装置２５ｄは長孔と当該長孔内に設けられた位置合わせ部材を有しており、搬入ステージ２５に搬入される基板を両側から機械的に挟持するようになっている。
【００２９】
リフト機構２６は、搬入側ステージ２５の基板搬入位置の裏面側に設けられている。このリフト機構２６は、昇降部材２６ａと、複数の昇降ピン２６ｂとを有している。昇降部材２６ａは、図示しない駆動機構に接続されており、当該駆動機構の駆動によって昇降部材２６ａがＺ方向に移動するようになっている。複数の昇降ピン２６ｂは、昇降部材２６ａの上面から搬入側ステージ２５へ向けて立設されている。各昇降ピン２６ｂは、それぞれ上記の昇降ピン出没孔２５ｂに平面視で重なる位置に配置されている。昇降部材２６ａがＺ方向に移動することで、各昇降ピン２６ｂが昇降ピン出没孔２５ｂからステージ表面２５ｃ上に出没するようになっている。各昇降ピン２６ｂの＋Ｚ方向の端部はそれぞれＺ方向上の位置が揃うように設けられており、装置外部から搬送されてきた基板Ｓを水平な状態で保持することができるようになっている。
【００３０】
塗布処理領域２１は、レジストの塗布が行われる部位であり、基板Ｓを浮上支持する処理ステージ２７が設けられている。
処理ステージ２７は、ステージ表面２７ｃが例えば硬質アルマイトを主成分とする光吸収材料で覆われた平面視で矩形の板状部材であり、搬入側ステージ２５に対して＋Ｘ方向側に設けられている。処理ステージ２７のうち光吸収材料で覆われた部分では、レーザ光などの光の反射が抑制されるようになっている。この処理ステージ２７は、Ｙ方向が長手になっている。処理ステージ２７のＹ方向の寸法は、搬入側ステージ２５のＹ方向の寸法とほぼ同一になっている。処理ステージ２７には、ステージ表面２７ｃ上にエアを噴出する複数のエア噴出孔２７ａと、ステージ表面２７ｃ上のエアを吸引する複数のエア吸引孔２７ｂとが設けられている。これらエア噴出孔２７ａ及びエア吸引孔２７ｂは、処理ステージ２７を貫通するように設けられている。また、処理ステージ２７の内部には、エア噴出孔２７ａ及びエア吸引孔２７ｂを通過する気体の圧力に抵抗を与えるための図示しない溝が複数設けられている。この複数の溝は、ステージ内部においてエア噴出孔２７ａ及びエア吸引孔２７ｂに接続されている。
【００３１】
処理ステージ２７では、エア噴出孔２７ａのピッチが搬入側ステージ２５に設けられるエア噴出孔２５ａのピッチよりも狭く、搬入側ステージ２５に比べてエア噴出孔２７ａが密に設けられている。このため、この処理ステージ２７では他のステージに比べて基板の浮上量を高精度で調節できるようになっており、基板の浮上量が例えば１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下となるように制御することが可能になっている。
【００３２】
基板搬出領域２２は、レジストが塗布された基板Ｓを装置外部へ搬出する部位であり、搬出側ステージ２８と、リフト機構２９とを有している。この搬出側ステージ２８は、処理ステージ２７に対して＋Ｘ方向側に設けられており、基板搬入領域２０に設けられた搬入側ステージ２５とほぼ同様の材質、寸法から構成されている。搬出側ステージ２８には、搬入側ステージ２５と同様、エア噴出孔２８ａ及び昇降ピン出没孔２８ｂが設けられている。リフト機構２９は、搬出側ステージ２８の基板搬出位置の裏面側に設けられており、例えばフレーム部２４に支持されている。リフト機構２９の昇降部材２９ａ及び昇降ピン２９ｂは、基板搬入領域２０に設けられたリフト機構２６の各部位と同様の構成になっている。このリフト機構２９は、搬出側ステージ２８上の基板Ｓを外部装置へと搬出する際に、基板Ｓの受け渡しのため昇降ピン２９ｂによって基板Ｓを持ち上げることができるようになっている。
【００３３】
搬送機構２３は、搬送機２３ａと、真空パッド２３ｂと、レール２３ｃとを有している。搬送機２３ａは内部に例えばリニアモータが設けられた構成になっており、当該リニアモータが駆動することによって搬送機２３ａがレール２３ｃ上を移動可能になっている。この搬送機２３ａは、所定の部分２３ｄが平面視で基板Ｓの−Ｙ方向端部に重なるように配置されている。この基板Ｓに重なる部分２３ｄは、基板Ｓを浮上させたときの基板裏面の高さ位置よりも低い位置に設けられている。
【００３４】
真空パッド２３ｂは、搬送機２３ａのうち上記基板Ｓに重なる部分２３ｄに複数配列されている。この真空パッド２３ｂは、基板Ｓを真空吸着させる吸着面を有しており、当該吸着面が上方を向くように配置されている。真空パッド２３ｂは、吸着面が基板Ｓの裏面端部を吸着することで当該基板Ｓを保持可能になっている。各真空パッド２３ｂは搬送機２３ａの上面からの高さ位置が調節可能になっており、例えば基板Ｓの浮上量に応じて真空パッド２３ｂの高さ位置を上下させることができるようになっている。
【００３５】
レール２３ｃは、フレーム部２４の−Ｙ方向側の側部２４ａ上に設けられており、搬入側ステージ２５、処理ステージ２７及び搬出側ステージ２８の側方に各ステージに跨って延在している。当該レール２３ｃを摺動することで搬送機２３ａが当該各ステージに沿って移動できるようになっている。
【００３６】
（塗布部）
次に、塗布部３の構成を説明する。
塗布部３は、基板Ｓ上にレジストを塗布する部分であり、門型フレーム３１と、ノズル３２とを有している。
【００３７】
門型フレーム３１は、支柱部材３１ａと、架橋部材３１ｂとを有しており、処理ステージ２７をＹ方向に跨ぐように設けられている。支柱部材３１ａは処理ステージ２７のＹ方向側に１つずつ設けられており、各支柱部材３１ａがフレーム部２４のＹ方向側の両側面にそれぞれ支持されている。各支柱部材３１ａは、上端部の高さ位置が揃うように設けられている。架橋部材３１ｂは、各支柱部材３１ａの上端部の間に架橋されており、当該支柱部材３１ａに対して昇降可能となっている。
【００３８】
この門型フレーム３１は移動機構３４に接続されている。移動機構３４は、レール部材３５及び駆動機構３６を有している。レール部材３５はフレーム２４のうち−Ｙ方向側の側部２４ａ及び＋Ｙ方向側の側部２４ｂ上に１本ずつ設けられており、それぞれＸ方向に延在している。２本のレール部材３５の−Ｘ方向の端部は、それぞれフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの−Ｘ方向の端部まで設けられている。駆動機構３６は、門型フレーム３１に接続され塗布部３をレール部材３５に沿って移動させるアクチュエータである。
【００３９】
レール部材３５がフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの−Ｘ方向の端部まで設けられていることにより、塗布部３は搬入側ステージ２５の−Ｘ方向の端部まで移動可能になっている。塗布部３の移動に伴って、当該塗布部３に設けられたノズル３２についても搬入側ステージ２５の−Ｘ方向の端部まで移動可能になっている。また、この門型フレーム３１は、図示しない移動機構によりＺ方向にも移動可能になっている。
【００４０】
ノズル３２は、一方向が長手の長尺状に構成されており、門型フレーム３１の架橋部材３１ｂの−Ｚ方向側の面に設けられている。このノズル３２のうち−Ｚ方向の先端には、自身の長手方向に沿ってスリット状の開口部３２ａが設けられており、当該開口部３２ａからレジストが吐出されるようになっている。ノズル３２は、開口部３２ａの長手方向がＹ方向に平行になると共に、当該開口部３２ａが処理ステージ２７に対向するように配置されている。開口部３２ａの長手方向の寸法は搬送される基板ＳのＹ方向の寸法よりも小さくなっており、基板Ｓの周辺領域にレジストが塗布されないようになっている。ノズル３２の内部にはレジストを開口部３２ａに流通させる図示しない流通路が設けられており、この流通路には図示しないレジスト供給源が接続されている。このレジスト供給源は例えば図示しないポンプを有しており、当該ポンプでレジストを開口部３２ａへと押し出すことで開口部３２ａからレジストが吐出されるようになっている。支柱部材３１ａには不図示の移動機構が設けられており、当該移動機構によって架橋部材３１ｂに保持されたノズル３２がＺ方向に移動可能になっている。ノズル３２には不図示の移動機構が設けられており、当該移動機構によってノズル３２が架橋部材３１ｂに対してＺ方向に移動可能になっている。門型フレーム３１の架橋部材３１ｂの下面には、ノズル３２の開口部３２ａ、すなわち、ノズル３２の先端３２ｃと当該ノズル先端３２ｃに対向する対向面との間のＺ方向上の距離を測定するセンサ３３が取り付けられている。このセンサ３３はＹ方向に沿って例えば３つ設けられている。
【００４１】
（管理部）
管理部４の構成を説明する。
管理部４は、基板Ｓに吐出されるレジスト（液状体）の吐出量が一定になるようにノズル３２を管理する部位であり、基板搬送部２のうち塗布部３に対して−Ｘ方向側に設けられている。この管理部４は、予備吐出機構４１と、ディップ槽４２と、ノズル洗浄装置４３と、これらを収容する収容部４４と、当該収容部を保持する保持部材４５とを有している。
【００４２】
予備吐出機構４１、ディップ槽４２及びノズル洗浄装置４３は、−Ｘ方向側へこの順で配列されている。予備吐出機構４１は、レジストを予備的に吐出する部分である。当該予備吐出機構４１は塗布部３が塗布処理領域２１上に配置されている状態でノズル３２に最も近くなる位置に設けられている。ディップ槽４２は、内部にシンナーなどの溶剤が貯留された液体槽である。ノズル洗浄装置４３は、ノズル３２の開口部３２ａ近傍をリンス洗浄する装置であり、Ｙ方向に移動する図示しない洗浄機構と、当該洗浄機構を移動させる図示しない移動機構とを有している。この移動機構は、洗浄機構よりも−Ｘ方向側に設けられている。ノズル洗浄装置４３は、移動機構が設けられる分、予備吐出機構４１及びディップ槽４２に比べてＸ方向の寸法が大きくなっている。なお、予備吐出機構４１、ディップ槽４２、ノズル洗浄装置４３の配置については、本実施形態の配置に限られず、他の配置であっても構わない。
【００４３】
収容部４４のＹ方向の寸法は上記門型フレーム３１の支柱部材３１ａ間の距離よりも小さくなっており、上記門型フレーム３１が収容部４４を超えてＸ方向に移動できるようになっている。また、門型フレーム３１は、収容部４４内に設けられる予備吐出機構４１、ディップ槽４２及びノズル洗浄装置４３について、これらの各部を跨ぐようにアクセスできるようになっている。
【００４４】
保持部材４５は、管理部移動機構４６に接続されている。管理部移動機構４６は、レール部材４７及び駆動機構４８を有している。レール部材４７は、フレーム２４のうち−Ｙ方向側の側部２４ａ及び＋Ｙ方向側の側部２４ｂ上に１本ずつ設けられており、それぞれＸ方向に延在している。各レール部材４７は、塗布部３の門型フレーム３１に接続される２本のレール部材３５の間に配置されている。２本のレール部材４７の−Ｘ方向の端部は、それぞれフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの−Ｘ方向の端部まで設けられている。駆動機構４８は、保持部材４５に接続され管理部４をレール部材４７上に沿って移動させるアクチュエータである。
【００４５】
このレール部材４７がフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの−Ｘ方向の端部まで設けられていることにより、管理部４が搬入側ステージ２５の−Ｘ方向の端部まで移動可能になっている。また、各レール部材４７がレール部材３５の間に配置されているため、管理部４は塗布部３の門型フレーム３１をくぐるように移動することになる。
【００４６】
（塗布動作）
次に、上記のように構成された塗布装置１の動作を説明する。
図５〜図８は、塗布装置１の動作過程を示す平面図である。各図を参照して、基板Ｓにレジストを塗布する動作を説明する。この動作では、基板Ｓを基板搬入領域２０に搬入し、当該基板Ｓを浮上させて搬送しつつ塗布処理領域２１でレジストを塗布し、当該レジストを塗布した基板Ｓを基板搬出領域２２から搬出する。図５〜図８には門型フレーム３１及び管理部４の輪郭のみを破線で示し、ノズル３２及び処理ステージ２７の構成を判別しやすくした。以下、各部分における詳細な動作を説明する。
【００４７】
基板搬入領域２０に基板を搬入する前に、塗布装置１をスタンバイさせておく。具体的には、搬入側ステージ２５の基板搬入位置の−Ｙ方向側に搬送機２３ａを配置させ、真空パッド２３ｂの高さ位置を基板の浮上高さ位置に合わせておくと共に、搬入側ステージ２５のエア噴出孔２５ａ、処理ステージ２７のエア噴出孔２７ａ、エア吸引孔２７ｂ及び搬出側ステージ２８のエア噴出孔２８ａからそれぞれエアを噴出又は吸引し、各ステージ表面に基板が浮上する程度にエアが供給された状態にしておく。
【００４８】
この状態で、例えば図示しない搬送アームなどによって外部から図５に示す基板搬入位置に基板Ｓが搬送されてきたら、昇降部材２６ａを＋Ｚ方向に移動させて昇降ピン２６ｂを昇降ピン出没孔２５ｂからステージ表面２５ｃに突出させる。この昇降部材２６ａの動作により、基板Ｓが昇降ピン２６ｂに持ち上げられ、当該基板Ｓの受け取りが行われる。また、アライメント装置２５ｄの長孔から位置合わせ部材をステージ表面２５ｃに突出させておく。
【００４９】
基板Ｓを受け取った後、昇降部材２６ａを下降させて昇降ピン２６ｂを昇降ピン出没孔２５ｂ内に収容する。このとき、ステージ表面２５ｃにはエアの層が形成されているため、基板Ｓは当該エアによりステージ表面２５ｃに対して浮上した状態で保持される。基板Ｓがエア層の表面に到達した際、アライメント装置２５ｄの位置合わせ部材によって基板Ｓの位置合わせが行われ、基板搬入位置の−Ｙ方向側に配置された搬送機２３ａの真空パッド２３ｂを基板Ｓの−Ｙ方向側端部に真空吸着させる。基板Ｓの−Ｙ方向側端部が吸着された状態を図５に示す。真空パッド２３ｂによって基板Ｓの−Ｙ方向側端部が吸着された後、搬送機２３ａをレール２３ｃに沿って移動させる。基板Ｓが浮上した状態になっているため、搬送機２３ａの駆動力を比較的小さくしても基板Ｓはレール２３ｃに沿ってスムーズに移動する。
【００５０】
基板Ｓの搬送方向先端がノズル３２の開口部３２ａの位置に到達したら、図６に示すように、ノズル３２の開口部３２ａから基板Ｓへ向けてレジストを吐出する。レジストの吐出は、ノズル３２の位置を固定させ搬送機２３ａによって基板Ｓを搬送させながら行う。基板Ｓの移動に伴い、図７に示すように基板Ｓ上にレジスト膜Ｒが塗布されていく。基板Ｓがレジストを吐出する開口部３２ａの下を通過することにより、基板Ｓの所定の領域にレジスト膜Ｒが形成される。
【００５１】
レジスト膜Ｒの形成された基板Ｓは、搬送機２３ａによって搬出側ステージ２８へと搬送される。搬出側ステージ２８では、ステージ表面２８ｃに対して浮上した状態で、図８に示す基板搬出位置まで基板Ｓが搬送される。
【００５２】
基板Ｓが基板搬出位置に到達したら、真空パッド２３ｂの吸着を解除し、リフト機構２９の昇降部材２９ａを＋Ｚ方向に移動させる。昇降部材２９ａの移動により、昇降ピン２９ｂが昇降ピン出没孔２８ｂから基板Ｓの裏面へ突出し、基板Ｓが昇降ピン２９ｂによって持ち上げられる。この状態で、例えば搬出側ステージ２８の＋Ｘ方向側に設けられた外部の搬送アームが搬出側ステージ２８にアクセスし、基板Ｓを受け取る。基板Ｓを搬送アームに渡した後、搬送機２３ａを再び搬入側ステージ２５の基板搬入位置まで戻し、次の基板Ｓが搬送されるまで待機させる。
【００５３】
次の基板Ｓが搬送されてくるまでの間、塗布部３では、ノズル３２の吐出状態を保持するための予備吐出が行われる。図９に示すように、レール部材３５によって門型フレーム３１を管理部４の位置まで−Ｘ方向へ移動させる。
【００５４】
管理部４の位置まで門型フレーム３１を移動させた後、門型フレーム３１の位置を調整してノズル３２の先端をノズル洗浄装置４３にアクセスさせ、当該ノズル洗浄装置４３によってノズル先端３２ｃを洗浄する。
【００５５】
ノズル先端３２ｃの洗浄後、当該ノズル３２を予備吐出機構４１にアクセスさせる。予備吐出機構４１では、開口部３２ａと予備吐出面との間の距離を測定しながらノズル３２の先端の開口部３２ａをＺ方向上の所定の位置に移動させ、ノズル３２を−Ｘ方向へ移動させながら開口部３２ａからレジストを予備吐出する。
【００５６】
予備吐出動作を行った後、門型フレーム３１を元の位置に戻す。次の基板Ｓが搬送されてきたら、図１０に示すようにノズル３２をＺ方向上の所定の位置に移動させる。このように、基板Ｓにレジスト膜Ｒを塗布する塗布動作と予備吐出動作とを繰り返し行わせることで、基板Ｓには良質なレジスト膜Ｒが形成されることになる。
【００５７】
なお、必要に応じて、例えば管理部４に所定の回数アクセスする毎に、当該ノズル３２をディップ槽４２内にアクセスさせても良い。ディップ層４２では、ノズル３２の開口部３２ａをディップ槽４２に貯留された溶剤（シンナー）の蒸気雰囲気に曝すことでノズル３２の乾燥を防止する。
【００５８】
（メンテナンス）
次に、ノズル３２のメンテナンスについて説明する。本実施形態では、ノズル３２のメンテナンスのうちノズル３２の清掃について説明する。ノズル３２の清掃は、作業者がノズル３２を手作業にて拭き取ることによって行われる。
【００５９】
まず、図１１に示すように、塗布部３の門型フレーム３１に接続された駆動機構３６を駆動させ、基板搬送部２の塗布処理領域２１上に配置されていた塗布部３を、基板搬送部２の基板搬入領域２０の−Ｘ方向の端部まで移動させる。このとき、塗布部３は管理部４を超えて移動することになる。
【００６０】
次に、図１２に示すように、管理部４の保持部材４５に接続された駆動機構４８を駆動させ、管理部４を基板搬送部２の基板搬入領域２０の−Ｘ方向の端部まで移動させる。管理部４の当該動作により、門型フレーム３１の直下、すなわち、ノズル３２の直下に管理部４が配置されることになる。塗布部３の移動及び管理部４の移動については、それぞれ別々に移動させても良いし、塗布部３と管理部４とが連動するように駆動機構３６及び駆動機構４８を同時に駆動させても良い。
【００６１】
次に、図１３に示すように、フレーム２４の−Ｘ方向側に作業台６０を設置する。この作業台６０は、Ｙ方向の寸法が少なくともノズル３２のＹ方向の寸法よりも大きくなるように設けられており、ノズル３２をＹ方向にカバーする範囲に設置する。なお、作業台６０については、フレーム２４内に予め配置しておき必要に応じて出没させるようにしても良いし、外部から運んできて設置するようにしても良い。
【００６２】
作業台６０の設置後、図１４に示すように、作業者Ｐが作業台６０上に登る。作業者Ｐが作業台６０上に登った状態において、作業者Ｐのアクセス可能な範囲Ｑは、作業者Ｐの手の届く空間、すなわち、基板搬送部２上の空間のうち−Ｘ方向の端部を含んだ空間及び作業台６０上の空間となる。門型フレーム３１は基板搬送部２の−Ｘ方向の端部に移動してきているため、作業者Ｐのアクセス可能な範囲Ｑに含まれることになる。作業者Ｐは、アクセス可能な範囲Ｑ内に位置するノズル３２にアクセスし、ノズル先端を拭き取る作業を行う。拭き取り後、門型フレーム３２及び管理部４の位置を元の位置に戻し、塗布動作を行うようにする。
【００６３】
このように、本実施形態によれば、ノズル３２に対して作業者Ｐがアクセス可能な領域Ｑまで塗布部３を基板Ｓの搬送方向もしくは基板Ｓの搬送方向とは逆の方向に移動させる移動機構３４を備えることとしたので、作業者Ｐが基板搬送部２上に直接登ることなくノズル３２の拭き取りなどのメンテナンスが可能となる。これにより、メンテナンスの効率性を向上させると共に基板搬送部２上に塵や埃などが付着するのを防ぐことができる。
【００６４】
また、本実施形態によれば、基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方に管理部４を移動させる管理部移動機構４６を更に備えることとしたので、ノズル３２の移動位置に合わせて管理部４の位置を移動させることができる。これにより、作業者Ｐによるノズル３２のメンテナンスを一層効率的に行うことができる。
【００６５】
また、本実施形態によれば、管理部４が上記作業者がアクセス可能な領域Ｑ上に配置され、移動機構３４及び管理部移動機構４６によって塗布部３を管理部４上に移動させることとしたので、ノズル３２のメンテナンスの際にノズル３２の下方に管理部４を移動させることができる。ノズル３２と基板搬送部２との間に管理部４が配置されることにより、例えばノズル３２の清掃などのメンテナンス中にノズル３２から基板搬送部２の搬入側ステージ２５上に固化したレジストなどが落下するのを防ぐことができ、基板搬送部２上を清浄に保持することができる。
【００６６】
［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態を説明する。第１実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第１実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、フレーム２４の構成及びレール部材３５、レール部材４７の構成が第１実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
【００６７】
図１５は、本実施形態に係る塗布装置１の構成を示す斜視図であり、第１実施形態における図１に対応している。本実施形態では、フレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂにおける−Ｘ方向の端部Ｔ１が、基板搬送部２の搬入側ステージ２５における−Ｘ方向の端部Ｔ２よりも−Ｘ方向側にはみ出した状態になっている。また、レール部材３５及びレール部材４７がフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの端部Ｔ１まで設けられた構成になっている。他の構成は、第１実施形態と同一である。
【００６８】
図１５に示す構成においては、塗布部３及び管理部４が基板搬送部２の搬入側ステージ２５における−Ｘ方向の端部Ｔ２を超えた位置まで移動することができるようになっている。例えば、図１５に示すように、フレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂにおける−Ｘ方向の端部Ｔ１に合わせて作業台６０を設置した場合、作業者のアクセス可能な領域Ｑはフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂ上の空間のうち−Ｘ方向の端部を含んだ空間及び作業台６０上の空間となる。したがって、塗布部３及び管理部４は作業者のアクセス可能な領域Ｑまで移動可能に設けられていることになる。
【００６９】
このように、本実施形態によれば、基板搬送部２の−Ｘ方向の端部Ｔ２を超える部分を上記作業者がアクセス可能な領域Ｑとして、レール部材３５に沿って塗布部３を移動させることとしたので、基板搬送部２上から外れた位置において作業者にメンテナンスを行わせることができる。これにより、基板搬送部２上に塵や埃、レジストなどが付着するのをより確実に防ぐことができる。なお、本実施形態においては、レール部材３５のみが基板搬送部２の−Ｘ方向の端部Ｔ２を超えて延在する構成であっても、同様の効果を得ることができる。
【００７０】
［第３実施形態］
次に、本発明の第３実施形態を説明する。第１実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第１実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、レール部材３５及びレール部材４７の構成が第１実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
【００７１】
図１６は、本実施形態に係る塗布装置１の構成を示す斜視図であり、第１実施形態における図１に対応している。本実施形態では、レール部材３５及びレール部材４７がフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの−Ｘ方向側の端部から＋Ｘ方向側の端部まで設けられた構成になっている。他の構成は、第１実施形態と同様である。
【００７２】
図１６に示す構成においては、塗布部３及び管理部４が基板搬送部２の搬入側ステージ２５における−Ｘ方向側の端部及び搬出側ステージ２８における＋Ｘ方向側の端部まで移動可能に設けられている。例えば、図１６に示すように、搬入側ステージ２５の−Ｘ方向側端部に沿って作業台６０を設置する場合、作業者のアクセス可能な領域Ｑ１は、基板搬送部２上の空間のうち−Ｘ方向の端部を含んだ空間及び作業台６０上の空間である。また、例えば搬出側ステージ２８の＋Ｘ方向側端部に沿って作業台６１を設置した場合、作業者のアクセス可能な領域Ｑ２は、基板搬送部２上の空間のうち＋Ｘ方向の端部を含んだ空間及び作業台６１上の空間である。したがって、塗布部３及び管理部４は作業者のアクセス可能な領域Ｑ１及びＱ２まで移動可能に設けられていることになる。
【００７３】
このように、本実施形態によれば、塗布部３及び管理部４が作業者のアクセス可能な２つの領域Ｑ１及びＱ２に移動可能に設けられることとしたので、ノズル３２の清掃などのメンテナンスの際には塗布装置１の基板搬入側及び基板搬出側のどちらからでもノズル３２にアクセスすることができる。これにより、塗布装置１の設置される環境に応じて塗布部３の移動位置を柔軟に設定することが可能となる。
【００７４】
［第４実施形態］
次に、本発明の第４実施形態を説明する。第１実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第１実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、塗布部３の構成、レール部材３５及びレール部材４７の構成が第１実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
【００７５】
図１７は、本実施形態に係る塗布装置１の構成を示す斜視図であり、第１実施形態における図１に対応している。本実施形態では、塗布部が複数、例えば２つ設けられた構成になっており、基板搬入領域２０側には塗布部３ａが、基板搬出領域２２側には塗布部３ｂがそれぞれ設けられている。
【００７６】
また、本実施形態では、第３実施形態と同様に、レール部材３５及びレール部材４７がフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの−Ｘ方向側の端部から＋Ｘ方向側の端部まで設けられた構成になっている。他の構成は、第１実施形態と同様である。
【００７７】
図１７に示す構成においては、塗布部３ａが基板搬送部２の搬入側ステージ２５における−Ｘ方向側の端部に移動可能に設けられており、塗布部３ｂが搬出側ステージ２８における＋Ｘ方向側の端部まで移動可能に設けられている。例えば、図１７に示すように、搬入側ステージ２５の−Ｘ方向側端部に沿って作業台６０を設置する場合、作業者のアクセス可能な領域Ｑ１は、第３実施形態と同様、基板搬送部２上の空間のうち−Ｘ方向の端部を含んだ空間及び作業台６０上の空間である。また、例えば搬出側ステージ２８の＋Ｘ方向側端部に沿って作業台６１を設置した場合、作業者のアクセス可能な領域Ｑ２は、第３実施形態と同様、基板搬送部２上の空間のうち＋Ｘ方向の端部を含んだ空間及び作業台６１上の空間である。したがって、塗布部３ａは作業者のアクセス可能な領域Ｑ１まで移動可能に設けられていることになり、塗布部３ｂは作業者のアクセス可能な領域Ｑ２まで移動可能に設けられていることになる。
【００７８】
このように、本実施形態によれば、塗布部が複数設けられている場合において、塗布部３ａを基板搬入領域２０側へ移動させ、塗布部３ｂを基板搬出領域２２側へ移動させることとしたので、塗布部３ａ及び３ｂを基板搬入側及び基板搬出側の両側において同時にノズル３２のメンテナンスを行うことができる。これにより、メンテナンスに要する時間を短縮することができる。また、基板搬入領域２０側に設置された作業台６０、基板搬出領域側２２に設置された作業台６１において各作業者が塗布部３ａ及び３ｂに対して分担してノズル３２のメンテナンスを行うことができるため、メンテナンスの効率を向上させることができる。
【００７９】
なお、本実施形態においては、塗布部が２つ設けられた構成としたが、これに限られることは無く、例えば塗布部が３つ以上設けられた構成としても、本発明の適用は可能である。この場合、複数の塗布部のうち一部を基板搬入領域２０側に移動させ、残りを基板搬出領域２２側に移動させるようにすることが好ましい。
【００８０】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、塗布部３を作業者がアクセス可能な領域まで移動させる手段として、サーボで動かし、エンコーダー（リニアスケール）での位置決めを行ってもよく、さらにリミットセンサを付加するなどしても良い。また塗布部３を移動させた後に、メカニカル的に保持する保持機構を設けても良く、当該保持機構として、図１８に示すようなクランプ機構６２を設けるようにしても構わない。このクランプ機構６２は支柱部材３１ｂのうちレール部材３５に対向する位置に設けられており、例えばレール部材３５の図中左右方向の両側、すなわち、塗布部３の移動方向の側方に設けられている。塗布部３が所望の位置に移動した後、クランプ機構６２が突出してレール部材３５に当接し、両側からレール部材３５を挟持することで塗布部３の位置を保持するようになっている。
【００８１】
このように、塗布部３を基板搬送部２上の所定の位置に保持するクランプ機構６２を有することで、塗布部３の位置をより安定させることができる。これにより、作業者が一層ノズル３２のメンテナンスを行いやすくなる。クランプ機構６２を管理部４の保持部材４５に設けるようにしても構わない。また、クランプ機構６２の構成については、図１８に示す構成に限られず、他の構成であっても勿論構わない。
【００８２】
また、例えば図１９に示すように、ノズル３２が作業者Ｐ側に傾くように回転可能に設けられた構成であっても構わない。この構成によれば、ノズル３２の先端３２ｃが作業者Ｐの方を向くため、作業者Ｐはノズル３２に容易にアクセスすることが可能となる。これにより、メンテナンスの効率が向上することになる。
【００８３】
また、塗布装置１の全体構成については、上記実施形態では、搬送機構２３を各ステージの−Ｙ方向側に配置する構成としたが、これに限られることは無い。例えば、搬送機構２３を各ステージの＋Ｙ方向側に配置する構成であっても構わない。また、図２０に示すように、各ステージの−Ｙ方向側には上記の搬送機構２３（搬送機２３ａ、真空パッド２３ｂ、レール２３ｃ）を配置し、＋Ｙ方向側には当該搬送機構２３と同一の構成の搬送機構５３（搬送機５３ａ、真空パッド５３ｂ、レール５３ｃ）を配置して、搬送機構２３と搬送機構５３とで異なる基板を搬送できるように構成しても構わない。例えば、同図に示すように搬送機構２３には基板Ｓ１を搬送させ、搬送機構５３には基板Ｓ２を搬送させるようにする。この場合、搬送機構２３と搬送機構５３とで基板を交互に搬送することが可能となるため、スループットが向上することになる。また、上記の基板Ｓ、Ｓ１、Ｓ２の半分程度の面積を有する基板を搬送する場合には、例えば搬送機構２３と搬送機構５３とで１枚ずつ保持し、搬送機構２３と搬送機構５３とを＋Ｘ方向に並進させることによって、２枚の基板を同時に搬送させることができる。このような構成により、スループットを向上させることができる。
【００８４】
また、上記実施形態では、移動機構３４のレール部材３５及び移動機構４６のレール部材４７がそれぞれフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの上面に設けられた構成としたが、これに限られることは無く、例えば図２１に示すように、レール部材３５及びレール部材４７がそれぞれフレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂの内部に設けられた構成としても構わない。
【００８５】
図２１では、フレーム２４の側部２４ａ及び２４ｂに溝部２４ｃ及び溝部２４ｄがＸ方向に沿って設けられると共に、レール部材３５が溝部２４ｃ内に設けられレール部材４７が溝部２４ｄに設けられた構成になっている。また、塗布部３の支柱部材３１ａの−Ｚ方向の端部が溝部２４ｃ内に挿入された状態で支柱部材３１ａがレール３５上に配置されており、管理部４の保持部材４５の−Ｚ方向の端部が溝部２４ｄ内に挿入された状態で保持部材４５がレール部材４７上に配置されている。
【００８６】
なお、図２１においては、溝部２４ｃのＺ方向の寸法が溝部２４ｄのＺ方向の寸法よりも大きくなっているが、勿論これに限られることは無く、例えば溝部２４ｄのＺ方向の寸法が溝部２４ｃのＺ方向の寸法よりも大きくなっていても構わないし、溝部２４ｃと溝部２４ｄとでＺ方向の寸法が同一になっていても構わない。
【００８７】
また、上記実施形態では、基板Ｓを浮上させて搬送する塗布装置１を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、基板を搬送させつつ塗布を行う塗布装置であれば、浮上搬送型以外の塗布装置、例えば搬送ローラなどの搬送機構によって基板を搬送する塗布装置であっても本発明の適用は可能である。
【００８８】
また、上記実施形態では、作業者がノズル３２のメンテナンスを行う構成のみを説明したが、これに限られることは無く、例えば管理部４をアクセス可能な領域Ｑへ移動させ当該管理部４のメンテナンスを行うようにしても構わない。また、例えば塗布部３及び管理部４を作業者のアクセス可能な領域Ｑへ移動させ、ノズル３２の直下に管理部４が配置された状態でまずノズル３２のメンテナンスを行い、ノズル３２のメンテナンス終了後に塗布部３を塗布処理領域２１に移動させ、その後管理部４のメンテナンスを行うようにしても構わない。これにより、塗布装置１のメンテナンスの効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る塗布装置の構成を示す斜視図。
【図２】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す正面図。
【図３】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す平面図。
【図４】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す側面図。
【図５】本実施形態に係る塗布装置の動作を示す図。
【図６】同、動作図。
【図７】同、動作図。
【図８】同、動作図。
【図９】同、動作図。
【図１０】同、動作図。
【図１１】本実施形態に係る塗布装置のメンテナンスの工程を示す図。
【図１２】同、工程図。
【図１３】同、工程図。
【図１４】同、工程図。
【図１５】本発明の第２実施形態に係る塗布装置の構成を示す斜視図。
【図１６】本発明の第３実施形態に係る塗布装置の構成を示す斜視図。
【図１７】本発明の第４実施形態に係る塗布装置の構成を示す斜視図。
【図１８】本発明に係る塗布装置の他の構成を示す図。
【図１９】本発明に係る塗布装置の他の構成を示す図。
【図２０】本発明に係る塗布装置の他の構成を示す図。
【図２１】本発明に係る塗布装置の他の構成を示す図。
【符号の説明】
【００９０】
１…塗布装置 ２…基板搬送部 ３…塗布部 ４…管理部 ２４…フレーム ２４ａ、２４ｂ…側部 ２５…搬入側ステージ ２８…搬出側ステージ ３１…門型フレーム ３４…移動機構 ４５…保持部材 ４６…移動機構 ６０、６１…作業台 ６２…クランプ機構 Ｐ…作業者 Ｑ、Ｑ１、Ｑ２…領域 Ｔ１、Ｔ２…端部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板搬送部によって基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布部を備える塗布装置であって、
前記塗布部は、前記液状体を吐出するノズルを有し、
前記ノズルに対して作業者がアクセス可能な領域まで前記塗布部を前記基板の搬送方向もしくは基板の搬送方向とは逆の方向に移動させる移動機構を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記移動機構は、前記基板搬送部上であって前記基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方の端部を前記領域として前記塗布部を移動させる
ことを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記移動機構は、前記基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方の前記基板搬送部の端部を超える部分を前記領域として前記塗布部を移動させる
ことを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記塗布部を前記基板搬送部上の所定の位置に保持する保持機構を更に備える
ことを特徴とする請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記基板搬送部上に設けられ前記ノズルの状態を管理する管理部を更に備える
ことを特徴とする請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記基板搬入側及び前記基板搬出側のうち少なくとも一方に前記管理部を移動させる管理部移動機構を更に備える
ことを特徴とする請求項５に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記管理部は前記領域上に配置され、
前記移動機構は、前記管理部上に前記塗布部を移動させる
ことを特徴とする請求項５に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記移動機構は、前記管理部を超えて前記塗布部を移動させる
ことを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記管理部移動機構は、前記塗布部の移動に連動して前記管理部を移動させる
ことを特徴とする請求項７又は請求項８のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記塗布部は複数設けられている
ことを特徴とする請求項１から請求項９のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１１】
前記移動機構は、一部の前記塗布部を前記搬送方向の基板搬入側へ移動させ、残りの前記塗布部を前記基板搬出側へ移動させる
ことを特徴とする請求項１０に記載の塗布装置。
【請求項１２】
前記ノズルは、前記領域側に傾くように回転可能に設けられている
ことを特徴とする請求項１から請求項１１のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１３】
前記基板搬送部は、前記基板を浮上させる浮上機構を更に備える
ことを特徴とする請求項１から請求項１２のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１】
基板搬送部によって基板を搬送させつつ当該基板に液状体を塗布する塗布部を備える塗布装置であって、
前記塗布部は、前記液状体を吐出するノズルを有し、
前記ノズルに対して作業者がアクセス可能な領域まで前記塗布部を前記基板の搬送方向もしくは基板の搬送方向とは逆の方向に移動させる移動機構を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記移動機構は、前記基板搬送部上であって前記基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方の端部を前記領域として前記塗布部を移動させる
ことを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記移動機構は、前記基板の搬送方向の基板搬入側及び基板搬出側のうち少なくとも一方の前記基板搬送部の端部を超える部分を前記領域として前記塗布部を移動させる
ことを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記塗布部を前記基板搬送部上の所定の位置に保持する保持機構を更に備える
ことを特徴とする請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記基板搬送部上に設けられ前記ノズルの状態を管理する管理部を更に備える
ことを特徴とする請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記基板搬入側及び前記基板搬出側のうち少なくとも一方に前記管理部を移動させる管理部移動機構を更に備える
ことを特徴とする請求項５に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記管理部は前記領域上に配置され、
前記移動機構は、前記管理部上に前記塗布部を移動させる
ことを特徴とする請求項５に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記移動機構は、前記管理部を超えて前記塗布部を移動させる
ことを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記管理部移動機構は、前記塗布部の移動に連動して前記管理部を移動させる
ことを特徴とする請求項７又は請求項８のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記塗布部は複数設けられている
ことを特徴とする請求項１から請求項９のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１１】
前記移動機構は、一部の前記塗布部を前記搬送方向の基板搬入側へ移動させ、残りの前記塗布部を前記基板搬出側へ移動させる
ことを特徴とする請求項１０に記載の塗布装置。
【請求項１２】
前記ノズルは、前記領域側に傾くように回転可能に設けられている
ことを特徴とする請求項１から請求項１１のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項１３】
前記基板搬送部は、前記基板を浮上させる浮上機構を更に備える
ことを特徴とする請求項１から請求項１２のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【公開番号】特開２００９−２６７０２２（Ｐ２００９−２６７０２２Ａ）
【公開日】平成２１年１１月１２日（２００９．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１１３８４９（Ｐ２００８−１１３８４９）
【出願日】平成２０年４月２４日（２００８．４．２４）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１１月１２日（２００９．１１．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年４月２４日（２００８．４．２４）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】
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