微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置

【課題】ムラのない観察画像を得ることが可能な微細パターン修正装置を提供する。
【解決手段】この微細パターン修正装置では、ガラス定盤９を、各々が水平方向に移動可能に設けられた２枚の副ガラス定盤１０，１１に分割する。観察位置Ｐの下に副ガラス定盤１１のリフタピン孔２２がある場合は、副ガラス定盤１１を移動させてそのリフタピン孔２２を観察位置Ｐから離間させる。したがって、リフタピン孔２２などに起因する観察画像のムラを無くすことができる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は微細パターンを透過光によって観察する微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置に関し、特にＬＣＤ（液晶ディスプレイ）用カラーフィルタの製造工程において発生する欠陥を観察するための微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）の大型化、高精細化に伴い画素数も増大し、ＬＣＤを無欠陥で製造することは困難となり、欠陥の発生確率も増加してきている。このような状況下において歩留まり向上のために、ＬＣＤのカラーフィルタの製造工程において発生する欠陥を修正する微細パターン修正装置が生産ラインに不可欠となってきている。
【０００３】
図１１（ａ）〜（ｃ）は、ＬＣＤのカラーフィルタの製造工程において発生する欠陥を示す図である。図１１（ａ）〜（ｃ）において、カラーフィルタは、透明基板と、その表面に形成されたブラックマトリクス５０と呼ばれる格子状のパターンと、複数組のＲ（赤色）画素５１、Ｇ（緑色）画素５２、およびＢ（青色）画素５３とを含む。カラーフィルタの製造工程においては、図１１（ａ）に示すように画素やブラックマトリクス５０の色が抜けてしまった白欠陥５４や、図１１（ｂ）に示すように隣の画素と色が混色したり、ブラックマトリクス５０が画素にはみ出してしまった黒欠陥５５や、図１１（ｃ）に示すように画素に異物が付着した異物欠陥５６などが発生する。
【０００４】
白欠陥５４を修正する方法としては、インク塗布機構により、白欠陥５４が存在する画素と同色のインクを塗布針の先端部に付着させ、塗布針の先端部に付着したインクを白欠陥５４に塗布して修正する方法がある（たとえば特許文献１参照）。また、黒欠陥５５や異物欠陥５６を修正する方法としては、欠陥部分をレーザカットして矩形の白欠陥５４を形成した後、インク塗布機構により、塗布針の先端部に付着したインクをその白欠陥５４に塗布して修正する方法がある（たとえば特許文献２参照）。
【０００５】
ＬＤＣのカラーフィルタの白欠陥５４を修正する場合、白欠陥５４がカラーフィルタのどの色部分に発生しているのかを観察する必要がある。また、白欠陥５４に修正インクを塗布して修正した後にも、修正状態を確認するためにその部分を観察する必要がある。カラーフィルタの色を観察する場合、落射照明光観察ではカラーフィルタの色状態を観察することはできないので、透過照明光観察をする必要がある。従来は、カラーフィルタが形成された被修正対象ガラス基板をガラス定盤に搭載し、ガラス定盤の下方から透過照明光を照射し、ガラス定盤の上方からカラーフィルタの色状態を確認していた。
【０００６】
また、最近の液晶基板の大型化は目覚しく、製造工程におけるガラス基板サイズは、現状製造ラインのガラス基板サイズ（第５世代）で１０００×１５００ｍｍ、次期の第６世代では１５００×１８００ｍｍ、第７世代では１７００×２０００ｍｍになると言われている。このようなガラス基板の大型化に伴い、微細パターン修正装置も大型化が必須となるが、単純に装置サイズを大きくすることは、クリーンルーム内での占有面積の関係で許されないため、装置構成を変更して装置サイズを極力小さくすることが必要となっている。これに伴い、ガラス基板が静止し、レーザ装置や観察光学系を搭載したヘッド部が移動するガントリー方式の装置が主流となってきている。
【０００７】
ガントリー方式で透過照明光観察を実現するためには、ガラス定盤の下方に配置した透過照明光源をガラス定盤の上方に配置した観察光学系と同期して移動させる機構が必要となる。したがって、ガラス定盤の下に支持部材を配置することができず、ガラス定盤を周辺部でしか支持できないので、ガラス定盤の撓みや、ガラス定盤の破損を招く可能性が高くなる。
【０００８】
そこで、ガラス定盤の裏面側に反射膜を形成し、ガラス定盤の表面側から照明光を出射し、反射膜で反射した光を用いて透過照明光観察を行なう方法が提案された（たとえば特許文献３参照）。この方法では、ガラス定盤が照明光を透過させる必要がないので、ガラス定盤の裏面全体を金属製架台で支持することが可能となり、ガラス定盤が撓んだり破損する可能性は低くなる。
【特許文献１】特開平９−２３６９３３号公報
【特許文献２】特開平９−２６２５２０号公報
【特許文献３】特開２００６−３８８２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
また、このような微細パターン修正装置では、省人化、修正の効率化を目的として修正の自動化が求められ、画像処理による欠陥の認識、修正後の状態観察が必要とされている。
【００１０】
しかし、従来の透過照明観察方法では、観察画像にムラが発生する場合があった。すなわち、ガラス定盤には、被修正対象ガラス基板をロボットハンドから修正装置に受け取る時に使用する複数のリフタピンを通すための複数のリフタピン孔が形成されている。また、被修正対象ガラス基板をガラス定盤に吸着固定するための複数の溝や孔も形成されている。これらの孔や溝の影響で、観察位置によっては画像に若干のムラが発生する。このムラは、作業者がモニタを見て欠陥の有無などを判断する場合には許容されるレベルであるが、画像処理によって判断する場合には許容レベルを超えており、誤動作を招くという問題があった。
【００１１】
それゆえに、この発明の主たる目的は、ムラのない観察画像を得ることが可能な微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この発明に係る微細パターン観察装置は、透明基板上に形成され、少なくとも部分的に光を透過させる微細パターンを観察する微細パターン観察装置であって、微細パターンを観察するための観察光学系と、透明基板に照明光を出射する光源と、透明基板を水平に支持する透明定盤とを備え、透明定盤は、各々が水平方向に移動可能に設けられた複数の副透明定盤に分割されていることを特徴とする。
【００１３】
好ましくは、各副透明定盤には複数の孔が設けられており、複数の副透明定盤のうちの選択された副透明定盤を水平方向に移動させ、その副透明定盤の孔を観察位置から離間させる駆動手段を備える。
【００１４】
また好ましくは、駆動手段は、複数の副透明定盤のうちの選択された副透明定盤を他の副透明定盤に対して相対的に下降させ、その副透明定盤と透明基板の間に隙間を開ける。
【００１５】
また好ましくは、複数の副透明定盤のうちの選択されていない少なくとも１つの副透明定盤の複数の孔を介して透明基板を吸着し、その副透明定盤に透明基板を固定する真空吸着手段を備える。
【００１６】
また好ましくは、複数の副透明定盤のうちの選択された副透明定盤の複数の孔を介して透明基板に気体を噴射し、その副透明定盤と透明基板の間に隙間を開ける気体噴射手段を備える。
【００１７】
また好ましくは、各副透明定盤の裏面側に設けられ、光源から出射された照明光を反射させて微細パターンに照射する反射部材を備え、光源は副透明定盤の表面側から照明光を出射し、観察光学系は副透明定盤の表面側から微細パターンの透過照明光観察を行なう。
【００１８】
また好ましくは、光源は副透明定盤の一方側から照明光を出射し、観察光学系は副透明定盤の他方側から微細パターンの透過照明光観察を行なう。
【００１９】
また、この発明に係る微細パターン修正装置は、上記微細パターン観察装置と、微細パターンの欠陥部に修正液を塗布する塗布手段とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
この発明に係る微細パターン観察装置および微細パターン修正装置では、透明定盤は複数の副透明定盤に分割され、各副透明定盤は水平方向に移動可能に設けられている。したがって、観察位置の下方に副透明定盤のリフタピン孔などがある場合は、その副透明定盤を移動させることにより、リフタピン孔などを観察位置から離間させることができる。よって、ムラのない観察画像を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
図１は、この発明の一実施の形態による微細パターン修正装置の全体構成を示す斜視図である。図１において、この微細パターン修正装置では、レーザ装置１、観察光学系２、リング照明器３、およびインク塗布機構４がＺ軸テーブル５に固定されていて、Ｚ軸テーブル５はＺ軸方向（上下方向）に移動可能に設けられている。Ｚ軸テーブル５はＸ軸テーブル６上においてＸ軸方向（横方向）に移動可能に設けられている。Ｘ軸テーブル６は、Ｙ軸テーブル７上においてＹ軸方向（横方向）に移動可能に設けられている。
【００２２】
Ｘ軸テーブル６の下方には、被修正対象ガラス基板８を搭載するガラス定盤９が設けられている。ガラス定盤９は、各々がＹ軸方向に移動可能に設けられた２枚の副ガラス定盤１０，１１に分割されている。
【００２３】
レーザ装置１は、被修正対象ガラス基板８上のカラーフィルタの白欠陥、黒欠陥、および異物欠陥にレーザ光を照射して矩形の白欠陥に変換したり、塗布した修正インクのうちの不要な部分にレーザ光を照射して除去する。観察光学系２は、欠陥部分を撮像し、撮像した画像をテレビモニタ（図示せず）に表示する。リング照明器３は、被修正対象ガラス基板８およびガラス定盤９に光を照射する。インク塗布機構４は、被修正対象ガラス基板８上のカラーフィルタの白欠陥に修正インクを塗布する。塗布した修正インクは、紫外線照明（図示せず）またはハロゲンランプ照明（図示せず）により光硬化または熱硬化される。
【００２４】
レーザ装置１、観察光学系２、リング照明器３、およびインク塗布機構４はＺ軸テーブル５に取付けられているので、被修正対象ガラス基板８の上に任意の高さに位置させることができ、かつＺ軸テーブル５はＸ軸テーブル６およびＹ軸テーブル７上に載置されているため、被修正対象ガラス基板８に対してＸ軸方向およびＹ軸方向に任意の位置に移動できる。その他に、各機構を制御するための制御用コンピュータ（図示せず）と、装置全体を制御するためのホストコンピュータ（図示せず）とが設けられている。
【００２５】
次に、このパターン修正装置の動作について説明する。Ｘ軸テーブル６およびＹ軸テーブル７をそれぞれＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させ、かつＺ軸テーブル５をＺ軸方向に移動させ、観察光学系２によって被修正対象ガラス基板８上を撮像する。ホストコンピュータは、撮像した画像に基づいて、フィルタ欠陥の有無を判断する。また、撮像した画像はモニタに表示され、作業者は目視によってフィルタ欠陥の有無を判断する。
【００２６】
フィルタ欠陥の存在を判別した場合は、欠陥部にレーザ光を照射して矩形の白欠陥に変換し、その白欠陥にインク塗布機構４によって修正インクを塗布し、硬化させる。硬化したインクによって不要部が生じた場合は、レーザ装置１から不要部にレーザ光を照射し、レーザ光の熱エネルギーで昇華または飛散させる。
【００２７】
図２は、被修正対象ガラス基板８の透過照明光観察を行なう方法を示す図である。図２において、この微細パターン修正装置では、副ガラス定盤１０，１１の裏面に反射膜１２を形成するとともに、ハロゲンランプ光を光ファイバにより導光し、その光の出射端であるリング照明器３を観察光学系２の対物レンズ１３の周囲に配置している。リング照明器３から出射されたリング状の光は、対物レンズ１３の光軸の１点に集束するようにされている。リング照明器３から出射されたリング状の光は、被修正対象ガラス基板８の被観察部の周辺領域および副ガラス定盤１０または１１を透過して反射膜１２で反射され、副ガラス定盤１０または１１および被修正対象ガラス基板８の被観察部を透過して対物レンズ１３に入射される。これにより、透過照明光観察が実現される。
【００２８】
また、図３に示すように、副ガラス定盤１０，１１の各々には、被修正対象ガラス基板８を吸着して固定したり、エアを噴出して被修正対象ガラス基板８を浮上させるための溝１４および小孔１５が形成されている。溝１４は、副ガラス定盤１０，１１の表面に所定のピッチで複数設けられている。孔１５は、各溝１４の底に形成され、溝１４の長さ方向に所定のピッチで複数設けられている。図３では、対物レンズ１３が副ガラス定盤１０または１１の小孔１４の真上に位置した状態が示されている。この微細パターン観察装置では、副ガラス定盤１０，１１の各々の支持を裏面全体で行なうことが可能なため、副ガラス定盤１０，１１をそれぞれＹ軸テーブル１６，１７に搭載することができる。
【００２９】
Ｙ軸テーブル１６，１７には、副ガラス定盤１０，１１の小孔１５に対応する位置に排気孔が形成されている。排気孔の上側開口部の周囲にはリング状の凹部が形成され、その凹部にリング状のゴムパッキン１８が嵌め込まれている。複数の小孔１５に対応する複数の排気孔は、Ｙ軸テーブル１６または１７内で連通している。複数の排気孔のうちの１つの排気孔の下側開口部にはエア継手１９が接合され、エア継手１９はエアホース２０の一方端に接続されている。エアホース２０の他方端は、電磁バルブによって真空ポンプ（図示せず）またはエア供給装置（図示せず）に選択的に接続される。
【００３０】
このような場合においても、エア継手１９をＸ軸テーブル１６または１７に取り付けることができるため、副ガラス定盤１０，１１の裏面の反射膜１２は、小孔１５の部分のみが抜けるだけであり、リング照明器３から出射された光は、小孔１５の周囲で反射され、透過照明光観察に十分な光量を確保することができる。ただし、画像には小孔１５と溝１４による若干のムラが発生する。このムラは、作業者が目視で観察する分には問題ないが、画像処理を行なう場合に誤動作の原因となる。
【００３１】
また、図４に示すように、副ガラス定盤１０，１１には、被修正対象ガラス基板８を搬入排出する際にリフトアップするためのリフトアップ機構のリフタピン２１を通すためのリフタピン孔２２が形成されている。リフタピン２１およびリフタピン孔２２は、所定のピッチで複数設けられている。図４では、対物レンズ１３がリフタピン孔２２の真上に位置した状態が示されている。この微細パターン修正装置では、副ガラス定盤１０，１１の裏面に反射膜１２を設けているが、リフタピン孔２２の部分には反射膜１２を形成することができない。そのため、リング照明器３から出射された光を十分反射することができない。そこで、リフタピン２１の内部にＬＥＤ照明光源２３を配置し、リフタピン２１の先端部から上方に向けて光を照射する。これにより、透過照明光観察に十分な光量を得ることができる。ただし、画像にはリフタピン孔２２による若干のムラが発生する。このムラは、作業者が目視で観察する分には問題ないが、画像処理を行なう場合に誤動作の原因となる。
【００３２】
そこで、この微細パターン修正装置では、図５（ａ）に示すように、ガラス定盤９を２つの副ガラス定盤１０，１１に分割する。副ガラス定盤１０，１１の各々は、図中Ｙ方向に移動可能に設けられている。副ガラス定盤１１の図中の上端部および左端部と副ガラス定盤１０の図中の左端部とに合計３つの切欠部２４が形成され、各切欠部２４の中心に位置決めピン２５が立設されている。被修正対象ガラス基板８は、その上辺と左辺が３本の位置決めピン２５に当接されて副ガラス定盤１０，１１に搭載され、吸着固定される。
【００３３】
被修正対象ガラス基板１０の左上の角と右下の角にはアライメントマークＭ１，Ｍ２がそれぞれ設けられている。観察光学系２によって２つのマークＭ１，Ｍ２を撮像し、その撮像結果に基づいてＸ軸テーブル６およびＹ軸テーブル７の座標系を補正する。これにより、前段の検査装置からの欠陥の位置データに基づいて、観察光学系２などを欠陥の位置に移動させることが可能となる。
【００３４】
図５（ａ）に示すように、観察光学系２の焦点である観察位置Ｐがリフタピン孔２２の上端部にある場合は画像ムラが発生するので、図５（ｂ）に示すように、副ガラス定盤１１のみを図中の下方向に移動させてリフタピン孔２２を観察位置Ｐから離間させる。これにより、画像ムラをなくすことができる。
【００３５】
図６（ａ）〜（ｅ）は、副ガラス定盤１０，１１を移動させる方法を例示する図である。図６（ａ）に示すように、副ガラス定盤１０，１１はそれぞれＹ軸テーブル１６，１７に搭載されている。Ｙ軸テーブル１６，１７は、ホストコンピュータからの制御信号に従って、レール２６に沿ってＹ方向に移動する。図５（ｂ）に示したように、副ガラス定盤１１を副ガラス定盤１０の方に近付ける場合は、図６（ｂ）に示すように、Ｙ軸テーブル１７をＹ軸テーブル１６の方に移動させる。このとき、図６（ｃ）に示すように、副ガラス定盤１０の小孔１５を介して被修正対象ガラス基板８を真空吸着し、被修正ガラス基板８を副ガラス定盤１０に固定しておく。これにより、被修正対象ガラス基板８の位置は変化せず、被修正対象ガラス基板８に対する副ガラス定盤１１のリフタピン孔２２の位置が変化し、画像ムラが解消される。
【００３６】
なお、図６（ｄ）に示すように、移動させる副ガラス定盤１１の小孔１５を介して被修正対象ガラス基板８にエアを噴出し、副ガラス定盤１１と被修正対象ガラス基板８の間に微小な隙間を開けることにより、被修正対象ガラス基板８に傷が付くのを防止することができる。
【００３７】
また、図６（ｅ）に示すように、Ｙ軸テーブル１０，１１をそれぞれＹＺ軸テーブル２７，２８で置換し、移動させる副ガラス定盤１１を下降させて副ガラス定盤１１と被修正対象ガラス基板８の間に微小な隙間を開けることにより、被修正対象ガラス基板８に傷が付くのを確実に防止することができる。このとき、移動させる副ガラス定盤１１の小孔１４を介して被修正対象ガラス基板８に所定圧力のエアを噴出することにより、被修正対象ガラス基板８が撓むのを防止することができる。
【００３８】
図７は、被修正対象ガラス基板８を副ガラス定盤１０，１１に吸着する真空吸着手段を例示するブロック図である。図７において、真空吸着手段は真空ポンプ３０と電磁バルブ３１，３２を含む。真空ポンプ３０の吸込口は、電磁バルブ３１を介して副ガラス定盤１０の小孔１５群に接続されるとともに、電磁バルブ３２を介して副ガラス定盤１１の小孔１５群に接続される。電磁バルブ３１，３２の両方を開ければ、被修正対象ガラス基板８は副ガラス定盤１０，１１の両方に吸着固定される。電磁バルブ３１のみを開ければ、被修正対象ガラス基板８は副ガラス定盤１０のみに吸着固定される。電磁バルブ３２のみを開ければ、被修正対象ガラス基板８は副ガラス定盤１１のみに吸着固定される。電磁バルブ３１，３２の両方を閉じれば、被修正対象ガラス基板８は副ガラス定盤１０，１１に吸着固定されない。
【００３９】
図８は、副ガラス定盤１０，１１を介して被修正対象ガラス基板８にエアを噴出するエア噴出手段を例示するブロック図である。図８において、エア噴出手段はエア供給装置３３と電磁バルブ３４，３５を含む。エア供給装置３３の供給口は、電磁バルブ３４を介して副ガラス定盤１０の小孔１５群に接続されるとともに、電磁バルブ３５を介して副ガラス定盤１１の小孔１５群に接続される。電磁バルブ３４，３５の両方を開ければ、被修正対象ガラス基板８が浮上して、被修正対象ガラス基板８と副ガラス定盤１０，１１の間に隙間ができる。電磁バルブ３４のみを開ければ、被修正対象ガラス基板８が撓んで、被修正対象ガラス基板８と副ガラス定盤１０の間に隙間ができる。電磁バルブ３５のみを開ければ、被修正対象ガラス基板８が撓んで、被修正対象ガラス基板８と副ガラス定盤１１の間に隙間ができる。電磁バルブ３１，３２の両方を閉じれば、被修正対象ガラス基板８と副ガラス定盤１０，１１の間に隙間はできない。
【００４０】
図９（ａ）（ｂ）は、この実施の形態の比較例を示す図であって、図５（ａ）（ｂ）と対比される図である。図９（ａ）（ｂ）を参照して、この比較例が実施の形態と異なる点は、２枚の副ガラス定盤１０，１１が１枚のガラス定盤３６で置換され、３つの位置決めピン２５が移動可能に設けられている点である。
【００４１】
図９（ａ）に示すように、観察位置Ｐがリフタピン孔２２の上端部にある場合は画像ムラが発生するので、図９（ｂ）に示すように、３つの位置決めピン２５、被修正対象ガラス基板８および観察光学系２を図中の上方向に移動させて観察位置Ｐをリフタピン孔２２から離間させる。これにより、画像ムラをなくすことができる。
【００４２】
しかし、この比較例では、ガラス定盤３６に対して３つの位置決めピン２５、被修正対象ガラス基板８および観察光学系２を移動させるので、再度、アライメント動作すなわちアライメントマークＭ１，Ｍ２の撮像およびテーブル６，７の座標系の補正を行なう必要がある。また、被修正対象ガラス基板８を移動させるためには、ガラス定盤３６への吸着を一旦解除する必要があり、再吸着に時間が掛かる。また、基板８裏面への傷付きを防止する必要がある場合は、ガラス定盤３６全面からエア噴射を行なって被修正対象ガラス基板８を浮上させる必要があり、さらに時間が必要となる。したがって、この比較例では、アライメント動作が必要となること、基板８全面での再吸着が必要となるため、本実施の形態と比較して修正タクトが長くなる。
【００４３】
この実施の形態では、ガラス定盤９を２枚の副ガラス定盤１０，１１に分割し、観察位置Ｐがリフタピン孔２２や溝１４や小孔１５の上部に位置した場合は、副ガラス定盤１０または１１を移動させ、リフタピン孔２２や溝１４や小孔１５を観察位置Ｐから退避させることができる。したがって、ムラのない観察画像を得ることができ、画像処理による自動修正を行なうことが可能となる。
【００４４】
また、副ガラス定盤１０，１１のうちの一方の副ガラス定盤で被修正対象ガラス基板８を固定した状態で他方の副ガラス定盤を移動させるため、副ガラス定盤の移動後においてもアライメント動作を行なう必要がなく、修正タクトを短縮することができる。
【００４５】
また、移動させる副ガラス定盤の各小孔１５からエアを噴射して、その副ガラス定盤と被修正ガラス基板８の間に隙間を開けた状態で移動させることにより、被修正対象ガラス基板８の裏面に傷が付くのを防止することができる。さらには、移動させる副ガラス定盤を下降させて移動させることにより、被修正対象ガラス基板８の裏面への傷の発生を一層確実に防止することができる。
【００４６】
また、ガラス定盤９の大型化に伴ってガラス定盤９の加工性や装置に搭載する際の取り扱い性が悪化していたが、ガラス定盤９を２枚の副ガラス定盤１０，１１に分割して小型化することにより、ガラス定盤９の加工性および取り扱い性を改善することができる。
【００４７】
なお、この実施の形態では、ガラス定盤９を２枚の副ガラス定盤１０，１１に分割した場合について説明したが、ガラス定盤９を３枚以上の副ガラス定盤に分割しても構わない。
【００４８】
また、ガラス定盤９を２枚の副ガラス定盤１０，１１に分割するので、ガラス定盤９の撓みの影響が軽減される。したがって、図１０に示すように、副ガラス定盤１０，１１の裏面の反射膜１２を除去し、副ガラス定盤１０，１１の下方から照明光を出射する方式を使用しても構わない。副ガラス定盤１０，１１は、額縁状のＹ軸テーブル２７，２８にそれぞれ搭載される。また、副ガラス定盤１０，１１の下方の集光レンズ３７から対物レンズ１３に向けて照明光が出射される。集光レンズ３７は、光ファイバを介して光源に接続されている。対物レンズ３７が移動すると、集光レンズ３７は対物レンズ１３に対向する位置に移動する。
【００４９】
また、この実施の形態では、副ガラス定盤１０，１１をＹ軸方向に移動可能に設けたが、Ｘ軸方向に移動可能に設けてもよいし、Ｘ軸およびＹ軸の両方の方向に移動可能に設けてもよい。
【００５０】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】この発明の一実施の形態による微細パターン修正装置の全体構成を示す斜視図である。
【図２】図１に示した被修正対象ガラス基板の透過照明光観察を行なう方法を示す図である。
【図３】図２に示した対物レンズの真下に溝および小孔がある場合を示す図である。
【図４】図２に示した対物レンズの真下にリフタピン孔がある場合を示す図である。
【図５】図１に示した副ガラス定盤の使用方法を示す図である。
【図６】図５に示した副ガラス定盤の駆動方法を例示する図である。
【図７】図６に示した副ガラス定盤に被修正対象ガラス基板を吸着する方法を例示する図である。
【図８】図６に示した副ガラス定盤から被修正対象ガラス基板を浮上させる方法を例示する図である。
【図９】この実施の形態の比較例を示す図である。
【図１０】この実施の形態の変更例を示す図である。
【図１１】ＬＣＤのカラーフィルタに発生する欠陥を示す図である。
【符号の説明】
【００５２】
１レーザ装置、２観察光学系、３リング照明器、４インク塗布機構、５Ｚ軸テーブル、６Ｘ軸テーブル、７，１６，１７Ｙ軸テーブル、８被修正対象ガラス基板、９，３６ガラス定盤、１０，１１副ガラス定盤、１２反射膜、１３対物レンズ、１４溝、１５小孔、１８ゴムパッキン、１９エア継手、２０エアホース、２１リフタピン、２２リフタピン孔、２３ＬＥＤ照明光源、２４切欠部、２５位置決めピン、Ｍ１，Ｍ２アライメントマーク、Ｐ観察位置、２６レール、２７，２８ＹＺ軸テーブル、３０真空ポンプ、３１，３２，３４，３５電磁バルブ、３３エア供給装置、３７集光レンズ、５０ブラックマトリクス、５１Ｒ画素、５２Ｇ画素、５３Ｂ画素、５４白欠陥、５５黒欠陥、５６異物欠陥。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に形成され、少なくとも部分的に光を透過させる微細パターンを観察する微細パターン観察装置であって、
前記微細パターンを観察するための観察光学系と、
前記透明基板に照明光を出射する光源と、
前記透明基板を水平に支持する透明定盤とを備え、
前記透明定盤は、各々が水平方向に移動可能に設けられた複数の副透明定盤に分割されていることを特徴とする、微細パターン観察装置。
【請求項２】
各副透明定盤には複数の孔が設けられており、
前記複数の副透明定盤のうちの選択された副透明定盤を水平方向に移動させ、その副透明定盤の孔を観察位置から離間させる駆動手段を備えたことを特徴とする、請求項１に記載の微細パターン観察装置。
【請求項３】
前記駆動手段は、前記複数の副透明定盤のうちの選択された副透明定盤を他の副透明定盤に対して相対的に下降させ、その副透明定盤と前記透明基板の間に隙間を開けることを特徴とする、請求項２に記載の微細パターン観察装置。
【請求項４】
前記複数の副透明定盤のうちの選択されていない少なくとも１つの副透明定盤の前記複数の孔を介して前記透明基板を吸着し、その副透明定盤に前記透明基板を固定する真空吸着手段を備えたことを特徴とする、請求項２または請求項３に記載の微細パターン観察装置。
【請求項５】
前記複数の副透明定盤のうちの選択された副透明定盤の前記複数の孔を介して前記透明基板に気体を噴射し、その副透明定盤と前記透明基板の間に隙間を開ける気体噴射手段を備えたことを特徴とする、請求項２から請求項４までのいずれかに記載の微細パターン観察装置。
【請求項６】
各副透明定盤の裏面側に設けられ、前記光源から出射された照明光を反射させて前記微細パターンに照射する反射部材を備え、
前記光源は前記副透明定盤の表面側から照明光を出射し、
前記観察光学系は前記副透明定盤の表面側から前記微細パターンの透過照明光観察を行なうことを特徴とする、請求項１から請求項５までのいずれかに記載の微細パターン観察装置。
【請求項７】
前記光源は前記副透明定盤の一方側から照明光を出射し、
前記観察光学系は前記副透明定盤の他方側から前記微細パターンの透過照明光観察を行なうことを特徴とする、請求項１から請求項５までのいずれかに記載の微細パターン観察装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７までのいずれかに記載の微細パターン観察装置と、
前記微細パターンの欠陥部に修正液を塗布する塗布手段とを備えたことを特徴とする、微細パターン修正装置。

【図１】